JPS6361659B2 - - Google Patents
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- JPS6361659B2 JPS6361659B2 JP54048154A JP4815479A JPS6361659B2 JP S6361659 B2 JPS6361659 B2 JP S6361659B2 JP 54048154 A JP54048154 A JP 54048154A JP 4815479 A JP4815479 A JP 4815479A JP S6361659 B2 JPS6361659 B2 JP S6361659B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tank
- processing
- developing
- developer
- plate
- Prior art date
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- Expired
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/3042—Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations
- G03F7/3071—Process control means, e.g. for replenishing
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はPS版の現像処理方法およびそのため
の装置に関するものである。
の装置に関するものである。
原稿を焼付けられたPS版は現像槽に搬送され
ながら現像処理液（以下、単に「処理液」とい
う。）が与えられ、かつブラシやスポンジ等で擦
られて現像処理される。前記原稿を焼付けられた
PS版上の非画像部分では前記現像処理において
有機溶媒やアルカリ水溶液を含む処理液によつて
膨潤膜となる。膨潤膜となつた非画像部分やブラ
シやスポンジ等の擦り手段で容易に取り去られ画
像部のみが残される。したがつて処理液にはPS
版からの感光性物質等の溶出物が混入されること
になる。また、前記処理液は通常現像槽を通過す
るPS版へシヤワー方式で与えられるので空気に
よる劣化、例えば炭酸ガスが溶け込むことによる
PHの低下が起こる。そこで処理液はPS版の処理
量と経時とにより、現像能力が低下して限界に至
ると新しい処理液と交換される。この処理能力の
限界を超えてPS版を処理すると、PS版の表面に
非画像部分の感光膜が残留し、これが印刷時の汚
れとなつたり、調子再現等の印刷性能が不安定と
なる。
ながら現像処理液（以下、単に「処理液」とい
う。）が与えられ、かつブラシやスポンジ等で擦
られて現像処理される。前記原稿を焼付けられた
PS版上の非画像部分では前記現像処理において
有機溶媒やアルカリ水溶液を含む処理液によつて
膨潤膜となる。膨潤膜となつた非画像部分やブラ
シやスポンジ等の擦り手段で容易に取り去られ画
像部のみが残される。したがつて処理液にはPS
版からの感光性物質等の溶出物が混入されること
になる。また、前記処理液は通常現像槽を通過す
るPS版へシヤワー方式で与えられるので空気に
よる劣化、例えば炭酸ガスが溶け込むことによる
PHの低下が起こる。そこで処理液はPS版の処理
量と経時とにより、現像能力が低下して限界に至
ると新しい処理液と交換される。この処理能力の
限界を超えてPS版を処理すると、PS版の表面に
非画像部分の感光膜が残留し、これが印刷時の汚
れとなつたり、調子再現等の印刷性能が不安定と
なる。
PS版の処理は、現像工程、水洗工程、ガム引
き工程、乾燥工程からなるのが一般的であつた
が、最近は水洗工程を省いて現像工程から直ちに
ガム引き工程に移す無水洗処理化により排水公害
をなくす方向に進んでいる。上述の如き無水洗処
理を行なう場合には、上記処理能力の限界を超え
ない範囲内の限界附近の処理液で処理した場合で
も版の地汚れや着肉不良が生じたり、また感光性
物質が溶け込んだ疲労した処理液がPS版に付着
し、これがガム液と混合して版上の地汚れや着肉
不良が生ずる。無水洗処理方式では、現像工程の
出口のローラ対を工夫してPS版に付着した処理
液をできるだけ絞つてガム引き工程に持込まない
ことが肝要であるが、処理液の持込みを皆無にす
ることは不可能である。溶出した感光性物質がま
だ少ない状態で処理液を交換することでもこの問
題は解決できるが不経済である。
き工程、乾燥工程からなるのが一般的であつた
が、最近は水洗工程を省いて現像工程から直ちに
ガム引き工程に移す無水洗処理化により排水公害
をなくす方向に進んでいる。上述の如き無水洗処
理を行なう場合には、上記処理能力の限界を超え
ない範囲内の限界附近の処理液で処理した場合で
も版の地汚れや着肉不良が生じたり、また感光性
物質が溶け込んだ疲労した処理液がPS版に付着
し、これがガム液と混合して版上の地汚れや着肉
不良が生ずる。無水洗処理方式では、現像工程の
出口のローラ対を工夫してPS版に付着した処理
液をできるだけ絞つてガム引き工程に持込まない
ことが肝要であるが、処理液の持込みを皆無にす
ることは不可能である。溶出した感光性物質がま
だ少ない状態で処理液を交換することでもこの問
題は解決できるが不経済である。
本発明の目的は、現像処理工程から出てくる
PS版に付着した処理液に含まれる感光性物質が
少ない状態で現像処理が終了し、かつ処理液を経
済的に使うことができる現像処理方法およびその
ための装置を提供することである。
PS版に付着した処理液に含まれる感光性物質が
少ない状態で現像処理が終了し、かつ処理液を経
済的に使うことができる現像処理方法およびその
ための装置を提供することである。
本発明は上記目的を達成するためになされたも
ので、ガム処理部の上流に設けられる現像処理槽
を第１の現像槽と第２の現像槽に分け、これら第
１と第２の現像槽にPS版を順次通過させ、前記
第１の現像槽での処理時間は前記第２の現像槽で
の処理時間よりも長くし、前記第２の現像槽に用
いた処理液を前記第１の現像槽の処理液として再
利用すると共に、前記第１の現像槽の処理液は、
通常の１浴方式でPS版を現像処理するときに要
求される処理能力の限界を越えた状態以上にPS
版を処理したものを用い、前記第１の現像槽と前
記第２の現像槽を通しての処理液の処理能力の限
界近くまでPS版を処理したとき、前記第１の現
像槽の処理液を排出し、前記第２の現像槽の処理
液を前記第１の現像槽へ移し、前記第２の現像槽
へ新しい処理液を供給することを特徴とする。
ので、ガム処理部の上流に設けられる現像処理槽
を第１の現像槽と第２の現像槽に分け、これら第
１と第２の現像槽にPS版を順次通過させ、前記
第１の現像槽での処理時間は前記第２の現像槽で
の処理時間よりも長くし、前記第２の現像槽に用
いた処理液を前記第１の現像槽の処理液として再
利用すると共に、前記第１の現像槽の処理液は、
通常の１浴方式でPS版を現像処理するときに要
求される処理能力の限界を越えた状態以上にPS
版を処理したものを用い、前記第１の現像槽と前
記第２の現像槽を通しての処理液の処理能力の限
界近くまでPS版を処理したとき、前記第１の現
像槽の処理液を排出し、前記第２の現像槽の処理
液を前記第１の現像槽へ移し、前記第２の現像槽
へ新しい処理液を供給することを特徴とする。
また本発明に係るPS版の現像処理装置は、第
１の現像槽と第２の現像槽とからなる現像処理部
と、第２の現像槽に直結させたガム処理槽と、前
記第１と第２の現像槽い順次PS版を通過させる
搬送手段と、新液貯蔵タンクから処理液を前記第
２の現像槽へ供給する手段と、前記第２の現像槽
の処理液を前記第１の現像槽へ移す手段と、前記
第１の現像槽の処理液を廃液回収タンクへ排出す
る手段とからなることを特徴としていることを特
徴とするPS版の現像処理方法である。
１の現像槽と第２の現像槽とからなる現像処理部
と、第２の現像槽に直結させたガム処理槽と、前
記第１と第２の現像槽い順次PS版を通過させる
搬送手段と、新液貯蔵タンクから処理液を前記第
２の現像槽へ供給する手段と、前記第２の現像槽
の処理液を前記第１の現像槽へ移す手段と、前記
第１の現像槽の処理液を廃液回収タンクへ排出す
る手段とからなることを特徴としていることを特
徴とするPS版の現像処理方法である。
PS版の現像処理は、前述の如くPS版を有機溶
媒やアルカリ水溶液を含む処理液で光硬化しない
非画像部分を膨潤させながらブラシやスポンジ等
の擦り手段で除去することであり、除去された膨
潤膜は処理液中に容易に溶け込む。したがつて、
現像処理槽を第１の現像槽と第２の現像槽に分
け、これら第１と第２の現像槽にPS版を順次通
過させて処理すると、PS版から除去された膨潤
膜の大部分が第１の現像槽に溶け込み、第２の現
像槽には第１の現像槽による現像処理で完全には
除去されずに残つていた膨潤膜に溶け込む程度で
あるおで、第２の現像槽を通つて出てきたPS版
に付着してくる処理液には感光性物質等の溶出物
は僅かしか含まれていないことになる。そして、
第１の現像槽の処理液が可成り疲労した状態、例
えば従来の現像槽が１浴である現像処理方式にお
いて処理能力限度以上にPS版が処理された状態
になつていても、第２の現像槽を通つて出てきた
PS版に付着してくる処理液に含まれる感光性物
質等の溶出物の量は、前述の従来の現像処理方式
において処理能力の限度内の処理液を用いて処理
したときに現像槽から出てきたPS版に付着して
くる処理液に含まれる感光性物質等の溶出物の量
よりも少ない。また、第１の現像槽による処理時
間を第２の現像槽による処理時間より長くするな
らば、第１の現像槽の処理液がより疲労した状態
であつてもPS版を処理することができるという
利点が生ずる。
媒やアルカリ水溶液を含む処理液で光硬化しない
非画像部分を膨潤させながらブラシやスポンジ等
の擦り手段で除去することであり、除去された膨
潤膜は処理液中に容易に溶け込む。したがつて、
現像処理槽を第１の現像槽と第２の現像槽に分
け、これら第１と第２の現像槽にPS版を順次通
過させて処理すると、PS版から除去された膨潤
膜の大部分が第１の現像槽に溶け込み、第２の現
像槽には第１の現像槽による現像処理で完全には
除去されずに残つていた膨潤膜に溶け込む程度で
あるおで、第２の現像槽を通つて出てきたPS版
に付着してくる処理液には感光性物質等の溶出物
は僅かしか含まれていないことになる。そして、
第１の現像槽の処理液が可成り疲労した状態、例
えば従来の現像槽が１浴である現像処理方式にお
いて処理能力限度以上にPS版が処理された状態
になつていても、第２の現像槽を通つて出てきた
PS版に付着してくる処理液に含まれる感光性物
質等の溶出物の量は、前述の従来の現像処理方式
において処理能力の限度内の処理液を用いて処理
したときに現像槽から出てきたPS版に付着して
くる処理液に含まれる感光性物質等の溶出物の量
よりも少ない。また、第１の現像槽による処理時
間を第２の現像槽による処理時間より長くするな
らば、第１の現像槽の処理液がより疲労した状態
であつてもPS版を処理することができるという
利点が生ずる。
第１の現像槽と第２の現像槽とを通してPS版
の処理量が能力の限界付近に至つたときには、第
１の現像槽の処理液を排出して第２の現像槽の処
理液を第１の現像槽に移し、第２の現像槽へは新
しい処理液をセツトすれば処理液を経済的に使う
ことができる。また、PS版の処理量に応じて第
２の現像槽へ新しい処理液を補充し、第２の現像
槽の一部を第１の現像槽へ移し、第１の現像槽の
一部を排出するようにすれば、連続的に第２の現
像槽の処理液を第１の現像槽に再利用しながら
PS版を処理することができる。この場合の補充
量は処理液の経時による能力低下分も含めて、第
１の現像槽の処理液の能力の限界との兼ね合いで
選ぶことにより処理液を最も経済的に用いること
ができる。
の処理量が能力の限界付近に至つたときには、第
１の現像槽の処理液を排出して第２の現像槽の処
理液を第１の現像槽に移し、第２の現像槽へは新
しい処理液をセツトすれば処理液を経済的に使う
ことができる。また、PS版の処理量に応じて第
２の現像槽へ新しい処理液を補充し、第２の現像
槽の一部を第１の現像槽へ移し、第１の現像槽の
一部を排出するようにすれば、連続的に第２の現
像槽の処理液を第１の現像槽に再利用しながら
PS版を処理することができる。この場合の補充
量は処理液の経時による能力低下分も含めて、第
１の現像槽の処理液の能力の限界との兼ね合いで
選ぶことにより処理液を最も経済的に用いること
ができる。
以下、実施例にて本発明を具体的に説明する。
装 置
第１図は本発明を実施するための装置を例示す
る側面図であり、第１の現像槽１および第２の現
像槽２からなる現像処理部と、現像処理を終えた
PS版に水洗を行なわずに直ちに非画像部分を保
護するための版面保護層を施すためのガム塗布槽
３を第２の現像槽２に直結したガム処理部とから
なつている。第１の現像槽１は、搬送ローラ４、
串ローラ５、ブラシローラ６、受ローラ７、絞り
ローラ８、および矢印Ａ方向へ送られてくるPS
版へ処理液をシヤワー方式で与えるシヤワーパイ
プ９からなりり、第２の現像槽２は、搬送ローラ
４、ブラシローラ６、受ローラ７、絞りローラ
８、および第１の現像槽１を通つてくるPS版へ
処理液をシヤワー方式で与えるシヤワーパイプ１
０からなつている。そしてガム塗布槽３は、搬送
ローラ４、串ローラ５、絞りローラ８、および第
２の現像槽２を通つてくるPS版へガム液をシヤ
ワー方式で与えるシヤワーパイプ１１からなつて
いる。ポンプ１２は第１の現像槽１の液溜部１３
からシヤワーパイプ９へ処理液を循環供給するも
のであり、ポンプ１４は第２の現像槽２の液溜部
１５からシヤワーパイプ１０へ処理液を循環供給
するものであり、ポンプ１６はガム液タンク１７
からシヤワーパイプ１１へガム液を循環供給する
ものである。そして、ポンプ１８はバルブ１９が
開かれたとき第２の現像槽２の処理液を液溜部１
５から第１の現像槽１の液溜部１３へ移すための
ものであり、ポンプ２０は処理液を新液貯蔵タン
ク２１から第２の現像槽２の液溜部１５へポンプ
アツプするものである。バルブ２２は第１の現像
槽１の処理液を液溜部１３から廃液回収タンク２
３へ排出するときに開くものである。
る側面図であり、第１の現像槽１および第２の現
像槽２からなる現像処理部と、現像処理を終えた
PS版に水洗を行なわずに直ちに非画像部分を保
護するための版面保護層を施すためのガム塗布槽
３を第２の現像槽２に直結したガム処理部とから
なつている。第１の現像槽１は、搬送ローラ４、
串ローラ５、ブラシローラ６、受ローラ７、絞り
ローラ８、および矢印Ａ方向へ送られてくるPS
版へ処理液をシヤワー方式で与えるシヤワーパイ
プ９からなりり、第２の現像槽２は、搬送ローラ
４、ブラシローラ６、受ローラ７、絞りローラ
８、および第１の現像槽１を通つてくるPS版へ
処理液をシヤワー方式で与えるシヤワーパイプ１
０からなつている。そしてガム塗布槽３は、搬送
ローラ４、串ローラ５、絞りローラ８、および第
２の現像槽２を通つてくるPS版へガム液をシヤ
ワー方式で与えるシヤワーパイプ１１からなつて
いる。ポンプ１２は第１の現像槽１の液溜部１３
からシヤワーパイプ９へ処理液を循環供給するも
のであり、ポンプ１４は第２の現像槽２の液溜部
１５からシヤワーパイプ１０へ処理液を循環供給
するものであり、ポンプ１６はガム液タンク１７
からシヤワーパイプ１１へガム液を循環供給する
ものである。そして、ポンプ１８はバルブ１９が
開かれたとき第２の現像槽２の処理液を液溜部１
５から第１の現像槽１の液溜部１３へ移すための
ものであり、ポンプ２０は処理液を新液貯蔵タン
ク２１から第２の現像槽２の液溜部１５へポンプ
アツプするものである。バルブ２２は第１の現像
槽１の処理液を液溜部１３から廃液回収タンク２
３へ排出するときに開くものである。
PS版
PS版としては、陽極酸化皮膜を有するアルミ
ニウム支持体の表面に、カルボキシメチルセルロ
ースおよび酢酸ニツケルからなる下塗層組成物を
塗布して下塗層を設け、この下塗層の上にジエチ
ル―ｐ―フエニレンジアクリレートと１，４―ジ
―β―ヒドロキシエトキシシクロヘキサンとの縮
合重合により製造した感光性ポリマーを３―メチ
ル―２―ベンゾイルメチレン―β―ナフトチアゾ
リンで増感した感光層をオーバーコートしたもの
を用意した。
ニウム支持体の表面に、カルボキシメチルセルロ
ースおよび酢酸ニツケルからなる下塗層組成物を
塗布して下塗層を設け、この下塗層の上にジエチ
ル―ｐ―フエニレンジアクリレートと１，４―ジ
―β―ヒドロキシエトキシシクロヘキサンとの縮
合重合により製造した感光性ポリマーを３―メチ
ル―２―ベンゾイルメチレン―β―ナフトチアゾ
リンで増感した感光層をオーバーコートしたもの
を用意した。
処理液
処理液としては、
γブチロラクトン ……8130ｇ
グリセリン ……813ｇ
水 ……400ｇ
ポリエチレングリコール＃4900 ……400ｇ
パラトルエンスルフオン酸 ……163ｇ
ノイゲンET＃120（商品名：第１工業薬品製
の表面活性剤） ……82ｇ がこの割合で含まれるものを用意した。
の表面活性剤） ……82ｇ がこの割合で含まれるものを用意した。
ガム液
ガム液としては、
アラビアガム（14゜ボーメ） ……6000ｇ
水 ……3000ｇ
ポリエチレングリコール＃4000 ……500ｇ
リン酸 ……200ｇ
ベンジルアルコール ……100ｇ
ノイゲンET＃120（商品名：第１工業薬品製
の表面活性剤） ……30ｇ ホウ酸ナトリウム ……200ｇ がこの割合で含まれるものを用意した。
の表面活性剤） ……30ｇ ホウ酸ナトリウム ……200ｇ がこの割合で含まれるものを用意した。
前述の如く構成した無水洗方式のPS版処理装
置の第１の現像槽１および第２の現像槽２へ処理
液を入れるには、先ずポンプ２０を作動させて新
液貯蔵タンク２１に入つている上記組成の処理液
を第２の現像槽２へ供給しながらバルブ１９を開
いてポンプ１８を作動させ、第１の現像槽１へ処
理液が適量入つたところでポンプ１８を止めると
ともにバルブ１９を閉じ、次に第２の現像槽２へ
処理液が適量入つたところでポンプ２０を止め
る。ガム液タンク１７には上記した組成のガム液
を入れておく。しかる後ポンプ１２、ポンプ１
４、ポンプ１６を作動させてそれぞれ処理液およ
びガム液を循環供給し、上記したPS版を矢印Ａ
方向へ送り込むと、PS版は第１の現像槽１およ
び第２の現像槽２にて現像処理され、ガム塗布槽
３にて版面保護層を形成されて出てくる。そし
て、第１の現像槽１および第２の現像槽２を通し
ての現像処理において処理液が能力の限界に達し
たら、ポンプ１２，１４を止めバルブ２２を開き
第１の現像槽１の処理液を廃液回収タンク２３へ
排出し、バルブ２２を閉じる。次にバルブ１９を
開きポンプ１８を作動させて第２の現像槽２の処
理液を第１の現像槽１へ移し、バルブ１９を閉じ
ポンプ１８を止める。第２の現像槽２へはポンプ
２０を作動させて処理液を新液貯蔵タンク２１か
ら供給し、適量になつたらポンプ２０を止める。
以後、このようにして第１の現像槽１の処理液を
排出し、第２の現像槽２の処理液を第１の現像槽
１へ移し、第２の現像槽２への新しい処理液のセ
ツトを行なう。
置の第１の現像槽１および第２の現像槽２へ処理
液を入れるには、先ずポンプ２０を作動させて新
液貯蔵タンク２１に入つている上記組成の処理液
を第２の現像槽２へ供給しながらバルブ１９を開
いてポンプ１８を作動させ、第１の現像槽１へ処
理液が適量入つたところでポンプ１８を止めると
ともにバルブ１９を閉じ、次に第２の現像槽２へ
処理液が適量入つたところでポンプ２０を止め
る。ガム液タンク１７には上記した組成のガム液
を入れておく。しかる後ポンプ１２、ポンプ１
４、ポンプ１６を作動させてそれぞれ処理液およ
びガム液を循環供給し、上記したPS版を矢印Ａ
方向へ送り込むと、PS版は第１の現像槽１およ
び第２の現像槽２にて現像処理され、ガム塗布槽
３にて版面保護層を形成されて出てくる。そし
て、第１の現像槽１および第２の現像槽２を通し
ての現像処理において処理液が能力の限界に達し
たら、ポンプ１２，１４を止めバルブ２２を開き
第１の現像槽１の処理液を廃液回収タンク２３へ
排出し、バルブ２２を閉じる。次にバルブ１９を
開きポンプ１８を作動させて第２の現像槽２の処
理液を第１の現像槽１へ移し、バルブ１９を閉じ
ポンプ１８を止める。第２の現像槽２へはポンプ
２０を作動させて処理液を新液貯蔵タンク２１か
ら供給し、適量になつたらポンプ２０を止める。
以後、このようにして第１の現像槽１の処理液を
排出し、第２の現像槽２の処理液を第１の現像槽
１へ移し、第２の現像槽２への新しい処理液のセ
ツトを行なう。
ガム塗布槽３に循環供給されるガム液は、PS
版が現像部から持ち込む処理液の混入量が増大し
てくると、PS版からの処理液への溶出物とによ
つて固体粒子を生成するようになるので新しいガ
ム液と交換する。
版が現像部から持ち込む処理液の混入量が増大し
てくると、PS版からの処理液への溶出物とによ
つて固体粒子を生成するようになるので新しいガ
ム液と交換する。
上述の如く、本発明を無水洗方式のPS版処理
に実施した場合においては、従来の現像槽が１浴
である場合に比べて、結果的に処理液の処理能力
は約２倍に、ガム液の寿命（処理能力）は約1.5
倍に向上した。
に実施した場合においては、従来の現像槽が１浴
である場合に比べて、結果的に処理液の処理能力
は約２倍に、ガム液の寿命（処理能力）は約1.5
倍に向上した。
本発明は上記したごときPS版の現像処理方法
および装置であるから処理液を経済的に利用する
ことができ、特に無水洗処理方式に実施する場合
には、現像処理工程から出てくるPS版に付着し
た処理液に含まれる感光性物質が少ない状態でガ
ム処理工程に入るためガム液を経済的に使うこと
ができ、かつ、処理されたPS版の品質を著著し
く向上させ得る。
および装置であるから処理液を経済的に利用する
ことができ、特に無水洗処理方式に実施する場合
には、現像処理工程から出てくるPS版に付着し
た処理液に含まれる感光性物質が少ない状態でガ
ム処理工程に入るためガム液を経済的に使うこと
ができ、かつ、処理されたPS版の品質を著著し
く向上させ得る。
第１図は本発明を実施するための装置を例示す
る要部の側面図である。 １…第１の現像槽、２…第２の現像槽、１８，
２０…ポンプ、１９，２２…バルブ、２１…新液
貯蔵タンク、２３…廃液回収タンク。
る要部の側面図である。 １…第１の現像槽、２…第２の現像槽、１８，
２０…ポンプ、１９，２２…バルブ、２１…新液
貯蔵タンク、２３…廃液回収タンク。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ガム処理部の上流に設けられる現像処理槽を
第１の現像槽と第２の現像槽に分け、これら第１
と第２の現像槽にPS版を順次通過させ、前記第
１の現像槽での処理時間は前記第２の現像槽での
処理時間よりも長くし、前記第２の現像槽に用い
た処理液を前記第１の現像槽の処理液として再利
用すると共に、前記第１の現像槽の処理液は、通
常の１浴方式でPS版を現像処理するときに要求
される処理能力の限界を越えた状態以上にPS版
を処理したものを用い、前記第１の現像槽と前記
第２の現像槽を通しての処理液の処理能力の限界
近くまでPS版を処理したとき、前記第１の現像
槽の処理液を排出し、前記第２の現像槽の処理液
を前記第１の現像槽へ移し、前記第２の現像槽へ
新しい処理液を供給することを特徴とするPS版
の現像処理方法。 ２ 第１の現像槽と第２の現像槽とからなる現像
処理部と、第２の現像槽に直結させたガム処理部
と、前記第１と第２の現像槽に順次PS版を通過
させる搬送手段と、新液貯蔵タンクから処理液を
前記第２の現像槽へ供給する手段と、前記第２の
現像槽の処理液を前記第１の現像槽へ移す手段
と、前記第１の現像槽の処理液を廃液回収タンク
へ排出する手段とからなることを特徴とするPS
版の現像処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4815479A JPS55140843A (en) | 1979-04-19 | 1979-04-19 | Method and apparatus for developing ps plate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4815479A JPS55140843A (en) | 1979-04-19 | 1979-04-19 | Method and apparatus for developing ps plate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55140843A JPS55140843A (en) | 1980-11-04 |
| JPS6361659B2 true JPS6361659B2 (ja) | 1988-11-29 |
Family
ID=12795444
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4815479A Granted JPS55140843A (en) | 1979-04-19 | 1979-04-19 | Method and apparatus for developing ps plate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55140843A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59206830A (ja) * | 1983-05-11 | 1984-11-22 | Sanyo Electric Co Ltd | レジストの現像方法 |
| JPS6064351A (ja) * | 1983-09-19 | 1985-04-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版の現像方法 |
| JPS622254A (ja) * | 1985-06-27 | 1987-01-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光材料の現像方法 |
| JPS6259957A (ja) * | 1985-09-10 | 1987-03-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光材料現像装置 |
| JPS6276342U (ja) * | 1985-10-31 | 1987-05-15 | ||
| JPH02138750U (ja) * | 1989-11-02 | 1990-11-20 |
-
1979
- 1979-04-19 JP JP4815479A patent/JPS55140843A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55140843A (en) | 1980-11-04 |
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