JPS6399282A - ポリイミド成形品の接合法 - Google Patents
ポリイミド成形品の接合法Info
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- JPS6399282A JPS6399282A JP61246114A JP24611486A JPS6399282A JP S6399282 A JPS6399282 A JP S6399282A JP 61246114 A JP61246114 A JP 61246114A JP 24611486 A JP24611486 A JP 24611486A JP S6399282 A JPS6399282 A JP S6399282A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C66/00—General aspects of processes or apparatus for joining preformed parts
- B29C66/70—General aspects of processes or apparatus for joining preformed parts characterised by the composition, physical properties or the structure of the material of the parts to be joined; Joining with non-plastics material
- B29C66/71—General aspects of processes or apparatus for joining preformed parts characterised by the composition, physical properties or the structure of the material of the parts to be joined; Joining with non-plastics material characterised by the composition of the plastics material of the parts to be joined
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- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はポリイミド成形品の接合法に関し、さらに詳し
くは、接着力の優れた積層品を与えるポリイミド成形品
の接合法に関する。
くは、接着力の優れた積層品を与えるポリイミド成形品
の接合法に関する。
ポリイミド成形品、特にポリイミドフィルムは電気絶縁
材料として広く用いられている。例えばポリイミドフィ
ルムを銅箔等の金属箔に接着してフレキシブル配線板が
製造されており、接着剤としては特開昭50−3464
0号公報に示されているようにアクリル系接着剤が用い
られてきた。
材料として広く用いられている。例えばポリイミドフィ
ルムを銅箔等の金属箔に接着してフレキシブル配線板が
製造されており、接着剤としては特開昭50−3464
0号公報に示されているようにアクリル系接着剤が用い
られてきた。
しかし、アクリル系接着剤は耐熱性が低く、ポリイミド
フィルム本来の耐熱性を十分生かしていなかった。そこ
でポリイミドフィルムの耐熱性を生かすため、ポリイミ
ド接着剤が開発された(例えば特開昭61−60755
号公報参照)。ところがポリイミド接着剤は閉環時に水
を発生するため、複雑かつ長時間の乾燥が必要であった
り、弾性率が高いために剥離強さが低い等の欠点がある
。接着力を改善するためにサンドブラスト等でポリイミ
ドフィルムの表面を機械的に粗化したり、プラズマ処理
等が試みられている(特開昭59−218789号公t
f¥i)。しかし、機械的粗化では接着力は十分でなく
、プラズマ処理では若干の効果はあるものの高価な装置
が必要であり、また処理効果も短時間で低下するという
欠点がある。一方、特公昭52−36778号公報に示
されているように、ポリイミドフィルムをアルカリで処
理した後、アルカリ金属よりもイオン化傾向の小さい金
属塩で再度処理する方法もあるが、この方法では重金属
を使用することや、また特定のポリイミド接着剤に対し
ては効果はあるものの、他の多くのポリイミド接着剤に
対して効果が不十分である等の欠点がある。
フィルム本来の耐熱性を十分生かしていなかった。そこ
でポリイミドフィルムの耐熱性を生かすため、ポリイミ
ド接着剤が開発された(例えば特開昭61−60755
号公報参照)。ところがポリイミド接着剤は閉環時に水
を発生するため、複雑かつ長時間の乾燥が必要であった
り、弾性率が高いために剥離強さが低い等の欠点がある
。接着力を改善するためにサンドブラスト等でポリイミ
ドフィルムの表面を機械的に粗化したり、プラズマ処理
等が試みられている(特開昭59−218789号公t
f¥i)。しかし、機械的粗化では接着力は十分でなく
、プラズマ処理では若干の効果はあるものの高価な装置
が必要であり、また処理効果も短時間で低下するという
欠点がある。一方、特公昭52−36778号公報に示
されているように、ポリイミドフィルムをアルカリで処
理した後、アルカリ金属よりもイオン化傾向の小さい金
属塩で再度処理する方法もあるが、この方法では重金属
を使用することや、また特定のポリイミド接着剤に対し
ては効果はあるものの、他の多くのポリイミド接着剤に
対して効果が不十分である等の欠点がある。
本発明は上記の如き従来技術の欠点を解消し、十分な接
着力を得ることのできるポリイミド成形品の接合法を提
供せんとするものである。
着力を得ることのできるポリイミド成形品の接合法を提
供せんとするものである。
本発明のポリイミド成形品の接合法は、表面を塩基性化
合物を含む溶液で処理した後、シランカップリング剤で
処理し、ついで熱処理したポリイミド成形品の処理面に
ポリイミドワニスまたはポリアミド酸ワニスを塗布、乾
燥して熱熔融可能な接着剤層を形成し、その上に任意の
被着体を重ねて接着剤の軟化点以上の温度で加圧、加熱
することを特徴とする。
合物を含む溶液で処理した後、シランカップリング剤で
処理し、ついで熱処理したポリイミド成形品の処理面に
ポリイミドワニスまたはポリアミド酸ワニスを塗布、乾
燥して熱熔融可能な接着剤層を形成し、その上に任意の
被着体を重ねて接着剤の軟化点以上の温度で加圧、加熱
することを特徴とする。
本発明方法において用いられるポリイミド成形品はフィ
ルムの他、フレキシブル印刷配線板、積層板等、ポリイ
ミド樹脂が表面に露出しているものであればよい。また
ポリイミドとしては、ポリアミドイミド、ポリエーテル
イミド、ポリエステルイミド等、イミド構造を含むもの
であればよい。
ルムの他、フレキシブル印刷配線板、積層板等、ポリイ
ミド樹脂が表面に露出しているものであればよい。また
ポリイミドとしては、ポリアミドイミド、ポリエーテル
イミド、ポリエステルイミド等、イミド構造を含むもの
であればよい。
本発明方法に用いられる塩基性化合物としては、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等のアル
カリ金属水酸化物、および水酸化テトラメチルアンモニ
ウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラ
ブチルアンモニウム等の四級アンモニウム水酸化物が好
ましく、特に好ましくは水酸化カリウム、水酸化ナトリ
ウムである。
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等のアル
カリ金属水酸化物、および水酸化テトラメチルアンモニ
ウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラ
ブチルアンモニウム等の四級アンモニウム水酸化物が好
ましく、特に好ましくは水酸化カリウム、水酸化ナトリ
ウムである。
上記の塩基性化合物を溶解する溶媒としては水、メタノ
ール、エタノール、プロパツール、イソプロパツール等
のアルコールおよび水とアルコールの混合溶媒が好まし
い。
ール、エタノール、プロパツール、イソプロパツール等
のアルコールおよび水とアルコールの混合溶媒が好まし
い。
塩基性化合物を含む溶液中の塩基性化合物の濃度および
ポリイミド成形品を処理する温度、時間は望みの処理程
度によって決定され、特に限定はされないが、一般的に
は濃度は0.1〜50重量%、温度は室温ないし80℃
、時間は0.1分ないし1時間である。この塩基性化合
物を含む溶液によるポリイミド成形品の表面処理は、例
えばポリイミド成形品を該溶液中に浸漬するか、アプリ
ケータ、ドクターナイフ等を用いて流延塗布する等、公
知の方法を用いればよい。塩基性化合物を含む溶液で処
理した後、シランカップリング剤で処理する前に、塩酸
、硫酸、酢酸等の酸溶液で処理してもよい。
ポリイミド成形品を処理する温度、時間は望みの処理程
度によって決定され、特に限定はされないが、一般的に
は濃度は0.1〜50重量%、温度は室温ないし80℃
、時間は0.1分ないし1時間である。この塩基性化合
物を含む溶液によるポリイミド成形品の表面処理は、例
えばポリイミド成形品を該溶液中に浸漬するか、アプリ
ケータ、ドクターナイフ等を用いて流延塗布する等、公
知の方法を用いればよい。塩基性化合物を含む溶液で処
理した後、シランカップリング剤で処理する前に、塩酸
、硫酸、酢酸等の酸溶液で処理してもよい。
本発明方法に用いられるシランカップリング剤としては
、ビニルトリメトキシシラン等のビニルシラン、T−グ
リシドキシプロビルトリメトキシシラン等のエポキシシ
ラン、T−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の
メルカプトシラン、T−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、N−フェニル−T−アミノプロピルトリメトキシ
シラン、N−β (アミノエチル)T−アミノプロピル
トリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)T−アミ
ノプロピルメチルジメトキシシラン、T−ウレイドプロ
ピルトリエトキシシラン、N−ベンジル−T−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、アミノエチルアミノメチル
フェネチルトリメトキシシラン、p−了ミノフェニルト
リメトキシシラン、トリメトキシシリルプロピルジエチ
レントリアミン、1−トリメトキシシリル−2−(アミ
ノメチル)フェニルエタン等のアミノシランが用いられ
るが、中でもメルカプトシランおよびアミノシランが好
ましく、T−メルカプトプロピル1−リメトキシシラン
、T−アミノプロピルトリエトキシシランが特に好まし
い。
、ビニルトリメトキシシラン等のビニルシラン、T−グ
リシドキシプロビルトリメトキシシラン等のエポキシシ
ラン、T−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の
メルカプトシラン、T−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、N−フェニル−T−アミノプロピルトリメトキシ
シラン、N−β (アミノエチル)T−アミノプロピル
トリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)T−アミ
ノプロピルメチルジメトキシシラン、T−ウレイドプロ
ピルトリエトキシシラン、N−ベンジル−T−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、アミノエチルアミノメチル
フェネチルトリメトキシシラン、p−了ミノフェニルト
リメトキシシラン、トリメトキシシリルプロピルジエチ
レントリアミン、1−トリメトキシシリル−2−(アミ
ノメチル)フェニルエタン等のアミノシランが用いられ
るが、中でもメルカプトシランおよびアミノシランが好
ましく、T−メルカプトプロピル1−リメトキシシラン
、T−アミノプロピルトリエトキシシランが特に好まし
い。
シランカップリング剤による処理は、塩基性化合物を含
有する溶液による処理後行われ、処理方法としては、例
えばポリイミド成形品をシランカツブリング剤溶液中に
浸漬するか、アプリケータ、ドクターナイフ等を用いて
流延塗布する等、公知の方法を用いればよい。
有する溶液による処理後行われ、処理方法としては、例
えばポリイミド成形品をシランカツブリング剤溶液中に
浸漬するか、アプリケータ、ドクターナイフ等を用いて
流延塗布する等、公知の方法を用いればよい。
シランカップリング剤を溶解する溶媒としては、水、ア
ルコール、アセトン、酢酸エチル、トルエン等、シラン
カップリング剤を溶解するものであれば何でもよいが、
水、アルコール、アセトンが中でも好ましい。
ルコール、アセトン、酢酸エチル、トルエン等、シラン
カップリング剤を溶解するものであれば何でもよいが、
水、アルコール、アセトンが中でも好ましい。
シランカップリング剤溶液中のシランカップリング剤の
濃度は、特に限定はされないが、0.01〜30重量%
が好ましく、0.”1〜5重量%が特に好ましい。0.
01重量%未満の濃度ではシランカップリング剤処理に
よる効果が乏しく、また30重四%を超えても効果が弱
くなる。処理する温度、時間は特に制限はないが、一般
的には室温で0.5〜10分浸漬するか、塗布後、室温
で0.5〜10分放置すれば十分である。
濃度は、特に限定はされないが、0.01〜30重量%
が好ましく、0.”1〜5重量%が特に好ましい。0.
01重量%未満の濃度ではシランカップリング剤処理に
よる効果が乏しく、また30重四%を超えても効果が弱
くなる。処理する温度、時間は特に制限はないが、一般
的には室温で0.5〜10分浸漬するか、塗布後、室温
で0.5〜10分放置すれば十分である。
シランカップリング剤による処理後、熱処理を行うが、
熱処理の温度および時間はシランカップリング剤溶液の
溶媒を乾燥できる条件以上が必要であり、一般的には8
0℃以上の温度で1〜60分間行うことが好ましい。特
に好ましくは150〜250℃の温度で5〜20分間行
う。
熱処理の温度および時間はシランカップリング剤溶液の
溶媒を乾燥できる条件以上が必要であり、一般的には8
0℃以上の温度で1〜60分間行うことが好ましい。特
に好ましくは150〜250℃の温度で5〜20分間行
う。
次いで、上記のようにして処理したポリイミド成形品の
処理面にポリイミドワニスまたはポリアミド酸ワニスを
塗布、乾燥して熱溶融可能な接着剤層を形成する。
処理面にポリイミドワニスまたはポリアミド酸ワニスを
塗布、乾燥して熱溶融可能な接着剤層を形成する。
ポリイミドワニスに用いられるポリイミドとしては、ポ
リアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリエーテルイ
ミド等、イミド構造を含むものであればよく、中でも軟
化点が400℃以下のものが好ましい。
リアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリエーテルイ
ミド等、イミド構造を含むものであればよく、中でも軟
化点が400℃以下のものが好ましい。
また、ポリアミド酸ワニスに用いられるポリアミド酸と
しては、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリ
エーテルイミド等、イミド構造を有するポリイミドの前
駆体であればよい。中でも、軟化点が400℃以下のポ
リイミドの前駆体であることが好ましい。
しては、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリ
エーテルイミド等、イミド構造を有するポリイミドの前
駆体であればよい。中でも、軟化点が400℃以下のポ
リイミドの前駆体であることが好ましい。
ポリイミドワニスまたはポリアミド酸ワニスの溶剤とし
ては、N−メチルピロリドン、ジグライム、ポリイミド
またはポリアミド酸を溶かすものであれば特に制限はな
いが、例えばN、N−ジメチルアセトアミド、N、 N
−ジメチルホルムアミド、N、N−ジエチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、メチルスルホ
ラン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルアミド
、ブチロラクトン等の高沸点非プロトン性極性溶媒が好
ましく用いられる。またこれらの溶媒を単独あるいは2
種以上を混合して用いてもよいし、さらにこれらにキシ
レン、トルエン、ベンゼン、フェノール、アセトン、メ
チルエチルケトン、ジアセトンアルコール、セロソルブ
、メチルイソブチルケトン、クレゾール、ジオキサン、
シクロヘキサノン等の溶媒をポリアミド酸が析出しない
範囲で添加して使用してもよい。
ては、N−メチルピロリドン、ジグライム、ポリイミド
またはポリアミド酸を溶かすものであれば特に制限はな
いが、例えばN、N−ジメチルアセトアミド、N、 N
−ジメチルホルムアミド、N、N−ジエチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、メチルスルホ
ラン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルアミド
、ブチロラクトン等の高沸点非プロトン性極性溶媒が好
ましく用いられる。またこれらの溶媒を単独あるいは2
種以上を混合して用いてもよいし、さらにこれらにキシ
レン、トルエン、ベンゼン、フェノール、アセトン、メ
チルエチルケトン、ジアセトンアルコール、セロソルブ
、メチルイソブチルケトン、クレゾール、ジオキサン、
シクロヘキサノン等の溶媒をポリアミド酸が析出しない
範囲で添加して使用してもよい。
また、ワニス中のポリイミドまたはポリアミド酸の濃度
は、特に制限されないが、5〜40重量%、好ましくは
10〜30重量%とすることが接着被膜形成上好ましい
。
は、特に制限されないが、5〜40重量%、好ましくは
10〜30重量%とすることが接着被膜形成上好ましい
。
表面処理したポリイミド成形品にポリイミドワニスまた
はポリアミド酸ワニスを塗布する方法としては、ポリイ
ミドワニスまたはポリアミド酸ワニス中に成形品を浸漬
するか、アプリケータ、ドクターナイフ等を用いて流延
塗布する等、公知の方法を用いればよい。
はポリアミド酸ワニスを塗布する方法としては、ポリイ
ミドワニスまたはポリアミド酸ワニス中に成形品を浸漬
するか、アプリケータ、ドクターナイフ等を用いて流延
塗布する等、公知の方法を用いればよい。
表面処理したポリイミド成形品に塗布したポリイミドワ
ニスまたはポリアミド酸ワニスを乾燥し、接着剤層を形
成せしめる条件は、溶剤の種類、ワニスがポリイミドワ
ニスかポリアミド酸ワニスであるか等によって異なり、
一義的には決められないが、一般的には50℃〜400
℃の温度で0.1〜5時間乾燥させる。すなわち、ワニ
スがすでに閉環したポリイミドのワニスであれば50〜
200℃の温度で0.1〜1時間乾燥させ、溶剤を揮散
させるだけでよい。一方、ワニスがポリアミド酸ワニス
である場合は、乾燥後、接着剤層を形成した時点で閉環
してポリイミド化していることが、接着時の乾燥工程を
省くために好ましく、従って、ポリイミド化させるため
、100〜400℃の温度で0.1〜5時間加熱するこ
とが特に好ましい。
ニスまたはポリアミド酸ワニスを乾燥し、接着剤層を形
成せしめる条件は、溶剤の種類、ワニスがポリイミドワ
ニスかポリアミド酸ワニスであるか等によって異なり、
一義的には決められないが、一般的には50℃〜400
℃の温度で0.1〜5時間乾燥させる。すなわち、ワニ
スがすでに閉環したポリイミドのワニスであれば50〜
200℃の温度で0.1〜1時間乾燥させ、溶剤を揮散
させるだけでよい。一方、ワニスがポリアミド酸ワニス
である場合は、乾燥後、接着剤層を形成した時点で閉環
してポリイミド化していることが、接着時の乾燥工程を
省くために好ましく、従って、ポリイミド化させるため
、100〜400℃の温度で0.1〜5時間加熱するこ
とが特に好ましい。
このようにして接着剤層を形成したポリイミド成形品の
接着剤層側に任意の被着体を重ね、加圧、加熱すること
により、強固な接着力を有する積層品を得ることができ
る。
接着剤層側に任意の被着体を重ね、加圧、加熱すること
により、強固な接着力を有する積層品を得ることができ
る。
被着体としては、ポリイミド成形品、銅箔、アルミ箔等
の金属箔、銅板、鉄板、アルミ板、ステンレス板、42
70イ板等の金属板等、何であってもよい。
の金属箔、銅板、鉄板、アルミ板、ステンレス板、42
70イ板等の金属板等、何であってもよい。
また、加圧、加熱の条件は、接着剤層の物性に応じて異
なるが、一般的には、温度は接着剤の軟化点以上、好ま
しくは接着剤の軟化点以上熱分解開始温度未満であり、
圧力は0.1 kg / cd〜100kg / cd
である。この接着方法は特に限定はされないが、例えば
、接着剤層に任意の被着体を重ね、ロールラミネート、
プレスあるいはオートクレーブ中で加熱、加圧すること
により行うことができる。
なるが、一般的には、温度は接着剤の軟化点以上、好ま
しくは接着剤の軟化点以上熱分解開始温度未満であり、
圧力は0.1 kg / cd〜100kg / cd
である。この接着方法は特に限定はされないが、例えば
、接着剤層に任意の被着体を重ね、ロールラミネート、
プレスあるいはオートクレーブ中で加熱、加圧すること
により行うことができる。
以下に実施例を示して本発明を更に詳細に説明するが、
本発明の範囲はこれら例によって何ら限定されるもので
はない。
本発明の範囲はこれら例によって何ら限定されるもので
はない。
実施例1
カプトン200H(デュポン社製、50ttmポリイミ
ドフィルム)を水酸化カリウム30%水溶液に室温で1
0分間浸漬後、水洗した。つぎにT−アミノプロピルト
リエトキシシラン1%アセトン溶液に室温で30秒間浸
漬した後、200℃で10分間乾燥した。
ドフィルム)を水酸化カリウム30%水溶液に室温で1
0分間浸漬後、水洗した。つぎにT−アミノプロピルト
リエトキシシラン1%アセトン溶液に室温で30秒間浸
漬した後、200℃で10分間乾燥した。
一方、3.3′、4.4′−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸二無水物54.4g、m−1−ルイレンジアミン
12.2g、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェ
ニル〕スルホン43.2 gをN−メチルピロリドン4
80gに溶解し、180℃で6時間加熱した後、N、N
’−ジフェニルメタンビスマレイミド11.3gを溶解
し、ポリイミドワニスを得た。ワニス中のポリイミドの
濃度は20重量%であった。得られたワニスを前述の表
面処理したカプトン上にアプリケータを用いて流延し、
80℃で10分間、次いで200℃で1.5時間乾燥し
て接着剤層を形成した。この上に35μm片面粗化銅箔
を重ねて275℃、50に+r/calで30分間プレ
スして銅張基板を得た。この銅張基板のカプトンとポリ
イミド接着剤間の90’引き剥がし強さは0.83kg
/cmであった。
ボン酸二無水物54.4g、m−1−ルイレンジアミン
12.2g、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェ
ニル〕スルホン43.2 gをN−メチルピロリドン4
80gに溶解し、180℃で6時間加熱した後、N、N
’−ジフェニルメタンビスマレイミド11.3gを溶解
し、ポリイミドワニスを得た。ワニス中のポリイミドの
濃度は20重量%であった。得られたワニスを前述の表
面処理したカプトン上にアプリケータを用いて流延し、
80℃で10分間、次いで200℃で1.5時間乾燥し
て接着剤層を形成した。この上に35μm片面粗化銅箔
を重ねて275℃、50に+r/calで30分間プレ
スして銅張基板を得た。この銅張基板のカプトンとポリ
イミド接着剤間の90’引き剥がし強さは0.83kg
/cmであった。
比較例1
γ−アミノプロピルトリエトキシシランを用いない以外
は実施例1と同様にして銅張基板を得た。
は実施例1と同様にして銅張基板を得た。
この銅張基板のカプトンとポリイミド接着剤間の90°
引き剥がし強さは0.04 kg/ ctxと非常に弱
いものであった。
引き剥がし強さは0.04 kg/ ctxと非常に弱
いものであった。
比較例2
何も処理しないカプトンを用いた他は実施例1と同様に
して銅張基板を得た。この銅張基板のカプトンとポリイ
ミド接着剤間の90°引き剥がし強さは0.05 kg
/ cmと非常に弱いものであった。
して銅張基板を得た。この銅張基板のカプトンとポリイ
ミド接着剤間の90°引き剥がし強さは0.05 kg
/ cmと非常に弱いものであった。
実施例2
カプトン200 Hを水酸化ナトリウム30%水溶液に
室温で30分間浸漬後、水洗した。つぎにT−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン5%アセトン溶液に30
秒間浸漬後、250℃で10分間乾燥した。この表面処
理したカプトン上に実施例1と同様にして接着剤層を形
成し、もう1枚の表面処理したカプトンを重ねて275
℃、50kg / co!で30分間プレスして積層品
を得た。この積層品のカプトンとポリイミド接着剤間の
90゜引き剥がし強さは0.92kg/cmであった。
室温で30分間浸漬後、水洗した。つぎにT−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン5%アセトン溶液に30
秒間浸漬後、250℃で10分間乾燥した。この表面処
理したカプトン上に実施例1と同様にして接着剤層を形
成し、もう1枚の表面処理したカプトンを重ねて275
℃、50kg / co!で30分間プレスして積層品
を得た。この積層品のカプトンとポリイミド接着剤間の
90゜引き剥がし強さは0.92kg/cmであった。
実施例3
当モルのエチレンビストリメリテートニ酸無水物とビス
(4−(m−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホンを
用いてN−メチルピロリドン中で180℃で6時間反応
させてポリイミドワニスを得た。このワニスの濃度は2
0重量%であった。
(4−(m−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホンを
用いてN−メチルピロリドン中で180℃で6時間反応
させてポリイミドワニスを得た。このワニスの濃度は2
0重量%であった。
このワニスを用いて実施例1と同様にして接着剤付カプ
トンを作製し、35μm片面粗化銅箔と重ねて200℃
、30kg/CTAで30分間プレスして銅張基板を作
製した。この銅張基板のカプトンとポリイミド接着剤間
の90°引き剥がし強さは0゜72kg/cmであった
。
トンを作製し、35μm片面粗化銅箔と重ねて200℃
、30kg/CTAで30分間プレスして銅張基板を作
製した。この銅張基板のカプトンとポリイミド接着剤間
の90°引き剥がし強さは0゜72kg/cmであった
。
実施例4
当モルの3.3’、4.4’−ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸二無水物と3,3′−ジアミノジフェニルケト
ンをジグライム中でエタノールを適宜添加しながら15
℃で24時間攪拌してポリアミド酸ワニスを得た。この
ワニスの濃度は15重量%であった。このワニスを実施
例1と同様にして処理したカプトン上にアプリケータを
用いて流延し、100℃で30分間、220℃で60分
間乾燥して接着剤層を形成した。この上に35μm片面
粗化銅箔を重ねて330℃、30kg/crAで30分
間プレスして銅張基板を得た。この銅張基板のカプトン
とポリイミド接着剤間の90°引き剥がし強さは0.6
5 kg/ramであった。
ルボン酸二無水物と3,3′−ジアミノジフェニルケト
ンをジグライム中でエタノールを適宜添加しながら15
℃で24時間攪拌してポリアミド酸ワニスを得た。この
ワニスの濃度は15重量%であった。このワニスを実施
例1と同様にして処理したカプトン上にアプリケータを
用いて流延し、100℃で30分間、220℃で60分
間乾燥して接着剤層を形成した。この上に35μm片面
粗化銅箔を重ねて330℃、30kg/crAで30分
間プレスして銅張基板を得た。この銅張基板のカプトン
とポリイミド接着剤間の90°引き剥がし強さは0.6
5 kg/ramであった。
以上詳細に述べた如く、本発明の接合法によれば強固な
接着力を有するポリイミド成形品の積層品を得ることが
でき、その工業的価値は大である。
接着力を有するポリイミド成形品の積層品を得ることが
でき、その工業的価値は大である。
、′−
Claims (1)
- 1、表面を塩基性化合物を含む溶液で処理した後、シラ
ンカップリング剤で処理し、ついで熱処理したポリイミ
ド成形品の処理面にポリイミドワニスまたはポリアミド
酸ワニスを塗布、乾燥して熱溶融可能な接着剤層を形成
し、その上に任意の被着体を重ねて接着剤の軟化点以上
の温度で加圧、加熱することを特徴とするポリイミド成
形品の接合法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61246114A JPH0781119B2 (ja) | 1986-10-16 | 1986-10-16 | ポリイミド成形品の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61246114A JPH0781119B2 (ja) | 1986-10-16 | 1986-10-16 | ポリイミド成形品の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6399282A true JPS6399282A (ja) | 1988-04-30 |
| JPH0781119B2 JPH0781119B2 (ja) | 1995-08-30 |
Family
ID=17143691
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61246114A Expired - Lifetime JPH0781119B2 (ja) | 1986-10-16 | 1986-10-16 | ポリイミド成形品の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0781119B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995004100A1 (en) * | 1993-08-03 | 1995-02-09 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Thermoplastic polyimide polymer, thermoplastic polyimide film, polyimide laminate, and process for producing the laminate |
| WO2005000562A1 (ja) * | 2003-06-25 | 2005-01-06 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | フレキシブル金属箔ポリイミド積層板の製造方法 |
| WO2008004520A1 (en) * | 2006-07-04 | 2008-01-10 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | Method of modifying surface of polyimide resin layer and process for producing metal-clad laminate |
| JP2010523365A (ja) * | 2007-04-04 | 2010-07-15 | アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー | 多層積層体の製造へのシラン組成物の使用 |
| US8053082B2 (en) | 2004-03-23 | 2011-11-08 | Ube Industries, Ltd. | Adhesion-enhanced polyimide film, process for its production, and laminated body |
| JP2017124587A (ja) * | 2016-01-15 | 2017-07-20 | 東洋紡株式会社 | 積層体、電子デバイス、及びフレキシブル電子デバイスの製造方法 |
| JP2017202570A (ja) * | 2016-05-09 | 2017-11-16 | 東洋紡株式会社 | 積層体および積層体の製造方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4898781A (ja) * | 1972-03-28 | 1973-12-14 | ||
| JPS5454058A (en) * | 1977-10-07 | 1979-04-27 | Hitachi Ltd | Liquid crystal display cell |
| JPS5468654A (en) * | 1977-11-11 | 1979-06-01 | Casio Comput Co Ltd | Production of liquid crystal cell |
| JPS5763254A (en) * | 1980-09-22 | 1982-04-16 | Nasa | Method of laminating heatproof polyimide film |
-
1986
- 1986-10-16 JP JP61246114A patent/JPH0781119B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4898781A (ja) * | 1972-03-28 | 1973-12-14 | ||
| JPS5454058A (en) * | 1977-10-07 | 1979-04-27 | Hitachi Ltd | Liquid crystal display cell |
| JPS5468654A (en) * | 1977-11-11 | 1979-06-01 | Casio Comput Co Ltd | Production of liquid crystal cell |
| JPS5763254A (en) * | 1980-09-22 | 1982-04-16 | Nasa | Method of laminating heatproof polyimide film |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995004100A1 (en) * | 1993-08-03 | 1995-02-09 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Thermoplastic polyimide polymer, thermoplastic polyimide film, polyimide laminate, and process for producing the laminate |
| US5621068A (en) * | 1993-08-03 | 1997-04-15 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Thermoplastic polyimide polymer; thermoplastic polyimide film; polyimide laminate; and method of manufacturing the laminate |
| KR100326655B1 (ko) * | 1993-08-03 | 2002-06-29 | 후루타 다케시 | 카바레이필름또는fpc제작용베이스필름에사용되는폴리이미드적층체및그적층체의제조방법 |
| WO2005000562A1 (ja) * | 2003-06-25 | 2005-01-06 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | フレキシブル金属箔ポリイミド積層板の製造方法 |
| US8053082B2 (en) | 2004-03-23 | 2011-11-08 | Ube Industries, Ltd. | Adhesion-enhanced polyimide film, process for its production, and laminated body |
| WO2008004520A1 (en) * | 2006-07-04 | 2008-01-10 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | Method of modifying surface of polyimide resin layer and process for producing metal-clad laminate |
| JPWO2008004520A1 (ja) * | 2006-07-04 | 2009-12-03 | 新日鐵化学株式会社 | ポリイミド樹脂層の表面改質方法及び金属張積層板の製造方法 |
| JP2010523365A (ja) * | 2007-04-04 | 2010-07-15 | アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー | 多層積層体の製造へのシラン組成物の使用 |
| JP2017124587A (ja) * | 2016-01-15 | 2017-07-20 | 東洋紡株式会社 | 積層体、電子デバイス、及びフレキシブル電子デバイスの製造方法 |
| JP2017202570A (ja) * | 2016-05-09 | 2017-11-16 | 東洋紡株式会社 | 積層体および積層体の製造方法 |
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