JPS6379948A - 蒸着用マスクの製造法 - Google Patents
蒸着用マスクの製造法Info
- Publication number
- JPS6379948A JPS6379948A JP61224467A JP22446786A JPS6379948A JP S6379948 A JPS6379948 A JP S6379948A JP 61224467 A JP61224467 A JP 61224467A JP 22446786 A JP22446786 A JP 22446786A JP S6379948 A JPS6379948 A JP S6379948A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- deposition mask
- manufacturing
- mask
- metal plate
- Prior art date
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- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高い加工精度を有し、かつ、大面積化が容易で
ある蒸着用マスクの製造法に関するものである。
ある蒸着用マスクの製造法に関するものである。
従来の技術
ここで言う蒸着用マスクとは、基板上の所定の部分のみ
に金属、半導体などから成る蒸着膜を形成する為に用い
る、基板と蒸発源との間に置く平板状のマスクのことで
ある。この蒸着用マスクの製造法として、従来より行わ
れているのは、主にエツチング法である。
に金属、半導体などから成る蒸着膜を形成する為に用い
る、基板と蒸発源との間に置く平板状のマスクのことで
ある。この蒸着用マスクの製造法として、従来より行わ
れているのは、主にエツチング法である。
エツチング法は、金属板上に耐食性皮膜をフォトリソグ
ラフィー的な手法で所定のパターンにて形成し、金属板
を腐食させる化学薬品に接触させることにより、耐食性
皮膜のない部分に穴を開ける方法である。片方の面から
腐食させる方法と両面から腐食させる方法とがある。
ラフィー的な手法で所定のパターンにて形成し、金属板
を腐食させる化学薬品に接触させることにより、耐食性
皮膜のない部分に穴を開ける方法である。片方の面から
腐食させる方法と両面から腐食させる方法とがある。
発明が解決しようとする問題点
基板上に蒸着膜をｌｏＸＩＯμｍ′程度の矩形パターン
で形成したい場合がある。このとき蒸着用マスクとして
は勿論同じ大きさの微細な開口の穴を持ったものが必要
となる。しかしながら、エツチング法では１０μｍのパ
ターンを得るには、基板の厚さを少なくとも１０μｍ以
下にしなければならず、製造工程上および使用する上に
おいて取り扱いが繁雑になる。また、エツチング法では
矩形の開口部の角の部分が直角とならず、その半径が基
板の厚さ程度の円弧状となる。
で形成したい場合がある。このとき蒸着用マスクとして
は勿論同じ大きさの微細な開口の穴を持ったものが必要
となる。しかしながら、エツチング法では１０μｍのパ
ターンを得るには、基板の厚さを少なくとも１０μｍ以
下にしなければならず、製造工程上および使用する上に
おいて取り扱いが繁雑になる。また、エツチング法では
矩形の開口部の角の部分が直角とならず、その半径が基
板の厚さ程度の円弧状となる。
問題点を解決するだめの手段
前記問題点を解決するために本発明の蒸着用マスクの製
造法は、金属板にＹＡＧレーザー光を照射して所定の位
置に六開けすることにより得るものである。
造法は、金属板にＹＡＧレーザー光を照射して所定の位
置に六開けすることにより得るものである。
作用
本発明は前記した構成をなすが、金属板にＹＡＧレーザ
ーを照射することによって、所定のパターンに穴開けす
る。ＹＡＧレーザー光はその波長が１．０６μｍであり
１０μｍ程度に集光させるのは容易であるので、この製
法により開口部の加工精度の高いマスクを得ることがで
きる。さらに、マスクの表面に金属膜を形成することに
より強度と、必要によっては磁性を持たせることも可能
である。
ーを照射することによって、所定のパターンに穴開けす
る。ＹＡＧレーザー光はその波長が１．０６μｍであり
１０μｍ程度に集光させるのは容易であるので、この製
法により開口部の加工精度の高いマスクを得ることがで
きる。さらに、マスクの表面に金属膜を形成することに
より強度と、必要によっては磁性を持たせることも可能
である。
実施例
以下、本発明の代表的な一実施例について、図面を参照
しながら説明する。
しながら説明する。
実施例１
第１図（ａｌは本発明の実施例の蒸着用マスクの構成断
面図、第１図（ｂｌは平面図を示す図である。第１図（
ａｌにおいて１は金属板、２は金属膜であり、第１図（
ａｌおよび第１図（ｂｌにおいて、３は開口部を示す。
面図、第１図（ｂｌは平面図を示す図である。第１図（
ａｌにおいて１は金属板、２は金属膜であり、第１図（
ａｌおよび第１図（ｂｌにおいて、３は開口部を示す。
マスクの製造工程を第２図（ａ）、 （ｂ）に示す。
第２図（ａｌ金属板１にＹＡＧレーザー加工により所望
のパターンの穴を開ける。第２図（ｂｌ金属板１の上に
金属膜３を蒸着形成する。金属板１はニッケル（Ｎｉ）
、アルミニウム（Ａｆｆ）、銅（Ｃｕ）。
のパターンの穴を開ける。第２図（ｂｌ金属板１の上に
金属膜３を蒸着形成する。金属板１はニッケル（Ｎｉ）
、アルミニウム（Ａｆｆ）、銅（Ｃｕ）。
ステンレス、パーマロイ、チタン（Ｔｉ）等、金属膜２
ばニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、アルミニウム（
Ａｆ）等からそれぞれ形成されている。これらの金属は
薄板化が容易である。最小の穴の形状はレーザー出射端
のスリット形状で決るので矩形も可能である。以上のよ
うな製造法により開口部に加工精度の高い蒸着用マスク
を得ることが可能である。
ばニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、アルミニウム（
Ａｆ）等からそれぞれ形成されている。これらの金属は
薄板化が容易である。最小の穴の形状はレーザー出射端
のスリット形状で決るので矩形も可能である。以上のよ
うな製造法により開口部に加工精度の高い蒸着用マスク
を得ることが可能である。
実施例１においては金属膜２を蒸着形成したが、スパッ
タリングや電気メソギなどの手法を用いてもよい。また
、勿論この工程を省略してもマスクとして使用できる。
タリングや電気メソギなどの手法を用いてもよい。また
、勿論この工程を省略してもマスクとして使用できる。
また、金属板１および金属膜２の少なくとも一方が磁性
金属であれば、このマスクを蒸着の際使用するとき、磁
石によって固定することができる。つまり、被蒸着基板
の一方の面にこの蒸着マスクを置き、反対の面に磁石を
置いて基板と蒸着マスクを密着固定することが可能であ
る。
金属であれば、このマスクを蒸着の際使用するとき、磁
石によって固定することができる。つまり、被蒸着基板
の一方の面にこの蒸着マスクを置き、反対の面に磁石を
置いて基板と蒸着マスクを密着固定することが可能であ
る。
発明の効果
以上のように本発明の蒸着用マスクの製造法に従い、金
属板をＹＡＧレーザー加工により穴開けして加工精度の
良い開口部を有する蒸着用マスクを得ることができる。
属板をＹＡＧレーザー加工により穴開けして加工精度の
良い開口部を有する蒸着用マスクを得ることができる。
この製法により、例えば、面積がｌ０ＸＩＯμＭの開口
部を有する蒸着マスクを得ることが可能である。
部を有する蒸着マスクを得ることが可能である。
第１図（ａｌは本発明の一実施例１の蒸着用マスクの構
成断面図、第１図ｆｂｌはその平面図、第２図（ａ）。 （ｂｌは本発明による実施例１の蒸着用マスクの製造工
程図である。 ■・・・・・・金属板、２・・・・・・金属膜、３・・
・・・・開口部。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか１名第２図 レーサニ）＝ （ｂ） 団コ］■１
成断面図、第１図ｆｂｌはその平面図、第２図（ａ）。 （ｂｌは本発明による実施例１の蒸着用マスクの製造工
程図である。 ■・・・・・・金属板、２・・・・・・金属膜、３・・
・・・・開口部。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか１名第２図 レーサニ）＝ （ｂ） 団コ］■１
Claims (3)
- （１）金属板にＹＡＧレーザー光を照射して所定の位置
に穴あけすることにより得られることを特徴とする蒸着
用マスクの製造法。 - （２）蒸着用マスクに金属膜を形成することを特徴とす
る特許請求の範囲第（１）項記載の蒸着用マスクの製造
法。 - （３）金属板がニッケル（Ｎｉ）、アルミニウム（Ａｌ
）、銅（Ｃｕ）、ステンレス、パーマロイ、チタン（Ｔ
ｉ）の何れかであることを特徴とする特許請求の範囲第
（１）項または第（２）項のいずれかに記載の蒸着用マ
スクの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61224467A JPS6379948A (ja) | 1986-09-22 | 1986-09-22 | 蒸着用マスクの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61224467A JPS6379948A (ja) | 1986-09-22 | 1986-09-22 | 蒸着用マスクの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6379948A true JPS6379948A (ja) | 1988-04-09 |
Family
ID=16814247
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61224467A Pending JPS6379948A (ja) | 1986-09-22 | 1986-09-22 | 蒸着用マスクの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6379948A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100625967B1 (ko) * | 2000-10-11 | 2006-09-20 | 삼성에스디아이 주식회사 | 증착마스크와 이의 제조방법 |
| US20150104608A1 (en) * | 2013-10-15 | 2015-04-16 | Samsung Display Co., Ltd. | Metal mask and manufacturing method thereof |
-
1986
- 1986-09-22 JP JP61224467A patent/JPS6379948A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100625967B1 (ko) * | 2000-10-11 | 2006-09-20 | 삼성에스디아이 주식회사 | 증착마스크와 이의 제조방법 |
| US20150104608A1 (en) * | 2013-10-15 | 2015-04-16 | Samsung Display Co., Ltd. | Metal mask and manufacturing method thereof |
| US9676063B2 (en) * | 2013-10-15 | 2017-06-13 | Samsung Display Co., Ltd. | Method of manufacturing a metal mask by laser cutting |
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