JPS6354800A - 多層プリント配線板の製造方法 - Google Patents

多層プリント配線板の製造方法

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JPS6354800A
JPS6354800A JP19929986A JP19929986A JPS6354800A JP S6354800 A JPS6354800 A JP S6354800A JP 19929986 A JP19929986 A JP 19929986A JP 19929986 A JP19929986 A JP 19929986A JP S6354800 A JPS6354800 A JP S6354800A
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英夫 町田
井沢 信一
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CMK Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は絶縁板の片面あるいは両面に複数の回路を積層
して設けた多層プリント配線板の製造方法に関する。
[従来の技術] 絶縁板の片面あるいは両面に導通回路を多層に積層した
多層プリント配線板としては実公昭55−42460号
公報所載の考案が公知である。
しかして、かかる多層プリント配線板の製造に当っては
、絶縁板に銅箔を張設した銅張積層板を使用して、第1
層目の回路パターンをプリント配線した後、かかる第1
層目の回路パターン上に絶縁層を介して第2層目の回路
パターンを化学的および電気的に被着することにより、
片面に2層の回路パターンを有する多層プリント配線板
が提供されている。
かかる2層回路の多層プリント配線板の製造工程を示す
のが第5図であり、第6図が同工程により製造された多
層プリント配線板の部分拡大断面図である。
しかして、第5図に示す如く、素材(銅張聞層板)の裁
断、第1層目の回路パターンの印刷。
エツチングの各工程にて第1層目の回路パターンを形成
する。
しかる後、第1層目の回路パターンのうちの第2層目の
回路パターとの接合部を除いて、同回路パターン上側に
アンダレジスl布工程によって絶縁層を形成した後、こ
の絶縁層上側に第2層目の回路パターン形成に必要なメ
ッキ用下地をバインダー塗布工程によって形成する。
さらに、前記メッキ用下地に対する密着強度を向上すべ
く、同メッキ用下地の表面粗化処理を施すとともにメッ
キ前処理、無電解銅ノー2キおよび電解銅メッキ後、第
2層目の回路パターン印刷。
エツチングの各工程によって第゛′2層目の回路パター
ンを形成する。
その後、エツチングレジスト剥離並びにソルダーレジス
ト塗布工程後、マーク印刷、外形及び穴加工を行なうこ
とにより、所要の2層プリント配線板を製造することが
できる。
第6rAにおいて、lは絶縁板、2は第1層目の回路パ
ターン、3は同回路パターン2における第2層日の回路
パターン4との接続部(ターミナル)、5は第1層目と
第2層目の回路パターン2.4間に介層された絶縁層、
7はソルダーレジストをそれぞれ示すものである。
[発明が解決しようとする問題点] さて、第5図示の製造工程により多層プリント配線板を
製造する場合、第1層目の回路パターン2上側に絶縁層
6を介層して第2層目の回路パターン4を形成するので
あるが、かかる第2層目の回路パターン4は絶縁層6上
にメッキ用下地を形成した後、後段の電解銅メッキに必
要な無電解銅メッキを施すのであるが、この無電解銅メ
ッキの密着性を向上すべく、前記メッキ用下地の表面粗
化処理を施すのが通常である。
しかるに、かかるメッキ用下地の表面粗化処理は通常、
クロム−硫酸の混酸によって処理するのであるが、この
際、前記第1層目の回路パターン2のうちの第2層目の
回路パターン4との接合部3が露出しているため、これ
が前記メッキ用下地の表面粗化の処理に使用されるため
クロム−硫酸め混酸によって腐食され、この腐食が著し
いときには、第1層目の回路パターン2と第2層目の回
路パターン4の電気的な導通が損われ、回路の断線を生
じさせる等の欠点を有するものであった。
因って5本発明は前記従来の多層プリント配線板の製造
方法における欠点に鑑みて開発されたもので、多層プリ
ント配線板の製造工程におけるメッキ用下地の粗面化処
理によって回路パターンに電気的および物理的な特性の
劣化を生じさせることのなく製造することのできる多層
プリント配線板の製造方法の提供を目的とするものであ
る。
[問題点を解決するための手段] 本発明の多層プリント配線板の製造方法は、絶縁板の片
面あるいは両面に絶縁層を介層して複数の回路を設けた
多層プリント配線板の製造方法において、 前記絶縁層上側に回路を被着する際の下地層の表面粗化
処理に先き立って、尭該絶縁層により被覆されない回路
の露出部を保護する保護皮膜を形成した後、前記下地層
の表面粗化処理を施すことを特徴とするものである。
[作用] 本発明の多層プリント配線板の製造方法はメッキ用下地
の表面粗化の処理工程に先き立って、回路パターン中の
接合部あるいはその他の露出部に4y、護皮膜を形成し
、かかる保護皮膜によりメッキ用下地の表面粗化処理工
程によって回路パターン中の接合部あるいはその他の露
出部の電気的、物理的特性の劣化を防止するものである
。
[実施例] 以下、本発明プリント配線板の製造方法の実施例を図面
とともに説明する。
(第1実施例) 第1図、第2図は本発明多層プリント配線板の製造方法
の第1実施例を示す拡大要部断面図。
第4図は同工程説IJJ図である。
当該実施例の場合に゛は絶縁板lOの両面に第1層及び
第2層の回路パターン11.11’。
14.14’を設けた両面2層プリント配線板20を形
成する実施例を示している。
さて、第1図において、11.11’は絶縁板10の両
面に形成した第1層目の回路パターンでこの回路パター
ン11.11’を導通するスルーホール15を貫通した
接合?B(ランド)lla。
11a′を有する。
また、この回路パターン11.11’の形成に当っては
、第4図に示す如く、両面銅張積層板を素材として使用
し、かかる両面銅張積層板を所要の形状に裁断した後、
第1層目の回路パターン11.11’に対応するパター
ン印刷をシルク印刷にて施し、しかる後、エツチングす
ることにより回路パターン11.11’を形成したもの
である。
斯様にして、絶縁板10の両面に第1層の回路パターン
11.11’を形成することができるのであるが、この
第1層の回路パターン11゜11’の形成後、当該第1
層の回路パターン11.11’(7)うちの前記接合部
11a。
11a’を除く部分に第4図のアンダーレジスト塗布工
程により絶縁層12.12’を形成して被覆する。
さらに、その後、前記接合部11a、lla’を除く絶
縁層12.12’上側に第4図のバインダー塗布工程に
よりメッキ用下地13.13’を形成する。
当該メッキ用下地13.13’の形成後、通常のメッキ
用下地13.13’の表面粗化の処理工程に先き立って
、前記第1層目の回路パターン11.11’のうちの接
合部11 a 、 11 a ’、が露出しており、か
かる露出部分としての各接合部11a、lla’の表面
に保護皮膜16.16’を形成してこれを被覆する。
しかして、かかる保護皮膜16.16’の形成工程にお
いては、第1層目の回路パターン11゜11′のうちの
接合部11a、lla’を形成する銅箔に対して容易に
反応するアルキイミダゾールを反応せしめて、錯体によ
る保護皮膜16゜16’を形成する実施例について以下
に説明する。
尚、以下の実施例において使用するアルキイミダゾール
としては、これを主成分とするグリホールR液(四国化
成工業株式会社製)を使用して実施する場合について説
明する。
第1層目の回路パターン11.11’の接合部11a、
lla’たる銅箔表面を界面活性剤等により脱脂処理を
行うとともに当該銅箔表面上に被覆されている酸化皮膜
を20%過硫酸アンモニウム水溶液にて除去する。
また、醇化皮膜の除去処理後、これの洗浄処理を行った
後、50℃に管理されたアルキイミダゾール建浴液(四
国化成工業株式会社製グリホールR液を使用)中に3分
間浸漬することにより、アルキイミダゾールが選択的に
前記接合部11a、lla’の銅箔に反応して、同接合
部11a、lla’表面上にフルキイミダゾール皮膜に
よる保護皮膜16.16’が形成される。
さらに、接合部11a、lla’以外の表面に付若した
アルキイミダゾール液を水洗により除去した後、150
℃にて15分間熱処理を施すこよにより、前記保護皮膜
18.16’の化学的、物理的強度を向上せしめること
ができる。
因って、接合部11a、11a’に保護皮膜16.16
’を形成した後、第4図の表面粗化工程により、第2図
示のメッキ用下地13.13’の表面粗化処理を行なう
、すなわち、クロム−硫酸の混酸によるメッキ用下地1
3.13’の表面粗化工程の完了後、前記接合部11a
、lla’上に形成されている保護皮膜16.16′を
50℃に浴管理された15%の塩酸水溶液にて除去する
。
さらに、第2図にては具体的に示していないが、前記処
理工程を経た後、第4図示のメッキ前処理工程以下の各
工程を経て、所要の両面2層プリント配線板20を形成
するものである。
(第2実施例) 第3図は、本発明プリント配線板の製造方法の第2実施
例を示す拡大要部断面図である。
かかる実施例の場合には、前記第1実施例のアルキイミ
ダゾールによる保護皮膜16.16’に換えて、第1層
目の回路パターン11.11’のうちの接合部11a、
lla’に無電解半田メッキを施して接合部11a、l
la’表面に保護皮膜17.17’を形成して、これを
被覆したものである。
尚、前記無電解メッキに当っては、その−例として、株
式会社高純度化学研究所製−8P−28ELによる無電
解半田メッキを挙げることができる。
因って、第4図示のメッキ用下地13.13’の表面粗
化工程を、クロム−硫酸の混酸液による処理にて施す際
に、前記接合部11a、lla’を前記無電解半田メッ
キによる保護皮膜17゜17’にて保護しつつ処理する
ことができる。
また、前記クロム−硫酸の混酸液によるメッキ用下2地
13,13’の表面粗化処理の完了後、硝酸系の半田剥
離剤を用いて、保護皮膜17゜17′を剥離した後、前
記第1実施例を同様に第3図にては具体的に示していな
いが、第4図示の各工程を経て、所要の両面2層プリン
ト配線板20を形成するものである。
尚、第1.第2実施例においては、メッキ用下地13.
13’の表面粗化処理を、クロム−硫准の混酸液にて処
理する場合に適する保護皮膜16.16’、17.17
’、すなわち、アルキイミダゾールおよび無電解半田メ
ッキによる皮膜を形成する実施例について述べたもので
あるが、かかる各実施例に限定されず、メッキ用下地1
3.13’の表面粗化処理方法に対して、接合部11a
、lla’を適切に保護し得る保護皮膜を選択して形成
しつつ実施することができる。
また、両面2層プリント配線板に対する実施例を挙げた
が、片面2層プリント配線板等、その他の多層プリント
配線板についても同効作用を以て実施し得るものである
。
[発明の効果] 以上の説明から明らかな通り本発明によれば、多層プリ
ント配線板における回路パターン形成工程に於て、メッ
キ用下地を用いて回路パターンを形成する場合の接合部
等の露出回路パターンの損傷を防止し、この種多層プリ
ント配線板の大幅な導通信頼性の向上を図れるとともに
物理的強度の安定性の向上を図れ、品質、精度に優れた
多層プリント配線板を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図は本発明多層プリント配線板の第1実施
例を示す拡大要部断面図、第3図は同第2実施例を示す
拡大要部断面図、第4図は、本発明多層プリント配線板
の製造工程を示す説明図、第5図は従来の多層プリント
配線板の製造工程を示す説明図、第6図は従来の多層プ
リント配線板の部分拡大図である。 10・・・絶縁板 11.11’・・・第1層目の回路パターン11 a 
、 11 a ’ ・・・接合部12.12’・・・絶
縁層 13.13’・・・メッキ用下地 − 14,14’・・・第2層目の回路パターン15・・・
スルーホール 16.16’、17.17’・・・保護皮膜20・・・
多層プリント配線板 第1図 2n 囮、多層プリント配線板 第2図 匡士工 第″5図 匠二 ♂コ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)絶縁板の片面あるいは両面に絶縁層を介層して複
    数の回路を設けた多層プリント配線板の製造方法におい
    て、 前記絶縁層上側に回路を被着する際の下地 層の表面粗化処理に先き立って、当該絶縁板により被覆
    されない回路の露出部を保護する保護被膜を形成した後
    、前記下地層の表面粗化処理を施すことを特徴とする多
    層プリント配線板の製造方法。
  2. (2)前記保護皮膜はアルキイミダゾールにて形成する
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の多層プリ
    ント配線板の製造方法。
  3. (3)前記保護皮膜は半田メッキにて形成することを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の多層プリント配線
    板の製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0271590A (ja) * 1988-09-06 1990-03-12 Mitsubishi Electric Corp ハイブリッドic用基板

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