JPS6361676B2 - - Google Patents
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- JPS6361676B2 JPS6361676B2 JP55117086A JP11708680A JPS6361676B2 JP S6361676 B2 JPS6361676 B2 JP S6361676B2 JP 55117086 A JP55117086 A JP 55117086A JP 11708680 A JP11708680 A JP 11708680A JP S6361676 B2 JPS6361676 B2 JP S6361676B2
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- JP
- Japan
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- wiring
- circuit
- display
- latch circuit
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- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
- Logic Circuits (AREA)
- Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、各種表示のためのドツト又はセグ
メントで構成された表示装置を駆動する表示出力
回路を含む半導体集積回路装置に関する。
メントで構成された表示装置を駆動する表示出力
回路を含む半導体集積回路装置に関する。
半導体集積回路装置(以下、ICと称す)の表
示用出力端子群の配列順序をこれらの出力端子に
接続されるドツト又はセグメントで構成された表
示装置の入力端子群の配列順序に対応させる先行
技術として、例えば、特開昭54−93991号公報に
記載されているものがある。
示用出力端子群の配列順序をこれらの出力端子に
接続されるドツト又はセグメントで構成された表
示装置の入力端子群の配列順序に対応させる先行
技術として、例えば、特開昭54−93991号公報に
記載されているものがある。
この公報に記載されている技術は、基板上に絶
縁膜を介して設けられた表示用デコーダ回路の各
出力端子に接続された互い平行な金属配線と、
ICの基板内に形成されそれぞれ表示出力回路の
入力端子に接続されるp+型拡散層配線とを直交
する形に配設するものとし、その交点において、
上述のような配列順序を行なうべくコンタクトホ
ールを設けて接続するものである。コンタクトホ
ールは、穴開け用マスクの変更により任意の交点
を選ぶことができるため、表示装置の入力端子の
配列順序に応じて、ICの出力端子群の配列順序
を変更することができる。
縁膜を介して設けられた表示用デコーダ回路の各
出力端子に接続された互い平行な金属配線と、
ICの基板内に形成されそれぞれ表示出力回路の
入力端子に接続されるp+型拡散層配線とを直交
する形に配設するものとし、その交点において、
上述のような配列順序を行なうべくコンタクトホ
ールを設けて接続するものである。コンタクトホ
ールは、穴開け用マスクの変更により任意の交点
を選ぶことができるため、表示装置の入力端子の
配列順序に応じて、ICの出力端子群の配列順序
を変更することができる。
しかし、この技術の下では、表示用デコーダ回
路からの表示用出力信号が直接に表示出力回路を
介して出力端子に導かれるものであるため、n個
の出力端子に対しては、n本の拡散層配線と、n
本の金属配線とを直交させる必要がある。
路からの表示用出力信号が直接に表示出力回路を
介して出力端子に導かれるものであるため、n個
の出力端子に対しては、n本の拡散層配線と、n
本の金属配線とを直交させる必要がある。
したがつて、端子数の増大とともに、上記両配
線の占める面積が増大するという欠点がある。
線の占める面積が増大するという欠点がある。
また、デコーダ回路に接続される配線と出力端
子に接続される配線とを個別的に接続するもので
あるので、配列順序の変更が煩らわしいものとな
る。
子に接続される配線とを個別的に接続するもので
あるので、配列順序の変更が煩らわしいものとな
る。
さらに、拡散層配線を用いるものであるので、
配線容量が増大して信号伝達速度を遅くするもの
となる。
配線容量が増大して信号伝達速度を遅くするもの
となる。
この発明の目的は、出力端子の配列順序の変更
に必要な部分の占有面積の削減を図ることにあ
る。
に必要な部分の占有面積の削減を図ることにあ
る。
この発明の目的は、出力端子群の配列順序の変
更を容易に行なうことにある。
更を容易に行なうことにある。
この発明の目的は、信号伝達速度の低下を防止
することにある。
することにある。
この発明の目的は、出力端子群の配列順序の変
更にあたつてのプロセスの簡素化を図ることにあ
る。
更にあたつてのプロセスの簡素化を図ることにあ
る。
この発明の目的は、表示用デコーダ回路の簡素
化を図ることにある。
化を図ることにある。
この発明は、大まかに言えば、ドツト又はセグ
メント選択信号と、その表示位置を指定する選択
信号とが出力される表示用デコーダ回路からの出
力線と、出力端子に一義的に設けられたラツチ回
路のデータ入力端子と書き込み制御端子にそれぞ
れ接続された入力線とを互いに直交するように配
列して、その交点を選択的に接続するようにする
ものである。
メント選択信号と、その表示位置を指定する選択
信号とが出力される表示用デコーダ回路からの出
力線と、出力端子に一義的に設けられたラツチ回
路のデータ入力端子と書き込み制御端子にそれぞ
れ接続された入力線とを互いに直交するように配
列して、その交点を選択的に接続するようにする
ものである。
以下、この発明を実施例とともに詳細に説明す
る。
る。
第1図は、この発明に係る半導体集積回路装置
におけるICチツプの一実施例を示す平面略図で
ある。
におけるICチツプの一実施例を示す平面略図で
ある。
このICチツプ1は、論理回路ブロツク2と、
表示用出力端子群4UP,4LWと、この表示用端子
群4UP,4LWに一義的に設けられたラツチ回路3
と、このラツチ回路の入力線と、論理ブロツク2
における表示用デコーダ回路2aの出力線とを直
交配列させる部分と、論理回路ブロツク2への入
力端子群4LE,4R1とを含むものである。
表示用出力端子群4UP,4LWと、この表示用端子
群4UP,4LWに一義的に設けられたラツチ回路3
と、このラツチ回路の入力線と、論理ブロツク2
における表示用デコーダ回路2aの出力線とを直
交配列させる部分と、論理回路ブロツク2への入
力端子群4LE,4R1とを含むものである。
論理回路ブロツク2は、例えば、電子式デイジ
タル時計を構成する場合、発振回路、時計動作の
ためのカウンタ機能、メモリ機能を有する回路等
で構成される。これらの回路は、各機能に応じた
個別的な回路で構成されるランダム論理回路によ
るもの、又はROM(Read Only Memory)に書
き込まれた制御命令を所定のタイミングパルスに
したがつて順次読み出し、これを解読して所定の
情報処理を行なうことにより、時計動作及び表示
動作を行なわせるようにするPLA
(Programmable Logic Array)又はROM―
RAM(Random Access Memory)方式による
もので構成される。
タル時計を構成する場合、発振回路、時計動作の
ためのカウンタ機能、メモリ機能を有する回路等
で構成される。これらの回路は、各機能に応じた
個別的な回路で構成されるランダム論理回路によ
るもの、又はROM(Read Only Memory)に書
き込まれた制御命令を所定のタイミングパルスに
したがつて順次読み出し、これを解読して所定の
情報処理を行なうことにより、時計動作及び表示
動作を行なわせるようにするPLA
(Programmable Logic Array)又はROM―
RAM(Random Access Memory)方式による
もので構成される。
論理回路ブロツク2に含まれる表示用デコーダ
回路2aは、ドツト又はセグメント選択信号と、
その表示位置(例えば桁)を指定する選択信号と
を出力するものである。この表示用デコーダ回路
2aの出力線は、横方向に平行に配列された配線
群W1,W2に対応して接続され、配線群W1にド
ツト又はセグメント選択信号が伝えられ、配線群
W2には表示位置を指定する選択信号が伝えられ
る。
回路2aは、ドツト又はセグメント選択信号と、
その表示位置(例えば桁)を指定する選択信号と
を出力するものである。この表示用デコーダ回路
2aの出力線は、横方向に平行に配列された配線
群W1,W2に対応して接続され、配線群W1にド
ツト又はセグメント選択信号が伝えられ、配線群
W2には表示位置を指定する選択信号が伝えられ
る。
配線群W1の上部に設けられたラツチ回路3の
データ入力端子及び書き込み制御端子にそれぞれ
接続される入力線を上記配線群W1,W2に直交さ
せるように配列するものである。
データ入力端子及び書き込み制御端子にそれぞれ
接続される入力線を上記配線群W1,W2に直交さ
せるように配列するものである。
配線群W1,W2に対して表示用デコーダ回路2
aの対応する出力端子と接続する配線、及びラツ
チ回路3の入力線とは、例えば、絶縁膜を介して
多層構造に形成される拡散層配線とアルミニウム
配線若しくは導電性ポリシリコン配線、又は導電
性ポリシリコン配線とアルミニウム配線により形
成される。
aの対応する出力端子と接続する配線、及びラツ
チ回路3の入力線とは、例えば、絶縁膜を介して
多層構造に形成される拡散層配線とアルミニウム
配線若しくは導電性ポリシリコン配線、又は導電
性ポリシリコン配線とアルミニウム配線により形
成される。
そして、配線群W1,W2と表示用デコーダ回路
2aの対応する出力端子と接続する配線とは、一
義的に絶縁膜に設けられたコンタクトホールを介
して接続される。また、配線群W1,W2と、ラツ
チ回路3の入力線とは、第2図に示すように両者
が直交する部分のうち、〇印を付した部分に選択
的にコンタクトホールを設けて接続するものであ
る。この場合、配線群W1は、ドツト又はセグメ
ント選択信号a〜gが伝えられることより、ラツ
チ回路3のデータ入力線Dと選択的に接続され、
配線群W2はその表示位置を指定する、例えば桁
信号が伝えられることより、ラツチ回路3の書き
込み制御入力線φと選択的に接続されるものであ
る。この実施例では、ラツチ回路3は、左側から
順に第1桁D1のセグメント選択信号a〜g、第
2桁D2のセグメント選択信号a〜g、第3桁D3
のセグメント選択信号a〜gというように構成さ
れる。ラツチ回路3の各出力は、表示用の出力端
子4LW,4UPと一義的に接続されているものであ
るので、上述のような配線群W1,W2とラツチ回
路3の入力線との選択的接続により、間接的に表
示用出力端子群の配列順序を規定できる。
2aの対応する出力端子と接続する配線とは、一
義的に絶縁膜に設けられたコンタクトホールを介
して接続される。また、配線群W1,W2と、ラツ
チ回路3の入力線とは、第2図に示すように両者
が直交する部分のうち、〇印を付した部分に選択
的にコンタクトホールを設けて接続するものであ
る。この場合、配線群W1は、ドツト又はセグメ
ント選択信号a〜gが伝えられることより、ラツ
チ回路3のデータ入力線Dと選択的に接続され、
配線群W2はその表示位置を指定する、例えば桁
信号が伝えられることより、ラツチ回路3の書き
込み制御入力線φと選択的に接続されるものであ
る。この実施例では、ラツチ回路3は、左側から
順に第1桁D1のセグメント選択信号a〜g、第
2桁D2のセグメント選択信号a〜g、第3桁D3
のセグメント選択信号a〜gというように構成さ
れる。ラツチ回路3の各出力は、表示用の出力端
子4LW,4UPと一義的に接続されているものであ
るので、上述のような配線群W1,W2とラツチ回
路3の入力線との選択的接続により、間接的に表
示用出力端子群の配列順序を規定できる。
なお、第1図において、IC1の表示用出力端
子群4LW,4UPを上辺と下辺に設けたのは、例え
ば、液晶表示装置の端子群と対応させることを考
慮したものであり、側辺に設けられた端子群4L
E,4R1は、論理回路ブロツク2への入出力端子
群として用いるものである。これらの端子群4L
W,4UP,4LE及び4R1とそれぞれの回路と接続す
る配線のうちクロスする部分は、上述のような多
層配線技術により接続されている。
子群4LW,4UPを上辺と下辺に設けたのは、例え
ば、液晶表示装置の端子群と対応させることを考
慮したものであり、側辺に設けられた端子群4L
E,4R1は、論理回路ブロツク2への入出力端子
群として用いるものである。これらの端子群4L
W,4UP,4LE及び4R1とそれぞれの回路と接続す
る配線のうちクロスする部分は、上述のような多
層配線技術により接続されている。
第3図は、第2図に示した配線群W1,W2と、
ラツチ回路3の入力線との接続部分の一実施例を
示す平面略図である。この実施例では、拡散層配
線を用いた場合の配線容量の増大による信号遅
延、配線容量の電圧依存性等の不都合をなくすた
め同図点線で示すように導電性ポリシリコン配線
5とアルミニウム配線6とを絶縁膜を介して形成
するものとし、その直交部分において、絶縁膜に
コンタクトホールCを設けて、両者5,6を接続
するものである。
ラツチ回路3の入力線との接続部分の一実施例を
示す平面略図である。この実施例では、拡散層配
線を用いた場合の配線容量の増大による信号遅
延、配線容量の電圧依存性等の不都合をなくすた
め同図点線で示すように導電性ポリシリコン配線
5とアルミニウム配線6とを絶縁膜を介して形成
するものとし、その直交部分において、絶縁膜に
コンタクトホールCを設けて、両者5,6を接続
するものである。
このコンタクトホールCの形成にあたつては、
第4図の構造断面図に示すように、シリコン基板
7の絶縁膜上に形成された導電性シリコン配線5
の表面、及びシリコン基板7表面に形成されてい
る多層配線化のためのパツシベーシヨン(PSG)
膜8に、精度良くパタンニングするために薄く形
成されたホトレジスト膜9及び、ピンホール防止
のために厚く形成されたホトレジスト膜10を形
成して、導電性ポリシリコン配線5上のパツシベ
ーシヨン膜8を選択的に除去してコンタクトホー
ルCを設ける。そして、アルミニウム配線6を形
成する(図示せず)。
第4図の構造断面図に示すように、シリコン基板
7の絶縁膜上に形成された導電性シリコン配線5
の表面、及びシリコン基板7表面に形成されてい
る多層配線化のためのパツシベーシヨン(PSG)
膜8に、精度良くパタンニングするために薄く形
成されたホトレジスト膜9及び、ピンホール防止
のために厚く形成されたホトレジスト膜10を形
成して、導電性ポリシリコン配線5上のパツシベ
ーシヨン膜8を選択的に除去してコンタクトホー
ルCを設ける。そして、アルミニウム配線6を形
成する(図示せず)。
この実施例においては、表示用出力端子群の配
列順序の変更にあたつて、上述のようなコンタク
トホールの位置を変更するために、薄いホトレジ
スト膜9と厚いホトレジスト膜10を形成する2
枚のマスクパターンの変更が必要となる。
列順序の変更にあたつて、上述のようなコンタク
トホールの位置を変更するために、薄いホトレジ
スト膜9と厚いホトレジスト膜10を形成する2
枚のマスクパターンの変更が必要となる。
そこで、第5図に示すように、配線群W1,W2
とラツチ回路3への入力線とは、両者の直交部分
においてのみ、一方の配線を導電性ポリシリコン
配線5とするクロスアンダー配線を用いて、他は
アルミニウム配線で形成する。
とラツチ回路3への入力線とは、両者の直交部分
においてのみ、一方の配線を導電性ポリシリコン
配線5とするクロスアンダー配線を用いて、他は
アルミニウム配線で形成する。
すなわち、アルミニウム配線6a,6bと直交
するアルミニウム配線5a′〜5b′は、その直交部
分において、絶縁膜を介して下層配線として形成
される点線で示すような導電性ポリシリコン配線
5a〜5cによりクロスさせるものであり、アル
ミニウム配線5a′〜5b′とは、コンタクトホール
C1〜C12により固定的にそれぞれ接続するもので
ある。
するアルミニウム配線5a′〜5b′は、その直交部
分において、絶縁膜を介して下層配線として形成
される点線で示すような導電性ポリシリコン配線
5a〜5cによりクロスさせるものであり、アル
ミニウム配線5a′〜5b′とは、コンタクトホール
C1〜C12により固定的にそれぞれ接続するもので
ある。
そして、同図に示すように、アルミニウム配線
パターンの設定により、例えば、アルミニウム配
線5a′と6a及び5b′と6bのように接続するも
のである。この接続点の変更は、アルミニウム配
線マスク1枚のみの変更により、横方向の配線と
縦方向の配線間のスペース部分にアルミニウム配
線を設けるか否かにより行なうことができる。
パターンの設定により、例えば、アルミニウム配
線5a′と6a及び5b′と6bのように接続するも
のである。この接続点の変更は、アルミニウム配
線マスク1枚のみの変更により、横方向の配線と
縦方向の配線間のスペース部分にアルミニウム配
線を設けるか否かにより行なうことができる。
第6図は、この発明の他の一実施例を示す半導
体集積回路装置におけるICチツプの平面略図で
ある。
体集積回路装置におけるICチツプの平面略図で
ある。
この実施例においては、論理回路ブロツク2に
おける表示用デコーダ回路2aのレイアウトを論
理回路ブロツクの上側部に設けて、表示用デコー
ダ回路2aの出力線が直接に前述のような横方向
に配列された配線群W1,W2を構成するようにす
るものである。これにより、第1図に示すような
表示用デコーダ回路2aの出力端子と配線群W1,
W2とを接続するためのエリアが不要となり高集
積化を図ることができる。
おける表示用デコーダ回路2aのレイアウトを論
理回路ブロツクの上側部に設けて、表示用デコー
ダ回路2aの出力線が直接に前述のような横方向
に配列された配線群W1,W2を構成するようにす
るものである。これにより、第1図に示すような
表示用デコーダ回路2aの出力端子と配線群W1,
W2とを接続するためのエリアが不要となり高集
積化を図ることができる。
第7図は、表示用デコーダ回路の一実施例を示
す回路図である。
す回路図である。
フリツプフロツプ回路F1〜F4は、2進信号20
〜23として入力される表示用データ及び表示位
置を保持するためのものである。このフリツプ回
路F1〜F4の出力及びインバータ回路で形成され
た反転信号を入力とするROM1は、2進信号20
〜23を10進信号0〜9に変換するものである。
このROM1の変換出力を入力とするROM2は、10
進信号0〜9をセグメント選択信号a〜gに変換
するものである。
〜23として入力される表示用データ及び表示位
置を保持するためのものである。このフリツプ回
路F1〜F4の出力及びインバータ回路で形成され
た反転信号を入力とするROM1は、2進信号20
〜23を10進信号0〜9に変換するものである。
このROM1の変換出力を入力とするROM2は、10
進信号0〜9をセグメント選択信号a〜gに変換
するものである。
このROM2の変換出力は、タイミングパルスφ1
でデータを取り込むラツチ回路11に入力され
る。そして、このラツチ回路11の出力線により
上述のようなセグメント選択信号a〜gを伝える
配線群W1を構成する。
でデータを取り込むラツチ回路11に入力され
る。そして、このラツチ回路11の出力線により
上述のようなセグメント選択信号a〜gを伝える
配線群W1を構成する。
また、ROM1の変換出力は、タイミングパルス
φ2をゲート制御信号とするゲート回路12に入
力され、その出力線により表示位置を指定する選
択信号を伝える配線群W2を構成する。
φ2をゲート制御信号とするゲート回路12に入
力され、その出力線により表示位置を指定する選
択信号を伝える配線群W2を構成する。
この実施例においては、タイミング信号φ1,
φ2に同期させてフリツプフロツプ回路F1〜F4に
表示用データと表示位置を指定する選択信号とを
時分割方式により入力することにより、ROM1を
表示用データと上記選択信号とのデコーダ回路と
して共用するものである。この実施例回路におい
ては、タイミングパルスφ1に同期させて、フリ
ツプフロツプ回路F1〜F4に表示用データを入力
して、そのデコーダ出力をラツチ回路11に保持
した後、クロツクパルスφ2に同期させてフリツ
プフロツプ回路F1〜F4に表示位置指定信号を入
力して、そのデコーダ出力をゲート回路12を介
して得ものである。したがつて、表示用出力端子
群に一義的に設けられたラツチ回路3への1桁分
のデータ書き込みは、上記タイミングパルスφ2
に同期して行なわれることとなる。
φ2に同期させてフリツプフロツプ回路F1〜F4に
表示用データと表示位置を指定する選択信号とを
時分割方式により入力することにより、ROM1を
表示用データと上記選択信号とのデコーダ回路と
して共用するものである。この実施例回路におい
ては、タイミングパルスφ1に同期させて、フリ
ツプフロツプ回路F1〜F4に表示用データを入力
して、そのデコーダ出力をラツチ回路11に保持
した後、クロツクパルスφ2に同期させてフリツ
プフロツプ回路F1〜F4に表示位置指定信号を入
力して、そのデコーダ出力をゲート回路12を介
して得ものである。したがつて、表示用出力端子
群に一義的に設けられたラツチ回路3への1桁分
のデータ書き込みは、上記タイミングパルスφ2
に同期して行なわれることとなる。
なお、このラツチ回路3と、表示用出力端子4
とは、直接配線により接続されるのではなく、駆
動出力回路等が設けられる。
とは、直接配線により接続されるのではなく、駆
動出力回路等が設けられる。
例えば、第8図に示すように、ラツチ回路3は
縦列接続されたインバータ回路IN1,IN2と、こ
のインバータ回路IN1の入力端子とインバータ回
路IN2の出力端子との間に設けられたデータ保持
動作のための正帰還ループを構成する並列接続さ
れたpチヤンネルMISFET(絶縁ゲート型電界効
果トランジスタQ1とnチヤンネルMISFETQ3と、
インバータ回路IN1の入力端子とデータ入力端子
Dとの間に設けられた上記同様のMISFETQ2,
Q4と、書き込み制御端子φに入力端子が接続れ、
その出力端子が上記MISFETQ2,Q3のゲートに
接続されたインバータ回路IN3とで構成され、
MISFETQ1,Q4のゲートは、書き込み制御端子
φに接続されている。
縦列接続されたインバータ回路IN1,IN2と、こ
のインバータ回路IN1の入力端子とインバータ回
路IN2の出力端子との間に設けられたデータ保持
動作のための正帰還ループを構成する並列接続さ
れたpチヤンネルMISFET(絶縁ゲート型電界効
果トランジスタQ1とnチヤンネルMISFETQ3と、
インバータ回路IN1の入力端子とデータ入力端子
Dとの間に設けられた上記同様のMISFETQ2,
Q4と、書き込み制御端子φに入力端子が接続れ、
その出力端子が上記MISFETQ2,Q3のゲートに
接続されたインバータ回路IN3とで構成され、
MISFETQ1,Q4のゲートは、書き込み制御端子
φに接続されている。
書き込み制御端子φに印加される信号がローレ
ベルのとき、MISFETQ1,Q3がオンし、
MISFETQ2,Q4がオフするため、ラツチ回路の
データ保持動作が行なわれ、上記信号がハイレベ
ルのとき、MISFETQ1,Q3がオフし、
MISFETQ2,Q4がオンするため、データ入力端
子Dからの信号レベルが書き込まれるものであ
る。同様なラツチ回路が表示用出力端子数に応じ
て設けられている。
ベルのとき、MISFETQ1,Q3がオンし、
MISFETQ2,Q4がオフするため、ラツチ回路の
データ保持動作が行なわれ、上記信号がハイレベ
ルのとき、MISFETQ1,Q3がオフし、
MISFETQ2,Q4がオンするため、データ入力端
子Dからの信号レベルが書き込まれるものであ
る。同様なラツチ回路が表示用出力端子数に応じ
て設けられている。
このラツチ回路の出力は、液晶等のように交流
駆動を行なう必要がある場合には、一方の入力に
例えば32Hzのパルス信号が印加された排他的論理
和回路EXを介して駆動出力回路Aに入力される。
そして、この駆動出力回路Aの出力端子と表示用
出力端子4とが接続されるものである。
駆動を行なう必要がある場合には、一方の入力に
例えば32Hzのパルス信号が印加された排他的論理
和回路EXを介して駆動出力回路Aに入力される。
そして、この駆動出力回路Aの出力端子と表示用
出力端子4とが接続されるものである。
上述のように、ラツチ回路3と表示用出力端子
4との間には、通常駆動出力回路を含む表示装置
駆動のための信号波形変換回路が設けられるもの
である。
4との間には、通常駆動出力回路を含む表示装置
駆動のための信号波形変換回路が設けられるもの
である。
以上説明したこの発明の実施例によれば、次の
理由により、その目的を達成することができる。
理由により、その目的を達成することができる。
この実施例においては、例えば、第1図、又は
第2図に示すように、出力端子群の配列順序を設
定するための配線群は、表示用データ信号を伝え
る配線群W1と、その表示位置を指定する選択信
号を伝える配線群W2とにより構成するものであ
るので、例えば、7セグメント、8桁の数字表示
を行なう場合においても、15本と大幅に少なくす
ることができる。ちなみに、前記先行技術の下で
は、表示用デコーダ回路から直接に表示用出力端
子に信号を伝えるものであるので、56本もの多数
の配線を直交させる必要がある。
第2図に示すように、出力端子群の配列順序を設
定するための配線群は、表示用データ信号を伝え
る配線群W1と、その表示位置を指定する選択信
号を伝える配線群W2とにより構成するものであ
るので、例えば、7セグメント、8桁の数字表示
を行なう場合においても、15本と大幅に少なくす
ることができる。ちなみに、前記先行技術の下で
は、表示用デコーダ回路から直接に表示用出力端
子に信号を伝えるものであるので、56本もの多数
の配線を直交させる必要がある。
したがつて、この実施例によれば、配線数の削
減により、出力端子群の配列順序の変更に必要な
部分の占有面積の削減を図ることができる。
減により、出力端子群の配列順序の変更に必要な
部分の占有面積の削減を図ることができる。
また、表示用出力端子群に一義的に設けられた
ラツチ回路3は、表示データと、その位置情報と
で定義されるものであるので、例えば、ある表示
データの桁のみを変更する場合には、配線群W2
とラツチ回路3の書き込み制御入力線との関係の
みを変更することで可能になるなど簡便に行なえ
ること、又は表示装置におけるセグメントに対応
してグループ分けして表示用出力端子の重みを考
えることができるなどにより、配列順序の変更を
容易に行なうことができる。
ラツチ回路3は、表示データと、その位置情報と
で定義されるものであるので、例えば、ある表示
データの桁のみを変更する場合には、配線群W2
とラツチ回路3の書き込み制御入力線との関係の
みを変更することで可能になるなど簡便に行なえ
ること、又は表示装置におけるセグメントに対応
してグループ分けして表示用出力端子の重みを考
えることができるなどにより、配列順序の変更を
容易に行なうことができる。
また、第3図、第5図に示すように、配線手段
として、導電性ポリシリコン配線とアルミニウム
配線とを用いた場合には、配線容量が小さくでき
るため、信号伝達速度の低下を防止することがで
きる。
として、導電性ポリシリコン配線とアルミニウム
配線とを用いた場合には、配線容量が小さくでき
るため、信号伝達速度の低下を防止することがで
きる。
また、第5図に示すように、導電性ポリシリコ
ン配線によりアルミニウム配線に対してクロスア
ンダーさせるマスタースライス方式を用いた場合
には、表示用出力端子群の配列順序の変更にあた
つてアルミニウム配線を形成するマスク1枚のみ
を変更することにより可能であるため、プロセス
の簡素化を図ることができる。この場合におい
て、ICチツプの所定の箇所に行なう品名の表示
は、アルミニウムのパターンで行なうものである
ので、出力端子群の変更に伴なう品名の変更が同
時に行なうことができるという利点をも有する。
ン配線によりアルミニウム配線に対してクロスア
ンダーさせるマスタースライス方式を用いた場合
には、表示用出力端子群の配列順序の変更にあた
つてアルミニウム配線を形成するマスク1枚のみ
を変更することにより可能であるため、プロセス
の簡素化を図ることができる。この場合におい
て、ICチツプの所定の箇所に行なう品名の表示
は、アルミニウムのパターンで行なうものである
ので、出力端子群の変更に伴なう品名の変更が同
時に行なうことができるという利点をも有する。
さらに、表示用デコーダ回路2aは、その出力
線の削減によることの他、第7図に示すように、
デコーダ回路の一部を表示用データと、その表示
位置の選択信号とに共用することにより、回路の
簡素化を図ることができる。
線の削減によることの他、第7図に示すように、
デコーダ回路の一部を表示用データと、その表示
位置の選択信号とに共用することにより、回路の
簡素化を図ることができる。
この発明は、前記実施例に限定されず、ICチ
ツプ1における各回路ブロツク、及び出力端子の
レイアウトは、種々変形できるものである。
ツプ1における各回路ブロツク、及び出力端子の
レイアウトは、種々変形できるものである。
各回路ブロツクの具体的構成は、種々変形でき
るものである。
るものである。
この発明は、表示駆動出力信号を形成する各種
デイジタル制御回路を構成する半導体集積回路装
置に広く利用できるものである。
デイジタル制御回路を構成する半導体集積回路装
置に広く利用できるものである。
第1図は、この発明の一実施例を示すICチツ
プの平面略図、第2図は、その要部を示す回路
図、第3図は、その配線接続部の一実施例を示す
平面略図、第4図は、そのコンタクト形成方法を
示す構造断面図、第5図は、配線接続部の他の一
実施例を示す平面略図、第6図は、この発明の他
の一実施例を示すICチツプの平面略図、第7図
はこの発明の一実施例を示す表示用デコーダ回路
の回路図、第8図は、ラツチ回路及び出力回路の
一実施例を示す回路図である。 1……ICチツプ、2……論理回路ブロツク、
2a……表示用デコーダ回路、3……ラツチ回
路、4……端子、5……導電性ポリシリコン配
線、6……アルミニウム配線、7……シリコン基
板、8……パツシベーシヨン膜、9,10……ホ
トレジスト膜、11……ラツチ回路、12……ゲ
ート回路。
プの平面略図、第2図は、その要部を示す回路
図、第3図は、その配線接続部の一実施例を示す
平面略図、第4図は、そのコンタクト形成方法を
示す構造断面図、第5図は、配線接続部の他の一
実施例を示す平面略図、第6図は、この発明の他
の一実施例を示すICチツプの平面略図、第7図
はこの発明の一実施例を示す表示用デコーダ回路
の回路図、第8図は、ラツチ回路及び出力回路の
一実施例を示す回路図である。 1……ICチツプ、2……論理回路ブロツク、
2a……表示用デコーダ回路、3……ラツチ回
路、4……端子、5……導電性ポリシリコン配
線、6……アルミニウム配線、7……シリコン基
板、8……パツシベーシヨン膜、9,10……ホ
トレジスト膜、11……ラツチ回路、12……ゲ
ート回路。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 文字、記号又は図形を形作るドツト又はセグ
メントで構成された表示装置に駆動信号を供給す
る複数の外付端子に対応して一義的に設けられた
複数のラツチ回路と、このラツチ回路のデータ入
力端子と書き込み制御端子にそれぞれ接続される
信号線が平行に配置された第1の配線手段と、デ
コーダ回路で形成されたドツト又はセグメント選
択信号線及びその表示位置を指定する選択信号線
とが平行に配置された第2の配線手段とを含み、
第1、第2の配線手段を略直交させるように配置
するとともに、少なくとも両配線手段が直交する
部分において一方の配線手段が絶縁膜を介した多
層配線により形成され、第1の配線手段と第2の
配線手段とを選択的に接続し、上記ラツチ回路は
上記選択信号に応答して上記ドツト又はセグメン
ト信号のデータを取り込むことを特徴とする半導
体集積回路装置。 2 上記複数のラツチ回路のデータ入力端子に
は、上記ドツト又はセグメント信号線が共通に接
続されてなることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の半導体集積回路装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11708680A JPS5742089A (en) | 1980-08-27 | 1980-08-27 | Semiconductor ingetrated circuit device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11708680A JPS5742089A (en) | 1980-08-27 | 1980-08-27 | Semiconductor ingetrated circuit device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5742089A JPS5742089A (en) | 1982-03-09 |
| JPS6361676B2 true JPS6361676B2 (ja) | 1988-11-29 |
Family
ID=14703041
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11708680A Granted JPS5742089A (en) | 1980-08-27 | 1980-08-27 | Semiconductor ingetrated circuit device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5742089A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6028242A (ja) * | 1983-07-27 | 1985-02-13 | Hitachi Ltd | 多層配線構造 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS552660Y2 (ja) * | 1975-07-21 | 1980-01-23 | ||
| JPS5738702Y2 (ja) * | 1977-01-19 | 1982-08-25 |
-
1980
- 1980-08-27 JP JP11708680A patent/JPS5742089A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5742089A (en) | 1982-03-09 |
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