JPS6379230A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS6379230A JPS6379230A JP22560686A JP22560686A JPS6379230A JP S6379230 A JPS6379230 A JP S6379230A JP 22560686 A JP22560686 A JP 22560686A JP 22560686 A JP22560686 A JP 22560686A JP S6379230 A JPS6379230 A JP S6379230A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- fluorine
- magnetic
- protective layer
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
本発明は、基板表面にめっき、スパッタリング。
蒸着などによって形成された金属薄膜磁性層を保護する
ための耐食性および耐磨耗性に優れた表面保護層を有す
る磁気記録媒体に関する。
ための耐食性および耐磨耗性に優れた表面保護層を有す
る磁気記録媒体に関する。
磁気ディスク装置などに用いられる磁気記録媒体におい
ては、その高記録密度化の要請により、めっき、スパッ
タリング、蒸着などによって形成される磁気特性に優れ
たＣＯ合金などの強磁性金属合金薄膜からなる磁性層が
注目され、検討されている。
ては、その高記録密度化の要請により、めっき、スパッ
タリング、蒸着などによって形成される磁気特性に優れ
たＣＯ合金などの強磁性金属合金薄膜からなる磁性層が
注目され、検討されている。
ところが、一般にこのような磁性薄膜は金属であるため
に、腐食され易く、磁気ヘッドに対する摩擦係数が大き
くて、磁気ヘッドとの摺動によって磐耗や損傷を受は易
く、磁気特性が劣化するため、薄膜磁性層表面に保護層
を設け、耐食性、耐久性を改善することが行われている
。保護層の膜厚は保護機能の面からは厚い方が望ましい
が、反面、高密度記録を達成するためには、磁気記録装
置において磁気ヘッドと媒体の磁性層との間隙を小さく
する必要があり、磁性層と磁気ヘッドとの間に介在する
保護層の膜厚としては薄い方が望ましいことになり、１
０００Å以下、好ましくは５００Å以下とすることが要
求されている。
に、腐食され易く、磁気ヘッドに対する摩擦係数が大き
くて、磁気ヘッドとの摺動によって磐耗や損傷を受は易
く、磁気特性が劣化するため、薄膜磁性層表面に保護層
を設け、耐食性、耐久性を改善することが行われている
。保護層の膜厚は保護機能の面からは厚い方が望ましい
が、反面、高密度記録を達成するためには、磁気記録装
置において磁気ヘッドと媒体の磁性層との間隙を小さく
する必要があり、磁性層と磁気ヘッドとの間に介在する
保護層の膜厚としては薄い方が望ましいことになり、１
０００Å以下、好ましくは５００Å以下とすることが要
求されている。
このような表面保護層として、スパッタリングなどによ
り被着されたアモルファス状カーボンく以下ａ−Ｃと略
す）膜が知られている。しかしながら、ａ−Ｃ膜は磁気
ヘッドとの長期間の繰り返しの摺動によって摩擦係数が
増大し、潤滑性能が低下し、また、耐食性も十分ではな
いという難点があった。これを改善するため、ａ−Ｃｇ
Ｏ表面に液状のふっ素糸潤滑剤を浸漬法あるいはスピン
コード法などにより塗布することが試みられているが、
保護層全体の膜厚の制約から、塗布膜厚は５０Å以下に
する必要があり成膜が難しく、しかもａ−Ｃ膜との密着
性が不充分であることから、高信頼性を要求される磁気
記録媒体の保護層としては問題であり、その改善が望ま
れていた。
り被着されたアモルファス状カーボンく以下ａ−Ｃと略
す）膜が知られている。しかしながら、ａ−Ｃ膜は磁気
ヘッドとの長期間の繰り返しの摺動によって摩擦係数が
増大し、潤滑性能が低下し、また、耐食性も十分ではな
いという難点があった。これを改善するため、ａ−Ｃｇ
Ｏ表面に液状のふっ素糸潤滑剤を浸漬法あるいはスピン
コード法などにより塗布することが試みられているが、
保護層全体の膜厚の制約から、塗布膜厚は５０Å以下に
する必要があり成膜が難しく、しかもａ−Ｃ膜との密着
性が不充分であることから、高信頼性を要求される磁気
記録媒体の保護層としては問題であり、その改善が望ま
れていた。
本発明は、上述の欠点を除去して、耐磨耗性。
耐食性に優れた表面保護層を有し、特性変動が少なく信
頼性の高い磁気記録媒体を提供することを目的とする。
頼性の高い磁気記録媒体を提供することを目的とする。
本発明の目的は、強磁性金属合金薄膜からなる磁性層の
表面にスパッタリングにより被着されたアモルファス状
カーボンとふっ素−カーボン化合物とからなる表面保護
層を備えた磁気記録媒体によって達成される。
表面にスパッタリングにより被着されたアモルファス状
カーボンとふっ素−カーボン化合物とからなる表面保護
層を備えた磁気記録媒体によって達成される。
以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら説
明する。
明する。
実施例１゜
第１図は、本発明による磁気記録媒体の一実施例の層構
成を示す模式的断面図である。第１図において、１１は
アルミニウム合金からなる基板であり、その表面は機械
加工によりうねりの小さい面に仕上げられている。１２
は基板１１の表面に無電解めっきで被着されたＮ１−Ｐ
合金層であり、その表面は機械研暦により表面最大粗さ
０．１μｍ以下に鏡面仕上げされている。その上に、磁
性層１３として、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉなどの強磁性金属な
どからなる合金薄膜をめっき、スパッタ、蒸着などで形
成する。この磁性層１３の上に本発明によるａ −Ｃ１
４ａとふっ素−カーボン化合物１４ｂとが混合してなる
表面保護層１４を形成して磁気記録媒体とする。
成を示す模式的断面図である。第１図において、１１は
アルミニウム合金からなる基板であり、その表面は機械
加工によりうねりの小さい面に仕上げられている。１２
は基板１１の表面に無電解めっきで被着されたＮ１−Ｐ
合金層であり、その表面は機械研暦により表面最大粗さ
０．１μｍ以下に鏡面仕上げされている。その上に、磁
性層１３として、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉなどの強磁性金属な
どからなる合金薄膜をめっき、スパッタ、蒸着などで形
成する。この磁性層１３の上に本発明によるａ −Ｃ１
４ａとふっ素−カーボン化合物１４ｂとが混合してなる
表面保護層１４を形成して磁気記録媒体とする。
表面保護層１４は、ふっ素糸重合体９例えばテフロン（
商品名、デュポン社製）で一部被覆されたグラファイト
カーボンをターゲットとし、マグネトロン型高周波スパ
ッタリング法で厚さ４００人に形成される。表面保護層
のａ −Ｃ１４ａとふっ素−カーボン化合物１４ｂとの
組成比は被覆するふっ素糸重合体のスパッタリングされ
る有効面積を変化させることにより制御することができ
、例えば、ふっ素−カーボン化合物の含有量を磁性層側
で少なくし、自由表面側にむかって多くしていくという
ように膜厚方向の組成比に所定のプロファイルをもたす
ことも可能である。グラファイト状カーボンターゲット
とふっ素糸重合体ターゲットとを並置し、同時にスパッ
タリングして同様の表面保護層を成膜することも勿論可
能である。
商品名、デュポン社製）で一部被覆されたグラファイト
カーボンをターゲットとし、マグネトロン型高周波スパ
ッタリング法で厚さ４００人に形成される。表面保護層
のａ −Ｃ１４ａとふっ素−カーボン化合物１４ｂとの
組成比は被覆するふっ素糸重合体のスパッタリングされ
る有効面積を変化させることにより制御することができ
、例えば、ふっ素−カーボン化合物の含有量を磁性層側
で少なくし、自由表面側にむかって多くしていくという
ように膜厚方向の組成比に所定のプロファイルをもたす
ことも可能である。グラファイト状カーボンターゲット
とふっ素糸重合体ターゲットとを並置し、同時にスパッ
タリングして同様の表面保護層を成膜することも勿論可
能である。
スパッタリングの方法としては、通常の高周波または直
流スパッタリング法、マグネトロン型高周波または直流
スパッタリング法など公知の方法が適用できるが、スパ
ッタリングレイトの点でマグネトロン型の方が有利であ
り、また、ふっ素糸重合体が絶縁物である点で特にマグ
ネトロン型高周波スパッタリング法が適している。
流スパッタリング法、マグネトロン型高周波または直流
スパッタリング法など公知の方法が適用できるが、スパ
ッタリングレイトの点でマグネトロン型の方が有利であ
り、また、ふっ素糸重合体が絶縁物である点で特にマグ
ネトロン型高周波スパッタリング法が適している。
実施例２゜
第２図は、本発明の磁気記録媒体の他の実施例の層構成
を示す模式的断面図であって、１１．１２．１３はそれ
ぞれ実施例１と同様の基’５．Ｎ１−Ｐ層、磁性層であ
る。１４ｃは磁性層１３の表面にスパッタリングにより
平均膜厚３５０人に成膜されたａ−Ｃ膜であり、１４ｄ
はその上に平均膜厚３０人にスパッタリングにより成膜
されたふっ素−カーボン化合物膜であり、１４Ｃと１４
ｄで表面保護層１４が形成されて磁気記録媒体となる。
を示す模式的断面図であって、１１．１２．１３はそれ
ぞれ実施例１と同様の基’５．Ｎ１−Ｐ層、磁性層であ
る。１４ｃは磁性層１３の表面にスパッタリングにより
平均膜厚３５０人に成膜されたａ−Ｃ膜であり、１４ｄ
はその上に平均膜厚３０人にスパッタリングにより成膜
されたふっ素−カーボン化合物膜であり、１４Ｃと１４
ｄで表面保護層１４が形成されて磁気記録媒体となる。
ａ−Ｃ膜１４Ｃとふっ素−カーボン化合物膜１４ｄとは
、並置されたグラファイト状カーボンターゲットとふっ
素糸重合体ターゲットとを次々と連続してスパッタリン
グし積層して成膜される。従って両者の間には明瞭な界
面は存在せず複合膜となっており、その密着性は極めて
強いものである。
、並置されたグラファイト状カーボンターゲットとふっ
素糸重合体ターゲットとを次々と連続してスパッタリン
グし積層して成膜される。従って両者の間には明瞭な界
面は存在せず複合膜となっており、その密着性は極めて
強いものである。
比較例
実施例１に準じて磁性層までを形成し、その上に、グラ
ファイト状カーボンターゲットのみを用いてスパッタリ
ングを行い、膜厚３５０人のａ−Ｃ膜を被着させ、この
ａ−Ｃ膜表面にスピンコード法によりふっ素糸液体潤滑
剤９例えばフォンブリン２（商品名、モンテジソン社製
）を膜厚５０Ａに塗布して表面保護層とし磁気記録媒体
を作製した。
ファイト状カーボンターゲットのみを用いてスパッタリ
ングを行い、膜厚３５０人のａ−Ｃ膜を被着させ、この
ａ−Ｃ膜表面にスピンコード法によりふっ素糸液体潤滑
剤９例えばフォンブリン２（商品名、モンテジソン社製
）を膜厚５０Ａに塗布して表面保護層とし磁気記録媒体
を作製した。
以上に述べた実施例１．２および比較例の磁気記録媒体
について、磁気ヘッドとの１耗試験および環境試験を行
った。
について、磁気ヘッドとの１耗試験および環境試験を行
った。
磁気ヘッドとの１耗試験は、固定磁気ディスク装置にお
いて一般的に行われている、磁気ヘッドの浮上、接触を
繰り返す、いわゆるｃｓｓ ｃコンタクト・スタート・
ストップ）試験を行い、媒体と磁気ヘッドとの摩擦係数
の変化を測定した。その結果を第１表に示す。
いて一般的に行われている、磁気ヘッドの浮上、接触を
繰り返す、いわゆるｃｓｓ ｃコンタクト・スタート・
ストップ）試験を行い、媒体と磁気ヘッドとの摩擦係数
の変化を測定した。その結果を第１表に示す。
第１表
第１表に見られるとおり、実施例１．２においてはＣＳ
３１０００回で摩擦係数に僅かな増加はあるものの、
その後の変化は少なり、１０万回まで安定している。一
方、比較例においては、Ｃ３Ｓ２万回までは実施例１，
２と同様であるが、５万回。
３１０００回で摩擦係数に僅かな増加はあるものの、
その後の変化は少なり、１０万回まで安定している。一
方、比較例においては、Ｃ３Ｓ２万回までは実施例１，
２と同様であるが、５万回。
１０万回とＣ８Ｓ回数が増すにつれて摩擦係数が大幅に
増大して（る。表面保護層にふっ素−カーボン化合物を
利用すると潤滑性が改善され耐暦耗性の向上に極めて有
効であることが明らかである。
増大して（る。表面保護層にふっ素−カーボン化合物を
利用すると潤滑性が改善され耐暦耗性の向上に極めて有
効であることが明らかである。
また、温度８０℃、相対湿度８０％の雰囲気中に２０日
間放萱する環境試験を行ったところ、比較例においては
、信号欠陥が２個／面増加したが、実施例１．２におい
ては信号欠陥の増加は認められず、耐食性も向上してい
ることが判る。
間放萱する環境試験を行ったところ、比較例においては
、信号欠陥が２個／面増加したが、実施例１．２におい
ては信号欠陥の増加は認められず、耐食性も向上してい
ることが判る。
本発明によれば、強磁性金属合金薄膜からなる磁性層の
表面にスパッタリングによりアモルファス状カーボンと
ふっ素−カーボン化合物とからなる表面保護層を形成す
る。かくして、硬度の高いアモルファス状カーボンと潤
滑性、耐食性の優れたふっ素−カーボン化合物それぞれ
の性能が相まって、耐暦粍性、耐食性に優れた表面保護
層を有し、特性変動が少なく信頼性の高い磁気記録媒体
が得られることになる。
表面にスパッタリングによりアモルファス状カーボンと
ふっ素−カーボン化合物とからなる表面保護層を形成す
る。かくして、硬度の高いアモルファス状カーボンと潤
滑性、耐食性の優れたふっ素−カーボン化合物それぞれ
の性能が相まって、耐暦粍性、耐食性に優れた表面保護
層を有し、特性変動が少なく信頼性の高い磁気記録媒体
が得られることになる。
第１図は本発明による磁気記録媒体の一実施例の層構成
、第２図は他の実施例の層構成をそれぞれ示す模式的断
面図である。 １１ 基板、ｌ ２Ｎｉ −Ｐ層、１３ 磁性層、
１４ 表面保護層、１４ａ アモルファス状カーボン
、１４ｂふっ素−カーボン化合物、１４Ｃアモルファス
状カーボン膜、１４ｄ ふっ素−カーボン化合物膜。 第１図 第２図
、第２図は他の実施例の層構成をそれぞれ示す模式的断
面図である。 １１ 基板、ｌ ２Ｎｉ −Ｐ層、１３ 磁性層、
１４ 表面保護層、１４ａ アモルファス状カーボン
、１４ｂふっ素−カーボン化合物、１４Ｃアモルファス
状カーボン膜、１４ｄ ふっ素−カーボン化合物膜。 第１図 第２図
Claims (1)
- １）強磁性金属合金薄膜からなる磁性層の表面にスパッ
タリングにより被着されたアモルファス状カーボンとふ
っ素−カーボン化合物とからなる表面保護層を備えたこ
とを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22560686A JPS6379230A (ja) | 1986-09-24 | 1986-09-24 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22560686A JPS6379230A (ja) | 1986-09-24 | 1986-09-24 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6379230A true JPS6379230A (ja) | 1988-04-09 |
Family
ID=16831958
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22560686A Pending JPS6379230A (ja) | 1986-09-24 | 1986-09-24 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6379230A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63282914A (ja) * | 1987-05-14 | 1988-11-18 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体 |
| US5275850A (en) * | 1988-04-20 | 1994-01-04 | Hitachi, Ltd. | Process for producing a magnetic disk having a metal containing hard carbon coating by plasma chemical vapor deposition under a negative self bias |
| US5374463A (en) * | 1991-10-22 | 1994-12-20 | International Business Machines Corporation | Magnetic recording disk having a contiguous fullerene film and a protective overcoat |
-
1986
- 1986-09-24 JP JP22560686A patent/JPS6379230A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63282914A (ja) * | 1987-05-14 | 1988-11-18 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体 |
| US5275850A (en) * | 1988-04-20 | 1994-01-04 | Hitachi, Ltd. | Process for producing a magnetic disk having a metal containing hard carbon coating by plasma chemical vapor deposition under a negative self bias |
| US5374463A (en) * | 1991-10-22 | 1994-12-20 | International Business Machines Corporation | Magnetic recording disk having a contiguous fullerene film and a protective overcoat |
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