JPS6395603A - 抵抗薄膜 - Google Patents
抵抗薄膜Info
- Publication number
- JPS6395603A JPS6395603A JP61242404A JP24240486A JPS6395603A JP S6395603 A JPS6395603 A JP S6395603A JP 61242404 A JP61242404 A JP 61242404A JP 24240486 A JP24240486 A JP 24240486A JP S6395603 A JPS6395603 A JP S6395603A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resistance
- thin film
- resistive thin
- temperature coefficient
- small
- Prior art date
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- Pending
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- Non-Adjustable Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、電子部品として使用される抵抗薄膜に関する
ものである。
ものである。
従来の技術
この種抵抗薄膜として具備すべき好ましい特性としては
、比抵抗が比較的大きいこと、安定性すなわち抵抗値の
経時変化が小さいこと、抵抗温度係数が小さいこと、ま
た抵抗温度係数の経時変化が小さいこと等の種々にわた
る特性が要求される。
、比抵抗が比較的大きいこと、安定性すなわち抵抗値の
経時変化が小さいこと、抵抗温度係数が小さいこと、ま
た抵抗温度係数の経時変化が小さいこと等の種々にわた
る特性が要求される。
従来、抵抗薄膜はスパッタリングや電子ビーム蒸着、抵
抗加熱蒸着等により、基体上に被着することにより作ら
れている。そして、薄膜材料としては、窒化タンタル（
Ｔａｇ）、窒化チタン（Ｔｉｅ）やニッケルークローム
（Ｎｉ−Ｏｒ）合金、ニッケルークローム−アルミニウ
ム（Ｎ ｉ −Ｏｒ−人ｌ）合金、ニッケルークローム
−硅素（Ｎｉ−Ｏｒ−３ｉ）合金等が実用化されている
。
抗加熱蒸着等により、基体上に被着することにより作ら
れている。そして、薄膜材料としては、窒化タンタル（
Ｔａｇ）、窒化チタン（Ｔｉｅ）やニッケルークローム
（Ｎｉ−Ｏｒ）合金、ニッケルークローム−アルミニウ
ム（Ｎ ｉ −Ｏｒ−人ｌ）合金、ニッケルークローム
−硅素（Ｎｉ−Ｏｒ−３ｉ）合金等が実用化されている
。
発明が解決しようとする問題点
しかし、ＴｉＮやＴａＮは微量のＮ２ ガスを導入する
反応性着膜を必要とするため、制御が難かしく、再現性
が得にくい。またＴａはレアメタルであり、産地が偏在
しておシ原料価格が不安定でコストダウンの障害となっ
ている。
反応性着膜を必要とするため、制御が難かしく、再現性
が得にくい。またＴａはレアメタルであり、産地が偏在
しておシ原料価格が不安定でコストダウンの障害となっ
ている。
Ｎ ｉ −Ｏｒは比抵抗が小さい。その酸化皮膜は緻密
で耐熱性、耐薬品性とも優れてはいるが、その抵抗温度
係数は１００〜１ｒｓ ｏ ｐｐｍ／’Ｃと大きい。
で耐熱性、耐薬品性とも優れてはいるが、その抵抗温度
係数は１００〜１ｒｓ ｏ ｐｐｍ／’Ｃと大きい。
さらにＮｉ−０ｒ−８ｉ、Ｎｉ−０ｒ−人ｌは比抵抗が
小さいが、緻密で耐熱性、耐薬品性に富み、抵抗温度係
数も小さい。しかしＡｌもしくはＳｌ量が最適条件から
少しでも外れると抵抗温度係数は大きくなるだめ、人ｌ
もしくはＳｉの微妙な量の加減が必要である。
小さいが、緻密で耐熱性、耐薬品性に富み、抵抗温度係
数も小さい。しかしＡｌもしくはＳｌ量が最適条件から
少しでも外れると抵抗温度係数は大きくなるだめ、人ｌ
もしくはＳｉの微妙な量の加減が必要である。
本発明は、上記のような点に鑑みてなされたものであり
、これらの特性を満足し、かつ安価にして安定的に抵抗
薄膜を提供することを目的とする。
、これらの特性を満足し、かつ安価にして安定的に抵抗
薄膜を提供することを目的とする。
問題点を解決するだめの手段
この問題点を解決するために本発明は、抵抗体の組成を
、Ｍｉ、Ｃｒ、ＡｌおよびＳｉＯとＳｉＯ２の混合物よ
り構成して薄膜を形成するものである。
、Ｍｉ、Ｃｒ、ＡｌおよびＳｉＯとＳｉＯ２の混合物よ
り構成して薄膜を形成するものである。
作用
この構成になる組成を有した抵抗薄膜は、比抵抗が大き
く、抵抗値の経時変化が小さく、また抵抗温度係数は比
較的小さく、抵抗温度係数の経時変化は小さい等の特性
上の優位性をもつ。まだ、資源的にも供給の心配の小さ
い材料を使用している点、着膜が容易な点など、安価に
して安定的に抵抗薄膜をつくることができる。
く、抵抗値の経時変化が小さく、また抵抗温度係数は比
較的小さく、抵抗温度係数の経時変化は小さい等の特性
上の優位性をもつ。まだ、資源的にも供給の心配の小さ
い材料を使用している点、着膜が容易な点など、安価に
して安定的に抵抗薄膜をつくることができる。
実施例
まず、アルミナ基板に電子ビーム法により、１ノハース
にＮ１−Ｃｒ−ＡＪ、２のハースにＳｉｎ、ＳｉＯ２の
混合物を入れ、これを同時に蒸発して着膜した。
にＮ１−Ｃｒ−ＡＪ、２のハースにＳｉｎ、ＳｉＯ２の
混合物を入れ、これを同時に蒸発して着膜した。
この時の各成分の比率は下記の表１に示す通りである。
次いで着膜された基体にＯｒ、Ａｕを着膜しエツチング
により抵抗体部と導体部を作成する。次に抵抗体部両端
の導体部にリード線を接続し、試料とした。この試料の
抵抗温度係数、比抵抗を各１０個の平均値で調べた結果
を下記の表２に示す。また表２には参考として、Ｎ ｉ
−Ｏｒを用い、上記と同一条件で作成した試料の特性
値を併せて示している。
により抵抗体部と導体部を作成する。次に抵抗体部両端
の導体部にリード線を接続し、試料とした。この試料の
抵抗温度係数、比抵抗を各１０個の平均値で調べた結果
を下記の表２に示す。また表２には参考として、Ｎ ｉ
−Ｏｒを用い、上記と同一条件で作成した試料の特性
値を併せて示している。
さらに温度２５℃で、電力１．３Ｗを１．３ ｍ５ｅｃ
印加し、０．７ ｍ５ｅｏ切るということをくりかえす
負荷寿命試験（発熱部＝抵抗体部は空中にあり何物にも
接触していない）を行なったところ、図に示すような結
果を得だ。それぞれ実施例１による特性ａ、参考例（Ｎ
ｉ−Ｏｒ）による特性すを比較したものである。
印加し、０．７ ｍ５ｅｏ切るということをくりかえす
負荷寿命試験（発熱部＝抵抗体部は空中にあり何物にも
接触していない）を行なったところ、図に示すような結
果を得だ。それぞれ実施例１による特性ａ、参考例（Ｎ
ｉ−Ｏｒ）による特性すを比較したものである。
（以下余 白）
以上のように本発明によれば、Ｎｉ、Ｏｒ、Ａｌ。
ＳｉＯ，５ｉ０２ を組成とする抵抗薄膜は、機械的
性能として、■表面は緻密で硬く、■耐熱性、耐薬品性
に富んでいる。また電気的性能として、■比抵抗が大き
く、■抵抗温度係数が比較的小さく、まだ１×１０サイ
クルの負荷寿命試験においても、抵抗値変化率が小さく
、抵抗温度係数変化率が小さいという特徴を有し、本発
明の抵抗薄膜が長期使用状態においても安定であり、寿
命的にも効果のあることがわかる。また生産上の観点か
ら、■組成が多少ズしても抵抗温度係数には大きな差が
生じない、■反応性着膜でなく着膜できるので制御もむ
づかしくない等作りやすい膜ということができる。
性能として、■表面は緻密で硬く、■耐熱性、耐薬品性
に富んでいる。また電気的性能として、■比抵抗が大き
く、■抵抗温度係数が比較的小さく、まだ１×１０サイ
クルの負荷寿命試験においても、抵抗値変化率が小さく
、抵抗温度係数変化率が小さいという特徴を有し、本発
明の抵抗薄膜が長期使用状態においても安定であり、寿
命的にも効果のあることがわかる。また生産上の観点か
ら、■組成が多少ズしても抵抗温度係数には大きな差が
生じない、■反応性着膜でなく着膜できるので制御もむ
づかしくない等作りやすい膜ということができる。
発明の効果
以上のように本発明の抵抗薄膜は、各種の特性において
良好な値を示し、かつ安価にして、安定的に製造するこ
とができ、その産業性は大なるものがある。
良好な値を示し、かつ安価にして、安定的に製造するこ
とができ、その産業性は大なるものがある。
図は本発明品と従来品による負荷寿命試験結果を比較し
て示す特性図である。
て示す特性図である。
Claims (1)
- ニッケル、クローム、アルミニウム、一酸化硅素および
二酸化硅素からなることを特徴とする抵抗薄膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61242404A JPS6395603A (ja) | 1986-10-13 | 1986-10-13 | 抵抗薄膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61242404A JPS6395603A (ja) | 1986-10-13 | 1986-10-13 | 抵抗薄膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6395603A true JPS6395603A (ja) | 1988-04-26 |
Family
ID=17088635
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61242404A Pending JPS6395603A (ja) | 1986-10-13 | 1986-10-13 | 抵抗薄膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6395603A (ja) |
-
1986
- 1986-10-13 JP JP61242404A patent/JPS6395603A/ja active Pending
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