JPS6376200A - 半導体集積回路 - Google Patents
半導体集積回路Info
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- JPS6376200A JPS6376200A JP61219549A JP21954986A JPS6376200A JP S6376200 A JPS6376200 A JP S6376200A JP 61219549 A JP61219549 A JP 61219549A JP 21954986 A JP21954986 A JP 21954986A JP S6376200 A JPS6376200 A JP S6376200A
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/04—Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
- G11C29/50—Marginal testing, e.g. race, voltage or current testing
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- G11C29/04—Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
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- G11C2029/5006—Current
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- Static Random-Access Memory (AREA)
- Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体記憶装置に係り、特にメモリセルの動作
余裕度の評価を容易にし、動作の安定な半導体記憶装置
を得るための回路方式に関す、るう〔従来の技術〕 一般に半導体集積回路の回路設計に用いられている手法
は、電源電圧及びジャンクション温、度の変化に対し、
内部の電位は一定または1等しく変化する様に設計され
ているっこの様に設計された集積回路は、電源電圧を変
化させて、回路の動作余裕度を測定することがむずかし
いため、特開昭58−8079号に記載のように、外部
から内部電位を変えることにより、動作余裕度の測定を
可能としていた。しかし例えばメモリセルの情報保持電
流を考えた時、特許公報昭57−12234号に記載の
ような放電々流が、R造時の素子特性ばらつきのため常
時流れ、結果として清報保持1流として作用するため、
単に前述の方法ではメモリセルの情報保持屯a全テスト
したい値迄小さくしてテストすることが出来なくなる点
については配慮されていなかった。
余裕度の評価を容易にし、動作の安定な半導体記憶装置
を得るための回路方式に関す、るう〔従来の技術〕 一般に半導体集積回路の回路設計に用いられている手法
は、電源電圧及びジャンクション温、度の変化に対し、
内部の電位は一定または1等しく変化する様に設計され
ているっこの様に設計された集積回路は、電源電圧を変
化させて、回路の動作余裕度を測定することがむずかし
いため、特開昭58−8079号に記載のように、外部
から内部電位を変えることにより、動作余裕度の測定を
可能としていた。しかし例えばメモリセルの情報保持電
流を考えた時、特許公報昭57−12234号に記載の
ような放電々流が、R造時の素子特性ばらつきのため常
時流れ、結果として清報保持1流として作用するため、
単に前述の方法ではメモリセルの情報保持屯a全テスト
したい値迄小さくしてテストすることが出来なくなる点
については配慮されていなかった。
〔発明が解決し2ようとする間LA点〕上記従来技術は
、ワード線を高速に非選択電位に駆動するための放電々
流が、非選択時にも流れる点について配慮されておらず
、情報保持電流を減らしてテストしても、放屈々流の一
部が情報保持電流として作用するため、動作余裕度の沃
1.Qビットを含むチップを摘出できない問題があった
。
、ワード線を高速に非選択電位に駆動するための放電々
流が、非選択時にも流れる点について配慮されておらず
、情報保持電流を減らしてテストしても、放屈々流の一
部が情報保持電流として作用するため、動作余裕度の沃
1.Qビットを含むチップを摘出できない問題があった
。
本発明の目的は、メモリを含む半導体集積回路の機能試
験の際に非選択時には放這々流を流さない様にしたうえ
で、情報保持電流を減らしたテストにより動作余裕度の
狭いビットを含むチップの摘出を容易にすることにある
。
験の際に非選択時には放這々流を流さない様にしたうえ
で、情報保持電流を減らしたテストにより動作余裕度の
狭いビットを含むチップの摘出を容易にすることにある
。
上記目的は、非選択時に外部より強制的に放電回路の内
部電圧を変え、放這々流が流れない様にするとともに、
情報保持電流発生回路の内部磁位を、外部より強制的に
変化させ、情報保持電流を減らして機能試験することに
より達成される。
部電圧を変え、放這々流が流れない様にするとともに、
情報保持電流発生回路の内部磁位を、外部より強制的に
変化させ、情報保持電流を減らして機能試験することに
より達成される。
放電回路の内部電圧を外部より強制的に変化させること
Kより、非選択時の放i埋電流の一部が情報保持電流と
して作用すること全防止できろうこのため、メモリセル
の情報保持動作は、情報保持電流のみで決まるよりにi
るので、情報保持電流全小さくすることで、動作余裕度
り)狭いピットを含むテップを容易に検出でさる。
Kより、非選択時の放i埋電流の一部が情報保持電流と
して作用すること全防止できろうこのため、メモリセル
の情報保持動作は、情報保持電流のみで決まるよりにi
るので、情報保持電流全小さくすることで、動作余裕度
り)狭いピットを含むテップを容易に検出でさる。
以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。筐ず
この1で従来の問題点上述べる。フリラグフロップ形の
メモリセルIA〜IDの記憶情報の保持は、次の様にし
て行われる。保持電流は、保持′4流供給線2人及び2
Bi介して各メモリセルよ電流れる。各メモリセルに於
いては、エミッタが共通接続された一対のトランジスタ
のベース電位が高いトランジスタから保持電流が流れる
。
この1で従来の問題点上述べる。フリラグフロップ形の
メモリセルIA〜IDの記憶情報の保持は、次の様にし
て行われる。保持電流は、保持′4流供給線2人及び2
Bi介して各メモリセルよ電流れる。各メモリセルに於
いては、エミッタが共通接続された一対のトランジスタ
のベース電位が高いトランジスタから保持電流が流れる
。
この保持電流により、トランジスタのコレクタに接続さ
れた抵抗での電位降下Kj:Dフリップ7コツプの状態
は床たれ、記憶情報の保持が行われる。
れた抵抗での電位降下Kj:Dフリップ7コツプの状態
は床たれ、記憶情報の保持が行われる。
この保持を流の発生は次の様にして行われる。トランジ
スタ3八と3B及び抵抗4Aと4Bで構成した電流源回
路と、これらのトランジスタのペースを駆動する内部’
を源回路5で定電流源回路を構成している。内部電源回
路5の出力電圧全端子6に加える電圧より2Vmx(こ
こにV a zはトランジスタの順方向電圧)高い電圧
とし、端子7に端子6と同一の電圧を加えた時、保持t
こ供給給線に供給する電流IHは、トランジスタの順方
向電圧をVatとし、抵抗4人及び4Bの抵抗値をR4
とすると次式で求められる。
スタ3八と3B及び抵抗4Aと4Bで構成した電流源回
路と、これらのトランジスタのペースを駆動する内部’
を源回路5で定電流源回路を構成している。内部電源回
路5の出力電圧全端子6に加える電圧より2Vmx(こ
こにV a zはトランジスタの順方向電圧)高い電圧
とし、端子7に端子6と同一の電圧を加えた時、保持t
こ供給給線に供給する電流IHは、トランジスタの順方
向電圧をVatとし、抵抗4人及び4Bの抵抗値をR4
とすると次式で求められる。
このためIHは、内部電源回路に端子6から供給される
電源電圧には依存しない。一方この図の様なスリップフ
ロップ型のメモリセルに於いて。
電源電圧には依存しない。一方この図の様なスリップフ
ロップ型のメモリセルに於いて。
メモリセルの動作余裕度は、各メモリセルから流れる保
持電流依存性が大きい。しかし上述の様に電源電圧を変
えても保持電流を変化させる(−とは不可能である。
持電流依存性が大きい。しかし上述の様に電源電圧を変
えても保持電流を変化させる(−とは不可能である。
そこで、従来は端子6と端子7を分離しAなる値のl電
圧を加えて前述の保持電流を減少させて機能試験してい
る。すなわち端子7:りもΔVF、にだけ絶対値の小き
い電源電圧を4f6に印加した時1、迂流Iaは次式で
求められる。
圧を加えて前述の保持電流を減少させて機能試験してい
る。すなわち端子7:りもΔVF、にだけ絶対値の小き
い電源電圧を4f6に印加した時1、迂流Iaは次式で
求められる。
この様に電源端子と分離することによシ、保持電流供給
線を流れる電流Inは、′電源電圧を変える事で増減す
ることが可能となる。本実施例によればすなわち1組立
前のグローブ検査に於いて。
線を流れる電流Inは、′電源電圧を変える事で増減す
ることが可能となる。本実施例によればすなわち1組立
前のグローブ検査に於いて。
メモリセルの動作余裕度の狭いメモリセルを摘出し、そ
れを含むチップを不良品として排除することが可能にな
る。
れを含むチップを不良品として排除することが可能にな
る。
しかし1次に述べるような放電回路を有する場合は、内
部′電源回路5のみの制御で保持電流を減らすことが難
しくなる。この放電回路の動作については、特許公報昭
57−12234号に記載されているように、レベルシ
フト回路9A及び9B″′r:選択時のワード線8A及
び8Bの電位を、レベルシフトし、トランジスタIOA
及びIOBと抵抗11A及びIIBで構成した成流源回
路て加えて、放電々流を発生している。非選択時には、
両トランジスタが非導通になる様にして放電々流が流れ
ない様にしている。しかしレベルシフト量の差により、
ワード線が非選択時でもトランジスタIOA及びIOB
が非導通にならず、保持直流に相幽する放電々流が流れ
ている場合、前述の内部電γ涼回路5のみの制御で保持
電流を減らすことは逍しくなり、同様な制御手法により
放電々流も同時に減らす必要がある。
部′電源回路5のみの制御で保持電流を減らすことが難
しくなる。この放電回路の動作については、特許公報昭
57−12234号に記載されているように、レベルシ
フト回路9A及び9B″′r:選択時のワード線8A及
び8Bの電位を、レベルシフトし、トランジスタIOA
及びIOBと抵抗11A及びIIBで構成した成流源回
路て加えて、放電々流を発生している。非選択時には、
両トランジスタが非導通になる様にして放電々流が流れ
ない様にしている。しかしレベルシフト量の差により、
ワード線が非選択時でもトランジスタIOA及びIOB
が非導通にならず、保持直流に相幽する放電々流が流れ
ている場合、前述の内部電γ涼回路5のみの制御で保持
電流を減らすことは逍しくなり、同様な制御手法により
放電々流も同時に減らす必要がある。
本発明は1機能テスト時保持電流として作用する電流1
例えば放電々流を外部より制御して減らすものであり、
これは内部電源回路12の電源電圧供給用の端子13を
、他の回路の端子7よシも低い電圧で駆動することによ
シ実現していることに特徴がある。
例えば放電々流を外部より制御して減らすものであり、
これは内部電源回路12の電源電圧供給用の端子13を
、他の回路の端子7よシも低い電圧で駆動することによ
シ実現していることに特徴がある。
これは、チップ上で電源端子7と、端子6及び13をそ
れぞれ独立て設けるか、また6と13を接続し端子7と
分離して設け、パンケージに実装時に同一の端子に接続
されるようにすることで容易に△V■を加えることがで
きる。
れぞれ独立て設けるか、また6と13を接続し端子7と
分離して設け、パンケージに実装時に同一の端子に接続
されるようにすることで容易に△V■を加えることがで
きる。
実装はボンディング法及びCCB法等その方法によらず
各種の方法が可能である。
各種の方法が可能である。
第2図は、特開昭58−8079号に記載されている保
持電流を減少させる手法である。この回路は機能試験時
内部電源回路5の出力電圧と、端子14に外部よフ電圧
を加えて変化させることができる%徴がある。すなわち
内部で決まる電圧よυも低い電圧を端子14に加えるこ
とによシ、保持電流のみを減らして機能試験することが
できる。
持電流を減少させる手法である。この回路は機能試験時
内部電源回路5の出力電圧と、端子14に外部よフ電圧
を加えて変化させることができる%徴がある。すなわち
内部で決まる電圧よυも低い電圧を端子14に加えるこ
とによシ、保持電流のみを減らして機能試験することが
できる。
第3図は本発明のもう一つの実施例である。この図でワ
ード線が非選択状態にある時に、トランジスタIOA及
びtOBを完全に非導通てならずに保持電流供給線から
流れ、保持電流として作用するため1機能試験時には両
トランジスタのベース電位を、端子15に外部より電圧
を加えて完全に非導通にすることができろう 以上は、内部電源回路5及び12の出力電圧を外部よシ
変化させて、保持電流f:減少させたものであるが、内
部電源回路5及び12の内部電位(例えば節点16)に
外部より電圧を加えられる手段を設けても同様な効果を
得ることができるっ更に保持電流供給線2人及び2Bに
、3個以上の電流源が接続されている場合′・ま、それ
ぞれの電流源に上記対策を施すことが好ましい。しかし
全てに施さなくとも、本発明の効果は十分に得られるた
め、効果の高・ハものからQ5¥次施すことが好ましい
。
ード線が非選択状態にある時に、トランジスタIOA及
びtOBを完全に非導通てならずに保持電流供給線から
流れ、保持電流として作用するため1機能試験時には両
トランジスタのベース電位を、端子15に外部より電圧
を加えて完全に非導通にすることができろう 以上は、内部電源回路5及び12の出力電圧を外部よシ
変化させて、保持電流f:減少させたものであるが、内
部電源回路5及び12の内部電位(例えば節点16)に
外部より電圧を加えられる手段を設けても同様な効果を
得ることができるっ更に保持電流供給線2人及び2Bに
、3個以上の電流源が接続されている場合′・ま、それ
ぞれの電流源に上記対策を施すことが好ましい。しかし
全てに施さなくとも、本発明の効果は十分に得られるた
め、効果の高・ハものからQ5¥次施すことが好ましい
。
またバイポーラ形で説明したが、メモリセルの記憶(’
W報が保持電流を常時メモリセルに流すことによ9行わ
れているメモリ全てに有効である。特に論理全域り込ん
だ論理付メモリの場合、メモリ単独と同じ様な機能テス
トをすることが難しくなるため本発明の効果はメモリ単
独時よりも犬きくなる。
W報が保持電流を常時メモリセルに流すことによ9行わ
れているメモリ全てに有効である。特に論理全域り込ん
だ論理付メモリの場合、メモリ単独と同じ様な機能テス
トをすることが難しくなるため本発明の効果はメモリ単
独時よりも犬きくなる。
本発明によれば、@能試験時にメモリセルの動作余裕度
を、保持電流を減らした状態で測定できるため、動作余
裕度の狭いメモリセルの検出が容易となり、高集積化及
び闘機能化(論理回路を同一チップに集積化した論理付
メモリ等)に伴うテスト時間の瑠犬′fr、軽減する効
果がある。
を、保持電流を減らした状態で測定できるため、動作余
裕度の狭いメモリセルの検出が容易となり、高集積化及
び闘機能化(論理回路を同一チップに集積化した論理付
メモリ等)に伴うテスト時間の瑠犬′fr、軽減する効
果がある。
第1図は本発明の一実施例のメモリセル七内部電源回路
図、第2図は保持電流発生回路図、第3図は放電々流発
生回路図である。 IA〜11)・・−メモリセル、2A、2B・・・保持
電流供給線、14.15・・・端子、5・・・内部電源
回路。
図、第2図は保持電流発生回路図、第3図は放電々流発
生回路図である。 IA〜11)・・−メモリセル、2A、2B・・・保持
電流供給線、14.15・・・端子、5・・・内部電源
回路。
Claims (1)
- 1、保持電流を常時流し続けることにより情報の記憶を
行なうメモリセルと、保持電流をメモリセルに供給する
信号線より成るセルアレーを有する半導体集積回路にお
いて、上記保持電流を供給する信号線に接続された保持
電流を含む2個以上の電流源回路の節点に、外部より独
立に電圧を印加できる導電性の端子を設けたことを特徴
とする半導体集積回路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61219549A JP2679977B2 (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 | 半導体集積回路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61219549A JP2679977B2 (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 | 半導体集積回路 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6376200A true JPS6376200A (ja) | 1988-04-06 |
| JP2679977B2 JP2679977B2 (ja) | 1997-11-19 |
Family
ID=16737241
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61219549A Expired - Lifetime JP2679977B2 (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 | 半導体集積回路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2679977B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4768437B2 (ja) * | 2005-12-26 | 2011-09-07 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5279738A (en) * | 1975-12-26 | 1977-07-05 | Hitachi Ltd | Semiconductor memory unit |
| JPS5712234A (en) * | 1980-06-23 | 1982-01-22 | Taiheiyo Kogyo Kk | Centralized control apparatus of central heating system |
| JPS57123590A (en) * | 1980-12-11 | 1982-08-02 | Fairchild Camera Instr Co | Method of and apparatus for pulling down word wire voltage |
| JPS588079A (ja) * | 1981-06-27 | 1983-01-18 | スミス・クライン・アンド・フレンチ・ラボラトリ−ス・リミテツド | ピリミドン誘導体 |
| JPS5830679A (ja) * | 1981-08-10 | 1983-02-23 | チタス・スル | 磁気値を電気値に連続して変換する感度、安定性および効率の優れた方法 |
| JPS5936360A (ja) * | 1982-08-24 | 1984-02-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録再生装置 |
| JPS601720A (ja) * | 1983-06-20 | 1985-01-07 | Hitachi Ltd | 電子管陰極構体の製造方法 |
| JPS6023434A (ja) * | 1983-07-18 | 1985-02-06 | Showa Denko Kk | ダストシ−ル材 |
-
1986
- 1986-09-19 JP JP61219549A patent/JP2679977B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5279738A (en) * | 1975-12-26 | 1977-07-05 | Hitachi Ltd | Semiconductor memory unit |
| JPS5712234A (en) * | 1980-06-23 | 1982-01-22 | Taiheiyo Kogyo Kk | Centralized control apparatus of central heating system |
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| JPS588079A (ja) * | 1981-06-27 | 1983-01-18 | スミス・クライン・アンド・フレンチ・ラボラトリ−ス・リミテツド | ピリミドン誘導体 |
| JPS5830679A (ja) * | 1981-08-10 | 1983-02-23 | チタス・スル | 磁気値を電気値に連続して変換する感度、安定性および効率の優れた方法 |
| JPS5936360A (ja) * | 1982-08-24 | 1984-02-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録再生装置 |
| JPS601720A (ja) * | 1983-06-20 | 1985-01-07 | Hitachi Ltd | 電子管陰極構体の製造方法 |
| JPS6023434A (ja) * | 1983-07-18 | 1985-02-06 | Showa Denko Kk | ダストシ−ル材 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2679977B2 (ja) | 1997-11-19 |
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