JPS6377574A - 含フツ素低屈折率樹脂組成物及びその適用 - Google Patents
含フツ素低屈折率樹脂組成物及びその適用Info
- Publication number
- JPS6377574A JPS6377574A JP61221167A JP22116786A JPS6377574A JP S6377574 A JPS6377574 A JP S6377574A JP 61221167 A JP61221167 A JP 61221167A JP 22116786 A JP22116786 A JP 22116786A JP S6377574 A JPS6377574 A JP S6377574A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tables
- formulas
- meth
- fluorine
- acrylate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0046—Photosensitive materials with perfluoro compounds, e.g. for dry lithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、電子線又は紫外線等の活性エネルギー線照射
によシ硬化し得る樹脂組成物及びその利用法に関し、よ
シ詳しくは、活性エネルギー線照射によシ、低屈折率で
、強靭かつ透明彦硬化樹脂を与える活性エネルギー線硬
化壓樹脂ム成物及び該樹脂組成物を使用した光伝送ファ
イバーの形成方法に関する。
によシ硬化し得る樹脂組成物及びその利用法に関し、よ
シ詳しくは、活性エネルギー線照射によシ、低屈折率で
、強靭かつ透明彦硬化樹脂を与える活性エネルギー線硬
化壓樹脂ム成物及び該樹脂組成物を使用した光伝送ファ
イバーの形成方法に関する。
〈従来の技術〉
含フツ素重合体は、一般に高度な耐薬品性、耐候性、撥
水撥油性、表面滑性等を有することから、種々の分野で
高機能性素材として利用されてきたが、近年その光学的
特性、即ち低屈折率性が注目され、光伝送ファイバーの
鞘材や低反射性被膜としての利用が活発化してきた。
水撥油性、表面滑性等を有することから、種々の分野で
高機能性素材として利用されてきたが、近年その光学的
特性、即ち低屈折率性が注目され、光伝送ファイバーの
鞘材や低反射性被膜としての利用が活発化してきた。
光伝送ファイバーは、無機ガラス系と合成樹脂系とに大
別されるが、いずれも透明性に富んだ、屈折率が高い芯
部分と、比較的屈折率が小さい鞘部分から成シ立ってい
る。従来よシ、鞘部分の形成方法として、屈折率が低い
シリコーン系化合物又は含フツ素重合体の被覆が提案さ
れ、また実施されてきた0例えば、1)線引きされた石
英系芯線にシリコーン系樹脂組成物を塗布し、熱硬化に
よってシリコーン樹脂の鞘部分を形成する方法、2)芯
材であるポリ(メチルメタクリレート)又はポリ(スチ
レン)等と、溶液重合、塊状重合、又は乳化重合等の重
合方法によって得られた、フ、素化アルキル基含有(メ
タ)アクリレートの重合体、フッ素化アルキル基含有(
メタ)アクリレートと他のコ毛ツマ−とO共重合体、も
しくはポリ(テトラフロロエチレン)、ポリ(フッ化ビ
ニリデン/テトラ70ロエチレン)、ポIJ(7y化ビ
ニリデン/ヘキサ70ロプロピレン)等の含フツ素重合
体とを複合紡糸し、含フ、素重合体から成る鞘部分を形
成する方法(特公昭43−8978号、特公昭56−8
321号、特公昭56−8322号、特公昭56−83
23号、特開昭59−84203号、特開昭59−84
204号、特開昭59−98116号、特開昭59−1
47011号、特開昭59−204002号)、3)
ffl維状に賦形された石英系又はグラスチック系芯線
に、ポリ(フッ化ビニリデン/テトラ70ロエチレン)
等の含フツ素重合体の溶融物又は溶液を塗布被覆し、鞘
部分を形成する方法(特公昭53−21660号、特公
昭56−41966号)等のしかしながら、これらの提
案の内、1)に記したシリ;−ン樹脂は耐熱性に優れる
ものの機械的強度並びに耐油性に劣シ、特に鉱油等に浸
漬すると膨潤し、屈折率の変化や芯線からの剥離を生じ
るという欠点がある。この為にシリコーン樹脂を鞘材と
する光伝送ファイバーは用途的に限定されておシ、変圧
器やサイリスタ等、油中での使用には、不適当であった
。また硬化前のシリコーン樹脂組成物はポットライフが
短く、経時的に粘度が増大するため、芯線に対して一定
の膜厚で塗布するためには塗工速度や雰囲気の温度を制
御しなければならないという作業上の欠点があった。さ
らにまた、シリコーン系樹脂では屈折率が1.40程度
が限界であシ、通信の大容量化に伴って要求される大口
径光伝送ファイバーの鞘材としては、性能上不十分であ
るという欠点がある。
別されるが、いずれも透明性に富んだ、屈折率が高い芯
部分と、比較的屈折率が小さい鞘部分から成シ立ってい
る。従来よシ、鞘部分の形成方法として、屈折率が低い
シリコーン系化合物又は含フツ素重合体の被覆が提案さ
れ、また実施されてきた0例えば、1)線引きされた石
英系芯線にシリコーン系樹脂組成物を塗布し、熱硬化に
よってシリコーン樹脂の鞘部分を形成する方法、2)芯
材であるポリ(メチルメタクリレート)又はポリ(スチ
レン)等と、溶液重合、塊状重合、又は乳化重合等の重
合方法によって得られた、フ、素化アルキル基含有(メ
タ)アクリレートの重合体、フッ素化アルキル基含有(
メタ)アクリレートと他のコ毛ツマ−とO共重合体、も
しくはポリ(テトラフロロエチレン)、ポリ(フッ化ビ
ニリデン/テトラ70ロエチレン)、ポIJ(7y化ビ
ニリデン/ヘキサ70ロプロピレン)等の含フツ素重合
体とを複合紡糸し、含フ、素重合体から成る鞘部分を形
成する方法(特公昭43−8978号、特公昭56−8
321号、特公昭56−8322号、特公昭56−83
23号、特開昭59−84203号、特開昭59−84
204号、特開昭59−98116号、特開昭59−1
47011号、特開昭59−204002号)、3)
ffl維状に賦形された石英系又はグラスチック系芯線
に、ポリ(フッ化ビニリデン/テトラ70ロエチレン)
等の含フツ素重合体の溶融物又は溶液を塗布被覆し、鞘
部分を形成する方法(特公昭53−21660号、特公
昭56−41966号)等のしかしながら、これらの提
案の内、1)に記したシリ;−ン樹脂は耐熱性に優れる
ものの機械的強度並びに耐油性に劣シ、特に鉱油等に浸
漬すると膨潤し、屈折率の変化や芯線からの剥離を生じ
るという欠点がある。この為にシリコーン樹脂を鞘材と
する光伝送ファイバーは用途的に限定されておシ、変圧
器やサイリスタ等、油中での使用には、不適当であった
。また硬化前のシリコーン樹脂組成物はポットライフが
短く、経時的に粘度が増大するため、芯線に対して一定
の膜厚で塗布するためには塗工速度や雰囲気の温度を制
御しなければならないという作業上の欠点があった。さ
らにまた、シリコーン系樹脂では屈折率が1.40程度
が限界であシ、通信の大容量化に伴って要求される大口
径光伝送ファイバーの鞘材としては、性能上不十分であ
るという欠点がある。
これに対し、2) 、 3) K記載した含フ、素重合
体は、その屈折率が1.36程度と低いために、大口径
光伝送ファイバーの鞘材としてはシリコーン系樹脂よシ
追している。しかしながら、 2) 、 3)に示され
た如き、含フッ素重合体によシ鞘部分を形成するという
従来の方法においては、高温にて芯線と鞘部分を複合紡
糸したシ、また繊維状に賦形された芯線に含フ、素重合
体の溶融物や溶液を被覆するため、やはう芯線の径や鞘
部分の厚みが不均一になυ易い、このために発生する芯
部分と鞘部分との界面の局部的な屈折部分において、光
の散乱が朱じ、伝送損失が大きくなるという問題があっ
た。また、これら従来法によって形成された光伝送ファ
イバーにおいては必ずしも芯部分と鞘部分の密着性が十
分でなく、種々の外的要因、例えば屈曲、圧力変化、温
度変化等によって層間剥離が生じ易いため、耐久性等に
問題があった。
体は、その屈折率が1.36程度と低いために、大口径
光伝送ファイバーの鞘材としてはシリコーン系樹脂よシ
追している。しかしながら、 2) 、 3)に示され
た如き、含フッ素重合体によシ鞘部分を形成するという
従来の方法においては、高温にて芯線と鞘部分を複合紡
糸したシ、また繊維状に賦形された芯線に含フ、素重合
体の溶融物や溶液を被覆するため、やはう芯線の径や鞘
部分の厚みが不均一になυ易い、このために発生する芯
部分と鞘部分との界面の局部的な屈折部分において、光
の散乱が朱じ、伝送損失が大きくなるという問題があっ
た。また、これら従来法によって形成された光伝送ファ
イバーにおいては必ずしも芯部分と鞘部分の密着性が十
分でなく、種々の外的要因、例えば屈曲、圧力変化、温
度変化等によって層間剥離が生じ易いため、耐久性等に
問題があった。
さらにまた、2) 、 3)に示す如き含フツ素重合体
の溶融物又は溶液を塗布するととKよる光ファイバーの
製造方法においては、鞘部分の硬化に長時間を要し、ま
た溶液塗布法においては、特に溶剤を系外に完全に除去
する必要性から、製造工程並びに設備が複雑になる等、
生産性、安全性、経済性等に欠点がありた。
の溶融物又は溶液を塗布するととKよる光ファイバーの
製造方法においては、鞘部分の硬化に長時間を要し、ま
た溶液塗布法においては、特に溶剤を系外に完全に除去
する必要性から、製造工程並びに設備が複雑になる等、
生産性、安全性、経済性等に欠点がありた。
これ等の問題に対して最近、光重合反応によるアクリレ
ート系単量体の迅速硬化に着目し、高フ、素化モノアク
リレートと、架橋剤として3官能以上のアクリレート系
単量体を含んで成る紫外線硬化型樹脂を鞘成分とする光
伝送ファイバー形成方法の提案がある( USP4,5
11,209 )。しがしながら5本発明者等の知見に
よれば、該提案の如き単云体成分のみから成る紫外線硬
化型樹脂物は粘度が低過ぎるため、現行の生産法では芯
線に塗布し得ないという欠点がある。またさらに、紫外
線照射後の硬化樹脂は透明性に乏しいため、得られる光
伝送ファイバーの光伝送損失が大きいという問題がある
。
ート系単量体の迅速硬化に着目し、高フ、素化モノアク
リレートと、架橋剤として3官能以上のアクリレート系
単量体を含んで成る紫外線硬化型樹脂を鞘成分とする光
伝送ファイバー形成方法の提案がある( USP4,5
11,209 )。しがしながら5本発明者等の知見に
よれば、該提案の如き単云体成分のみから成る紫外線硬
化型樹脂物は粘度が低過ぎるため、現行の生産法では芯
線に塗布し得ないという欠点がある。またさらに、紫外
線照射後の硬化樹脂は透明性に乏しいため、得られる光
伝送ファイバーの光伝送損失が大きいという問題がある
。
以上の様に1機械的強度、密着性、透明性等の性能面及
び光伝送ファイバーの製造において、生産性、安全性、
経済性等の点で満足でき、さらに同時によシ高開ロ数化
、大口径化を可能にする低屈折率の鞘材が見い出されて
いないのが現状であった。
び光伝送ファイバーの製造において、生産性、安全性、
経済性等の点で満足でき、さらに同時によシ高開ロ数化
、大口径化を可能にする低屈折率の鞘材が見い出されて
いないのが現状であった。
〈問題点を解決するための手段〉
゛ 本発明者停は、上記問題点を解決すべく鋭意研究を
行った結果、後に記す特定の高粘度の含フツ素化合物と
特定の含フ、素アクリレ−)または含フツ素メタ、アク
リレート〔以後1両者を合わせて(メタ)アクリレート
と称す〕、及び分子中に(メタ)アクリロイル基を2個
以上含有する多官能モノマーとから成ることを特徴とす
る樹脂組成物の活性エネルギー線による硬化物が、従来
の光伝送ファイバーの鞘材と比較して、機械的強度、芯
線との密着性、そして透明性に優れ、さらに該樹脂組成
物を光伝送7アイパー芯線に塗布し、活性エネルギー線
にて硬化して光伝送ファイバーを製造する方法が、従来
の方法と比較し、生産性、安全性、経済性等の点で格段
に優れていることを見い出した。
行った結果、後に記す特定の高粘度の含フツ素化合物と
特定の含フ、素アクリレ−)または含フツ素メタ、アク
リレート〔以後1両者を合わせて(メタ)アクリレート
と称す〕、及び分子中に(メタ)アクリロイル基を2個
以上含有する多官能モノマーとから成ることを特徴とす
る樹脂組成物の活性エネルギー線による硬化物が、従来
の光伝送ファイバーの鞘材と比較して、機械的強度、芯
線との密着性、そして透明性に優れ、さらに該樹脂組成
物を光伝送7アイパー芯線に塗布し、活性エネルギー線
にて硬化して光伝送ファイバーを製造する方法が、従来
の方法と比較し、生産性、安全性、経済性等の点で格段
に優れていることを見い出した。
さらに、本発明に係る樹脂組成物においては、高粘度の
含フツ素化合物の含有量を調節することによシ該樹脂組
成物の粘度を制御できることから、塗工設備並びに芯線
への要求塗布厚に合致した粘度の樹脂組成物を容易に調
製できるという利点を発見し、本発明を完成するに至っ
た。
含フツ素化合物の含有量を調節することによシ該樹脂組
成物の粘度を制御できることから、塗工設備並びに芯線
への要求塗布厚に合致した粘度の樹脂組成物を容易に調
製できるという利点を発見し、本発明を完成するに至っ
た。
斯くして、本発明によれば、一般式
〔式中、R7とRf′は、炭素数3〜2oの7.素化脂
肪族基であり、 (但し、R1は水素原子もしくは炭素数1〜10のアル
キル基である。)′tたは+CH2−)−(但し、nは
1〜6の整数である。)から選ばれた2価の連結基であ
って同一でも異なっていても良く、2、は、+CH2+
(但し、mは2〜6の整数である。)または−CH2C
H−であシ、 CH3 Rは、水素原子、メチル基、またはハロゲン原子であシ
、 R20 し、R2は水素原子、または炭素数1〜36のアルキル
基もしくはアルケニル基である。)または暑 Aは、R3−C+CH20CI(20HCH2+3゜R
3−C+CH20CH2C1(20CR2CHCH2+
3(但し、R3は水素原子、ヒドロキシメチル基、メチ
ル基、エチル基、またはニトロ基である。)、 N+CH2CH20CH2CHCI’!2+、 、また
は語基である。〕にて表わされる含フツ素化合物(4)
、一般式 %式%() 〔式中、Rf′は炭素数3〜20の7.素化脂肪族基で
らシ、 であシ、 aは0または1でお)、 tは1〜6の整数であシ、 Rは前記と同じである。〕にて表わされる含フッ素(メ
タ)アクリレート(B)、 そして分子中に(メタ)アクリロイル基を2個以上含有
する多官能モノマー(allとから成ることを特徴とす
る活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、並びに該活性エ
ネルギー線硬化型樹脂組成物を光伝送ファイバー芯線に
塗布した後活性エネルギー線を照射して硬化させること
によって光伝送ファイバーを形成する方法が提供される
。
肪族基であり、 (但し、R1は水素原子もしくは炭素数1〜10のアル
キル基である。)′tたは+CH2−)−(但し、nは
1〜6の整数である。)から選ばれた2価の連結基であ
って同一でも異なっていても良く、2、は、+CH2+
(但し、mは2〜6の整数である。)または−CH2C
H−であシ、 CH3 Rは、水素原子、メチル基、またはハロゲン原子であシ
、 R20 し、R2は水素原子、または炭素数1〜36のアルキル
基もしくはアルケニル基である。)または暑 Aは、R3−C+CH20CI(20HCH2+3゜R
3−C+CH20CH2C1(20CR2CHCH2+
3(但し、R3は水素原子、ヒドロキシメチル基、メチ
ル基、エチル基、またはニトロ基である。)、 N+CH2CH20CH2CHCI’!2+、 、また
は語基である。〕にて表わされる含フツ素化合物(4)
、一般式 %式%() 〔式中、Rf′は炭素数3〜20の7.素化脂肪族基で
らシ、 であシ、 aは0または1でお)、 tは1〜6の整数であシ、 Rは前記と同じである。〕にて表わされる含フッ素(メ
タ)アクリレート(B)、 そして分子中に(メタ)アクリロイル基を2個以上含有
する多官能モノマー(allとから成ることを特徴とす
る活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、並びに該活性エ
ネルギー線硬化型樹脂組成物を光伝送ファイバー芯線に
塗布した後活性エネルギー線を照射して硬化させること
によって光伝送ファイバーを形成する方法が提供される
。
本発明に係る含)、素化合物(ト)並びに含フツ素化(
メタ)アクリレ−) (B)において、炭素数3〜20
のフッ素化脂肪族基R,,R,’、及びRfFは、直鎖
状、分岐状、環状またはそれらを組み合せたもののいず
れでも良く、さらに主鎖中に酸素原子が介入したもの、
例えば(CF、)2CFOCFCF2−CI如きCF3 ものであってもよい。
メタ)アクリレ−) (B)において、炭素数3〜20
のフッ素化脂肪族基R,,R,’、及びRfFは、直鎖
状、分岐状、環状またはそれらを組み合せたもののいず
れでも良く、さらに主鎖中に酸素原子が介入したもの、
例えば(CF、)2CFOCFCF2−CI如きCF3 ものであってもよい。
本発明における含フ、講化合物(ト)の具体例としては
次の如きものが挙げられる。
次の如きものが挙げられる。
000H
II II 1
鴫
0HOOO
I II II 11
)CM2CHCH20CCHCH2COCH2CH20
CCH=CH2CH2CH=CH(−CH2+、CH3
0HOOO I II II 11
コH2OCH2CH20CH2CHCH20CCH2C
H2COCHCH20CCH=CH2H5 上記具体例のうち、特に好ましいものとしては、A−1
、A−3、A−4、A−5、A−7、A−12、A−1
5,A−17,A−19,A−20゜及びA−21を挙
げることができる。
)CM2CHCH20CCHCH2COCH2CH20
CCH=CH2CH2CH=CH(−CH2+、CH3
0HOOO I II II 11
コH2OCH2CH20CH2CHCH20CCH2C
H2COCHCH20CCH=CH2H5 上記具体例のうち、特に好ましいものとしては、A−1
、A−3、A−4、A−5、A−7、A−12、A−1
5,A−17,A−19,A−20゜及びA−21を挙
げることができる。
本発明に係る含フツ素化合物囚の製造法には特に制限は
ないが1例えば 含フッ素アルコールCD R,−Z、 −OH(II) R1−z2−oH[:III] 水酸基含有(メタ)アクリレート化合物II CH2==C(R)COZ30H(I[[”lジカルボ
ン酸無水物 分子中にエポキシ基を3個含む化合物 〔但し、R,、Rf’ 、Z、 、Z2.Z3.R,R
2,R。
ないが1例えば 含フッ素アルコールCD R,−Z、 −OH(II) R1−z2−oH[:III] 水酸基含有(メタ)アクリレート化合物II CH2==C(R)COZ30H(I[[”lジカルボ
ン酸無水物 分子中にエポキシ基を3個含む化合物 〔但し、R,、Rf’ 、Z、 、Z2.Z3.R,R
2,R。
は前記の通シである。〕の反応にて収率良く簡便に製造
される。
される。
即ち、含7.素アルコール(II)及び/又は〔■りと
ジカルがン酸無水物〔■〕及び/又は〔■す、そして水
酸基含有(メタ)アクリレート化合物CI[[)とジカ
ル?ン酸無水物(IV)又は(IV’ mlとを、造れ
それそル比0.7:1〜1:1.3、好ましくは0.9
:1〜1:1.1、反応温度O〜180℃、好ましくは
50〜130℃にて反応させ、 CH2=C(R) −C−0−Z3−X、 −)I
(’&π〕を製造する。しかる後に、化合物CM
) 、 (■〕、そして分子中にエポキシ基を3個含む
化合物〔V〕。
ジカルがン酸無水物〔■〕及び/又は〔■す、そして水
酸基含有(メタ)アクリレート化合物CI[[)とジカ
ル?ン酸無水物(IV)又は(IV’ mlとを、造れ
それそル比0.7:1〜1:1.3、好ましくは0.9
:1〜1:1.1、反応温度O〜180℃、好ましくは
50〜130℃にて反応させ、 CH2=C(R) −C−0−Z3−X、 −)I
(’&π〕を製造する。しかる後に、化合物CM
) 、 (■〕、そして分子中にエポキシ基を3個含む
化合物〔V〕。
〔V’)、または〔vl〕とをモル比2:1:0.8〜
2:1:1.2、好まじくは2:1:0.9〜2:1:
1.1、反応温度0〜180℃、好ましくは50〜13
0℃にて反応し、目的とする本発明の含フツ素化合物(
5)が製造される。
2:1:1.2、好まじくは2:1:0.9〜2:1:
1.1、反応温度0〜180℃、好ましくは50〜13
0℃にて反応し、目的とする本発明の含フツ素化合物(
5)が製造される。
上記反応は熱溶剤にて実施可能であるが、必要に応じて
溶剤を使用することができる。溶剤としてはジカル?ン
酸無水物(IV) 、 (1’/’)又はエポキシ化合
物(V〕、 CM’) 、 (V’〕と反応しないもの
であれば特に制限はないが、例えばアセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトニトリル
、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、酢酸
エチル、酢酸ブチル、テトラヒドロフラン、ベンゾトリ
フロリド等が挙げられる。
溶剤を使用することができる。溶剤としてはジカル?ン
酸無水物(IV) 、 (1’/’)又はエポキシ化合
物(V〕、 CM’) 、 (V’〕と反応しないもの
であれば特に制限はないが、例えばアセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトニトリル
、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、酢酸
エチル、酢酸ブチル、テトラヒドロフラン、ベンゾトリ
フロリド等が挙げられる。
化合物〔■〕並びに〔■〕と、エポキシ基含有化合物(
V) 、 (V’) 、または〔vI〕との反応では、
必要に応じて、三級アミン化合物又は四級アンモニウム
塩化合物等の触媒を使用することができる。
V) 、 (V’) 、または〔vI〕との反応では、
必要に応じて、三級アミン化合物又は四級アンモニウム
塩化合物等の触媒を使用することができる。
上記製造方法では、分子中にエポキシ基を3個含む化合
物CM) 、 (V’) 、又は(V’:lに、化合物
〔■〕1個と化合物〔■〕2個とが付加したものや、さ
らには化合物藝〕3個が付加したものが副生するが、こ
れらが含フツ素化合物(4)に混入していても本発明に
言う機能、特性に大きな悪影響は及ぼさ彦い。
物CM) 、 (V’) 、又は(V’:lに、化合物
〔■〕1個と化合物〔■〕2個とが付加したものや、さ
らには化合物藝〕3個が付加したものが副生するが、こ
れらが含フツ素化合物(4)に混入していても本発明に
言う機能、特性に大きな悪影響は及ぼさ彦い。
又、必要であれば、グル浸透クロマトグラフィーで分取
することによシ精製すれば良い。
することによシ精製すれば良い。
含フッ素(メタ)アクリレート(B)の具体例としては
、以下の如き化合物が挙げられる。
、以下の如き化合物が挙げられる。
B−1cH2=CHCOOCH2CH2C8F、。
CH。
B−2CH2=CC00CH2CI(208F、。
B−3CH2=CHC00CH2CH2C42F25C
H。
H。
B−4CH2=CCOOCH2CH2C12F25B−
5CH2=CHC00CH2CH2C,。F2゜CH。
5CH2=CHC00CH2CH2C,。F2゜CH。
B−6C1(2=CCOOCH2CH2C1゜F21B
−7CH2=CHC00CH2CH2C6F、3CT(
。
−7CH2=CHC00CH2CH2C6F、3CT(
。
B−8CH2CH2=CC00CH2C,F、3B−9
CH2−CHCoo(j(2CH2C4F。
CH2−CHCoo(j(2CH2C4F。
B−10CH2=CC00CH2CH2C6F、3H5
B−11CH2=CCOoCH2CH2C2oF41t
B−12CH2=CC00CH2CH2C4F。
CI(3
B−13CH2=、CCOO4CH2+C1゜F2゜C
H3 B−14CH2=CC00CH2CF。
H3 B−14CH2=CC00CH2CF。
B−15CH2−CHC00CH2CF3B−16CH
2=CHC00CH2C8F、 。
2=CHC00CH2C8F、 。
CH5
「
B−17CH2=CC00CH2C8F、。
Hs
B−18CH2=CCOOCH2c2oF4゜B−19
CH2=CHC00CH2C2oF4゜CH。
CH2=CHC00CH2C2oF4゜CH。
B−200M2=CCOOCH2CF(CF5)2CH
。
。
B−21CH2=CC00CH2CFHCF5B−22
CI(2−CCOOC)(2C2F5B−23CI(2
=CHC00C)I2−+CF2+6CF(CF3)2
CH。
CI(2−CCOOC)(2C2F5B−23CI(2
=CHC00C)I2−+CF2+6CF(CF3)2
CH。
■
CH3
B−25CH2=CC00CHC,。F2゜2H5
B−26CH2−CHC00CH2(−CF2+2HC
H。
H。
B−27CH2=CC00CH2−+cF2)2HB−
28CH2=CHCOOCH2七F2+4HB−29C
H2−CHC00CH2CF。
28CH2=CHCOOCH2七F2+4HB−29C
H2−CHC00CH2CF。
CH5
B−30CH2=CC00(−CF2+4HB−31C
T(2=CHCOOCH2+cF2÷6HH3 B−32CH2=CC00CH2FF2÷6HB−33
C1(2=CHCOOCH2+cF2+8HH3 B−34CH2=CC00CH,+cF2+8HI3−
35 CM2=CHCOOCH2奪F2+、。HB−
36C1(2=CHCOOCH2奪F2÷12HB−3
70M2=CHCOOCH2−pF2÷14HB−38
0M2=CHCOOCH2ぞF2+18HMs CH。
T(2=CHCOOCH2+cF2÷6HH3 B−32CH2=CC00CH2FF2÷6HB−33
C1(2=CHCOOCH2+cF2+8HH3 B−34CH2=CC00CH,+cF2+8HI3−
35 CM2=CHCOOCH2奪F2+、。HB−
36C1(2=CHCOOCH2奪F2÷12HB−3
70M2=CHCOOCH2−pF2÷14HB−38
0M2=CHCOOCH2ぞF2+18HMs CH。
B−40CH2=CHCOOCH2CH2七F2−)−
、HCH。
、HCH。
B−41CH2=CCOOCH2CH2+cF2−)−
、HFs B−43CH2=CHC0O−CHC8F、。
、HFs B−43CH2=CHC0O−CHC8F、。
CF3
B−44CH2=CHC00CH2C2F5B−45C
H2−CHC00CH2CH2So2NC8F1゜昌 CH。
H2−CHC00CH2CH2So2NC8F1゜昌 CH。
B−47CH2=CHC00CH2CH2So□NC,
F、3CH。
F、3CH。
CH。
夏
B−48CH2=CC00CH2CH2So□NC,F
、。
、。
コ
CH。
B−49CH2=CHC00CH2CH2CONC,F
15B−50CM2=CHCOOCH2CH2CONC
,F、5九 CH。
15B−50CM2=CHCOOCH2CH2CONC
,F、5九 CH。
B−51CH2==CCOOC)f2CH2CONC,
F15C1(3 含フッ素(メタ)アクリレートω)は、本発明に係る樹
脂組成物の屈折率及び粘度制御に関し必須である。含フ
ッ素(メタ)アクリレート中)は、構■jX異なる2種
以上の化合物の混合でありても良い。
F15C1(3 含フッ素(メタ)アクリレートω)は、本発明に係る樹
脂組成物の屈折率及び粘度制御に関し必須である。含フ
ッ素(メタ)アクリレート中)は、構■jX異なる2種
以上の化合物の混合でありても良い。
上記例示化合物のうち特に好ましいものとしてはB−1
,B−2,B−3,B−5,B−7,B−9,B−10
,B−16,B−22,B−23゜B−28,B−31
,B−33,B−35,B−36、B−40,B−43
,B−46,B−49゜及びB−50を挙げることがで
きる。
,B−2,B−3,B−5,B−7,B−9,B−10
,B−16,B−22,B−23゜B−28,B−31
,B−33,B−35,B−36、B−40,B−43
,B−46,B−49゜及びB−50を挙げることがで
きる。
分子中に(メタ)アクリロイル基を2個以上含有する多
官能モノマー(Qは、2価以上の多価アルコールに(メ
タ)アクリル酸が2個以上エステル結合によシ連結した
ものであシ、硬化後の樹脂への可撓性、力学的強靭性等
を付与する目的から。
官能モノマー(Qは、2価以上の多価アルコールに(メ
タ)アクリル酸が2個以上エステル結合によシ連結した
ものであシ、硬化後の樹脂への可撓性、力学的強靭性等
を付与する目的から。
本発明に係る樹脂組成物にとって必須である。具体的化
合物としては1例えば、以下の如き化合物が挙げられる
。
合物としては1例えば、以下の如き化合物が挙げられる
。
C−1エチレングリコールジ(メタ)アクリレートC−
2ジエチレングリコールソ(メタ)アクリレート C−5プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート C−101,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレー
ト C−111,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレー
ト H3CH3 0CC=CH2(R’はI(又はCH3)C−16ビス
フェノールAジ(メタ)アクリレート上記以外の具体例
としては、ネオマーNA−305(C−23) 、ネオ
マーBA−601(C−24)、ネオマーTA−505
(C−25)、ネオマーTA−401(C−26)、ネ
オマーPHA405X(C−27”)、ネオマーTA7
05X(C−28)、ネオマーEA400X(C−29
) 、ネオマーEE401X(C−30)、ネオマーE
P405X(C−31)、 ネオマー)(B601X
(C−32) 、ネオマーHB605X(C−33)〔
以上三洋化成工業■製〕、KAYARAD HY−22
0(C−34)HX−620(C−35)、 D−31
0(C−36)、D −320(C−37)、D−33
0(C−38)、DPHA (C−39)、DPCA
−20(C−40> 、DPCA−30(C−41
) 、DPCA−60(C−42)、DPCA−120
(C−43)(以上日本化薬■製〕等も挙げられる。
2ジエチレングリコールソ(メタ)アクリレート C−5プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート C−101,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレー
ト C−111,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレー
ト H3CH3 0CC=CH2(R’はI(又はCH3)C−16ビス
フェノールAジ(メタ)アクリレート上記以外の具体例
としては、ネオマーNA−305(C−23) 、ネオ
マーBA−601(C−24)、ネオマーTA−505
(C−25)、ネオマーTA−401(C−26)、ネ
オマーPHA405X(C−27”)、ネオマーTA7
05X(C−28)、ネオマーEA400X(C−29
) 、ネオマーEE401X(C−30)、ネオマーE
P405X(C−31)、 ネオマー)(B601X
(C−32) 、ネオマーHB605X(C−33)〔
以上三洋化成工業■製〕、KAYARAD HY−22
0(C−34)HX−620(C−35)、 D−31
0(C−36)、D −320(C−37)、D−33
0(C−38)、DPHA (C−39)、DPCA
−20(C−40> 、DPCA−30(C−41
) 、DPCA−60(C−42)、DPCA−120
(C−43)(以上日本化薬■製〕等も挙げられる。
本発明者等の知見によれば、硬化後の樹脂の透明性の観
点から、以上の具体例の内、(メタ)アクリロイル基を
2個以上含有する多官能上ツマ−(C)としては1分子
中にメチル基を含有するものが好ましく、C−5,C−
6,C−7,C−8,C−9,C−13,C−14,C
−15,C−17゜C−21、C−23、C−25等が
特に好ましい。
点から、以上の具体例の内、(メタ)アクリロイル基を
2個以上含有する多官能上ツマ−(C)としては1分子
中にメチル基を含有するものが好ましく、C−5,C−
6,C−7,C−8,C−9,C−13,C−14,C
−15,C−17゜C−21、C−23、C−25等が
特に好ましい。
また、多官能モノマー(c)として、単一化合物を用い
ることの他、構造の異なる2種類以上の化合物を使用し
ても良い。
ることの他、構造の異なる2種類以上の化合物を使用し
ても良い。
本発明に係る樹脂組成物において、含フッ素化合物囚、
含7.素(メタ)アクリレートの)、及び多官能上ツマ
−の組成割合は、所望の粘度、屈折率に合わせて任意に
選択することができ、本発明者等の知見によれば、 (A:ω)+(C)= 1: 99〜99:1、φ):
■=1 : 99〜99:1 の範囲で使用可能である。よシ好ましくは囚: (B)
+(C)= s : 9 s〜85:15(B):((
”) −1: a〜10:1の範囲である。
含7.素(メタ)アクリレートの)、及び多官能上ツマ
−の組成割合は、所望の粘度、屈折率に合わせて任意に
選択することができ、本発明者等の知見によれば、 (A:ω)+(C)= 1: 99〜99:1、φ):
■=1 : 99〜99:1 の範囲で使用可能である。よシ好ましくは囚: (B)
+(C)= s : 9 s〜85:15(B):((
”) −1: a〜10:1の範囲である。
また本発明に係る樹脂組成物においては、含フ、素化合
物(4)、含フッ素(メタ)アクリレート中)、及び多
官能そツマ−(C′)の相溶性の向上、光フアイバー石
英芯線または光フアイバープラスチ、り芯線との密着性
の向上、さらに本発明に係る樹脂組成物に活性エネルギ
ー線を照射して得られる硬化樹脂、即ち鞘材の透明性並
びに可読性の向上化、さらに又樹脂組成物の屈折率、粘
度調節等を目的として非フツ素系モノ(メタ)アクリレ
ートの)を添加しても良い。
物(4)、含フッ素(メタ)アクリレート中)、及び多
官能そツマ−(C′)の相溶性の向上、光フアイバー石
英芯線または光フアイバープラスチ、り芯線との密着性
の向上、さらに本発明に係る樹脂組成物に活性エネルギ
ー線を照射して得られる硬化樹脂、即ち鞘材の透明性並
びに可読性の向上化、さらに又樹脂組成物の屈折率、粘
度調節等を目的として非フツ素系モノ(メタ)アクリレ
ートの)を添加しても良い。
非フツ素系モノ(メタ)アクリレート(D)の具体例と
しては、n−グロビル(メタ)アクリレート。
しては、n−グロビル(メタ)アクリレート。
1−7aロビル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メ
タ)アクリレート、l−ブチル(メタ)アクリレート、
t−ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)ア
クリレート、オクチル(メタ)アクリレート、デシル(
メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート
、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)
アクリレート、そしてイソステアリル(メタ)アクリレ
ート等の脂肪族基エステル(メタ)アクリレート、グリ
セロール(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピ
ル(メタ)アクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシ
プロピル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)ア
クリレート、アリル(メタ)アクリレート、ブトキシエ
チル(メタ)アクリレート、ブトキシエチレングリコー
ル(メタ)アクリレート、 N、N−ジエチルアミノエ
チル(メタ)アクリレ−)、N、N−ジメチルアミノエ
チル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ
)アクリレート、r−メタクリロキシプロピルトリメト
キシシラン、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート
、メトキクジエチレングリコール(メタ)アクリレート
、メトキシジプロピレングリコール(メタ)アクリレー
ト、ノニルフェノキシビリエチレングリコール(メタ)
アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコ
ール(メタ)アクリレート、アロエ、クスM−5700
(東亜合成社製)、フェノキシエチル(メタ)アクリレ
ート、フェノキシプロピレングリコール(メタ)アクリ
レート、フェノキシジプロピレングリコール(メタ)ア
クリレート、フェノキシポリプロピレングリコール(メ
タ)アクリレート、モしてAR−260、MR−260
、A R−200,A R−204、A R−208、
M R−200、MR−204、MR−208(以上、
大人化学社製)の如きリン酸エステル基含有(メタ)ア
クリレート、さらにビスコ−) 2000、ビスコ−)
2308(以上、大阪有機社製)、ポリブタジェン(
メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)
アクリレート、ポリプロピレングリコール(メタ)アク
リレート、ホリエチレングリコールーポリプロピレング
リコ−ル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリス−
ルー4リゾチレングリコール(メタ)アクリレート、ポ
リスチリルエチル(メタ)アクリレート、そしてライト
エステル[0人−MS、ライトエステルHOMS (共
栄社油脂製)、ペンシル(メタ)アクリレート、7りσ
ヘキシル(メ/)アクリレート。
タ)アクリレート、l−ブチル(メタ)アクリレート、
t−ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)ア
クリレート、オクチル(メタ)アクリレート、デシル(
メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート
、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)
アクリレート、そしてイソステアリル(メタ)アクリレ
ート等の脂肪族基エステル(メタ)アクリレート、グリ
セロール(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピ
ル(メタ)アクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシ
プロピル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)ア
クリレート、アリル(メタ)アクリレート、ブトキシエ
チル(メタ)アクリレート、ブトキシエチレングリコー
ル(メタ)アクリレート、 N、N−ジエチルアミノエ
チル(メタ)アクリレ−)、N、N−ジメチルアミノエ
チル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ
)アクリレート、r−メタクリロキシプロピルトリメト
キシシラン、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート
、メトキクジエチレングリコール(メタ)アクリレート
、メトキシジプロピレングリコール(メタ)アクリレー
ト、ノニルフェノキシビリエチレングリコール(メタ)
アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコ
ール(メタ)アクリレート、アロエ、クスM−5700
(東亜合成社製)、フェノキシエチル(メタ)アクリレ
ート、フェノキシプロピレングリコール(メタ)アクリ
レート、フェノキシジプロピレングリコール(メタ)ア
クリレート、フェノキシポリプロピレングリコール(メ
タ)アクリレート、モしてAR−260、MR−260
、A R−200,A R−204、A R−208、
M R−200、MR−204、MR−208(以上、
大人化学社製)の如きリン酸エステル基含有(メタ)ア
クリレート、さらにビスコ−) 2000、ビスコ−)
2308(以上、大阪有機社製)、ポリブタジェン(
メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)
アクリレート、ポリプロピレングリコール(メタ)アク
リレート、ホリエチレングリコールーポリプロピレング
リコ−ル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリス−
ルー4リゾチレングリコール(メタ)アクリレート、ポ
リスチリルエチル(メタ)アクリレート、そしてライト
エステル[0人−MS、ライトエステルHOMS (共
栄社油脂製)、ペンシル(メタ)アクリレート、7りσ
ヘキシル(メ/)アクリレート。
ゾククローe/タニル(メタ)アクリレート、ジシクロ
インテニル(メタ)アクリレート、イソがルール(メタ
)アクリレート、メトキシ化シクロデカトリエン(メタ
)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、そし
て日立化成製のFA−512人、FA−512M等が挙
げられる。
インテニル(メタ)アクリレート、イソがルール(メタ
)アクリレート、メトキシ化シクロデカトリエン(メタ
)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、そし
て日立化成製のFA−512人、FA−512M等が挙
げられる。
また本発明の樹力旨組成物は、含フッ素化合物囚、含フ
ッ素(メタ)アクリレ−)03)、多官能モノマー (
C’1.及び前記非フッ素系七)(メタ)アクリレート
Φ)以外に、必要に応じて各種添加剤(6)並びに光重
合開始剤(ト)を含有することも可能である。
ッ素(メタ)アクリレ−)03)、多官能モノマー (
C’1.及び前記非フッ素系七)(メタ)アクリレート
Φ)以外に、必要に応じて各種添加剤(6)並びに光重
合開始剤(ト)を含有することも可能である。
添加剤(ト)としては、粘度調節のための溶剤、耐光安
定剤1着色剤、光伝送ファイバー芯線との密着性を向上
させるためのカッブリング剤、芯縮に均一に塗布するた
めの消泡剤、レベリング剤、そして界面活性剤、さらに
光伝送ファイバーと一次被覆剤との密着性を制御するた
めの表面改質剤等が挙げられる。
定剤1着色剤、光伝送ファイバー芯線との密着性を向上
させるためのカッブリング剤、芯縮に均一に塗布するた
めの消泡剤、レベリング剤、そして界面活性剤、さらに
光伝送ファイバーと一次被覆剤との密着性を制御するた
めの表面改質剤等が挙げられる。
力、fリング剤としては、シラ/系、チタン系、ゾルコ
アルミネート系が挙げられ、これらの中でジメチルジメ
トキシシラン、ジメチルジェトキシ7ラン、メチルトリ
メトキシシラン、ジメチルビニルメトキシシラン、フェ
ニルトリメトキシシラン、r−クロログロビルトリメト
キシシラン、γ−クロログロビルメチルゾメトキシ7ラ
ン、r−アミノグクピルトリエト午ジシラン、r−メル
カグトグロビルトリメトキシシラ/、γ−グリシドキシ
グロピルトリメトキシシラy、γ−グリシドキシグロビ
ルメチルジメトキシシラン、r−メタクリロキシグロビ
ルメトキシ7ラン、r−メタクリロキングロピルメチル
ゾメトキ77ラン、r−7クリロ中シグロピルメチルト
リメトキシシラン、r−アクリロキングロビルメチルゾ
メトキ77ラン等のシラン系が特に好ましい。
アルミネート系が挙げられ、これらの中でジメチルジメ
トキシシラン、ジメチルジェトキシ7ラン、メチルトリ
メトキシシラン、ジメチルビニルメトキシシラン、フェ
ニルトリメトキシシラン、r−クロログロビルトリメト
キシシラン、γ−クロログロビルメチルゾメトキシ7ラ
ン、r−アミノグクピルトリエト午ジシラン、r−メル
カグトグロビルトリメトキシシラ/、γ−グリシドキシ
グロピルトリメトキシシラy、γ−グリシドキシグロビ
ルメチルジメトキシシラン、r−メタクリロキシグロビ
ルメトキシ7ラン、r−メタクリロキングロピルメチル
ゾメトキ77ラン、r−7クリロ中シグロピルメチルト
リメトキシシラン、r−アクリロキングロビルメチルゾ
メトキ77ラン等のシラン系が特に好ましい。
消泡剤、レベリング剤、そして界面活性剤としては、フ
ッ素系のものが好ましい。
ッ素系のものが好ましい。
また、本発明に係る活性エネルギーflW化工樹脂組成
物及び該樹脂組成物が硬化して得られる樹脂の屈折率の
低減下、透明性の向上、及び可塑化等を目的とする場合
には、添加剤(6)として、前記以外に、非重合性の7
.素化合物、例えばHO(−CH2+−、C,F2.+
、(rは1〜4の整数であ#)、−Fi1〜20の!!
数である。)の如き7ツ素化アルコール、 HOOC(−CH2+tCuF、u、 (tはOまたは
1〜4の整数でわシ、Uは1〜20の整数である。)の
如きフッ素化カルメン酸、通称フッ素オイルと称される
7、素化ポリエーテル、またN(04F、)s、パー7
0ロデカリン、 C,F、、QC4F、、 C,F2゜
の如き通称7ツ素系不活性液体と称される化合物を使用
できる。
物及び該樹脂組成物が硬化して得られる樹脂の屈折率の
低減下、透明性の向上、及び可塑化等を目的とする場合
には、添加剤(6)として、前記以外に、非重合性の7
.素化合物、例えばHO(−CH2+−、C,F2.+
、(rは1〜4の整数であ#)、−Fi1〜20の!!
数である。)の如き7ツ素化アルコール、 HOOC(−CH2+tCuF、u、 (tはOまたは
1〜4の整数でわシ、Uは1〜20の整数である。)の
如きフッ素化カルメン酸、通称フッ素オイルと称される
7、素化ポリエーテル、またN(04F、)s、パー7
0ロデカリン、 C,F、、QC4F、、 C,F2゜
の如き通称7ツ素系不活性液体と称される化合物を使用
できる。
活性エネルギー線硬化型樹脂組成物中に占めるとの非重
合性のフッ素化合物添加剤の割合は、過度に添加すると
硬化後の樹脂の強度が低下するため30重i−以下が好
ましく、20″i量チ以下がより好ましい。
合性のフッ素化合物添加剤の割合は、過度に添加すると
硬化後の樹脂の強度が低下するため30重i−以下が好
ましく、20″i量チ以下がより好ましい。
本発明に係る活性エネルヂー線硬化型樹脂組成物は、基
材%に光伝送ファイバー芯線に塗布又は含浸させた後、
光、電子線、放射線等の活性エネルギー線を照射するこ
とによ!l1重合硬化せしめ。
材%に光伝送ファイバー芯線に塗布又は含浸させた後、
光、電子線、放射線等の活性エネルギー線を照射するこ
とによ!l1重合硬化せしめ。
所望の被a膜例えは鞘材を形成することかできる。
また、場合によりては熱もエネルギー源として併用する
ことができる。活性エネルギー線として紫外線等の光を
利用する場合には、当業界公知の光重合開始剤(ト)5
例えば、F−1:ベンゾフェノン、F−2:アセトフエ
ノン、1−3:ベンゾイン。
ことができる。活性エネルギー線として紫外線等の光を
利用する場合には、当業界公知の光重合開始剤(ト)5
例えば、F−1:ベンゾフェノン、F−2:アセトフエ
ノン、1−3:ベンゾイン。
F−4:ヘンジインエチルエーテル、F−5:ペンゾイ
ンイソプチルエーテル、F−6:ペンジルメチルケター
ル、F−7:アゾビスインブチロニトリル、F−8:1
−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、F−9:
2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−1−オン
、F−10:1−(4’−4ソデpビルフエニル)−2
−ヒドロキシ−2−メチルプロノ母ンー1−オン、F−
11:1− (4’−ドデシル−フェニル)−2−とド
冒中シー2−メチルプロパン−1−オン等を触媒として
使用することが好ましい、iた、必要に応じてアミン化
合物、又はリン化合物等の光増感剤を添加し、重合をよ
シ迅速化することができる。本発明に係る活性エネルギ
ー線硬化型樹脂組成物中に占める光重合開始剤の好適な
割合は、0.01〜10重企チ、よシ好ましくは0.1
〜7重量%である。電子線又は放射線にて重合硬化させ
る場合には、特に重合開始剤等の添加は要しない。
ンイソプチルエーテル、F−6:ペンジルメチルケター
ル、F−7:アゾビスインブチロニトリル、F−8:1
−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、F−9:
2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−1−オン
、F−10:1−(4’−4ソデpビルフエニル)−2
−ヒドロキシ−2−メチルプロノ母ンー1−オン、F−
11:1− (4’−ドデシル−フェニル)−2−とド
冒中シー2−メチルプロパン−1−オン等を触媒として
使用することが好ましい、iた、必要に応じてアミン化
合物、又はリン化合物等の光増感剤を添加し、重合をよ
シ迅速化することができる。本発明に係る活性エネルギ
ー線硬化型樹脂組成物中に占める光重合開始剤の好適な
割合は、0.01〜10重企チ、よシ好ましくは0.1
〜7重量%である。電子線又は放射線にて重合硬化させ
る場合には、特に重合開始剤等の添加は要しない。
溶剤は、前述の如く本発明の樹脂組成物の粘度、塗布性
、並びに膜厚を制御するために配合することができる。
、並びに膜厚を制御するために配合することができる。
この様な溶剤としては、本発明組成物の重合反応性に悪
影響を及ぼさなければ特に制限はないが、メタノール、
エタノール、イングロビルアルコール等のアルコール系
、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン等のケトン系、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル等のエステル系、クロロホルム、ジクロルエタン、四
塩化炭素等の塩素系、そしてペンシトリフロライド、ク
ロルベンシトリフロライド、m−キシレンヘキサフロラ
イド、テトラクロロジフロロエタン、1,1.2− )
ジクロル−1,2,2−)ジクロルエタン、トリクロロ
モノ70ロメタン停の低沸点溶剤が作業性の点から好ま
しい。
影響を及ぼさなければ特に制限はないが、メタノール、
エタノール、イングロビルアルコール等のアルコール系
、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン等のケトン系、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル等のエステル系、クロロホルム、ジクロルエタン、四
塩化炭素等の塩素系、そしてペンシトリフロライド、ク
ロルベンシトリフロライド、m−キシレンヘキサフロラ
イド、テトラクロロジフロロエタン、1,1.2− )
ジクロル−1,2,2−)ジクロルエタン、トリクロロ
モノ70ロメタン停の低沸点溶剤が作業性の点から好ま
しい。
本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を、溶剤に
溶解させた溶液として基材に塗布又は含浸させた場合、
重合硬化を開始する前に、常温、又は必要に応じて加熱
や減圧によシ脱溶剤させる工程が必要となる。溶剤を加
熱除去する場合、モノマー等の加熱重合を来たさないた
めに80℃以下で実施するのが好ましい。
溶解させた溶液として基材に塗布又は含浸させた場合、
重合硬化を開始する前に、常温、又は必要に応じて加熱
や減圧によシ脱溶剤させる工程が必要となる。溶剤を加
熱除去する場合、モノマー等の加熱重合を来たさないた
めに80℃以下で実施するのが好ましい。
本発明に係るエネルギー線硬化型樹脂組成物を基材に塗
布する方法としては、当業界公知の種々の方法、例えば
、刷毛塗シ、アプリケーター、パーコーター、ローラー
ブラシ、又ハロールコーター等による塗布法、エアース
プレー又はエアーレススプレー塗装機等によるスプレー
塗布法、シャワーコーター又はカーテンフローコーター
等による流し塗シ法(フローコート)、浸漬法、キャス
ティング法、そしてスピンナーコーティング法等を用い
ることができ、基材の材質、形状又は用途等に応じて適
宜使い分けることが望ましい。
布する方法としては、当業界公知の種々の方法、例えば
、刷毛塗シ、アプリケーター、パーコーター、ローラー
ブラシ、又ハロールコーター等による塗布法、エアース
プレー又はエアーレススプレー塗装機等によるスプレー
塗布法、シャワーコーター又はカーテンフローコーター
等による流し塗シ法(フローコート)、浸漬法、キャス
ティング法、そしてスピンナーコーティング法等を用い
ることができ、基材の材質、形状又は用途等に応じて適
宜使い分けることが望ましい。
特に、光伝送ファイバー芯線に本発明の樹脂組成物を塗
布し硬化させる場合には、本発明に係る樹脂組成物を含
む貯槽に光伝送ファイバー芯線を連続的に浸漬して引き
上げ、必要に応じて溶剤を除去し、活性エネルギー線を
照射して鞘部分を硬化形成する方法、または本発明の樹
脂組成物を連続的に供給できる口金に光伝送ファイバー
芯線な通して連続塗布し、必要に応じて溶剤を除去した
後、活性エネルギー線を照射して鞘部分を硬化形成する
方法等、DT2,459,320 、特開昭53−13
9545号等に示される如き当業界公知の方法を使用で
きる。
布し硬化させる場合には、本発明に係る樹脂組成物を含
む貯槽に光伝送ファイバー芯線を連続的に浸漬して引き
上げ、必要に応じて溶剤を除去し、活性エネルギー線を
照射して鞘部分を硬化形成する方法、または本発明の樹
脂組成物を連続的に供給できる口金に光伝送ファイバー
芯線な通して連続塗布し、必要に応じて溶剤を除去した
後、活性エネルギー線を照射して鞘部分を硬化形成する
方法等、DT2,459,320 、特開昭53−13
9545号等に示される如き当業界公知の方法を使用で
きる。
本発明の樹脂組成物をエネルギー線照射によシ重合硬化
する場合、当業界公知の、殺菌灯、紫外線用螢光灯、カ
ーデンアーク、キセノンランプ、複写用高圧水銀灯、中
圧又は高圧水銀灯、超高圧水銀灯、無電極ランプ、メタ
ルハライドランプ、自然光等を光源とする紫外線、又は
走査型、カーモノ凰電子線加速路による電子線等を使用
することができ、厚みが5μm以下の塗布層の紫外線硬
化の場合1重合の効率化の点で、窒素ガス等の不活性ガ
ス雰囲気下で照射することが好ましい。
する場合、当業界公知の、殺菌灯、紫外線用螢光灯、カ
ーデンアーク、キセノンランプ、複写用高圧水銀灯、中
圧又は高圧水銀灯、超高圧水銀灯、無電極ランプ、メタ
ルハライドランプ、自然光等を光源とする紫外線、又は
走査型、カーモノ凰電子線加速路による電子線等を使用
することができ、厚みが5μm以下の塗布層の紫外線硬
化の場合1重合の効率化の点で、窒素ガス等の不活性ガ
ス雰囲気下で照射することが好ましい。
また、本発明における光伝送ファイバー芯線としては、
石英系、並びにポリメチルメタクリレート、重水素化ポ
リメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、
ポリスチレン、ポリカーボネート等のプラスチック系が
挙げられる。
石英系、並びにポリメチルメタクリレート、重水素化ポ
リメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、
ポリスチレン、ポリカーボネート等のプラスチック系が
挙げられる。
〈発明の効果〉
本発明に係る樹脂組成物は、必ずしも熱エネルギーを要
せず、活性エネルギー線の照射にて迅速に硬化すること
から、熱にて変形しやすい素材の塗工に適している。特
に、光伝送ファイバーの鞘成分の形成において、前記の
如き従来の熱び化型シリコーン樹脂や含フツ素重合体の
熱溶融物を使用する場合、硬化後の鞘成分の収縮が原因
で、光伝送ファイバーにマイクロベンディングを生じ。
せず、活性エネルギー線の照射にて迅速に硬化すること
から、熱にて変形しやすい素材の塗工に適している。特
に、光伝送ファイバーの鞘成分の形成において、前記の
如き従来の熱び化型シリコーン樹脂や含フツ素重合体の
熱溶融物を使用する場合、硬化後の鞘成分の収縮が原因
で、光伝送ファイバーにマイクロベンディングを生じ。
著しい伝送損失を生じるという欠点があった。しかしな
がら、本発明の樹力旨組成物による鞘成分の形成法によ
れば、上記の如き問題は無いことから、光伝送ファイバ
ーの品質並びに歩留シの向上といった経済面での利点が
おる。また、本発明に係る光伝送ファイバー形成法によ
れば、光伝送ファイバーの線引き速度は3〜6m/秒と
なシ、光伝送ファイバーの製造速度が従来の3〜5倍に
なるという生産面での利点がある。さらにまた、本発明
者等の知見によれば、本発明の樹脂組成物によって得ら
れる光伝送ファイバーは、従来のものと比較して、窓部
分と鞘部分との密着性の点で格段に優れているため、激
しい振動や屈曲を伴う使用条件にも耐えるという利点を
有する。
がら、本発明の樹力旨組成物による鞘成分の形成法によ
れば、上記の如き問題は無いことから、光伝送ファイバ
ーの品質並びに歩留シの向上といった経済面での利点が
おる。また、本発明に係る光伝送ファイバー形成法によ
れば、光伝送ファイバーの線引き速度は3〜6m/秒と
なシ、光伝送ファイバーの製造速度が従来の3〜5倍に
なるという生産面での利点がある。さらにまた、本発明
者等の知見によれば、本発明の樹脂組成物によって得ら
れる光伝送ファイバーは、従来のものと比較して、窓部
分と鞘部分との密着性の点で格段に優れているため、激
しい振動や屈曲を伴う使用条件にも耐えるという利点を
有する。
本発明の樹脂組成物では、前述の如く各構成成分の割合
を調節することによシ、容易に目的に合った屈折率の樹
脂を得ることができ、また屈折率が1.37程度の透明
樹脂が得られることから、光伝送ファイバーの高開口数
化、大口径化が可能になった。
を調節することによシ、容易に目的に合った屈折率の樹
脂を得ることができ、また屈折率が1.37程度の透明
樹脂が得られることから、光伝送ファイバーの高開口数
化、大口径化が可能になった。
本発明の樹脂組成物は、光伝送ファイバーの鞘材だけで
なく、その低屈折率性に基いて、ガラスまたは透明プラ
スチックなどの透明基体の表面に塗工して低反射重役■
を形成するのに利用することもできる。
なく、その低屈折率性に基いて、ガラスまたは透明プラ
スチックなどの透明基体の表面に塗工して低反射重役■
を形成するのに利用することもできる。
更にまた、本発明の樹脂組成物は、耐擦傷性、耐油性、
平滑性、減摩性、撥水撥油性、耐水性、防湿性、防錆性
、防汚性、剥離性、離型性、低吸水性などに優れた硬化
被膜を形成することから、各種素材並びに基材の保護被
覆膜としても使用することができる。
平滑性、減摩性、撥水撥油性、耐水性、防湿性、防錆性
、防汚性、剥離性、離型性、低吸水性などに優れた硬化
被膜を形成することから、各種素材並びに基材の保護被
覆膜としても使用することができる。
例えば、銅、アルミニウム、亜鉛などの非磁性金属やポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナ
フタレート等のポリエステル類、ポリクロピレン等のポ
リオレフィン類、セルロースアセテート等のセルロース
誘導体ポリカー?ネート等のプラスチックや、更に、場
合によシガラス、紙、木材、繊維、磁器及び陶器のよう
なセラ< ツクス上に蒸着された強磁性合金(鉄、コ/
々ルト及び/又は二、ケルを主成分とし、少量のアルミ
ニウム、シリコン、クロム、マンガン、モリブデン、チ
タン、各糧重金属類、希土類金属等を含むもの)または
微量酸素存在下で、鉄、コ・々ルト、クロム等の磁性材
料をポリエステル等のグラスチックフィルムに蒸着した
磁気テープ、または磁気ディスクの磁性層等の保護被覆
や、減摩性が特に要求される、磁気テープ、フロッピー
ディスク等の磁気記録媒体の表面及び背面処理剤として
も好適でおる。
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナ
フタレート等のポリエステル類、ポリクロピレン等のポ
リオレフィン類、セルロースアセテート等のセルロース
誘導体ポリカー?ネート等のプラスチックや、更に、場
合によシガラス、紙、木材、繊維、磁器及び陶器のよう
なセラ< ツクス上に蒸着された強磁性合金(鉄、コ/
々ルト及び/又は二、ケルを主成分とし、少量のアルミ
ニウム、シリコン、クロム、マンガン、モリブデン、チ
タン、各糧重金属類、希土類金属等を含むもの)または
微量酸素存在下で、鉄、コ・々ルト、クロム等の磁性材
料をポリエステル等のグラスチックフィルムに蒸着した
磁気テープ、または磁気ディスクの磁性層等の保護被覆
や、減摩性が特に要求される、磁気テープ、フロッピー
ディスク等の磁気記録媒体の表面及び背面処理剤として
も好適でおる。
一方、本発明の樹脂組成物は、ガラス表面上にも透明で
平滑な薄い被膜を形成できるので、各稙光学機器の油汚
れ防止剤などとして耐油性と耐拭き取)性を必要とする
用途にも使用することができる・ 文に又、防湿性等が特に要求される太陽電池用保護膜、
光ファイバー、光ファイ/9−ケーブル、光ディスク、
光磁気ディスク等の保護被覆剤としても好適である。更
に、耐擦傷性、防汚性及び耐湿性に優れるので医療用具
及び器具の楓面保り。
平滑な薄い被膜を形成できるので、各稙光学機器の油汚
れ防止剤などとして耐油性と耐拭き取)性を必要とする
用途にも使用することができる・ 文に又、防湿性等が特に要求される太陽電池用保護膜、
光ファイバー、光ファイ/9−ケーブル、光ディスク、
光磁気ディスク等の保護被覆剤としても好適である。更
に、耐擦傷性、防汚性及び耐湿性に優れるので医療用具
及び器具の楓面保り。
歯、義歯の表面保吸及び虫曾のつめ物、型どシと。
しても使用できる。
また本発明の樹脂組成物は、耐擦傷性に優れた被膜を形
成できるので、各種成形品又はフィルム、シート等の一
一ドプート剤とし【も使用できる。
成できるので、各種成形品又はフィルム、シート等の一
一ドプート剤とし【も使用できる。
さらに又、本発明の組成物は、顔料及び分散剤を混入す
ることによって、防汚性又は非粘着性に優れた塗料又は
インキを形成することができる。
ることによって、防汚性又は非粘着性に優れた塗料又は
インキを形成することができる。
次に、本発明の具体的な合成例、実施例について説明す
るが、斯かる説明によって本発明が何ら限定されるもの
でないことは勿論である0文中の1部」及び「チ」は、
重量基準である。
るが、斯かる説明によって本発明が何ら限定されるもの
でないことは勿論である0文中の1部」及び「チ」は、
重量基準である。
また、合成例、実施例及び比較例中の化合物の略号は全
て前出の化合物を示すものとする。略号の後の囚はアク
リレート化合物、に)はメタクリレート化合物であるこ
とを示す。
て前出の化合物を示すものとする。略号の後の囚はアク
リレート化合物、に)はメタクリレート化合物であるこ
とを示す。
/′
/′
7、・′
A−19の合成
攪拌器、温度計、コンデンサーを備えた300−の4つ
日丸底フラスコに、 03H。
日丸底フラスコに、 03H。
08F、、5o2NCH2CH2QH35,1F (0
,06モル)、08F、、CH2CH20H27,9!
I(0,06モル)、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト7、I F (0,06モル)、ハイドロキノンo、
s p 、そして無水コハク酸18.0II(0,1
8そル)を秤取し、乾燥酸素雰囲気下95〜100℃で
1時間反応した。系内の温度を70〜75℃に下げた後
、 次いでN、N−ジメチルベンジルアミン0,9gを投入
し、95〜100℃にて3時間反応した。この結果淡黄
色ペース)107.6.F得られた。残存カルボキシル
基量を0.1(へ)水酸化す) IJウム水溶液で滴定
した結果1反応率は98.7%であった。本粗生成物を
そのまま被覆剤に供することができるが、必要であれば
以下の様にして精製できる。
,06モル)、08F、、CH2CH20H27,9!
I(0,06モル)、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト7、I F (0,06モル)、ハイドロキノンo、
s p 、そして無水コハク酸18.0II(0,1
8そル)を秤取し、乾燥酸素雰囲気下95〜100℃で
1時間反応した。系内の温度を70〜75℃に下げた後
、 次いでN、N−ジメチルベンジルアミン0,9gを投入
し、95〜100℃にて3時間反応した。この結果淡黄
色ペース)107.6.F得られた。残存カルボキシル
基量を0.1(へ)水酸化す) IJウム水溶液で滴定
した結果1反応率は98.7%であった。本粗生成物を
そのまま被覆剤に供することができるが、必要であれば
以下の様にして精製できる。
上記粗生成物のテトラヒドロンラン溶液をGPC(カラ
ム:日立製、グルコGL−A130.8篤冨φ×500
111%溶離液:テトラヒドロフラン、検出:紫外吸収
針、254nm)にかけたところ、主ピークの前後に数
本の小さなピークが得られた。全ピーク面積に対する主
ピーク面積の割合は70%であった0 主ピークを分取し、’H−NMR測定、IR測測定そし
て元素分析を行ったところ、目的とする反応性含フツ素
表面改質剤であることが確認できる。
ム:日立製、グルコGL−A130.8篤冨φ×500
111%溶離液:テトラヒドロフラン、検出:紫外吸収
針、254nm)にかけたところ、主ピークの前後に数
本の小さなピークが得られた。全ピーク面積に対する主
ピーク面積の割合は70%であった0 主ピークを分取し、’H−NMR測定、IR測測定そし
て元素分析を行ったところ、目的とする反応性含フツ素
表面改質剤であることが確認できる。
合成例10元素分析
CHN F
分析値(イ) 37.4 3.6 0.8
36.6計算値(イ) 37.4 3.5
0.7 36.8合成例2 /−′ A−1の合成 合成例1の含フツ素アルコールの全て、無水コハク酸、
そして2−ヒドロキシエチルアクリレートをそれぞれ、
C,F、、C)I2CH20Hs s、 s tt (
o、 12(0,18−1ニル)、2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート7、8 F (0,06モル)に置換
え同様にして反応を行い精製した。粗生成物の収量は1
20.1であシ、0.1(ト)水酸化ナトリウム水溶液
による反応率は99.0%であった。GPC分析におけ
る主ピーク面積の割合は78%であった。主ピークを分
取し、 1(−NMR測定、IR測測定そして元素分析
を行ったところ、目的とする化合物であることが確認で
きた。
36.6計算値(イ) 37.4 3.5
0.7 36.8合成例2 /−′ A−1の合成 合成例1の含フツ素アルコールの全て、無水コハク酸、
そして2−ヒドロキシエチルアクリレートをそれぞれ、
C,F、、C)I2CH20Hs s、 s tt (
o、 12(0,18−1ニル)、2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート7、8 F (0,06モル)に置換
え同様にして反応を行い精製した。粗生成物の収量は1
20.1であシ、0.1(ト)水酸化ナトリウム水溶液
による反応率は99.0%であった。GPC分析におけ
る主ピーク面積の割合は78%であった。主ピークを分
取し、 1(−NMR測定、IR測測定そして元素分析
を行ったところ、目的とする化合物であることが確認で
きた。
合成例2の元素分析
実施例1〜14および比較例1〜6
含フッ素イビ合物(ト)、含フッ素(メタ)アクリレ−
11)、多官能モノマー(Q、非フツ素系モノ(メタ)
アクリレート(至)、添加剤(ト)、そして光重合開始
剤(ト)を使用し、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物
を調艮した。この樹脂組成物のポリメチルメタアクリレ
ート板、ポリスチレン板、そしてガラス板に対する密着
性と、光伝送ファイバーの鞘材に供した場合の諸物件を
表1及び2にまとめて示すO 活性エネルギー線硬化を樹脂組成物を使用した場合には
、光伝送ファイバー芯線を該樹脂組成物の浴中に連続的
に浸漬して引き上げ、300m/分の線引き速度で、1
60W/cm高圧水銀灯集光m3灯にて紫外線を照射し
、光伝送ファイバーを形成した・ 比較例に示した光伝送ファイバーは、表中に示した温度
で溶融された7、素光重合体を光伝送ファイバー芯線に
塗布し、空冷することによシ形成した。
11)、多官能モノマー(Q、非フツ素系モノ(メタ)
アクリレート(至)、添加剤(ト)、そして光重合開始
剤(ト)を使用し、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物
を調艮した。この樹脂組成物のポリメチルメタアクリレ
ート板、ポリスチレン板、そしてガラス板に対する密着
性と、光伝送ファイバーの鞘材に供した場合の諸物件を
表1及び2にまとめて示すO 活性エネルギー線硬化を樹脂組成物を使用した場合には
、光伝送ファイバー芯線を該樹脂組成物の浴中に連続的
に浸漬して引き上げ、300m/分の線引き速度で、1
60W/cm高圧水銀灯集光m3灯にて紫外線を照射し
、光伝送ファイバーを形成した・ 比較例に示した光伝送ファイバーは、表中に示した温度
で溶融された7、素光重合体を光伝送ファイバー芯線に
塗布し、空冷することによシ形成した。
また、比較例に示したシリコーン樹脂の硬化は150℃
、2分の条件にて実施した。この場合の光伝送ファイバ
ーの線引き速度は3m7分である。
、2分の条件にて実施した。この場合の光伝送ファイバ
ーの線引き速度は3m7分である。
ポリメチルメタクリレート及びポリスチレンを芯成分と
する光伝送ファイバーでは、芯線の直径を500μm、
鞘部分の厚みを40 Am とした。
する光伝送ファイバーでは、芯線の直径を500μm、
鞘部分の厚みを40 Am とした。
また、石英を芯成分とする光伝送ファイバーでは。
芯線の直径を200μm、鞘部分の厚みを20μmとし
た。
た。
表の中で、RM及びPSはそれぞれポリメチルメタクリ
レート及びポリスチレンを芯線とする光伝送ファイバー
、Gは石英を芯線とする光伝送ファイバーをそれぞれ示
す。
レート及びポリスチレンを芯線とする光伝送ファイバー
、Gは石英を芯線とする光伝送ファイバーをそれぞれ示
す。
活性エネルギー線の照射によって得られた硬化樹脂の性
能は、次の方法によりて評価した。
能は、次の方法によりて評価した。
ポリメチルメタクリレート(三菱レイヨン社艮アクリラ
イトL−す。oi、板厚2u)、ポリスチレン板(ダウ
ケミカル社スタイロン、板厚2 ms )及びガラス板
(板厚5龍)に、硬化膜厚が100μmに々るように本
発明の活性エネルギー線硬化型樹脂を塗工した。活性エ
ネルギー線源としては高圧水銀灯160 w、” on
2灯集光世を用い、コンベアスピード200m/分で
硬化させた。
イトL−す。oi、板厚2u)、ポリスチレン板(ダウ
ケミカル社スタイロン、板厚2 ms )及びガラス板
(板厚5龍)に、硬化膜厚が100μmに々るように本
発明の活性エネルギー線硬化型樹脂を塗工した。活性エ
ネルギー線源としては高圧水銀灯160 w、” on
2灯集光世を用い、コンベアスピード200m/分で
硬化させた。
比較の熱溶融型含フツ素樹脂の場合、200℃で5分間
、100 ky/a4o圧力で加熱プレスして厚さ10
0μmのフィルムを得、これを各基材面に重ね、230
℃で10秒、5 kg、/yの条件下にて圧着してラミ
ネートした。
、100 ky/a4o圧力で加熱プレスして厚さ10
0μmのフィルムを得、これを各基材面に重ね、230
℃で10秒、5 kg、/yの条件下にて圧着してラミ
ネートした。
このようにして得られた試料の密着性試験を、JIS
5400による計測基準に従りて評価した。
5400による計測基準に従りて評価した。
光伝送ファイバーの光伝送能は特開昭58−7602号
第4図に示される装置と同型のものにて伝送損失(dB
/kIりを測定し、評価した。測定榮件は下記の通シで
ある。
第4図に示される装置と同型のものにて伝送損失(dB
/kIりを測定し、評価した。測定榮件は下記の通シで
ある。
干渉フィルター(主波長) 650μm光伝送ファ
イバーの全長 5m°光伝送ファイバーの切
断長さ 4mmボビン径 19
0翼ス〔マンドレル試験〕 光伝送ファイバー芯線に対する鞘材の密着性と強靭性と
評価するため、直径5鰭のマンドレルに光伝送ファイバ
ーを捲きつけ、顕微鏡にて拡大し、光伝送ファイバー芯
線と鞘材の@着性並びに鞘材部分のクラ、りの発生の有
無を観察し、以下の如き3段階で評価した。
イバーの全長 5m°光伝送ファイバーの切
断長さ 4mmボビン径 19
0翼ス〔マンドレル試験〕 光伝送ファイバー芯線に対する鞘材の密着性と強靭性と
評価するため、直径5鰭のマンドレルに光伝送ファイバ
ーを捲きつけ、顕微鏡にて拡大し、光伝送ファイバー芯
線と鞘材の@着性並びに鞘材部分のクラ、りの発生の有
無を観察し、以下の如き3段階で評価した。
評価点3:窓部分と鞘部分の間の密着性の変化並びに鞘
部分にクラ、り等の発生が全く認められない。
部分にクラ、り等の発生が全く認められない。
2:窓部分と鞘部分の間に密着性の変化及び/又は鞘部
分にクラ、り等の発生が僅かに認められる。
分にクラ、り等の発生が僅かに認められる。
l:窓部分と鞘部分の間に剥離及び/又は鞘部分にクラ
ックの発生が認められる。
ックの発生が認められる。
表−1及び2から明らかなように、本発明に係る活性エ
ネルギー線硬化壓樹脂は、従来の鞘材よりも格段に優れ
た光伝送ファイバーを与えることができる。
ネルギー線硬化壓樹脂は、従来の鞘材よりも格段に優れ
た光伝送ファイバーを与えることができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(A) 〔式中、R_fとR_f′は、炭素数3〜20のフッ素
化脂肪族基であり、 Z_1とZ_2は、▲数式、化学式、表等があります▼
、▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、R_1は水素原子もしくは炭素数1〜10のア
ルキル基である。)、または−(CH_2)−_n(但
し、nは1〜6の整数である。)から選ばれた2価の連
結基であり、 Z_3は、−(CH_2)−_m(但し、mは2〜6の
整数である。)または▲数式、化学式、表等があります
▼であり、 Rは、水素原子、メチル基、またはハロゲン原子であり
、 X_1、X_2及びX_3は、▲数式、化学式、表等が
あります▼(但し、R_2は水素原子、または炭素数1
〜36のアルキル基もしくはアルケニル基である。)ま
たは ▲数式、化学式、表等があります▼から選ばれた2価の
連結基で あり、 Aは、▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼(但し、R_3は水
素 原子、ヒドロキシメチル基、メチル基、エチル基、また
はニトロ基である。)、 ▲数式、化学式、表等があります▼または ▲数式、化学式、表等があります▼にて表わされる3価
の連 結基である。〕にて表わされる含フッ素化合物(A)、
一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(B) 〔式中、R_f″は炭素数3〜20のフッ素化脂肪族基
であり、 Xは▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、
化学式、表等があります▼(但しR_1は前記と同じ。 )てあり、 aは0または1であり、 lは1〜6の整数であり、 Rは前記と同じである。〕にて表わされる含フッ素(メ
タ)アクリレート(B)、 及び分子中に(メタ)アクリロイル基を2個以上含有す
る多官能モノマー(C)とから成ることを特徴とする活
性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 2、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(A) 〔式中、R_fとR_f′は炭素数3〜20のフッ素化
脂肪族基であり、 Z_1とZ_2は、▲数式、化学式、表等があります▼
、▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、R_1は水素原子もしくは炭素数1〜10のア
ルキル基である。)、または−(CH_2)−_n(但
し、nは1〜6の整数である。)から選ばれた2価の連
結基であり、 Z_3は、−(CH_2)−_m(但し、mは2〜6の
整数である。)または▲数式、化学式、表等があります
▼であり、 Rは、水素原子、メチル基、またはハロゲン原子であり
、 X_1、X_2及びX_3は、▲数式、化学式、表等が
あります▼(但し、R_2は水素原子、または炭素数1
〜36のアルキル基もしくはアルケニル基である。)ま
たは ▲数式、化学式、表等があります▼から選ばれた2価の
連結基であ り、 Aは、▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼(但し、R_3は水
素 原子、ヒドロキシメチル基、メチル基、エチル基、また
はニトロ基である。)、 ▲数式、化学式、表等があります▼、または ▲数式、化学式、表等があります▼にて表わされる3価
の連 結基である。〕にて表わされる含フッ素化合物(A)、
一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(B) 〔式中、R_f″は炭素数3〜20のフッ素化脂肪族基
であり、 Xは▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、
化学式、表等があります▼(但しR_1は前記と同じ。 )であり、 aは0または1であり、 lは1〜6の整数であり、 Rは前記と同じである。〕にて表わされる含フッ素(メ
タ)アクリレート(B)、 及び分子中に(メタ)アクリロイル基を2個以上含有す
る多官能モノマー(C)とから成る樹脂組成物を光伝送
ファイバー芯線に塗布し、然る後に活性エネルギー線を
照射して硬化することを特徴とする光伝送ファイバーを
形成する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61221167A JPH0818006B2 (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 | 含フツ素低屈折率樹脂組成物及びその適用 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61221167A JPH0818006B2 (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 | 含フツ素低屈折率樹脂組成物及びその適用 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6377574A true JPS6377574A (ja) | 1988-04-07 |
| JPH0818006B2 JPH0818006B2 (ja) | 1996-02-28 |
Family
ID=16762521
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61221167A Expired - Fee Related JPH0818006B2 (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 | 含フツ素低屈折率樹脂組成物及びその適用 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0818006B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004002735A1 (ja) * | 2002-06-27 | 2004-01-08 | Tdk Corporation | 複合ハードコート層付き物体及び複合ハードコート層の形成方法 |
| WO2004002734A1 (ja) * | 2002-06-27 | 2004-01-08 | Tdk Corporation | 複合ハードコート層付き物体及び複合ハードコート層の形成方法 |
| JP2008297400A (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Nof Corp | 含フッ素コ−ティング剤及びそれを用いた減反射材 |
-
1986
- 1986-09-19 JP JP61221167A patent/JPH0818006B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004002735A1 (ja) * | 2002-06-27 | 2004-01-08 | Tdk Corporation | 複合ハードコート層付き物体及び複合ハードコート層の形成方法 |
| WO2004002734A1 (ja) * | 2002-06-27 | 2004-01-08 | Tdk Corporation | 複合ハードコート層付き物体及び複合ハードコート層の形成方法 |
| US7399530B2 (en) | 2002-06-27 | 2008-07-15 | Tdk Corporation | Object with composite hard coating layer and method of forming composite hard coating layer |
| JP2008297400A (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Nof Corp | 含フッ素コ−ティング剤及びそれを用いた減反射材 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0818006B2 (ja) | 1996-02-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4968116A (en) | Polymer claddings for optical fibre waveguides | |
| DE3786192T2 (de) | Fluor enthaltende Harzzusammensetzung mit niedrigem Brechungsindex. | |
| US5302316A (en) | Optical fiber coating composition | |
| CN100400282C (zh) | 带有复合硬涂层的物体及复合硬涂层的形成方法 | |
| JPS631257B2 (ja) | ||
| JPH0819313B2 (ja) | フツ素系樹脂組成物 | |
| JPS6198305A (ja) | 合成樹脂コーテイングを有する光フアイバの製造方法及び本方法により製造した合成樹脂コーテイングを有する光フアイバ | |
| JPS62199643A (ja) | 低屈折率樹脂組成物 | |
| US4915997A (en) | Optical information recording medium | |
| JPH0818006B2 (ja) | 含フツ素低屈折率樹脂組成物及びその適用 | |
| Seck et al. | Poly (3, 4-epoxycyclohexylmethyl acrylate) Synthesis and Use in the Preparation of an Exceptionally Hard yet Flexible Organic Polymer Coating | |
| JP2570217B2 (ja) | 光伝送ファイバー | |
| JP2541159B2 (ja) | 光伝送ファイバ― | |
| JPH05255496A (ja) | 含フッ素ポリエーテルジ(メタ)アクリレートおよび光硬化性組成物 | |
| JPH072915B2 (ja) | 被覆組成物 | |
| JPH03215453A (ja) | (メタ)アクリル酸エステル、これを用いた樹脂組成物、耐熱性光ファイバ用コーティング剤とそれらの硬化物 | |
| KR0142676B1 (ko) | 광 섬유 도파관용 중합체 피복 조성물 | |
| JPH059043A (ja) | 硬化性樹脂組成物及びそれで被覆された光フアイバ | |
| JPH02141440A (ja) | 被覆光ファイバ | |
| JPS6288156A (ja) | 光デイスク基板 | |
| JP2002194031A (ja) | 低屈折率樹脂組成物およびその硬化物 | |
| JPH02219009A (ja) | 被覆光ファイバ | |
| JP2002212261A (ja) | 低屈折率樹脂組成物およびその硬化物 | |
| JPH0321910A (ja) | 被覆光ファイバ | |
| JP2025007751A (ja) | 光ファイバ心線および光ファイバ心線の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |