JPS6277436A - 電気抵抗材料およびそれを用いた薄膜素子 - Google Patents

電気抵抗材料およびそれを用いた薄膜素子

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JPS6277436A
JPS6277436A JP60218439A JP21843985A JPS6277436A JP S6277436 A JPS6277436 A JP S6277436A JP 60218439 A JP60218439 A JP 60218439A JP 21843985 A JP21843985 A JP 21843985A JP S6277436 A JPS6277436 A JP S6277436A
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JP
Japan
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thin film
chromium
aluminum alloy
alloy
resistance
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JP60218439A
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JPH0457740B2 (ja
Inventor
Sadao Yoshizaki
吉崎　完生
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SUSUMU IND CO Ltd
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SUSUMU IND CO Ltd
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22C—ALLOYS
    • C22C27/00—Alloys based on rhenium or a refractory metal not mentioned in groups C22C14/00 or C22C16/00
    • C22C27/06—Alloys based on chromium

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  • Metallurgy (AREA)
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  • Electronic Switches (AREA)
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  • Non-Adjustable Resistors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、クロム−アルミニウム合金およびそれを用
いた薄膜素子に関する。
〔従来の技術とその問題点〕
薄膜抵抗器の抵抗薄膜として代表的なニッケルークロム
膜の比抵抗は、セラミック基板上で約２００μΩ・ｃｍ
程度が限度である。従って、この材料を用いて高抵抗値
の素子を形成するには、微細パターン化により抵抗バス
を大きくする必要があるけれども、素子の大きさには規
格等によって制限があり、現実的にはセラミック基板上
にて面積抵抗値はＩＫΩ／口程度が限界となっている。
〔発明の目的〕
しかしながら、今後の素子の小型化、高集積化等を考慮
すると、耐熱性の大きな、かつより高抵抗の材料が要求
されており、この発明はこれに応えんとするものである
。
〔目的達成のための手段〕
この発明のクロム−アルミニウム合金は、クロム中にア
ルミニウムを１０〜５０重量％含有せしめて成ることを
特徴とする。
またこの発明の薄膜素子は、クロム中にアルミニウムを
１０〜５０重量％含有せしめて成るクロム−アルミニウ
ム合金薄膜を基板上に形成して成ることを特徴とする。
〔作用〕
この発明のクロム−アルミニウム合金においては、上記
のような組成域において、従来のニッケルークロム合金
の数倍以上の比抵抗が得られる。
また耐熱性も、従来のニッケルークロム合金と同等以上
となる。
それゆえ、上記のようなりロム−アルミニウム合金を用
いた薄膜素子においては、耐熱性が大きく、しかも小型
化、高集積化に対応することが可能となる。
〔実施例〕
図面は、この発明の一実施例に係るクロム−アルミニウ
ム合金薄膜のアルミニウム含有量に対する比抵抗の変化
を示す特性図であり、比較のために従来のニッケルーク
ロム薄膜のクロム含有量に対する比抵抗の変化を１点鎖
線で示す。この実施例は、真空蒸着により９６％アルミ
ナ基板上にクロム−アルミニウム合金を薄膜として形成
したものであり、その特徴は次のとおりである。
■　図に実線で示すように、クロム中のアルミニウム含
有量が１０〜５０重量％の組成域においては、非常に大
きな比抵抗、例えば図に１点鎖線で示す従来のニッケル
ークロム薄膜の数倍以上の比抵抗を示しており、特にア
ルミニウムの含有量が２０重量％付近では、従来のもの
の約１０倍にも達している。従ってこの合金薄膜によれ
ば、１０にΩ／口程度の面積抵抗値を得ることも可能で
ある。
■　図に破線で示すように、熱処理（５００℃。
８時間）後の比抵抗の変化は少なく、即ち大きな耐熱性
を示しており、これは従来のニッケルークロム薄膜と同
等、あるいはそれ以上である。
■　図示しないけれども、膜厚に対する比抵抗の変化は
極めて小さく、例えば、２５０人〜２０００Ａの膜厚領
域での比抵抗はほぼ一定である。
■　蒸着材料であるクロム及びアルミニウムは、薄膜用
材料としてごく一般的に用いられており、安価に入手す
ることができる。
尚、上記特徴、取り分は上記■、■の特徴は、この発明
に係る合金そのものが示す特徴であり、従って当該合金
は、必ずしも薄膜にすることを要しない。また薄膜にす
る場合でも、薄膜形成手段は上記真空蒸着以外にスパッ
タリング等でもよく、基板も上記アルミナ以外の他のセ
ラミック基板、ガラス基板あるいは半導体基板等でも良
い。
上記のようなりロム−アルミニウム合金の用途は種々考
えられる。例えば、当該合金を薄膜として上述のような
基板上に形成することによって、薄膜抵抗素子、薄膜発
熱素子等の薄膜素子として用いることができる。
より具体例を示せば、当該合金薄膜を例えば抵抗膜とし
て用いることができ、そのようにすれば耐熱性の大きな
高抵抗素子を安価に作ることができ、今後の素子の小型
化、高集積化への対応が可能となる。また、当該合金薄
膜を、例えばサーマルプリンタヘッドの発熱体として用
いることもでき、そのようにすれば抵抗値が高い分だけ
発熱素子を小型化することが可能となり、これによって
例えば高ドツト密度化への対応も容易となる。
〔発明の効果〕
以上のようにこの発明に係るクロム−アルミニウム合金
によれば、耐熱性の大きな、かつより高抵抗の材料が安
価に得られる。
またこの発明に係る薄膜素子によれば、耐熱性が大きく
、かつ小型化、高集積化等に対応することが可能であり
、しかも安価である。
【図面の簡単な説明】
図面は、この発明の一実施例に係るクロム−アルミニウ
ム合金薄膜のアルミニウム含有量に対する比抵抗の変化
および従来のニッケルークロム薄膜のクロム含有量に対
する比抵抗の変化を示す特性図である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）クロム中にアルミニウムを１０〜５０重量％含有
    せしめて成ることを特徴とするクロム−アルミニウム合
    金。
  2. （２）クロム中にアルミニウムを１０〜５０重量％含有
    せしめて成るクロム−アルミニウム合金薄膜を基板上に
    形成して成ることを特徴とする薄膜素子。
JP60218439A 1985-09-30 1985-09-30 電気抵抗材料およびそれを用いた薄膜素子 Granted JPS6277436A (ja)

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JPS6277436A true JPS6277436A (ja) 1987-04-09
JPH0457740B2 JPH0457740B2 (ja) 1992-09-14

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018090856A (ja) * 2016-12-02 2018-06-14 公益財団法人電磁材料研究所 高温で熱安定性に優れた歪センサ用薄膜合金

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5822379A (ja) * 1981-07-30 1983-02-09 Tama Denki Kogyo Kk スパツタリング用タ−ゲツト
JPS6024343A (ja) * 1983-07-20 1985-02-07 Taisei Koki Kk 金属薄膜抵抗体

Patent Citations (2)

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JPS5822379A (ja) * 1981-07-30 1983-02-09 Tama Denki Kogyo Kk スパツタリング用タ−ゲツト
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JP2018090856A (ja) * 2016-12-02 2018-06-14 公益財団法人電磁材料研究所 高温で熱安定性に優れた歪センサ用薄膜合金

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JPH0457740B2 (ja) 1992-09-14

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