JPS6362346A - 吸着テ−ブル - Google Patents

吸着テ−ブル

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JPS6362346A
JPS6362346A JP61206985A JP20698586A JPS6362346A JP S6362346 A JPS6362346 A JP S6362346A JP 61206985 A JP61206985 A JP 61206985A JP 20698586 A JP20698586 A JP 20698586A JP S6362346 A JPS6362346 A JP S6362346A
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JP
Japan
Prior art keywords
air
valves
wafer
air inlet
suction
Prior art date
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Pending
Application number
JP61206985A
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English (en)
Inventor
Hiroyuki Takahashi
弘行 高橋
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Advantest Corp
Original Assignee
Advantest Corp
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Publication date
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Publication of JPS6362346A publication Critical patent/JPS6362346A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 ICを半導体ウェハ(以後単にウェハと称する)の状態
で試験する際に用いるウェハプローバーに於いて被試験
ウェハーの裏面を吸着することによって所定の位置に保
持する吸着テーブルに関する。
「従来技術」 従来の吸着テーブルは、第6図に示されるようにワーク
ステージ(12)、サブステージ(13)、及び空気吸
入装置(18)から構成されており、ワークステージ(
12)とサブステージ(13)のそれぞれの平面図は第
2図及び第3図に示す通りである。第6図に示された空
気吸入装置(18)於いては、複数の空気流入管(la
〜1d)がそれぞれバルブ(3a〜3d)を介して一つ
のマニホールド(,4)に集約された後に真空源(6)
へ配管されている構造になっており、この空気吸入装置
(18)の空気流入管(la〜ld)の先端は、サブス
テージ(13)の空気流入口(15a〜15d)に接続
されている。このサブステージ(13)には、上面に同
心円を形成するような溝(14a〜14d)が設けられ
ており、空気流入口(15a−15d)はこれらの善導
(14a〜14d)の底面に設けられている。更にサブ
ステージ(13)にはワークステージ(12)が固定さ
れており、このワークステージ(12)にはサブステー
ジ(13)に設けられている溝(142〜14d)と重
なって同心円を形成するような比較的浅い溝(10a〜
10d)が設けられている。これらの比較的浅い溝(1
0a〜10d)の各底面にはそれぞれ複数の空気吸入孔
(11a〜lld、lla’ 〜lid’ )が明けら
れている。即ちバルブ(3a〜3d)の開かれている空
気流入管(la〜ld)に導かれる空気は、このワーク
ステージに設けられている空気吸入孔(11a 〜11
d、11a’ 〜11d’ )より吸い込まれサブステ
ージ(13)に設けられている溝(14a〜14d)か
ら空気流入口(15a〜15d)を経て空気流入管(l
a〜ld)へと吸い込まれることになる。
このような従来装置を用いてウェハ(9)を吸着固定す
る場合には、ウェハ(9)吸着の際に空気吸入装置(1
8)内部の真空度が高まるように、ウェハ(9)がワー
クステージ(12)にセントされた際にウェハ(9)に
よって覆われてしまう空気吸入孔(lla、lla’ 
、llb、11b’ )につながっている空気流入管(
la、lb)のバルブ(3a、3b)のみを開け、ウェ
ハ(9)に覆われることのない空気吸入孔(11c。
11d、11C”、11d”)に続いている空気流入管
(IC,ld)のバルブ(3c、  3 d)は閉じる
操作を前もって行ってから、ウェハ(9)をワークステ
ージ(12)にセットして吸着固定している。
「発明が解決しようとする問題点」 ウェハ(9)をワークステージ(12)の所定の位置に
吸着固定する際には、一定値以上の吸着力を得るために
空気吸入装置(18)内部の真空度を高める必要がある
。このためウェハ(9)をワークステージ(12)にセ
ットした際にウェハ(9)によって覆われる空気吸入孔
(11a、11a’、llb、llb”)に続いている
空気流入管(1a、  1 b)のバルブ(3a、  
3 b)のみを開けた状態にしておいて他の空気吸入孔
(11C,llc’、1ldl  lid”)に続いて
いる空気流入管(1c、  1 d)のバルブ(3c、
  3d)は閉じなければならない。従って従来装置に
よってウェハ(9)をワークステージ(12)にセット
しようとする場合には、前取ってウェハ(9)のサイズ
に合わせてワークステージ(12)に設けられている各
々の空気吸入孔(11a〜11d、lla’〜lid’
)につながっている空気流入管(la〜ld)のバルブ
(3a〜3 d)の切り換え作業を行う必要がある。
「問題点を解決する手段」 ワークステージに設けられた各空気吸入孔につながって
いる空気流入管毎に空気圧センサとバルブを取り付け、
更にこの空気圧センサが差圧を感知した時に発する信号
を受けてその信号を発した空気圧センサと同じ空気流入
管にあるバルブの開閉ヲコントロールするコントロール
ユニットヲ設けることによって、ウェハが吸着テーブル
にセットされた際に自動的に吸着に必要な空気流入管の
バルブのみを開けた状態で維持し他の空気流入管のバル
ブは閉じられるようにすることによって、吸着テーブル
にセントされるウェハのサイズが異なってもバルブの切
り換え作業をすることなしに吸着固定できる様にする。
「発明の実施例」 第1図に本発明の実施例を示す。尚この実施例における
ワークステージ(12)及びサブステージ(13)につ
いては、「従来技術」の項に於いて説明した第2図、第
3図、第6図の構造と全く同様である。
真空源(6)が動作状態にある時に、ウェハ(9)がワ
ークステージ(12)にセットされるとコントロールユ
ニット(7)に対して動作を実行させるための信号Xが
入力される。この信号Xはワークステージ(12)にセ
ントされているウェハ(9)の試験が終了すると停止す
る様になっており、この信号Xの制御は例えばウェハプ
ローバーに於いて行われる一連のウェハ(9)のハンド
リングを実行させるハンドリングコントローラー(8)
によって行われる様にしても良い。この信号Xがコント
ロールユニット(7)のMMV(17)に入力されるこ
とによって全ての空気流入管(1a〜1d)のバルブ(
32〜3d)が開かれる。この全てのバルブ(3a〜3
d)が開かれている時間間隔はコントロールユニット(
7)に於けるMMV(17)によって一定の範囲内で任
意の値に設定可能となっている。このように全てのバル
ブ(la〜ld)が「開」の状態になっている時に、ワ
ークステージ(12)に設けられている空気吸入孔(l
la−1id、lla’ 〜11d”)のうち、ウェハ
(9)に覆われている空気吸入孔(lla 〜llb、
lla’ 〜11b’ )とつながっている空気流入管
(la〜lb)に取り付けられた空気圧センサ(2a〜
2b)が、空気流入管(la〜lb)内部と大気圧との
圧力差を感知してコントロールユニット(7)へ信号を
送る。空気圧センサ(2a〜2b)より信号が送り込ま
れたコントロールユニット(7)は、圧力差を感知した
空気圧センサ(2a〜2b)と同じ空気流入管(la〜
lb)にあるバルブ(3a〜3b)を「開jの状態に維
持し続ける。このバルブ(3a 〜3b)は、空気圧セ
ンサ(2a〜2b)が空気流入管(la〜lb)の内部
と大気圧との圧力差を感知している間、即ち信号Xがコ
ントロールユニット(7)へ送信されている間「開」の
状態が維持されウェハ(9)を吸着し続ける。
一方つエバ(9)に覆われていないワークステージ(1
2)上の空気吸入孔(llc 〜lid、11C+ 〜
lid’)につながっている空気流入管(IC〜ld)
に取り付けられているバルブ(30〜3d)は、空気圧
センサ(2c〜2d)が空気流入管(IC〜ld)の内
部と大気圧との圧力差を感知せずコントロールユニット
(7)に対して信号を発しないためにウェハ(9)がセ
ットされた後、MMV(17)によって設定された時間
が経過すると自動的に閉じられてしまう。このため空気
吸入装置(16)内部の真空度が高められ、ウェハ(9
)を固定するために必要な吸着状態が得られることにな
る。
次に本発明の吸着テーブルの動作を第5図に示すタイミ
ングチャートによって説明する。ウェハ(9)がワーク
ステージ(12)の定められた位置にセットされると信
号Xがコントロールユニット(7)に送られる。これに
よってコントロールユニット(7)に於けるMMV(1
7)は、予め設定されている時間である1、秒の開信号
Qを出力する。この信号Qが出力されている間、即ちウ
ェハ(9)がセットされてからt1秒間は全ての空気流
入管(la〜ld)のバルブ(3a〜3d)が開かれた
状態になる。このためにウェハ(9)によって覆われて
いる空気吸入孔(lla、11b、lla’ 、llb
’ )につながっている空気流入管(la、lb)の空
気圧センサ(2a。
2b)は、空気流入管(la、lb)の内部と大気圧と
の圧力差を感知し、ウェハ(9)がセットされてからt
2秒後にそれぞれ信号S1と信号S2をコントロールユ
ニット(9)へ送る、これによってコントロールユニッ
ト(9)は信号S、及びSlを発信した空気圧センサ(
2a、  2 b)とそれぞれ同じ空気流入管(1a、
1b)のバルブ(3a、  3 b)を「開」の状態に
維持する。このためMMV (17)からの信号Qが停
止してもウェハ(9)の試験が終了する迄は、これらの
バルブ(3a、  3 b)は開かれた状態になってい
る。
一方つエバ(9)に覆われていない空気吸入孔(11C
,lid、IIC’、lid”)につながっている空気
流入管(IC,ld)のバルブ(3c、3d)は、空気
圧センサ(2c、  2 d)が空気流入管(IC,l
d)の内部と大気圧との圧力差を感知しないがためにコ
ントロールユニット(7)に対して信号を発することが
ないので信号Qが発信されなくなると同時に閉じられる
ことになる。従ってウェハ(9)がセットされてからt
秒後には自動的に吸着に必要な空気流入管(la、1b
)のバルブ(3a、  3 b)だけが開かれた状態と
なり、空気吸入袋W (16)の真空度が高められウェ
ハ(9)がワークステージ(12)に吸着固定される。
尚本実施例においては、2個所の空気吸入孔より吸入さ
れた空気が一本の空気流入管に吸い込まれる様になって
いるが、必ずしもこの必要はなく一本の空気流入管に対
して3個所以上の空気吸入孔が対応する様な構造にして
もよく、或いは又第7図に示す様にワークステージに溝
を設けることなく一個所の空気流入孔に対して一本の空
気流入管が対応する様にしても良い。
「発明の効果」 本発明の吸着テーブルによれば、ウェハ(9)がワーク
ステージ(12)にセントされて一定時間が経過すると
セットされたウェハ(9)に合わせて、吸着に必要な空
気流入管(la、lb)のバルブ(3a、  3 b)
のみが自動的に開かれた状態に維持され、一方他のバル
ブ(3c、3d)は閉じられてしまうために空気吸入装
置(16)の真空度が高められ、ウェハ(9)がワーク
ステージ(12)に吸着される。従ってワークステージ
(12)にセットされるウェハ(9)のサイズが異なる
場合でも、空気吸入装置(16)の真空度を高めるため
にウェハ(9)のサイズに合わせてバルブ(3a〜3d
)の開閉作業を行う必要がなくなる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の吸着テーブルの一実施例を示しくワー
クステージは第2図におけるA−A’断面図を、サブス
テージは第3図におけるB−B’断面図を示している)
、第2図は第1図及び第6図に於けるワークステージの
平面図を、第3図は第1図及び第6図に於けるサブステ
ージの平面図を示している。第4図はコントロールユニ
ットの論理回路を示しており、第5図は本発明の吸着テ
ーブルにおける信号とバルブの動作をタイミングチャー
トで示したものである。第6図は従来の吸着テーブルの
構造を示している。第7図は一つの空気吸入孔に一本の
空気流入管を対応させた本発明の一実施例の平面図を示
し、第8図はその正面図(第7図に於けるc−c’ )
を示している。 la 〜ld、21;空気流入管 22〜2d、22;空気圧センサ 3a〜3d、23;バルブ 4;マニホールド 5;マニホールド−真空源の配管 6;真空源 7;コントロールユニット 8;ハンドリングコントローラー 9;半導体ウェハ 10a 〜10d、14a〜14d;溝11a〜lid
、lla’ 〜lid’ 、20;空気吸入孔 12.19;ワークステージ 13;サブステージ 152〜15di空気流入口 16.18:空気吸入装置 17:MMV X;ハンドリングコントローラーよりコントロールユニ
ットへ送られる信号 T;信号Xがコントロールユニットへ送り込まれている
時間(半導体ウェハがワークステージにセットされてか
ら試験が終了するまでの時間) Q ;MMVより発せられる信号 tI ;信号Qの発信されている時間 SI ;空気圧センサ(2a)の発する信号S! ;空
気圧センサ(2b)の発する信号S、;空気圧センサ(
2C)の発する信号S4 ;空気圧センサ(2d)の発
する信号tt ;信号Xがコントロールユニットに入力
されてから信号St 、Stが発せられるまでの遅れ時
間 ■1 ;バルブ(3a)の状態図 v2 ;バルブ(3b)の状態図 ■3 ;バルブ(3C)の状態図 V4 ;バルブ(3d)の状態図 第  3 図 第  4 図 第5図 第  6 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ウェハプローバーにおいて (a)、空気圧センサの取り付けられている複数の空気
    流入管がバルブを経て一つのマニホールドに集約された
    後、真空源へ配管されている空気吸入装置と、 (b)、半導体ウェハがワークステージにセットされた
    際に、上記の全ての空気流入管のバルブを一定時間開い
    た状態に維持し、その後は空気圧差を感知している上記
    空気圧センサと同じ空気流入管のバルブのみを開け、そ
    の他のバルブは閉じて、この状態をワークステージにセ
    ットされた半導体ウェハの試験が終了するまで維持する
    コントロールユニットと を有することを特徴とする吸着テーブル。
JP61206985A 1986-09-03 1986-09-03 吸着テ−ブル Pending JPS6362346A (ja)

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