JPS641457B2 - - Google Patents
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Description
本発明は、シクロプロパンカルボン酸の新誘導
体及びそれらを含有する抗菌剤に関する。 さらに詳しくは、本発明は、シクロプロパンカ
ルボン酸の３位に幾何学的配置Ｚ及び次の構造Ａ の不飽和側鎖を持つシクロプロパンカルボン酸の
誘導体の製造に有用な中間体化合物に関する。 の側鎖を有するがその配置が本質上Ｅであるシク
ロプロパンカルボン酸誘導体のある種のものが知
られている。例えば、ピレトリン酸誘導体（Ｒ＝
CH3、R1＝Ｈ及びR2＝CH3）があげられる。ま
た、R1＝R2＝Ｈであるいくつかの誘導体も報告
されている。これに関しては、仏国特許第
2185612号並びにJ.Chem.Soc.Perkin Ｉ，p.2470
（1974）及びPest.Sci.７、p.449（1976）を参照さ
れたい。しかしながら、これらの化合物の側鎖の
配置はもつぱらＥである。事実、これらの誘導体
を製造するのに用いた合成方法は、ほとんど例外
なしに配置Ｅを与えることが立証されている
（Agr.Biol.Chem.34、p.1119（1970）を参照）。側
鎖の配置が本質上Ｅであるこれらの化合物につい
ては、有益な性質を立証することができなかつ
た。 ここに、不飽和側鎖が構造Ａであるがその幾何
学的配置がＺであるところのある種の化合物が予
期できないペスチサイド性、特に異例なほどの殺
虫性を示すことが発見された。 しかして、本発明の主題は、次式（） （ここで、Ａは、酸素原子、メチレン基又はカ
ルボニル基を表わし、 Ｒは、１〜８個の炭素原子を含有する飽和又は
不飽和の、直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基を
表わし、 ３位の側鎖の二重結合はＺ配置を有する） に相当する、その全ての可能な立体異性体形態に
ある化合物並びにこれらの立体異性体の混合物の
製造に有用な中間体化合物にある。 このような中間体化合物は次の式を有する。 （上記の式において、Ｒは前記の意味を有し、
二重結合はＺ配置を有する） 式（）は、３個の不整中心、即ちシクロプロ
パンの１及び３位の炭素並びにニトリル官能基を
持つ炭素を包む。したがつて、式（）は、８個
の立体異性体を含む。前記の中間体化合物（）
も、これに準じて各種の異性体を含む。 式（）において、Ｒは、第一、第二又は第三
アルコールから誘導されるアルキル基を表わす。 Ｒが環状アルキル基を表わすときは、これは、
好ましくはシクロプロピル、シクロブチル、シク
ロペンチル又はシクロアルキル基、これらの基の
一つを有する直鎖又は分岐鎖状アルキル基、或い
は１個又はそれ以上のアルキル基で置換され、ま
た基―COO―を持つ結合が任意の点にあるシク
ロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル又は
シクロヘキシル基であり、例えば１―メチルシク
ロブチル、１―メチルシクロペンチル、１―メチ
ルシクロヘキシル又は２，２，３，３―テトラメ
チルシクロプロピル基である。 Ｒが不飽和基を表わすときは、これは、例えば
ビニル、アリル又は１，１―ジメチルアリル基の
ようなエチレン性の基、或いは例えばエチニル又
はプロピニル基のようなアセチレン性の基であ
る。 Ｒが直鎖又は分岐鎖状の飽和アルキル基を表わ
すときは、これは、好ましくは、メチル、エチ
ル、ｎ―プロピル、イソプロピル、ｎ―ブチル、
イソブチル、sec―ブチル、ｔ―ブチル、ｎ―ペ
ンチル、ｔ―ペンチル、ネオペンチル又はｎ―ヘ
キシル基である。 式（）の化合物の中でも、特に下記のものを
あげることができる。 （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
２―（メトキシカルボニル）エテニル〕シクロプ
ロパンカルボン酸 （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（エトキシカルボニル）エテニル〕シクロ
プロパンカルボン酸 （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（イソプロピルオキシカルボニル）エテニ
ル〕シクロプロパンカルボン酸 （1R，cis）２，２―ジメチル―３―［（Ｚ）
―２―（シクロプロピルメトキシカルボニル）エ
テニル〕シクロプロパンカルボン酸 （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（シクロプロピルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸 （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―（２―ｔ―ブトキシカルボニル）エテニル〕シ
クロプロパンカルボン酸 式（）の化合物は、次式（） （ここでHalはハロゲン原子を表わし、alkは
１〜８個の炭素原子を含有するアルキル基を表わ
す）の化合物を、まず、ハロゲン原子を取り除く
ことができるアルカリ性試剤と反応させ、次いで (i) カルボキシル基を導入できる試剤と反応させ
て次式 の化合物を得、これにエステル化剤を作用させ
て次式（） （ここでＲは前記と同じ意味を有する） の化合物を得るか、或いは (ii) 次式（′） （ここでＲは上記の意味を有する） のクロルぎ酸アルキルと反応させて直接に次式
（） の化合物を得、次いで得られた（）の化合物
に水素化剤を注意深く作用させて次式（） （ここで二重結合は配置Ｚを有する） の化合物を得、この化合物にそのシクロプロパ
ンの１位のエステル官能基を選択的に解裂でき
る酸加水分解剤を作用させることにより製造さ
れる。 上記の製造法を実施する好ましい方法におい
て、 Halは臭素又は塩素原子を表わし、 alkはｔ―ブチル、ベンジル又はトリチル基を
表わし、 ビニルハロゲンを取り除くことができるアルカ
リ性試剤はブチルリチウムであり、 カルボキシル基を導入できる試剤が二酸化炭素
であり、 注意深く用いられる水素化剤が微量のキノリン
の存在下、パラジウムのような触媒の存在下での
水素であり、 酸加水分解剤はｐ―トルエンスルホン酸であ
る。 しかして、上記した製造法は、二重結合が幾何
学的配置Ｚを有する化合物を、以下に示す実験の
部において明示するように、優れた収率でもつて
導くことができる。 上記の方法は、化学者には明白な変法として、
化合物（）の還元をエステル化よりも先に行な
う方法を包含する。即ち、次式（） （ここでakは前記の意味を有する） の化合物にまず水素化剤を注意深く作用させて次
式（） （ここで二重結合は配置Ｚを有する） の化合物を得、これにエステル化剤を作用させて
対応する次式（） の化合物が得られる。 本発明の式（）の化合物は次式（） の化合物を反応させることにより、前記したよう
に異例なほどのペスサイド性、特に殺虫性を示す
式（）の化合物を与える。 他方、式（）の化合物、特に（1R，cis）
２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）―２―２（メトキ
シカルボニル）エテニル〕シクロプロパンカルボ
ン酸がこれを菌類の駆除にするのを好適ならしめ
る有益な抗菌性を持つていることがことに発見さ
れた。それらは、特に、作物の寄生虫である菌
類、例えばぶどう、トマト及びキユウリの寄生虫
である各種の菌類の駆除に用いることができる。 以下の実験の部にさらに示すフザリウム属、ペ
ニシリウム属、アスペルジラス属、ゲオトリキユ
ーム属、トリコスポロン属及びセフアロスボリウ
ム属に対する試験によりこれらの酸の抗菌活性が
立証される。 したがつて、本発明の主題は、活性成分として
上述の式（）の化合物の少なくとも１種を活性
成分として含有する抗菌組成物にある。 これらの組成物においては、活性物質には場合
により１種又はそれ以上のその他のペスチサイド
を添加することができる。これらの組成物は、粉
剤、顆粒剤、懸濁液、乳剤、溶液又はこの種の化
合物の使用に通常使用されるその他の調合物の形
で提供できる。 これらの組成物は、活性成分以外に、一般に、
混合物の構成物質の均質な分散を可能ならしめる
ビヒクル及び（又は）非イオン性表面活性剤を含
有する。用いられるビヒクルは、水、アルコー
ル、炭化水素又はその他の有機溶媒、鉱油、動物
油又は植物油のような液体、或いはタルク、クレ
ー、けい酸塩又はけいそう土のような粉末であつ
てよい。 本発明による抗菌組成物は、好ましくは、噴霧
用粉剤については25〜95重量％の活性物質も、葉
散布用粉剤については2.5〜95重量％の活性物質
を、そして土壌散布用の粉剤又は液剤については
10〜30重量％の活性物質を含有する。 また、上記の式（）の化合物は、工業用バイ
オサイドとして使用するのを好適ならしめる殺菌
性を付与されている。 下記の実験の部に示す試験は、これらの酸のバ
イオサイド活性を例示している。これらの試験
は、細菌の混合物で感染させた接着剤について行
なつた。 したがつて、上記の式（）の化合物は、一般
に工業用バイオサイドとして、特に接着剤、工業
出荷製品の保護に、そして切削油の使用中に用い
ることができる。また、それらの製紙工業におけ
る微生物スライムの形成を防止し除去するために
又は皮膚の治療に、なめし液や皮革の処理に用い
ることができる。 したがつて、また、本発明の主題は、活性成分
として、上で記載の式（）の化合物の少なくと
も１種を含有するバイオサイド組成物にある。 これらの組成物においては、活性物質に１種又
はそれ以上のペスチサイドを添加することができ
る。これらの組成物は、上述した抗菌剤組成物と
類似の形態で、即ち粉剤、懸濁液、乳剤又は溶液
の形態で提供でき、そして活性成分以外に固体又
は液体ビヒクル及び表面活性剤を含有できる。 本発明によるバイオサイド組成物は、好ましく
は、20〜95重量％の活性物質を含有する。 例 １： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（メトキシカルボニル）エテニル〕シク
ロプロパンカルボン酸 工程 Ａ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔２―
（メトキシカルボニル）エチニル〕シクロプロ
パンカルボン酸ｔ―ブチル 55ｇの（1R，cis）２，２―ジメチル―３―
（２，２―ジブロムビニル）シクロプロパンカル
ボン酸ｔ―ブチルを550c.c.のテトラヒドロフラン
に導入する。全体を−70℃に冷却し、132c.c.のブ
チルリチウムのシクロヘキサン溶液（20％）を40
分間で加え、全体を−65℃で30分間かきまぜる。
次いで12.5c.c.のクロルぎ酸メチルを加える。−70
℃で２時間反応させた後、温度を−20℃に再び上
昇させ、得られた混合物をりん酸モノナトリウム
水溶液に注加し、全体をエーテルで抽出する。こ
れを洗い、乾燥し、減圧下に乾固させる。38.3ｇ
の生成物を得、これをシリカでクロマトグラフイ
ーする（溶離液はシクロヘキサン／酢酸エチル
（８：２））。17.2ｇの所期生成物を得る。 工程 Ｂ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
２―（メトキシカルボニル）エテニル〕シクロ
プロパンカルボン酸ｔ―ブチル 12ｇの工程Ａで製造した生成物を240c.c.の酢酸
エチル中で2.4ｇの10％水酸化パラジウム担持硫
酸バリウムと2.4c.c.のキノリンの存在下に水素化
する。全体を過し、乾燥する。11ｇの所期生成
物を得る。 工程 Ｃ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
２―（メトキシカルボニル）エテニル〕シクロ
プロパンカルボン酸 13.5ｇの工程Ｂで製造した生成物、100c.c.のト
ルエン及び400mgの水和ｐ―トルエンスルホン酸
を含む溶液を３時間還流させる。これを減圧下に
乾固させ、11.2ｇの生成物を得、これをシリカで
クロマトグラフイーする（溶離液：シクロヘキサ
ン／酢酸エチル／酢酸（60：39：１））。これを減
圧下に乾固させ、9.6ｇの所望生成物を得る。MP
＝110℃。 〔α〕D＝＋75.5゜±2゜（ｃ＝１％、CHCl3）。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.3：シクロプロパンの２位のメチルのプロトン、 1.86―２：シクロプロパンの１位のプロトン、 3.1―3.28―3.43：シクロプロパンの３位のプロト
ン、 5.8―5.99：CO2CH3基のα位のエチレン性プロト
ン、 6.42―6.58・6.61―6.77：CO2CH3基のβ位のエチ
レン位プロトン、 8.63：CO2H基のプロトン、 3.71：メトキシのプロトン。 例 ２： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―エトキシカルボニル）エテニル〕シクロ
プロパンカルボン酸 工程 Ａ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔カルボ
キシエチニル〕シクロプロパンカルボン酸ｔ―
ブチル 26ｇの（1R，cis）２，２―ジメチル―３―
（２，２―ジブロムビニル）シクロプロパンカル
ボン酸ｔ―ブチルを175c.c.の無水テトラヒドロフ
ランに導入する。次いで60c.c.のブチルリチウムの
20％シクロヘキサン溶液を−65℃で加える。全体
を−60℃で１時間かきまぜ、次いで二酸化炭素の
流れを１時間半吹き、次いで反応混合物を1N水
酸化ナトリウムを加えておいた冷水上に注加す
る。全体をエーテルで洗う。アルカリ性水性相を
PH４まで酸性化し、エーテルで抽出する。有機相
を乾燥し、減圧下に乾固させる。得られた生成物
を石油エーテル（BP＝60〜80℃）より再結晶す
る。8.3ｇの所期生成物、MP＝144℃、を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.22及び1.37：シクロプロパンの２位のメチルの
プロトン、 1.78：シクロプロパンの１及び３位のプロトン、 1.47：ｔ―ブチルのプロトン、 8.25：
体及びそれらを含有する抗菌剤に関する。 さらに詳しくは、本発明は、シクロプロパンカ
ルボン酸の３位に幾何学的配置Ｚ及び次の構造Ａ の不飽和側鎖を持つシクロプロパンカルボン酸の
誘導体の製造に有用な中間体化合物に関する。 の側鎖を有するがその配置が本質上Ｅであるシク
ロプロパンカルボン酸誘導体のある種のものが知
られている。例えば、ピレトリン酸誘導体（Ｒ＝
CH3、R1＝Ｈ及びR2＝CH3）があげられる。ま
た、R1＝R2＝Ｈであるいくつかの誘導体も報告
されている。これに関しては、仏国特許第
2185612号並びにJ.Chem.Soc.Perkin Ｉ，p.2470
（1974）及びPest.Sci.７、p.449（1976）を参照さ
れたい。しかしながら、これらの化合物の側鎖の
配置はもつぱらＥである。事実、これらの誘導体
を製造するのに用いた合成方法は、ほとんど例外
なしに配置Ｅを与えることが立証されている
（Agr.Biol.Chem.34、p.1119（1970）を参照）。側
鎖の配置が本質上Ｅであるこれらの化合物につい
ては、有益な性質を立証することができなかつ
た。 ここに、不飽和側鎖が構造Ａであるがその幾何
学的配置がＺであるところのある種の化合物が予
期できないペスチサイド性、特に異例なほどの殺
虫性を示すことが発見された。 しかして、本発明の主題は、次式（） （ここで、Ａは、酸素原子、メチレン基又はカ
ルボニル基を表わし、 Ｒは、１〜８個の炭素原子を含有する飽和又は
不飽和の、直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基を
表わし、 ３位の側鎖の二重結合はＺ配置を有する） に相当する、その全ての可能な立体異性体形態に
ある化合物並びにこれらの立体異性体の混合物の
製造に有用な中間体化合物にある。 このような中間体化合物は次の式を有する。 （上記の式において、Ｒは前記の意味を有し、
二重結合はＺ配置を有する） 式（）は、３個の不整中心、即ちシクロプロ
パンの１及び３位の炭素並びにニトリル官能基を
持つ炭素を包む。したがつて、式（）は、８個
の立体異性体を含む。前記の中間体化合物（）
も、これに準じて各種の異性体を含む。 式（）において、Ｒは、第一、第二又は第三
アルコールから誘導されるアルキル基を表わす。 Ｒが環状アルキル基を表わすときは、これは、
好ましくはシクロプロピル、シクロブチル、シク
ロペンチル又はシクロアルキル基、これらの基の
一つを有する直鎖又は分岐鎖状アルキル基、或い
は１個又はそれ以上のアルキル基で置換され、ま
た基―COO―を持つ結合が任意の点にあるシク
ロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル又は
シクロヘキシル基であり、例えば１―メチルシク
ロブチル、１―メチルシクロペンチル、１―メチ
ルシクロヘキシル又は２，２，３，３―テトラメ
チルシクロプロピル基である。 Ｒが不飽和基を表わすときは、これは、例えば
ビニル、アリル又は１，１―ジメチルアリル基の
ようなエチレン性の基、或いは例えばエチニル又
はプロピニル基のようなアセチレン性の基であ
る。 Ｒが直鎖又は分岐鎖状の飽和アルキル基を表わ
すときは、これは、好ましくは、メチル、エチ
ル、ｎ―プロピル、イソプロピル、ｎ―ブチル、
イソブチル、sec―ブチル、ｔ―ブチル、ｎ―ペ
ンチル、ｔ―ペンチル、ネオペンチル又はｎ―ヘ
キシル基である。 式（）の化合物の中でも、特に下記のものを
あげることができる。 （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
２―（メトキシカルボニル）エテニル〕シクロプ
ロパンカルボン酸 （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（エトキシカルボニル）エテニル〕シクロ
プロパンカルボン酸 （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（イソプロピルオキシカルボニル）エテニ
ル〕シクロプロパンカルボン酸 （1R，cis）２，２―ジメチル―３―［（Ｚ）
―２―（シクロプロピルメトキシカルボニル）エ
テニル〕シクロプロパンカルボン酸 （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（シクロプロピルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸 （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―（２―ｔ―ブトキシカルボニル）エテニル〕シ
クロプロパンカルボン酸 式（）の化合物は、次式（） （ここでHalはハロゲン原子を表わし、alkは
１〜８個の炭素原子を含有するアルキル基を表わ
す）の化合物を、まず、ハロゲン原子を取り除く
ことができるアルカリ性試剤と反応させ、次いで (i) カルボキシル基を導入できる試剤と反応させ
て次式 の化合物を得、これにエステル化剤を作用させ
て次式（） （ここでＲは前記と同じ意味を有する） の化合物を得るか、或いは (ii) 次式（′） （ここでＲは上記の意味を有する） のクロルぎ酸アルキルと反応させて直接に次式
（） の化合物を得、次いで得られた（）の化合物
に水素化剤を注意深く作用させて次式（） （ここで二重結合は配置Ｚを有する） の化合物を得、この化合物にそのシクロプロパ
ンの１位のエステル官能基を選択的に解裂でき
る酸加水分解剤を作用させることにより製造さ
れる。 上記の製造法を実施する好ましい方法におい
て、 Halは臭素又は塩素原子を表わし、 alkはｔ―ブチル、ベンジル又はトリチル基を
表わし、 ビニルハロゲンを取り除くことができるアルカ
リ性試剤はブチルリチウムであり、 カルボキシル基を導入できる試剤が二酸化炭素
であり、 注意深く用いられる水素化剤が微量のキノリン
の存在下、パラジウムのような触媒の存在下での
水素であり、 酸加水分解剤はｐ―トルエンスルホン酸であ
る。 しかして、上記した製造法は、二重結合が幾何
学的配置Ｚを有する化合物を、以下に示す実験の
部において明示するように、優れた収率でもつて
導くことができる。 上記の方法は、化学者には明白な変法として、
化合物（）の還元をエステル化よりも先に行な
う方法を包含する。即ち、次式（） （ここでakは前記の意味を有する） の化合物にまず水素化剤を注意深く作用させて次
式（） （ここで二重結合は配置Ｚを有する） の化合物を得、これにエステル化剤を作用させて
対応する次式（） の化合物が得られる。 本発明の式（）の化合物は次式（） の化合物を反応させることにより、前記したよう
に異例なほどのペスサイド性、特に殺虫性を示す
式（）の化合物を与える。 他方、式（）の化合物、特に（1R，cis）
２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）―２―２（メトキ
シカルボニル）エテニル〕シクロプロパンカルボ
ン酸がこれを菌類の駆除にするのを好適ならしめ
る有益な抗菌性を持つていることがことに発見さ
れた。それらは、特に、作物の寄生虫である菌
類、例えばぶどう、トマト及びキユウリの寄生虫
である各種の菌類の駆除に用いることができる。 以下の実験の部にさらに示すフザリウム属、ペ
ニシリウム属、アスペルジラス属、ゲオトリキユ
ーム属、トリコスポロン属及びセフアロスボリウ
ム属に対する試験によりこれらの酸の抗菌活性が
立証される。 したがつて、本発明の主題は、活性成分として
上述の式（）の化合物の少なくとも１種を活性
成分として含有する抗菌組成物にある。 これらの組成物においては、活性物質には場合
により１種又はそれ以上のその他のペスチサイド
を添加することができる。これらの組成物は、粉
剤、顆粒剤、懸濁液、乳剤、溶液又はこの種の化
合物の使用に通常使用されるその他の調合物の形
で提供できる。 これらの組成物は、活性成分以外に、一般に、
混合物の構成物質の均質な分散を可能ならしめる
ビヒクル及び（又は）非イオン性表面活性剤を含
有する。用いられるビヒクルは、水、アルコー
ル、炭化水素又はその他の有機溶媒、鉱油、動物
油又は植物油のような液体、或いはタルク、クレ
ー、けい酸塩又はけいそう土のような粉末であつ
てよい。 本発明による抗菌組成物は、好ましくは、噴霧
用粉剤については25〜95重量％の活性物質も、葉
散布用粉剤については2.5〜95重量％の活性物質
を、そして土壌散布用の粉剤又は液剤については
10〜30重量％の活性物質を含有する。 また、上記の式（）の化合物は、工業用バイ
オサイドとして使用するのを好適ならしめる殺菌
性を付与されている。 下記の実験の部に示す試験は、これらの酸のバ
イオサイド活性を例示している。これらの試験
は、細菌の混合物で感染させた接着剤について行
なつた。 したがつて、上記の式（）の化合物は、一般
に工業用バイオサイドとして、特に接着剤、工業
出荷製品の保護に、そして切削油の使用中に用い
ることができる。また、それらの製紙工業におけ
る微生物スライムの形成を防止し除去するために
又は皮膚の治療に、なめし液や皮革の処理に用い
ることができる。 したがつて、また、本発明の主題は、活性成分
として、上で記載の式（）の化合物の少なくと
も１種を含有するバイオサイド組成物にある。 これらの組成物においては、活性物質に１種又
はそれ以上のペスチサイドを添加することができ
る。これらの組成物は、上述した抗菌剤組成物と
類似の形態で、即ち粉剤、懸濁液、乳剤又は溶液
の形態で提供でき、そして活性成分以外に固体又
は液体ビヒクル及び表面活性剤を含有できる。 本発明によるバイオサイド組成物は、好ましく
は、20〜95重量％の活性物質を含有する。 例 １： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（メトキシカルボニル）エテニル〕シク
ロプロパンカルボン酸 工程 Ａ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔２―
（メトキシカルボニル）エチニル〕シクロプロ
パンカルボン酸ｔ―ブチル 55ｇの（1R，cis）２，２―ジメチル―３―
（２，２―ジブロムビニル）シクロプロパンカル
ボン酸ｔ―ブチルを550c.c.のテトラヒドロフラン
に導入する。全体を−70℃に冷却し、132c.c.のブ
チルリチウムのシクロヘキサン溶液（20％）を40
分間で加え、全体を−65℃で30分間かきまぜる。
次いで12.5c.c.のクロルぎ酸メチルを加える。−70
℃で２時間反応させた後、温度を−20℃に再び上
昇させ、得られた混合物をりん酸モノナトリウム
水溶液に注加し、全体をエーテルで抽出する。こ
れを洗い、乾燥し、減圧下に乾固させる。38.3ｇ
の生成物を得、これをシリカでクロマトグラフイ
ーする（溶離液はシクロヘキサン／酢酸エチル
（８：２））。17.2ｇの所期生成物を得る。 工程 Ｂ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
２―（メトキシカルボニル）エテニル〕シクロ
プロパンカルボン酸ｔ―ブチル 12ｇの工程Ａで製造した生成物を240c.c.の酢酸
エチル中で2.4ｇの10％水酸化パラジウム担持硫
酸バリウムと2.4c.c.のキノリンの存在下に水素化
する。全体を過し、乾燥する。11ｇの所期生成
物を得る。 工程 Ｃ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
２―（メトキシカルボニル）エテニル〕シクロ
プロパンカルボン酸 13.5ｇの工程Ｂで製造した生成物、100c.c.のト
ルエン及び400mgの水和ｐ―トルエンスルホン酸
を含む溶液を３時間還流させる。これを減圧下に
乾固させ、11.2ｇの生成物を得、これをシリカで
クロマトグラフイーする（溶離液：シクロヘキサ
ン／酢酸エチル／酢酸（60：39：１））。これを減
圧下に乾固させ、9.6ｇの所望生成物を得る。MP
＝110℃。 〔α〕D＝＋75.5゜±2゜（ｃ＝１％、CHCl3）。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.3：シクロプロパンの２位のメチルのプロトン、 1.86―２：シクロプロパンの１位のプロトン、 3.1―3.28―3.43：シクロプロパンの３位のプロト
ン、 5.8―5.99：CO2CH3基のα位のエチレン性プロト
ン、 6.42―6.58・6.61―6.77：CO2CH3基のβ位のエチ
レン位プロトン、 8.63：CO2H基のプロトン、 3.71：メトキシのプロトン。 例 ２： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―エトキシカルボニル）エテニル〕シクロ
プロパンカルボン酸 工程 Ａ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔カルボ
キシエチニル〕シクロプロパンカルボン酸ｔ―
ブチル 26ｇの（1R，cis）２，２―ジメチル―３―
（２，２―ジブロムビニル）シクロプロパンカル
ボン酸ｔ―ブチルを175c.c.の無水テトラヒドロフ
ランに導入する。次いで60c.c.のブチルリチウムの
20％シクロヘキサン溶液を−65℃で加える。全体
を−60℃で１時間かきまぜ、次いで二酸化炭素の
流れを１時間半吹き、次いで反応混合物を1N水
酸化ナトリウムを加えておいた冷水上に注加す
る。全体をエーテルで洗う。アルカリ性水性相を
PH４まで酸性化し、エーテルで抽出する。有機相
を乾燥し、減圧下に乾固させる。得られた生成物
を石油エーテル（BP＝60〜80℃）より再結晶す
る。8.3ｇの所期生成物、MP＝144℃、を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.22及び1.37：シクロプロパンの２位のメチルの
プロトン、 1.78：シクロプロパンの１及び３位のプロトン、 1.47：ｔ―ブチルのプロトン、 8.25：
【式】のプロトン。
工程 Ｂ：
（1R，cis）２，２―ジメチル―３―（エトキ
シカルボニルエチニル）シクロプロパンカルボ
ン酸ｔ―ブチル ４ｇの工程Ａで製造した生成物、3.4ｇのジシ
クロヘキシルカルボジイミド及び６mgの４―ジメ
チルアミノピリジンを30c.c.の塩化メチレンに導入
する。次いで1.5c.c.のエタノールを加え、全体を
20℃で16時間かきまぜる。これを過し、液を
減圧下に濃縮する。5.5ｇの生成物を得、これを
シリカでクロマトグラフイーして精製する（溶離
液：シクロヘキサン／酢酸エチル（９：１））。
4.25ｇの所期生成物を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.18―1.21・1.36―1.47：シクロプロパンの２位
のプロトン、 1.73及び1.82：シクロプロパンの１及び３位のプ
ロトン、 1.47：ｔ―ブチルのプロトン、 1.27―1.38―1.5・4.0―4.13―4.25―4.36：エチル
のプロトン。 工程 Ｃ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―エトキシカルボニル）エテニル〕シクロ
プロパンカルボン酸ｔ―ブチル 4.3ｇの上記工程で製造した生成物を100c.c.の酢
酸エチル中で800mgのPd（OH）2・BaSO4触媒及び
0.8c.c.のキノリンの存在下に水素化を行なう。全
体を過し、液を2N塩酸により７以下のPHと
し、水洗する。これを乾燥し、減圧下に乾固す
る。4.6ｇの生成物を得、これをシリカでクロマ
トグラフイーする（溶離液：シクロヘキサン／酢
酸エテル（95：５））。25ｇの所期生成物を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.25及び1.28：シクロプロパンの２位のメチルの
プロトン、 1.78―1.93：シクロプロパンの１位のプロトン、 2.98―3.1―3.2：シクロプロパンの３位のプロト
ン、 6.4―6.6―6.8：シクロプロパンのα位のエチレン
性炭素のプロトン、 5.7―5.9：エトキシカルボニル基を有するエチレ
ン性炭素のプロトン、 4.0―4.13―4.25―4.36：エトキシのメチレンのプ
ロトン。 工程 Ｄ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（エトキシカルボニル）エテニル〕シク
ロプロパンカルボン酸 2.3ｇの工程Ｃで製造した生成物と20mgの水和
ｐ―トルエンスルホン酸を20c.c.のトルエンに導入
する。全体を40分間還流させ、減圧下に乾固さ
せ、これにより得られた2.1ｇの残留物をシリカ
でクロマトグラフイーする（溶離液：シクロヘキ
サン／酢酸エチル／酢酸（60：39：１））。1.7ｇ
の生成物を単離し、これをシクロヘキサンより再
結晶する。1.5ｇの所期生成物、MP＝96℃、を得
る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.3及び1.32：シクロプロパンの２位のメチルの
プロトン、 1.86―2.02：シクロプロパンの１位の炭素のプロ
トン、 3.15―3.28・3.3―3.45：シクロプロパンの３位の
炭素のプロトン、 6.38―6.53・6.55―6.73：シクロプロパン上の分
岐エチレン性炭素のプロトン、 5.78―5.96：エトキシカルボニル基を持つエチレ
ン性炭素のプロトン、 1.18―1.3―1.41：エトキシカルボニル基のメチル
のプロトン、 4.0―4.13・4.25―4.36：エトキシカルボニル基の
メチレンのプロトン。 例 ３： （1R，cs）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）―
２―（ｎ―プロポキシカルボニル）エテニル〕
シクロプロパンカルボン酸 工程 Ａ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔ｎ―プ
ロポキシカルボニルエテニル〕シクロプロパン
カルボン酸ｔ―ブチル 22.8ｇの（1R，cis）２，２―ジメチル―３―
（2.2―ジブロムビニル）シクロプロパンカルボン
酸ｔ―ブチル、250c.c.のテトラヒドロフラン、次
いで−60℃で55c.c.のブチルリチウムの20％シクロ
ヘキサン溶液を導入する。全体を−65℃に１時間
保ち、８c.c.のクロルぎ酸ｎ―プロピルを−65℃で
15分間で導入する。−65℃で１時間かきまぜ続け、
全体を１時間で周囲温度に上昇させ、周囲温度で
１時間再びかきまぜる。これをりん酸モノナトリ
ウム飽和水溶液上に注加し、かきまぜ、エーテル
で抽出し、水洗する。これを乾燥し、減圧下に乾
固する。19.5ｇの油状物を得、これをシリカでク
ロマトグラフイーすることによつて精製する（溶
離液：シクロヘキサン／酢酸エチル（９：１））。
11.5ｇの所期生成物を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.17及び1.37：シクロプロパンの２位のメチルの
プロトン、 1.72：シクロプロパンの１及び３位のプロトン、 1.44：ｔ―ブチルのプロトン、 4.0―4.12―4.23：プロポキシカルボニルの１位の
メチレンのプロトン、 0.83―0.95―1.06：プロポキシカルボニルのメチ
ルのプロトン。 工程 Ｂ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（ｎ―プロポキシカルボニル）エテニ
ル〕シクロプロパンカルボン酸ｔ―ブチル ７ｇの（1R，cis）２，２―ジメチル―３―
（ｎ―プロポキシカルボニルエチニル）シクロプ
ロパンカルボン酸ｔ―ブチルを140c.c.の酢酸エチ
ルで1.4ｇの10％水酸化パラジウム担持硫酸バウ
ムと1.4c.c.のキノリンの存在下で水素化する。
液を2N塩酸溶液を用いて洗い、次いで水洗し、
乾燥し、減圧下に乾固する。7.2ｇの生成物を得、
これをシリカでクロマトグラフイーする（溶離
液：シクロヘキサン／酢酸エチル（95：５））。
6.1ｇの所期生成物を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.25及び1.29：シクロプロパンの２位のメチルの
プロトン、 1.5―2.03：シクロプロパンの１位の炭素のプロ
トン、 3.03―3.35：シクロプロパンの３位の炭素のプロ
トン、 6.5―6.666.69―6.85：シクロプロパンに結合した
エチレン性炭素のプロトン、 5.82―6.0：プロポキシカルボニル基を持つエチ
レン性炭素のプロトン、 4.02―4.12―4.23：プロポキシカルボニル基の１
位のメチレンのプロトン、 0.86―0.98―1.1：プロポキシカルボニル基のメチ
ルのプロトン。 工程 Ｃ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（ｎ―プロポキシカルボニル）エテニ
ル〕シクロプロパンカルボン酸 5.8ｇの工程Ｂで製造した生成物、200mgの水和
ｐ―トルエンスルホン酸及び60c.c.のトルエンの混
合物を１時間還流させる。これを減圧下に乾固さ
せ、５ｇの生成物を得、これをシリカでクロマト
グラフイーする（溶離液：シクロヘキサン／酢酸
エチル／酢酸（70：29：１））。4.2ｇの所期生成
物を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.27及び1.29：シクロプロパンの２位のメチルの
Ｈ、 1.86〜２：シクロプロパンの１位のＨ、 3.13〜3.45：シクロプロパンの３位のＨ、 5.8―６：CO2CH2CH2CH3基を持つエチレン性炭
素のＨ、 6.4―6.56―6.59：シクロプロパンに結合したエチ
レン性炭素のＨ、 3.98―4.08―4.18：プロポキシカルボニル基の１
位のメチレンのＨ、 0.83―0.95―1.06：プロポキシカルボニル基のメ
チルのＨ。 例 ４： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（イソプロピルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸 工程 Ａ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―カルボキシエテニル〕シクロプロパンカ
ルボン酸ｔ―ブチル ２ｇの（1R，cis）２，２―ジメチル―３―
〔２―カルボキシエチニル〕シクロプロパンカル
ボン酸ｔ―ブチルを40c.c.の酢酸エチル中で0.38ｇ
と10％水酸化パラジウム担持硫酸バリウムと0.4
c.c.のキノリンの存在下に水素化する。全体を過
し、液を0.5N塩酸で洗い、次いで中性となる
まで水洗し、乾燥し、減圧下に濃縮乾固し、２ｇ
の所期生成物、MP＝94℃、を得る。 工程 Ｂ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（イソプロピルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸ｔ―ブチル 2.7ｇの（1R，cis）２，２―ジメチル―３―
〔（Ｚ）―２―（カルボキシ）エテニル〕シクロプ
ロパンカルボン酸ｔ―ブチルを10c.c.の酢酸エチル
に混合し、次いで２ｇのＯ―イソプロピル―Ｎ，
N′―ジイソプロピルイソ尿素を加え、全体を周
囲温度で１時間かきまぜる。これを１時間30分還
流させ、20℃に戻し、不溶性物を過し、液を
減圧下に乾固する。3.5ｇの油状物を得、これを
シリカでクロマトグラフイーする（溶離液：ベン
ゼン／シクロヘキサン（７：３））。１ｇの所期生
成物を得、これは次の工程にそのまま用いる。 工程 Ｃ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（イソプロピルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸 1.4ｇの（1R，cis）２，２―ジメチル―３―
〔（Ｚ）―２―（イソプロピルオキシカルボニル）
エテニル〕シクロプロパンカルボン酸ｔ―ブチ
ル、100mgのｐ―トルエンスルホン酸及び14c.c.の
トルエンを含む混合物を２時間30分かきまぜなが
ら120℃とする。これを減圧下に乾固させる。得
られた残留物をイソプロピルエーテルより再結晶
する。これを冷却し、分離し、乾燥し、900mgの
所期生成物、MP＝98℃、を得る。 例 ５： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（ｎ―ブトキシカルボニル）エテニル〕
シクロプロパンカルボン酸 工程 Ａ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―（ｎ―ブ
トキシカルボニルエチニル）シクロプロパンカ
ルボン酸ｔ―ブチル ４ｇの（1R，cis）２，２―ジメチル―３―
（２―カルボキシエチニル）シクロプロパンカル
ボン酸ｔ―ブチル、40c.c.の塩化メチレン及び６mg
の４―ジメチルアミノピリジンを混合し、次いで
3.4ｇのジシクロヘキシルカルボジイミドを加え
る。不活性雰囲気下に30分間かきまぜながら、４
c.c.のｎ―ブタノール／塩化メチレン混合物（１：
１）を５分間で加え、周囲温度で３時間かきまぜ
続ける。生じたジシクロヘキシル尿素を別し、
液を減圧下に濃縮乾固し、その残留物をシリカ
でクロマトグラフイーし、シクロヘキサン／酢酸
エチル混合物（９：１）で溶離する。4.7ｇの所
期生成物を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.22及び1.4：シクロプロパンの２位のメチルの
プロトン、 1.75：シクロプロパンの１及び３位のプロトン、 4.15（ｔ）：ブトキシルの１位のプロトン、 1.48：ｔ―ブチルのプロトン。 工程 Ｂ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（ｎ―ブトキシカルボニル）エテニル〕
シクロプロパンカルボン酸ｔ―ブチル 800mgの水酸化パラジウム担持硫酸バリウムを
20c.c.の酢酸エチル中で15分間水素下にかきまぜ、
次いで4.7ｇの上で得た生成物を50c.c.の酢酸エチ
ルと0.8c.c.のキノリンに溶解したものを加え、全
体を30分間水素下で放置する。触媒を別し、
液を1N塩酸で洗い、次いで水洗し、乾燥し、減
圧下に濃縮乾固し、その残留物をシリカでクロマ
トグラフイーし、シクロヘキサン／酢酸エチル混
合物（95：５）で溶離する。3.4ｇの所期生成物
を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.25及び1.28：シクロプロパンの２位のメチルの
プロトン、 1.76及び1.90：シクロプロパンの１位のプロト
ン、 2.96〜3.5：シクロプロパンの３位のプロトン、 6.45―6.6及び6.6及び6.8：アリル鎖の１位のプロ
トン、 5.75及び5.95：アリル鎖の２位のプロトン、 4.12（ｔ）：ｔ―ブトキシルの１位のプロトン、 1.45：ｔ―ブチルのプロトン。 工程 Ｃ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（ｎ―ブトキシカルボニル）エテニル〕
シクロプロパンカルボン酸 3.3ｇの上で得た生成物を40c.c.のトルエン中で
350mgのｐ―トルエンスルホン酸とかきまぜる。
全体をイソブチレンガスの放出が止むまで（約40
分間）加熱還流する。これを減圧下に濃縮乾固
し、その残留物をシリカでクロマトグラフイー
し、シクロヘキサン／酢酸エチル／酢酸混合物
（75：25：１）で溶離する。２ｇの所期生成物を
得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.26及び1.3：シクロプロパンの２位のメチルの
プロトン 1.85―1.99：シクロプロパンの１位のプロトン、 3.13〜3.47：シクロプロパンの３位のプロトン、 6.4―6.57・6.59―6.75：アリル鎖の１位のプロト
ン、 5.8―5.99：アリル鎖の２位のプロトン。 例 ６： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（ペンチルオキシカルボニル）エテニ
ル〕シクロプロパンカルボン酸 工程 Ａ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―（ペンチ
ルオキシカルボニルエチニル）シクロプロパン
カルボン酸ｔ―ブチル 例５の工程Ａに記載のようにして、３ｇの
（1R，cis）２，２―ジメチル―３―（２―カル
ボキシエチニル）シクロプロパンカルボン酸ｔ―
ブチルと２c.c.のｎ―アミルアルコールより出発し
て実施する。その残留物をシリカでクロマトグラ
フイーし、ヘキサン／イソプロピルエーテル混合
物（８：２）で溶離した後、27ｇの所期生成物を
得る。 工程 Ｂ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―（ペント
キシカルボニルエチニル）シクロプロパンカル
ボン酸 5.24ｇの上で得た生成物、50c.c.のトルエン及び
250mgのｐ―トルエンスルホン酸を混合する。全
体をガスの放出が止むまで還流し、次いで減圧下
に濃縮乾固する。4.8ｇの生成物を得、そのまま
次の合成に用いる。 工程 Ｃ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（ペンチルオキシカルボニル）エテニ
ル〕シクロプロパンカルボン酸 4.8ｇの上で得た生成物を50c.c.の酢酸エチル及
び１c.c.のキノリン中で、10％の水酸化パラジウム
を担持した１ｇの硫酸バリウムを50c.c.の酢酸エチ
ルに懸濁させたものの存在下に水素化する。次い
で触媒を除去し、液を1N塩酸で洗い、次いで
水洗し、乾燥し、減圧下に濃縮乾固し、その残留
物をシリカでクロマトグラフイーし、シクロヘキ
サン／酢酸エチル／酢酸（70：30：１）で溶離す
る。３ｇの所期生成物を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.3及び1.32：シクロプロパンの２位のメチルの
プロトン、 1.85―1.99：シクロプロパンの１位のプロトン、 3.15―3.45：シクロプロパンの３位のプロトン、 6.4―6.75：アリル鎖の１位のプロトン、 5.78―5.96：アリル鎖の２位のプロトン。 例 ７： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（（RS）１―メチルプロピルオキシカル
ボニル）エテニル〕シクロプロパンカルボン酸 工程 Ａ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（RS）
１―メチルプロピルオキシカルボニルエチニ
ル〕シクロプロパンカルボン酸ｔ―ブチル 例５の工程Ａに示すようにするが、ただし、こ
の場合は２c.c.の１―メチルプロピルアルコールを
用いて実施する。その残留物をシリカでクロマト
グラフイーし、ｎ―ヘキサン／イソプロピルエー
テル混合物（８：２）で溶離し、3.5ｇの所期生
成物を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.2―1.4：シクロプロパンの２位のメチルのプロ
トン、 1.73：シクロプロパンの１及び３位のプロトン、 4.92：プロピルの１位のプロトン。 工程 Ｂ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（（RS）１―メチルプロピルオキシカル
ボニル）エテニル〕シクロプロパンカルボン酸
ｔ―ブチル ３ｇの上で得た生成物を例６（工程Ｂ）に示し
たように水素化する。生成物をシリカでクロマト
グラフイーし、ｎ―ヘキサン／イソプロピルエー
テル混合物（９：１）で溶離し、2.5ｇの所期生
成物を得る。 工程 Ｃ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（（RS）―１―メチルプロピルオキシカ
ルボニル）エテニル〕シクロプロパンカルボン
酸 例６の工程Ｃにおけるようにして、３ｇの上で
得た生成物より出発して実施する。その残留物を
シリカでクロマトグラフイーし、シクロヘキサ
ン／酢酸エチル／酢酸混合物（70：30：１）で溶
離し、1.85ｇの所期生成物を得る。 IRスペクトル（CHCl3） −OH：酸 3510cm-1 −Ｃ＝Ｏ：酸 1735cm-1 エステル 1710cm-1−1700cm-1 Ｃ＝Ｃ：共役 1637cm-1 gem―ジ―Me 1381cm-1 例 ８： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（シクロヘキシルオキシカルボニル）エ
テニル〕シクロプロパンカルボン酸 工程 Ａ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―（シクロ
ヘキシルオキシカルボニルエチニル）シクロプ
ロパンカルボン酸ｔ―ブチル ２c.c.のシクロヘキサノールを用いて例５に示す
ように実施する。3.67ｇの所期生成物を得る。 IRスペクトル（CHCl3） Ｃ＝Ｃ：共役 2225cm-1 Ｃ＝Ｏ：エステル＋共役 1729cm-1−1700cm-1 gem―ジ―Me 1392cm-1−1380cm-1 ｔ―ブチル 1370cm-1 工程 Ｂ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（シクロヘキシルオキシカルボニル）エ
テニル〕シクロプロパンカルボン酸ｔ―ブチル 3.67ｇの上で得た生成物より出発して例６にお
けるように実施し、3.4ｇの粗生成物を得、その
まま次の工程に用いる。 IRスペクトル（CHCl3） Ｃ＝Ｏ： 1715cm-1 Ｃ＝Ｃ： 1634cm-1 工程 Ｃ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（シクロヘキシルオキシカルボニル）エ
テニル〕シクロプロパンカルボン酸 例５に示すようにして、3404ｇの上で得た生成
物より出発し、そしてクロマトグラフイー用のシ
クロヘキサン／酢酸エチル／酢酸系（70：30：
１）を用いて実施する。25ｇの所期生成物を得
る。 IRスペクトル（CHCl3） −OH：酸 3510cm-1 −Ｃ＝Ｏ：酸 1735cm-1 エステル 1707cm-1 gem―ジ―Me 1380cm-1 −Ｃ＝Ｃ− 1638cm-1 例 ９： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（シクロブチルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸 工程 Ａ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（シクロブチルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸ｔ―ブチル ４ｇの（1R，cis）２，２―ジメチル―３―
〔（Ｚ）―２―カルボキシエテニル〕シクロプロパ
ンカルボン酸ｔ―ブチルを20c.c.の塩化メチレンに
溶解し、次いで1.7c.c.のシクロブタノールを加え
る。温度を０〜＋５℃に保ち、3.45ｇのジシクロ
ヘキシルカルボジイミドと28mgのジメチルアミノ
ピリジンを20c.c.の塩化メチレンに溶解したものを
加え、かきまぜを約５℃で２時間、周囲温度で２
時間続ける。生じたジシクロヘキシル尿素を除去
し、液を濃縮乾固し、シリカでクロマトグラフ
イーし、ｎ―ヘキサン／イソプロピルエーテル混
合物（９：１）で溶離し、2.3ｇの所期生成物を
得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.23―1.26：シクロプロパンの２位のメチルのプ
ロトン、 1.77―1.9：シクロプロパンの１位のプロトン、 2.95―3.28：シクロプロパンの３位のプロトン、 6.4〜6.8：アリル鎖の１位のプロトン、 5.7〜5.9：アリル鎖の２位のプロトン、 ５：シクロブチルの１位のプロトン。 工程 Ｂ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（シクロブチルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸 2.3ｇの上で得た生成物、25c.c.のトルエン及び
250mgのｐ―トルエンスルホン酸を加熱還流し、
冷却し、０〜＋５℃で２時間かきまぜる。不溶物
を別し、液を濃縮乾固して1.8ｇの所期生成
物を得る。 IRスペクトル −OH：酸 3500cm-1 −Ｃ＝Ｏ：酸 1733cm-1 共役エステル 1702cm-1 gem―ジ―Me 1390cm-1−1380cm-1 例 10： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（プロパルギルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸 工程 Ａ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（プロパルギルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸ｔ―ブチル 例９におけるようにして、36ｇの（1R，ci，
ｓ）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）―２―カル
ボオキシエテニル〕シクロプロパンカルボン酸ｔ
―ブチルと１c.c.のプロパルギルアルコールより出
発して実施する。全体を20℃で16時間かきまぜ
る。不溶物を過し、次いで液を塩化メチレン
で希釈し、0.1N塩酸で洗い、次いで中性となる
まで水洗し、乾燥し、減圧下に濃縮乾固する。そ
の残留物をシクロヘキサン／酢酸エチル混合物
（９：１）で溶解し、全体を20℃で１時間30分か
きまぜる。不溶物を除去し、液を濃縮乾燥し、
その残留物をシリカでクロマトグラフイーし、シ
クロヘキサン／酢酸エチル混合物（９：１）で溶
離する。2.1ｇの所期生成物を得る。 IRスペクトル（CHCl3） −Ｃ＝Ｃ− 3300cm-1−2225cm-1 −Ｃ＝Ｏエステル＋共役 1712cm-1 −Ｃ＝Ｃ共役 1629cm-1 工程 Ｂ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（プロパルギルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸 2.0ｇの上で得た生成物を20c.c.の無水トルエン
に溶解してなる溶液を0.2ｇのｐ―トルエンスル
ホン酸と共に10分間加熱還流し、冷却し、０℃で
３分間かきまぜる。不溶物を過し、液を濃縮
乾固して1.59ｇの所期生成物を得た。 参考例 １： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（メトキシカルボニル）エテニル〕シク
ロプロパンカルボン酸（Ｓ）α―シアノ―３―
フエノキシベンジル ７ｇの（1R，cis）２，２―ジメチル―３―
〔（Ｚ）―２―（メトキシカルボニル）エテニル〕
シクロプロパンカルボン酸（例１で製造）、7.3ｇ
のジシクロヘキシルカルボジイミド及び３c.c.のピ
リジンを50c.c.の塩化メチシンに導入する。次いで
８ｇの（Ｓ）α―シアノ―３―フエノキシベンジ
ルアルコールを加える。反応混合物を周囲温度で
16時間かきまぜ続ける。過する。液を減圧下
に乾固させ、20ｇの生成物を得、これをイソプロ
ピルエーテルから再結晶する。10.5ｇの生成物、
MP＝98℃、を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.23及び1.26：２位のメチルのプロトン、 1.93―2.07：１位の炭素のプロトン、 3.2―3.34―3.37―3.50：３位の炭素のプロトン、 6.35：Ｃ≡Ｎ基を持つ炭素のプロトン、 5.8〜6.05：−CO2CH3基を持つエチレン性炭素の
プロトン、 6.35―6.51・6.55―6.72：シクロプロパン上のα
位のエチレン性炭素のプロトン、 3.72：メトキシカルボニル基のプロトン、 6.9〜7.6：芳香族プロトン。 参考例 ２： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（メトキシカルボニル）エテニル〕シク
ロプロパンカルボン酸（Ｒ）α―シアノ―３―
フエノキシベンジン 参考例１におけるようにして、1.5ｇの（1R，
cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）―２―（メ
トキシカルボニル）エテニル〕シクロプロパンカ
ルボン酸（例１で製造）と1.9ｇの（Ｒ）α―シ
アノ―３―フエノキシベンジルアルコールより出
発して実施し、4.3ｇの所期の粗生成物を得、こ
れをシリカでクロマトグラフイーする（溶離液：
シクロヘキサン）酢酸エチル（９：１））。2.5ｇ
の所期生成物を得る。 〔α〕D＝＋23.5゜±2.5゜（ｃ＝0.5％、ベンゼン）。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.32：２位のメチルのプロトン、 1.92―2.06：１位の炭素のプロトン、 3.17〜3.45：３位の炭素のプロトン、 6.3：Ｃ≡Ｎ基を持つ炭素のプロトン、 5.8―5.98：CO2CH3基を持つエチレン性炭素のプ
ロトン、 6.3〜6.7：シクロプロパンのα位のエチレン性炭
素のプロトン、 3.7：メトキシカルボニル基のプロトン、 6.9〜7.6：芳香族プロトン。 参考例 ３： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（エトキシカルボニル）エテニル〕シク
ロプロパンカルボン酸（Ｓ）α―シアノ―３―
フエノキシベンジル 参考例１におけるようにして、1.25ｇの（1R，
cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）―２―（エ
トキシカルボニル）エテニル〕シクロプロパンカ
ルボン酸（例１で製造）と1.45ｇの（Ｓ）α―シ
アノ―３―フエノキシベンジルアルコールより出
発して実施し、4.1ｇの所期の粗生成物を得、こ
れをシリカでクロマトグラフイーする（溶離液：
シクロヘキサン／酢酸エチル（９：１））。1.95ｇ
の所期生成物を得る。 〔α〕D＝＋57.5゜±3゜（ｃ＝0.3％ベンゼン）。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.25―1.27：シクロプロパンの２位のメチルのプ
ロトン、 1.92―2.06：シクロプロパンの１位の炭素のプロ
トン、 3.2―3.36・3.8―3.52：シクロプロパンの３位の
炭素のプロトン、 5.83―6.03：エトキシカルボニル基を持つエチレ
ン性炭素のプロトン、 6.38―6.73：シクロプロパンのα位のエチレン性
炭素のプロトン、 6.35：CN基を持つ炭素のプロトン、 1.18―1.3―1.41：エチレンのメチルのプロトン、 4.01―4.13―4.25―4.36：エチレンのメチレンの
プロトン。 参考例 ４： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（ｎ―プロポキシカルボニル）エテニ
ル〕シクロプロパンカルボン酸（Ｓ）α―シア
ノ―３―フエノキシベンジル 参考例１におけるようにして、1.5ｇの（1R，
cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）―２―（ｎ
―プロポキシカルボニル）エテニル〕シクロプロ
パンカルボン酸（例３で製造）と1.7ｇの（Ｓ）
α―シアノ―３―フエノキシベンジルアルコール
より出発して実施し、4.1ｇの生成物を得、これ
をシリカでクロマトグラフイーする（溶離液：ｎ
―ヘキサン／イソプロピルエーテル（７：３））。
2.2ｇの所期生成物を得る。 〔α〕D＝＋52゜±2.5゜（ｃ＝0.5％ベンゼン）。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.25―1.28：シクロプロパンの２位のメチルのプ
ロトン、 1.94―2.03：シクロプロパンの１位の炭素のプロ
トン、 3.29―3.39―3.49：シクロプロパンの３位の炭素
のプロトン、 6.33：Ｃ≡Ｎ基を持つ炭素のプロトン、 5.89―6.01：プロポキシカルボニル基を持つエチ
レン性炭素のプロトン、 6.41―6.52・6.53―6.64：シクロプロパン上の分
岐鎖状エチレン性炭素のプロトン、 4.02―4.09―4.15：プロポキシカルボニル基の１
位メチレンのプロトン、 0.88―0.96―1.04：プロポキシカルボニル基のメ
チルのプロトン。 参考例 ５： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（イソプロピルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸（Ｓ）α―シ
アノ―３―フエノキシベンジル 参考例１におけるようにして、900mgの（1R，
cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）―２―（イ
ソプロピルオキシカルボニル）エテニル〕シクロ
プロパンカルボン酸（例４で製造）と900mgの
（Ｓ）α―シアノ―３―フエノキシベンジルアル
コールより出発して実施し、1.8ｇの所期の粗生
成物を得、これをシリカでクロマトグラフイーす
る（溶離液：シクロヘキサン／酢酸エチル（９：
１））。1.2ｇ所期生成物を得る。 〔α〕D＝＋54゜±2゜（ｃ＝0.4％、ベンゼン）。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.25及び1.27：シクロプロパンの２位のメチルの
プロトン、 1.92―2.05：シクロプロパンの１位の炭素のプロ
トン、 3.25―3.39・3.42―3.56：シクロプロパンの３位
の炭素のプロトン、 6.3：Ｃ≡Ｎ基を持つ炭素のプロトン、 5.8―６：イソプロピルオキシ基を持つエチレン
性炭素のプロトン、 6.35―6.51・6.55―6.71：シクロプロパン上の分
岐鎖状エチレン性炭素のプロトン、 5.08：イソプロピルのプロトン、 1.23―1.34：イソプロピルのメチルのプロトン。 参考例 ６： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（ｎ―ブトキシカルボニル）エテニル〕
シクロプロパンカルボン酸（Ｓ）α―シアノ―
３―フエノキシベンジル ２ｇの（1R，cis）２，２―ジメチル―３―
〔（Ｚ）―２―（ｎ―ブトキシカルボニル）エテニ
ル〕シクロプロパンカルボン酸（例５で製造）、
20c.c.の塩化メチレン及び1.1c.c.のピリジンを不活
性雰囲気下にかきまぜ、次いで1.7ｇのジシクロ
ヘキシルカルボジイミドを加え、30分間かきまぜ
続ける。２ｇの（Ｓ）α―シアノ―３―フエノキ
シベンジルアルコールを含有する３c.c.の塩化メチ
レンを加え、全体を周囲温度で16時間かきまぜ
る。生じたジシクロヘキシル尿素を別し、液
を濃縮乾固し、その残留物をシリカでクロマトグ
ラフイーし、ｎ―ヘキサン／イソプロピルエーテ
ル混合物（８：２）で溶離し、3.1ｇの所期生成
物を得る。 〔α〕D＋51゜±2゜（ｃ＝0.4％、ベンゼン）。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.25―1.27：シクロプロパンの２位のメチルのプ
ロトン、 1.92〜2.07：シクロプロパンの１位のプロトン、 3.22―3.37―3.53：シクロプロパンの３位のプロ
トン、 6.5（ｔ）：アリル鎖の１位のプロトン、 5.8―5.85：アリル鎖の２位のプロトン、 6.35：CNと同じ炭素にあるプロトン。 参考例 ７： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（ペンチルオキシカルボニル）エテニ
ル〕シクロプロパンカルボン酸（Ｓ）α―シア
ノ―３―フエノキシベンジル 参考例６におけるようにして、3.05ｇの（1R，
cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）―２―（ペ
ンチルオキシカルボニル）エテニル〕シクロプロ
パンカルボン酸（例６で製造）、1.5c.c.のピリジ
ン、2.4ｇのジシクロヘキシルカルボジイミド及
び2.7ｇの（Ｓ）α―シアノ―３―フエノキシベ
ンジルアルコールを20c.c.の塩化メチレンに溶解し
たものより出発して実施する。全体をシリカで２
回クロマトグラフイーし、ヘキサン／エチルエー
テル混合物（９：１）で溶離し、3.5ｇの所期生
成物を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.25―1.27：シクロプロパンの２位のメチルのプ
ロトン、 1.92―2.07：シクロプロパンの１位のプロトン、 3.37（ｔ）：シクロプロパンの３位のプロトン、 6.3―6.5・6.53―6.7：アリル鎖の１位のプロト
ン、 5.8―６：アリル鎖の２位のプロトン、 6.3：CNと同じ炭素にあるプロトン、 6.9〜7.6：芳香族プロトン。 参考例 ８： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（（RS）―１―メチルプロピルオキシカ
ルボニル）エテニル〕シクロプロパンカルボン
酸（Ｓ）α―シアノ―３―フエノキシベンジル 参考例６におけるようにして、1.83ｇの（1R，
cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）―２―
（（RS）―１―メチルプロピルオキシカルボニル）
エテニル〕シクロプロパンカルボン酸（例７で製
造）より出発して実施する。2.6ｇの所期生成物
を得る。 〔α〕D＝＋48゜±2.5゜（ｃ＝0.5％、ベンゼン）。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.22―1.23：シクロプロパンの２位のメチルのプ
ロトン、 1.88―2.02：シクロプロパンの１位のプロトン、 3.21〜3.5：シクロプロパンの３位のプロトン、 6.36〜6.68：アリル鎖の１位のプロトン、 5.8〜６：アリル鎖の２位のプロトン、 4.92（ｍ）：プロピルの１位のプロトン、 6.35：CNと同じ炭素にあるプロトン。 参考例 ９： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（シクロヘキシルオキシカルボニル）エ
テニル〕シクロプロパンカルボン酸（Ｓ）α―
シアノ―３―フエノキシベンジル 参考例６に記載のようにして、2.5ｇの（1R，
cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）―２―（シ
クロヘキシルオキシカルボニル）エテニル〕シク
ロプロパンカルボン酸（例８で製造）と2.2ｇの
α―シアノ―３―フエノキシベンジルアルコール
より出発して実施し、ヘキサン／エチルエーテル
混合物（９：１）を溶離液として用い、1.883ｇ
の所期生成物を得る。 〔α〕D＝＋41゜±2.5゜（ｃ＝0.5％、CHCl3） NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.26：シクロプロパンの２位のメチルのプロト
ン、 1.92―2.05：シクロプロパンの１位のプロトン、 3.23―3.55：シクロプロパンの３位のプロトン、 6.3〜6.6：アリル鎖の１位のプロトン、 5.8―5.99：アリル鎖の２位のプロトン、 6.3：CNと同じ炭素にあるプロトン、 4.8：シクロヘキシルの１位のプロトン。 参考例 10： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（シクロブチルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸（Ｓ）α―シ
アノ―３―フエノキシベンジル 参考例６の工程Ｄに記載のような方法に従つ
て、1.8ｇの（1R，cis）２，２―ジメチル―３―
〔（Ｚ）―２―（シクロブチルオキシカルボニル）
エテニル〕シクロプロパンカルボン酸（例９で製
造）と２ｇの（Ｓ）α―シアノ―３―フエノキシ
ベンジルアルコールを反応させ、同様に処理す
る。シリカでのクロマトグラフイーを続けて２回
行なう。まず、シクロヘキサン／酢酸エチル混合
物（９：１）で、次いで２回目はｎ―ヘキサン／
イソプロピルエーテル混合物（８：２）で溶離す
る。３ｇの所期生成物を得る。 〔α〕D＝＋45.5゜±2゜（ｃ＝0.6％、CHCl3） NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.25−1.26：シクロプロパンの２位のメチルのプ
ロトン、 3.4：シクロプロパンの３位のプロトン、 6.5〜6.7：アリル鎖の１位のプロトン、 5.8―6.0：アリル鎖の２位のプロトン、 5.1：シクロブチルの１位のプロトン、 6.4：CNと同じ炭素にあるプロトン。 参考例 11： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（プロパルギルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸（Ｓ）α―シ
アノ―３―フエノキシベンジル 参考例10におけるようにして、1.59ｇの（1R，
cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）―２―（プ
ロパルギルオキシカルボニル）エテニル〕シクロ
プロパンカルボン酸（例10で製造）生成物と1.8
ｇの（Ｓ）α―シアノ―３―フエノキシベンジル
アルコールより出発して実施する。２時間反応さ
せた後、全体を過し、液を減圧下に濃縮乾固
し、その残留物をシリカでクロマトグラフイー
し、シクロヘキサン／酢酸エチル混合物（９：
１）で溶離する。2.86ｇの所期生成物を得る。 〔α〕D＝＋44゜±1.5゜（ｃ＝１％、CHCl3）。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.23―1.27：シクロプロパンの２位メチルのプロ
トン、 1.93―2.07：シクロプロパンの１位のプロトン、 3.18〜3.5：シクロプロパンの３位のプロトン、 6.46―6.65・6.62―6.82：アリル鎖の１位のプロ
トン、 5.87―6.05：アリル鎖の２位のプロトン、 4.72―4.73：プロパルギルの１位のプロトン、 2.47（ｔ）：プロパルギルの３位のプロトン、 6.3：CNと同じ炭素にあるプロトン、 6.92〜7.6：芳香族プロトン。 薬剤例１：抗菌性組成物 下記の組成の水和粉剤を製造した。 （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（メトキシカルボニルエテニル〕シクロ
プロパン―１―カルボン酸 20ｇ エカパーゾルＳ（Ekapersol Ｓ）(1) 15ｇ ブレコランNVA（Brecolane NVA）(2) 0.5ｇ ゼオシル39（Zeosil 39）(3) 32.5ｇ ベルコリルＳ（Vercoryl Ｓ）(4) 25ｇ (1) ナフタリンスルホン酸ナトリウムの縮合生成
物 (2) アルキルナフタリンスルホン酸ナトリウム (3) 沈殿法により得られた合成水和シリカ (4) コロイド状カオリン 薬剤例２：抗菌性組成物 下記の成分を含む溶液を製造した。 （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（メトキシカルボニル）エテニル〕シク
ロプロパン―１―カルボン酸 25ｇ／ Emcol Ｈ 300B 80ｇ／ キシレン 89.5ｇ／ 薬理学的研究 Ａ：（1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（メトキシカルボニル）エテニル〕シク
ロプロパンカルボン酸の抗菌活性の研究 接着剤での試験 ３％のカルボキシメチルでん粉を含む水溶液を
用いる。被検化合物を１c.c.のアセトン溶液に配合
し、そしてフザリウム・ロゼウム（Fusarium
roseum）、ペニシリウム・ロクエホルチ
（Penicillium roqueforti）及びアスペルジラス・
ニジエル（Aspergilus niger）の胞子の混合物よ
りなる５c.c.の接種液を加える。菌の発育を、未処
理対照例と比較して、処理及び汚染をしてから48
時間及び８日後に検査する（評価は３〜０のスケ
ール）。 結果は次の通りである。
シカルボニルエチニル）シクロプロパンカルボ
ン酸ｔ―ブチル ４ｇの工程Ａで製造した生成物、3.4ｇのジシ
クロヘキシルカルボジイミド及び６mgの４―ジメ
チルアミノピリジンを30c.c.の塩化メチレンに導入
する。次いで1.5c.c.のエタノールを加え、全体を
20℃で16時間かきまぜる。これを過し、液を
減圧下に濃縮する。5.5ｇの生成物を得、これを
シリカでクロマトグラフイーして精製する（溶離
液：シクロヘキサン／酢酸エチル（９：１））。
4.25ｇの所期生成物を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.18―1.21・1.36―1.47：シクロプロパンの２位
のプロトン、 1.73及び1.82：シクロプロパンの１及び３位のプ
ロトン、 1.47：ｔ―ブチルのプロトン、 1.27―1.38―1.5・4.0―4.13―4.25―4.36：エチル
のプロトン。 工程 Ｃ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―エトキシカルボニル）エテニル〕シクロ
プロパンカルボン酸ｔ―ブチル 4.3ｇの上記工程で製造した生成物を100c.c.の酢
酸エチル中で800mgのPd（OH）2・BaSO4触媒及び
0.8c.c.のキノリンの存在下に水素化を行なう。全
体を過し、液を2N塩酸により７以下のPHと
し、水洗する。これを乾燥し、減圧下に乾固す
る。4.6ｇの生成物を得、これをシリカでクロマ
トグラフイーする（溶離液：シクロヘキサン／酢
酸エテル（95：５））。25ｇの所期生成物を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.25及び1.28：シクロプロパンの２位のメチルの
プロトン、 1.78―1.93：シクロプロパンの１位のプロトン、 2.98―3.1―3.2：シクロプロパンの３位のプロト
ン、 6.4―6.6―6.8：シクロプロパンのα位のエチレン
性炭素のプロトン、 5.7―5.9：エトキシカルボニル基を有するエチレ
ン性炭素のプロトン、 4.0―4.13―4.25―4.36：エトキシのメチレンのプ
ロトン。 工程 Ｄ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（エトキシカルボニル）エテニル〕シク
ロプロパンカルボン酸 2.3ｇの工程Ｃで製造した生成物と20mgの水和
ｐ―トルエンスルホン酸を20c.c.のトルエンに導入
する。全体を40分間還流させ、減圧下に乾固さ
せ、これにより得られた2.1ｇの残留物をシリカ
でクロマトグラフイーする（溶離液：シクロヘキ
サン／酢酸エチル／酢酸（60：39：１））。1.7ｇ
の生成物を単離し、これをシクロヘキサンより再
結晶する。1.5ｇの所期生成物、MP＝96℃、を得
る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.3及び1.32：シクロプロパンの２位のメチルの
プロトン、 1.86―2.02：シクロプロパンの１位の炭素のプロ
トン、 3.15―3.28・3.3―3.45：シクロプロパンの３位の
炭素のプロトン、 6.38―6.53・6.55―6.73：シクロプロパン上の分
岐エチレン性炭素のプロトン、 5.78―5.96：エトキシカルボニル基を持つエチレ
ン性炭素のプロトン、 1.18―1.3―1.41：エトキシカルボニル基のメチル
のプロトン、 4.0―4.13・4.25―4.36：エトキシカルボニル基の
メチレンのプロトン。 例 ３： （1R，cs）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）―
２―（ｎ―プロポキシカルボニル）エテニル〕
シクロプロパンカルボン酸 工程 Ａ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔ｎ―プ
ロポキシカルボニルエテニル〕シクロプロパン
カルボン酸ｔ―ブチル 22.8ｇの（1R，cis）２，２―ジメチル―３―
（2.2―ジブロムビニル）シクロプロパンカルボン
酸ｔ―ブチル、250c.c.のテトラヒドロフラン、次
いで−60℃で55c.c.のブチルリチウムの20％シクロ
ヘキサン溶液を導入する。全体を−65℃に１時間
保ち、８c.c.のクロルぎ酸ｎ―プロピルを−65℃で
15分間で導入する。−65℃で１時間かきまぜ続け、
全体を１時間で周囲温度に上昇させ、周囲温度で
１時間再びかきまぜる。これをりん酸モノナトリ
ウム飽和水溶液上に注加し、かきまぜ、エーテル
で抽出し、水洗する。これを乾燥し、減圧下に乾
固する。19.5ｇの油状物を得、これをシリカでク
ロマトグラフイーすることによつて精製する（溶
離液：シクロヘキサン／酢酸エチル（９：１））。
11.5ｇの所期生成物を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.17及び1.37：シクロプロパンの２位のメチルの
プロトン、 1.72：シクロプロパンの１及び３位のプロトン、 1.44：ｔ―ブチルのプロトン、 4.0―4.12―4.23：プロポキシカルボニルの１位の
メチレンのプロトン、 0.83―0.95―1.06：プロポキシカルボニルのメチ
ルのプロトン。 工程 Ｂ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（ｎ―プロポキシカルボニル）エテニ
ル〕シクロプロパンカルボン酸ｔ―ブチル ７ｇの（1R，cis）２，２―ジメチル―３―
（ｎ―プロポキシカルボニルエチニル）シクロプ
ロパンカルボン酸ｔ―ブチルを140c.c.の酢酸エチ
ルで1.4ｇの10％水酸化パラジウム担持硫酸バウ
ムと1.4c.c.のキノリンの存在下で水素化する。
液を2N塩酸溶液を用いて洗い、次いで水洗し、
乾燥し、減圧下に乾固する。7.2ｇの生成物を得、
これをシリカでクロマトグラフイーする（溶離
液：シクロヘキサン／酢酸エチル（95：５））。
6.1ｇの所期生成物を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.25及び1.29：シクロプロパンの２位のメチルの
プロトン、 1.5―2.03：シクロプロパンの１位の炭素のプロ
トン、 3.03―3.35：シクロプロパンの３位の炭素のプロ
トン、 6.5―6.666.69―6.85：シクロプロパンに結合した
エチレン性炭素のプロトン、 5.82―6.0：プロポキシカルボニル基を持つエチ
レン性炭素のプロトン、 4.02―4.12―4.23：プロポキシカルボニル基の１
位のメチレンのプロトン、 0.86―0.98―1.1：プロポキシカルボニル基のメチ
ルのプロトン。 工程 Ｃ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（ｎ―プロポキシカルボニル）エテニ
ル〕シクロプロパンカルボン酸 5.8ｇの工程Ｂで製造した生成物、200mgの水和
ｐ―トルエンスルホン酸及び60c.c.のトルエンの混
合物を１時間還流させる。これを減圧下に乾固さ
せ、５ｇの生成物を得、これをシリカでクロマト
グラフイーする（溶離液：シクロヘキサン／酢酸
エチル／酢酸（70：29：１））。4.2ｇの所期生成
物を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.27及び1.29：シクロプロパンの２位のメチルの
Ｈ、 1.86〜２：シクロプロパンの１位のＨ、 3.13〜3.45：シクロプロパンの３位のＨ、 5.8―６：CO2CH2CH2CH3基を持つエチレン性炭
素のＨ、 6.4―6.56―6.59：シクロプロパンに結合したエチ
レン性炭素のＨ、 3.98―4.08―4.18：プロポキシカルボニル基の１
位のメチレンのＨ、 0.83―0.95―1.06：プロポキシカルボニル基のメ
チルのＨ。 例 ４： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（イソプロピルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸 工程 Ａ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―カルボキシエテニル〕シクロプロパンカ
ルボン酸ｔ―ブチル ２ｇの（1R，cis）２，２―ジメチル―３―
〔２―カルボキシエチニル〕シクロプロパンカル
ボン酸ｔ―ブチルを40c.c.の酢酸エチル中で0.38ｇ
と10％水酸化パラジウム担持硫酸バリウムと0.4
c.c.のキノリンの存在下に水素化する。全体を過
し、液を0.5N塩酸で洗い、次いで中性となる
まで水洗し、乾燥し、減圧下に濃縮乾固し、２ｇ
の所期生成物、MP＝94℃、を得る。 工程 Ｂ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（イソプロピルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸ｔ―ブチル 2.7ｇの（1R，cis）２，２―ジメチル―３―
〔（Ｚ）―２―（カルボキシ）エテニル〕シクロプ
ロパンカルボン酸ｔ―ブチルを10c.c.の酢酸エチル
に混合し、次いで２ｇのＯ―イソプロピル―Ｎ，
N′―ジイソプロピルイソ尿素を加え、全体を周
囲温度で１時間かきまぜる。これを１時間30分還
流させ、20℃に戻し、不溶性物を過し、液を
減圧下に乾固する。3.5ｇの油状物を得、これを
シリカでクロマトグラフイーする（溶離液：ベン
ゼン／シクロヘキサン（７：３））。１ｇの所期生
成物を得、これは次の工程にそのまま用いる。 工程 Ｃ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（イソプロピルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸 1.4ｇの（1R，cis）２，２―ジメチル―３―
〔（Ｚ）―２―（イソプロピルオキシカルボニル）
エテニル〕シクロプロパンカルボン酸ｔ―ブチ
ル、100mgのｐ―トルエンスルホン酸及び14c.c.の
トルエンを含む混合物を２時間30分かきまぜなが
ら120℃とする。これを減圧下に乾固させる。得
られた残留物をイソプロピルエーテルより再結晶
する。これを冷却し、分離し、乾燥し、900mgの
所期生成物、MP＝98℃、を得る。 例 ５： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（ｎ―ブトキシカルボニル）エテニル〕
シクロプロパンカルボン酸 工程 Ａ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―（ｎ―ブ
トキシカルボニルエチニル）シクロプロパンカ
ルボン酸ｔ―ブチル ４ｇの（1R，cis）２，２―ジメチル―３―
（２―カルボキシエチニル）シクロプロパンカル
ボン酸ｔ―ブチル、40c.c.の塩化メチレン及び６mg
の４―ジメチルアミノピリジンを混合し、次いで
3.4ｇのジシクロヘキシルカルボジイミドを加え
る。不活性雰囲気下に30分間かきまぜながら、４
c.c.のｎ―ブタノール／塩化メチレン混合物（１：
１）を５分間で加え、周囲温度で３時間かきまぜ
続ける。生じたジシクロヘキシル尿素を別し、
液を減圧下に濃縮乾固し、その残留物をシリカ
でクロマトグラフイーし、シクロヘキサン／酢酸
エチル混合物（９：１）で溶離する。4.7ｇの所
期生成物を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.22及び1.4：シクロプロパンの２位のメチルの
プロトン、 1.75：シクロプロパンの１及び３位のプロトン、 4.15（ｔ）：ブトキシルの１位のプロトン、 1.48：ｔ―ブチルのプロトン。 工程 Ｂ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（ｎ―ブトキシカルボニル）エテニル〕
シクロプロパンカルボン酸ｔ―ブチル 800mgの水酸化パラジウム担持硫酸バリウムを
20c.c.の酢酸エチル中で15分間水素下にかきまぜ、
次いで4.7ｇの上で得た生成物を50c.c.の酢酸エチ
ルと0.8c.c.のキノリンに溶解したものを加え、全
体を30分間水素下で放置する。触媒を別し、
液を1N塩酸で洗い、次いで水洗し、乾燥し、減
圧下に濃縮乾固し、その残留物をシリカでクロマ
トグラフイーし、シクロヘキサン／酢酸エチル混
合物（95：５）で溶離する。3.4ｇの所期生成物
を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.25及び1.28：シクロプロパンの２位のメチルの
プロトン、 1.76及び1.90：シクロプロパンの１位のプロト
ン、 2.96〜3.5：シクロプロパンの３位のプロトン、 6.45―6.6及び6.6及び6.8：アリル鎖の１位のプロ
トン、 5.75及び5.95：アリル鎖の２位のプロトン、 4.12（ｔ）：ｔ―ブトキシルの１位のプロトン、 1.45：ｔ―ブチルのプロトン。 工程 Ｃ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（ｎ―ブトキシカルボニル）エテニル〕
シクロプロパンカルボン酸 3.3ｇの上で得た生成物を40c.c.のトルエン中で
350mgのｐ―トルエンスルホン酸とかきまぜる。
全体をイソブチレンガスの放出が止むまで（約40
分間）加熱還流する。これを減圧下に濃縮乾固
し、その残留物をシリカでクロマトグラフイー
し、シクロヘキサン／酢酸エチル／酢酸混合物
（75：25：１）で溶離する。２ｇの所期生成物を
得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.26及び1.3：シクロプロパンの２位のメチルの
プロトン 1.85―1.99：シクロプロパンの１位のプロトン、 3.13〜3.47：シクロプロパンの３位のプロトン、 6.4―6.57・6.59―6.75：アリル鎖の１位のプロト
ン、 5.8―5.99：アリル鎖の２位のプロトン。 例 ６： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（ペンチルオキシカルボニル）エテニ
ル〕シクロプロパンカルボン酸 工程 Ａ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―（ペンチ
ルオキシカルボニルエチニル）シクロプロパン
カルボン酸ｔ―ブチル 例５の工程Ａに記載のようにして、３ｇの
（1R，cis）２，２―ジメチル―３―（２―カル
ボキシエチニル）シクロプロパンカルボン酸ｔ―
ブチルと２c.c.のｎ―アミルアルコールより出発し
て実施する。その残留物をシリカでクロマトグラ
フイーし、ヘキサン／イソプロピルエーテル混合
物（８：２）で溶離した後、27ｇの所期生成物を
得る。 工程 Ｂ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―（ペント
キシカルボニルエチニル）シクロプロパンカル
ボン酸 5.24ｇの上で得た生成物、50c.c.のトルエン及び
250mgのｐ―トルエンスルホン酸を混合する。全
体をガスの放出が止むまで還流し、次いで減圧下
に濃縮乾固する。4.8ｇの生成物を得、そのまま
次の合成に用いる。 工程 Ｃ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（ペンチルオキシカルボニル）エテニ
ル〕シクロプロパンカルボン酸 4.8ｇの上で得た生成物を50c.c.の酢酸エチル及
び１c.c.のキノリン中で、10％の水酸化パラジウム
を担持した１ｇの硫酸バリウムを50c.c.の酢酸エチ
ルに懸濁させたものの存在下に水素化する。次い
で触媒を除去し、液を1N塩酸で洗い、次いで
水洗し、乾燥し、減圧下に濃縮乾固し、その残留
物をシリカでクロマトグラフイーし、シクロヘキ
サン／酢酸エチル／酢酸（70：30：１）で溶離す
る。３ｇの所期生成物を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.3及び1.32：シクロプロパンの２位のメチルの
プロトン、 1.85―1.99：シクロプロパンの１位のプロトン、 3.15―3.45：シクロプロパンの３位のプロトン、 6.4―6.75：アリル鎖の１位のプロトン、 5.78―5.96：アリル鎖の２位のプロトン。 例 ７： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（（RS）１―メチルプロピルオキシカル
ボニル）エテニル〕シクロプロパンカルボン酸 工程 Ａ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（RS）
１―メチルプロピルオキシカルボニルエチニ
ル〕シクロプロパンカルボン酸ｔ―ブチル 例５の工程Ａに示すようにするが、ただし、こ
の場合は２c.c.の１―メチルプロピルアルコールを
用いて実施する。その残留物をシリカでクロマト
グラフイーし、ｎ―ヘキサン／イソプロピルエー
テル混合物（８：２）で溶離し、3.5ｇの所期生
成物を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.2―1.4：シクロプロパンの２位のメチルのプロ
トン、 1.73：シクロプロパンの１及び３位のプロトン、 4.92：プロピルの１位のプロトン。 工程 Ｂ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（（RS）１―メチルプロピルオキシカル
ボニル）エテニル〕シクロプロパンカルボン酸
ｔ―ブチル ３ｇの上で得た生成物を例６（工程Ｂ）に示し
たように水素化する。生成物をシリカでクロマト
グラフイーし、ｎ―ヘキサン／イソプロピルエー
テル混合物（９：１）で溶離し、2.5ｇの所期生
成物を得る。 工程 Ｃ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（（RS）―１―メチルプロピルオキシカ
ルボニル）エテニル〕シクロプロパンカルボン
酸 例６の工程Ｃにおけるようにして、３ｇの上で
得た生成物より出発して実施する。その残留物を
シリカでクロマトグラフイーし、シクロヘキサ
ン／酢酸エチル／酢酸混合物（70：30：１）で溶
離し、1.85ｇの所期生成物を得る。 IRスペクトル（CHCl3） −OH：酸 3510cm-1 −Ｃ＝Ｏ：酸 1735cm-1 エステル 1710cm-1−1700cm-1 Ｃ＝Ｃ：共役 1637cm-1 gem―ジ―Me 1381cm-1 例 ８： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（シクロヘキシルオキシカルボニル）エ
テニル〕シクロプロパンカルボン酸 工程 Ａ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―（シクロ
ヘキシルオキシカルボニルエチニル）シクロプ
ロパンカルボン酸ｔ―ブチル ２c.c.のシクロヘキサノールを用いて例５に示す
ように実施する。3.67ｇの所期生成物を得る。 IRスペクトル（CHCl3） Ｃ＝Ｃ：共役 2225cm-1 Ｃ＝Ｏ：エステル＋共役 1729cm-1−1700cm-1 gem―ジ―Me 1392cm-1−1380cm-1 ｔ―ブチル 1370cm-1 工程 Ｂ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（シクロヘキシルオキシカルボニル）エ
テニル〕シクロプロパンカルボン酸ｔ―ブチル 3.67ｇの上で得た生成物より出発して例６にお
けるように実施し、3.4ｇの粗生成物を得、その
まま次の工程に用いる。 IRスペクトル（CHCl3） Ｃ＝Ｏ： 1715cm-1 Ｃ＝Ｃ： 1634cm-1 工程 Ｃ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（シクロヘキシルオキシカルボニル）エ
テニル〕シクロプロパンカルボン酸 例５に示すようにして、3404ｇの上で得た生成
物より出発し、そしてクロマトグラフイー用のシ
クロヘキサン／酢酸エチル／酢酸系（70：30：
１）を用いて実施する。25ｇの所期生成物を得
る。 IRスペクトル（CHCl3） −OH：酸 3510cm-1 −Ｃ＝Ｏ：酸 1735cm-1 エステル 1707cm-1 gem―ジ―Me 1380cm-1 −Ｃ＝Ｃ− 1638cm-1 例 ９： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（シクロブチルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸 工程 Ａ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（シクロブチルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸ｔ―ブチル ４ｇの（1R，cis）２，２―ジメチル―３―
〔（Ｚ）―２―カルボキシエテニル〕シクロプロパ
ンカルボン酸ｔ―ブチルを20c.c.の塩化メチレンに
溶解し、次いで1.7c.c.のシクロブタノールを加え
る。温度を０〜＋５℃に保ち、3.45ｇのジシクロ
ヘキシルカルボジイミドと28mgのジメチルアミノ
ピリジンを20c.c.の塩化メチレンに溶解したものを
加え、かきまぜを約５℃で２時間、周囲温度で２
時間続ける。生じたジシクロヘキシル尿素を除去
し、液を濃縮乾固し、シリカでクロマトグラフ
イーし、ｎ―ヘキサン／イソプロピルエーテル混
合物（９：１）で溶離し、2.3ｇの所期生成物を
得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.23―1.26：シクロプロパンの２位のメチルのプ
ロトン、 1.77―1.9：シクロプロパンの１位のプロトン、 2.95―3.28：シクロプロパンの３位のプロトン、 6.4〜6.8：アリル鎖の１位のプロトン、 5.7〜5.9：アリル鎖の２位のプロトン、 ５：シクロブチルの１位のプロトン。 工程 Ｂ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（シクロブチルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸 2.3ｇの上で得た生成物、25c.c.のトルエン及び
250mgのｐ―トルエンスルホン酸を加熱還流し、
冷却し、０〜＋５℃で２時間かきまぜる。不溶物
を別し、液を濃縮乾固して1.8ｇの所期生成
物を得る。 IRスペクトル −OH：酸 3500cm-1 −Ｃ＝Ｏ：酸 1733cm-1 共役エステル 1702cm-1 gem―ジ―Me 1390cm-1−1380cm-1 例 10： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（プロパルギルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸 工程 Ａ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（プロパルギルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸ｔ―ブチル 例９におけるようにして、36ｇの（1R，ci，
ｓ）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）―２―カル
ボオキシエテニル〕シクロプロパンカルボン酸ｔ
―ブチルと１c.c.のプロパルギルアルコールより出
発して実施する。全体を20℃で16時間かきまぜ
る。不溶物を過し、次いで液を塩化メチレン
で希釈し、0.1N塩酸で洗い、次いで中性となる
まで水洗し、乾燥し、減圧下に濃縮乾固する。そ
の残留物をシクロヘキサン／酢酸エチル混合物
（９：１）で溶解し、全体を20℃で１時間30分か
きまぜる。不溶物を除去し、液を濃縮乾燥し、
その残留物をシリカでクロマトグラフイーし、シ
クロヘキサン／酢酸エチル混合物（９：１）で溶
離する。2.1ｇの所期生成物を得る。 IRスペクトル（CHCl3） −Ｃ＝Ｃ− 3300cm-1−2225cm-1 −Ｃ＝Ｏエステル＋共役 1712cm-1 −Ｃ＝Ｃ共役 1629cm-1 工程 Ｂ： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（プロパルギルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸 2.0ｇの上で得た生成物を20c.c.の無水トルエン
に溶解してなる溶液を0.2ｇのｐ―トルエンスル
ホン酸と共に10分間加熱還流し、冷却し、０℃で
３分間かきまぜる。不溶物を過し、液を濃縮
乾固して1.59ｇの所期生成物を得た。 参考例 １： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（メトキシカルボニル）エテニル〕シク
ロプロパンカルボン酸（Ｓ）α―シアノ―３―
フエノキシベンジル ７ｇの（1R，cis）２，２―ジメチル―３―
〔（Ｚ）―２―（メトキシカルボニル）エテニル〕
シクロプロパンカルボン酸（例１で製造）、7.3ｇ
のジシクロヘキシルカルボジイミド及び３c.c.のピ
リジンを50c.c.の塩化メチシンに導入する。次いで
８ｇの（Ｓ）α―シアノ―３―フエノキシベンジ
ルアルコールを加える。反応混合物を周囲温度で
16時間かきまぜ続ける。過する。液を減圧下
に乾固させ、20ｇの生成物を得、これをイソプロ
ピルエーテルから再結晶する。10.5ｇの生成物、
MP＝98℃、を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.23及び1.26：２位のメチルのプロトン、 1.93―2.07：１位の炭素のプロトン、 3.2―3.34―3.37―3.50：３位の炭素のプロトン、 6.35：Ｃ≡Ｎ基を持つ炭素のプロトン、 5.8〜6.05：−CO2CH3基を持つエチレン性炭素の
プロトン、 6.35―6.51・6.55―6.72：シクロプロパン上のα
位のエチレン性炭素のプロトン、 3.72：メトキシカルボニル基のプロトン、 6.9〜7.6：芳香族プロトン。 参考例 ２： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（メトキシカルボニル）エテニル〕シク
ロプロパンカルボン酸（Ｒ）α―シアノ―３―
フエノキシベンジン 参考例１におけるようにして、1.5ｇの（1R，
cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）―２―（メ
トキシカルボニル）エテニル〕シクロプロパンカ
ルボン酸（例１で製造）と1.9ｇの（Ｒ）α―シ
アノ―３―フエノキシベンジルアルコールより出
発して実施し、4.3ｇの所期の粗生成物を得、こ
れをシリカでクロマトグラフイーする（溶離液：
シクロヘキサン）酢酸エチル（９：１））。2.5ｇ
の所期生成物を得る。 〔α〕D＝＋23.5゜±2.5゜（ｃ＝0.5％、ベンゼン）。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.32：２位のメチルのプロトン、 1.92―2.06：１位の炭素のプロトン、 3.17〜3.45：３位の炭素のプロトン、 6.3：Ｃ≡Ｎ基を持つ炭素のプロトン、 5.8―5.98：CO2CH3基を持つエチレン性炭素のプ
ロトン、 6.3〜6.7：シクロプロパンのα位のエチレン性炭
素のプロトン、 3.7：メトキシカルボニル基のプロトン、 6.9〜7.6：芳香族プロトン。 参考例 ３： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（エトキシカルボニル）エテニル〕シク
ロプロパンカルボン酸（Ｓ）α―シアノ―３―
フエノキシベンジル 参考例１におけるようにして、1.25ｇの（1R，
cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）―２―（エ
トキシカルボニル）エテニル〕シクロプロパンカ
ルボン酸（例１で製造）と1.45ｇの（Ｓ）α―シ
アノ―３―フエノキシベンジルアルコールより出
発して実施し、4.1ｇの所期の粗生成物を得、こ
れをシリカでクロマトグラフイーする（溶離液：
シクロヘキサン／酢酸エチル（９：１））。1.95ｇ
の所期生成物を得る。 〔α〕D＝＋57.5゜±3゜（ｃ＝0.3％ベンゼン）。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.25―1.27：シクロプロパンの２位のメチルのプ
ロトン、 1.92―2.06：シクロプロパンの１位の炭素のプロ
トン、 3.2―3.36・3.8―3.52：シクロプロパンの３位の
炭素のプロトン、 5.83―6.03：エトキシカルボニル基を持つエチレ
ン性炭素のプロトン、 6.38―6.73：シクロプロパンのα位のエチレン性
炭素のプロトン、 6.35：CN基を持つ炭素のプロトン、 1.18―1.3―1.41：エチレンのメチルのプロトン、 4.01―4.13―4.25―4.36：エチレンのメチレンの
プロトン。 参考例 ４： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（ｎ―プロポキシカルボニル）エテニ
ル〕シクロプロパンカルボン酸（Ｓ）α―シア
ノ―３―フエノキシベンジル 参考例１におけるようにして、1.5ｇの（1R，
cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）―２―（ｎ
―プロポキシカルボニル）エテニル〕シクロプロ
パンカルボン酸（例３で製造）と1.7ｇの（Ｓ）
α―シアノ―３―フエノキシベンジルアルコール
より出発して実施し、4.1ｇの生成物を得、これ
をシリカでクロマトグラフイーする（溶離液：ｎ
―ヘキサン／イソプロピルエーテル（７：３））。
2.2ｇの所期生成物を得る。 〔α〕D＝＋52゜±2.5゜（ｃ＝0.5％ベンゼン）。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.25―1.28：シクロプロパンの２位のメチルのプ
ロトン、 1.94―2.03：シクロプロパンの１位の炭素のプロ
トン、 3.29―3.39―3.49：シクロプロパンの３位の炭素
のプロトン、 6.33：Ｃ≡Ｎ基を持つ炭素のプロトン、 5.89―6.01：プロポキシカルボニル基を持つエチ
レン性炭素のプロトン、 6.41―6.52・6.53―6.64：シクロプロパン上の分
岐鎖状エチレン性炭素のプロトン、 4.02―4.09―4.15：プロポキシカルボニル基の１
位メチレンのプロトン、 0.88―0.96―1.04：プロポキシカルボニル基のメ
チルのプロトン。 参考例 ５： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（イソプロピルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸（Ｓ）α―シ
アノ―３―フエノキシベンジル 参考例１におけるようにして、900mgの（1R，
cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）―２―（イ
ソプロピルオキシカルボニル）エテニル〕シクロ
プロパンカルボン酸（例４で製造）と900mgの
（Ｓ）α―シアノ―３―フエノキシベンジルアル
コールより出発して実施し、1.8ｇの所期の粗生
成物を得、これをシリカでクロマトグラフイーす
る（溶離液：シクロヘキサン／酢酸エチル（９：
１））。1.2ｇ所期生成物を得る。 〔α〕D＝＋54゜±2゜（ｃ＝0.4％、ベンゼン）。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.25及び1.27：シクロプロパンの２位のメチルの
プロトン、 1.92―2.05：シクロプロパンの１位の炭素のプロ
トン、 3.25―3.39・3.42―3.56：シクロプロパンの３位
の炭素のプロトン、 6.3：Ｃ≡Ｎ基を持つ炭素のプロトン、 5.8―６：イソプロピルオキシ基を持つエチレン
性炭素のプロトン、 6.35―6.51・6.55―6.71：シクロプロパン上の分
岐鎖状エチレン性炭素のプロトン、 5.08：イソプロピルのプロトン、 1.23―1.34：イソプロピルのメチルのプロトン。 参考例 ６： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（ｎ―ブトキシカルボニル）エテニル〕
シクロプロパンカルボン酸（Ｓ）α―シアノ―
３―フエノキシベンジル ２ｇの（1R，cis）２，２―ジメチル―３―
〔（Ｚ）―２―（ｎ―ブトキシカルボニル）エテニ
ル〕シクロプロパンカルボン酸（例５で製造）、
20c.c.の塩化メチレン及び1.1c.c.のピリジンを不活
性雰囲気下にかきまぜ、次いで1.7ｇのジシクロ
ヘキシルカルボジイミドを加え、30分間かきまぜ
続ける。２ｇの（Ｓ）α―シアノ―３―フエノキ
シベンジルアルコールを含有する３c.c.の塩化メチ
レンを加え、全体を周囲温度で16時間かきまぜ
る。生じたジシクロヘキシル尿素を別し、液
を濃縮乾固し、その残留物をシリカでクロマトグ
ラフイーし、ｎ―ヘキサン／イソプロピルエーテ
ル混合物（８：２）で溶離し、3.1ｇの所期生成
物を得る。 〔α〕D＋51゜±2゜（ｃ＝0.4％、ベンゼン）。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.25―1.27：シクロプロパンの２位のメチルのプ
ロトン、 1.92〜2.07：シクロプロパンの１位のプロトン、 3.22―3.37―3.53：シクロプロパンの３位のプロ
トン、 6.5（ｔ）：アリル鎖の１位のプロトン、 5.8―5.85：アリル鎖の２位のプロトン、 6.35：CNと同じ炭素にあるプロトン。 参考例 ７： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（ペンチルオキシカルボニル）エテニ
ル〕シクロプロパンカルボン酸（Ｓ）α―シア
ノ―３―フエノキシベンジル 参考例６におけるようにして、3.05ｇの（1R，
cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）―２―（ペ
ンチルオキシカルボニル）エテニル〕シクロプロ
パンカルボン酸（例６で製造）、1.5c.c.のピリジ
ン、2.4ｇのジシクロヘキシルカルボジイミド及
び2.7ｇの（Ｓ）α―シアノ―３―フエノキシベ
ンジルアルコールを20c.c.の塩化メチレンに溶解し
たものより出発して実施する。全体をシリカで２
回クロマトグラフイーし、ヘキサン／エチルエー
テル混合物（９：１）で溶離し、3.5ｇの所期生
成物を得る。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.25―1.27：シクロプロパンの２位のメチルのプ
ロトン、 1.92―2.07：シクロプロパンの１位のプロトン、 3.37（ｔ）：シクロプロパンの３位のプロトン、 6.3―6.5・6.53―6.7：アリル鎖の１位のプロト
ン、 5.8―６：アリル鎖の２位のプロトン、 6.3：CNと同じ炭素にあるプロトン、 6.9〜7.6：芳香族プロトン。 参考例 ８： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（（RS）―１―メチルプロピルオキシカ
ルボニル）エテニル〕シクロプロパンカルボン
酸（Ｓ）α―シアノ―３―フエノキシベンジル 参考例６におけるようにして、1.83ｇの（1R，
cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）―２―
（（RS）―１―メチルプロピルオキシカルボニル）
エテニル〕シクロプロパンカルボン酸（例７で製
造）より出発して実施する。2.6ｇの所期生成物
を得る。 〔α〕D＝＋48゜±2.5゜（ｃ＝0.5％、ベンゼン）。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.22―1.23：シクロプロパンの２位のメチルのプ
ロトン、 1.88―2.02：シクロプロパンの１位のプロトン、 3.21〜3.5：シクロプロパンの３位のプロトン、 6.36〜6.68：アリル鎖の１位のプロトン、 5.8〜６：アリル鎖の２位のプロトン、 4.92（ｍ）：プロピルの１位のプロトン、 6.35：CNと同じ炭素にあるプロトン。 参考例 ９： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（シクロヘキシルオキシカルボニル）エ
テニル〕シクロプロパンカルボン酸（Ｓ）α―
シアノ―３―フエノキシベンジル 参考例６に記載のようにして、2.5ｇの（1R，
cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）―２―（シ
クロヘキシルオキシカルボニル）エテニル〕シク
ロプロパンカルボン酸（例８で製造）と2.2ｇの
α―シアノ―３―フエノキシベンジルアルコール
より出発して実施し、ヘキサン／エチルエーテル
混合物（９：１）を溶離液として用い、1.883ｇ
の所期生成物を得る。 〔α〕D＝＋41゜±2.5゜（ｃ＝0.5％、CHCl3） NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.26：シクロプロパンの２位のメチルのプロト
ン、 1.92―2.05：シクロプロパンの１位のプロトン、 3.23―3.55：シクロプロパンの３位のプロトン、 6.3〜6.6：アリル鎖の１位のプロトン、 5.8―5.99：アリル鎖の２位のプロトン、 6.3：CNと同じ炭素にあるプロトン、 4.8：シクロヘキシルの１位のプロトン。 参考例 10： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（シクロブチルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸（Ｓ）α―シ
アノ―３―フエノキシベンジル 参考例６の工程Ｄに記載のような方法に従つ
て、1.8ｇの（1R，cis）２，２―ジメチル―３―
〔（Ｚ）―２―（シクロブチルオキシカルボニル）
エテニル〕シクロプロパンカルボン酸（例９で製
造）と２ｇの（Ｓ）α―シアノ―３―フエノキシ
ベンジルアルコールを反応させ、同様に処理す
る。シリカでのクロマトグラフイーを続けて２回
行なう。まず、シクロヘキサン／酢酸エチル混合
物（９：１）で、次いで２回目はｎ―ヘキサン／
イソプロピルエーテル混合物（８：２）で溶離す
る。３ｇの所期生成物を得る。 〔α〕D＝＋45.5゜±2゜（ｃ＝0.6％、CHCl3） NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.25−1.26：シクロプロパンの２位のメチルのプ
ロトン、 3.4：シクロプロパンの３位のプロトン、 6.5〜6.7：アリル鎖の１位のプロトン、 5.8―6.0：アリル鎖の２位のプロトン、 5.1：シクロブチルの１位のプロトン、 6.4：CNと同じ炭素にあるプロトン。 参考例 11： （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（プロパルギルオキシカルボニル）エテ
ニル〕シクロプロパンカルボン酸（Ｓ）α―シ
アノ―３―フエノキシベンジル 参考例10におけるようにして、1.59ｇの（1R，
cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）―２―（プ
ロパルギルオキシカルボニル）エテニル〕シクロ
プロパンカルボン酸（例10で製造）生成物と1.8
ｇの（Ｓ）α―シアノ―３―フエノキシベンジル
アルコールより出発して実施する。２時間反応さ
せた後、全体を過し、液を減圧下に濃縮乾固
し、その残留物をシリカでクロマトグラフイー
し、シクロヘキサン／酢酸エチル混合物（９：
１）で溶離する。2.86ｇの所期生成物を得る。 〔α〕D＝＋44゜±1.5゜（ｃ＝１％、CHCl3）。 NMRスペクトル（CDCl3）ppm 1.23―1.27：シクロプロパンの２位メチルのプロ
トン、 1.93―2.07：シクロプロパンの１位のプロトン、 3.18〜3.5：シクロプロパンの３位のプロトン、 6.46―6.65・6.62―6.82：アリル鎖の１位のプロ
トン、 5.87―6.05：アリル鎖の２位のプロトン、 4.72―4.73：プロパルギルの１位のプロトン、 2.47（ｔ）：プロパルギルの３位のプロトン、 6.3：CNと同じ炭素にあるプロトン、 6.92〜7.6：芳香族プロトン。 薬剤例１：抗菌性組成物 下記の組成の水和粉剤を製造した。 （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（メトキシカルボニルエテニル〕シクロ
プロパン―１―カルボン酸 20ｇ エカパーゾルＳ（Ekapersol Ｓ）(1) 15ｇ ブレコランNVA（Brecolane NVA）(2) 0.5ｇ ゼオシル39（Zeosil 39）(3) 32.5ｇ ベルコリルＳ（Vercoryl Ｓ）(4) 25ｇ (1) ナフタリンスルホン酸ナトリウムの縮合生成
物 (2) アルキルナフタリンスルホン酸ナトリウム (3) 沈殿法により得られた合成水和シリカ (4) コロイド状カオリン 薬剤例２：抗菌性組成物 下記の成分を含む溶液を製造した。 （1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（メトキシカルボニル）エテニル〕シク
ロプロパン―１―カルボン酸 25ｇ／ Emcol Ｈ 300B 80ｇ／ キシレン 89.5ｇ／ 薬理学的研究 Ａ：（1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（メトキシカルボニル）エテニル〕シク
ロプロパンカルボン酸の抗菌活性の研究 接着剤での試験 ３％のカルボキシメチルでん粉を含む水溶液を
用いる。被検化合物を１c.c.のアセトン溶液に配合
し、そしてフザリウム・ロゼウム（Fusarium
roseum）、ペニシリウム・ロクエホルチ
（Penicillium roqueforti）及びアスペルジラス・
ニジエル（Aspergilus niger）の胞子の混合物よ
りなる５c.c.の接種液を加える。菌の発育を、未処
理対照例と比較して、処理及び汚染をしてから48
時間及び８日後に検査する（評価は３〜０のスケ
ール）。 結果は次の通りである。
【表】
結 論
被検化合物は、良好な抗菌活性を示す。
油での試験
３％の合成流動体を含む溶液を用いる。汚染
は、ゲオトリチユーム（Geotrichum）、トリコス
ポロン（Trichosporon）及びセフアロスポリウ
ム（Cephalosporium）の混合物よりなる５c.c.の
接種液によつて行なう。検査は定量的に行なう。 結果は次の通りである。
は、ゲオトリチユーム（Geotrichum）、トリコス
ポロン（Trichosporon）及びセフアロスポリウ
ム（Cephalosporium）の混合物よりなる５c.c.の
接種液によつて行なう。検査は定量的に行なう。 結果は次の通りである。
【表】
結 論
被検化合物は良好な抗菌活性を示す。
Ｂ：（1R，cis）２，２―ジメチル―３―〔（Ｚ）
―２―（メトキシカルボニル）エテニル〕シク
ロプロパンカルボン酸の殺菌活性の研究 接着剤での試験 ３％のカルボキシメチルでん粉を含む水溶液を
用いる。被検化合物を１c.c.のアセトン溶液に配合
し、そしてアエロバクテル・アエロジエネス
（Aerobacter aerogenes）、プソイドモナス・ア
エルジノーサ（Pseudomonas aeruginosa）、エ
シエリチア・コリ（Escherichia coli）、セラチ
ア・マルセセンス（Serratia marcescens）及び
バシラス・サブチリス（Bacillus subtillis）の胞
子の混合物よりなる５c.c.の接種液を加える。この
混合物をオーブンで37℃に48時間、次いで20℃に
６日間置く。 細菌による汚染の検査を処理及び汚染を行なつ
てから48時間及び８日後に血清希釈法及び寒天含
有肉汁中への配合法によつて行なう。 この実験操作を用いて下記の結果が得られた。
―２―（メトキシカルボニル）エテニル〕シク
ロプロパンカルボン酸の殺菌活性の研究 接着剤での試験 ３％のカルボキシメチルでん粉を含む水溶液を
用いる。被検化合物を１c.c.のアセトン溶液に配合
し、そしてアエロバクテル・アエロジエネス
（Aerobacter aerogenes）、プソイドモナス・ア
エルジノーサ（Pseudomonas aeruginosa）、エ
シエリチア・コリ（Escherichia coli）、セラチ
ア・マルセセンス（Serratia marcescens）及び
バシラス・サブチリス（Bacillus subtillis）の胞
子の混合物よりなる５c.c.の接種液を加える。この
混合物をオーブンで37℃に48時間、次いで20℃に
６日間置く。 細菌による汚染の検査を処理及び汚染を行なつ
てから48時間及び８日後に血清希釈法及び寒天含
有肉汁中への配合法によつて行なう。 この実験操作を用いて下記の結果が得られた。
【表】
結 論
被検化合物は、良好な殺菌活性を示す。
本発明の式（）の化合物から導かれる式
（）の化合物の活性の研究 Ａ：参考例１、３及び５の化合物の家ばえに対す
る致死効果の研究 試験害虫は、羽化後４日の雌の家ばえである。
試験は、はえの背側胸部に１／μのアセトン溶液
をアーノルド式ミクロマニピスレーターにより適
所適用する。処理ごとに50匹を用いる。死亡率の
検査を処理してから24時間後に行なう。 得られた結果は、はえの50％を殺すのに必要な
LD50、即ち薬量（ng）で表わすが、下記の通り
である。
（）の化合物の活性の研究 Ａ：参考例１、３及び５の化合物の家ばえに対す
る致死効果の研究 試験害虫は、羽化後４日の雌の家ばえである。
試験は、はえの背側胸部に１／μのアセトン溶液
をアーノルド式ミクロマニピスレーターにより適
所適用する。処理ごとに50匹を用いる。死亡率の
検査を処理してから24時間後に行なう。 得られた結果は、はえの50％を殺すのに必要な
LD50、即ち薬量（ng）で表わすが、下記の通り
である。
【表】
結 論
用いた試験では各化合物は良好な活性を示す。
Ｂ：スポドプテラ・リトラリス（Spodoptera
littoralis）の幼虫に対する致死効果の研究 試験は、幼虫の背側胸部にアセトン溶液をアー
ノルド式ミクロマニピユレーターにより局所適用
することにより行なう。被検化合物の薬量当り10
〜15匹の幼虫を用いる。用いた幼虫は、第四幼虫
段階、即ち、24℃で65％相対湿度にしたときに約
10日経過した幼虫である。処理してから、幼虫は
人工栄養培地（ポアトウ培地）上に置く。 死亡の検査を処理してから48時間後に行なう。 得られた実験結果は次の通りである。
littoralis）の幼虫に対する致死効果の研究 試験は、幼虫の背側胸部にアセトン溶液をアー
ノルド式ミクロマニピユレーターにより局所適用
することにより行なう。被検化合物の薬量当り10
〜15匹の幼虫を用いる。用いた幼虫は、第四幼虫
段階、即ち、24℃で65％相対湿度にしたときに約
10日経過した幼虫である。処理してから、幼虫は
人工栄養培地（ポアトウ培地）上に置く。 死亡の検査を処理してから48時間後に行なう。 得られた実験結果は次の通りである。
【表】
結 論
用いた試験では各化合物は良好な活性を示す。
Ｃ：参考例１、３及び５の化合物のエピラクナ・
バリベストリス（Epilachna varivestris）の
幼虫に対する活性の研究 試験は、スポドプテラの幼虫について用いた態
様と同じ態様で局所適用することによつて行な
う。終りから２番目の幼虫段階の幼虫を用い、そ
して処理した後、幼虫を豆植物により育てる。死
亡率の検査を処理してから72時間後に行なう。 得られた結果は次の通りである。
バリベストリス（Epilachna varivestris）の
幼虫に対する活性の研究 試験は、スポドプテラの幼虫について用いた態
様と同じ態様で局所適用することによつて行な
う。終りから２番目の幼虫段階の幼虫を用い、そ
して処理した後、幼虫を豆植物により育てる。死
亡率の検査を処理してから72時間後に行なう。 得られた結果は次の通りである。
【表】
結 論
用いた試験では各化合物は良好な活性を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 次式 （ここで、Ｒは、１〜８個の炭素原子を含有す
る飽和又は不飽和の、直鎖、分岐鎖又は環状のア
ルキル基を表わし、 二重結合は幾何学的配置Ｚを有する） に相当する、その全ての可能な立体異性体形態に
ある化合物並びにこれらの立体異性体の混合物。 ２ Ｒがメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル又はｔ―ブチル基を表わす特許請求の
範囲第１項記載の式（）の化合物。 ３ Ｒがシクロプロピル又はシクロプロピルメチ
ル基を表わす特許請求の範囲の第１項記載の式
（）の化合物。 ４ 次式 （ここで、Ｒは、１〜８個の炭素原子を含有す
る飽和又は不飽和の、直鎖、分岐鎖又は環状のア
ルキル基を表わし、 二重結合は幾何学的配置Ｚを有する） に相当する、その全ての可能な立体異性体形態に
ある化合物の少なくとも１種を活性成分として含
有する抗菌剤又は殺菌剤組成物。 ５ 活性成分として（1R，cis）２，２―ジメチ
ル―３―［（Ｚ）―２―（メトキシカルボニル）
エテニル］シクロプロパンカルボン酸を含有する
特許請求の範囲第４項記載の抗菌剤又は殺菌剤組
成物。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8008491A FR2480748A1 (fr) | 1980-04-16 | 1980-04-16 | Nouveaux derives de l'acide cyclopropane carboxylique, leur procede de preparation et leur application a la lutte contre les parasites |
| FR80-08491 | 1980-04-16 | ||
| FR80-20478 | 1980-09-24 | ||
| FR8020478A FR2490635A2 (fr) | 1980-04-16 | 1980-09-24 | Nouveaux derives de l'acide cyclopropane carboxylique, leur procede de preparation et leur application a la lutte contre les parasites |
| FR8217056A FR2534250B2 (fr) | 1980-04-16 | 1982-10-12 | Nouveaux derives de l'acide cyclopropane carboxylique, leur procede de preparation et leur application a la lutte contre les parasites |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6064945A JPS6064945A (ja) | 1985-04-13 |
| JPS641457B2 true JPS641457B2 (ja) | 1989-01-11 |
Family
ID=48808577
Family Applications (2)
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|---|---|---|---|
| JP5636881A Granted JPS56164158A (en) | 1980-04-16 | 1981-04-16 | Novel derivatives of cyclopropane carboxylic acid, their manufacture, their use for plant and animal parasite expulsion, composition containing them and novel intermediate compounds |
| JP59147045A Granted JPS6064945A (ja) | 1980-04-16 | 1984-07-17 | シクロプロパンカルボン酸の新誘導体及び抗菌剤 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5636881A Granted JPS56164158A (en) | 1980-04-16 | 1981-04-16 | Novel derivatives of cyclopropane carboxylic acid, their manufacture, their use for plant and animal parasite expulsion, composition containing them and novel intermediate compounds |
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|---|---|
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| EP (1) | EP0038271B1 (ja) |
| JP (2) | JPS56164158A (ja) |
| KR (1) | KR840001324B1 (ja) |
| AT (1) | ATE8253T1 (ja) |
| AU (1) | AU547551B2 (ja) |
| BR (1) | BR8102338A (ja) |
| CA (3) | CA1237142A (ja) |
| DD (2) | DD213209A5 (ja) |
| DE (1) | DE3164538D1 (ja) |
| DK (1) | DK171581A (ja) |
| EG (1) | EG15026A (ja) |
| ES (4) | ES501412A0 (ja) |
| FI (1) | FI75149C (ja) |
| FR (3) | FR2480748A1 (ja) |
| GR (1) | GR75595B (ja) |
| HU (1) | HU188011B (ja) |
| IE (1) | IE51397B1 (ja) |
| IL (1) | IL62529A (ja) |
| MA (1) | MA19124A1 (ja) |
| MX (1) | MX6993E (ja) |
| NZ (1) | NZ196809A (ja) |
| OA (1) | OA06786A (ja) |
| PH (1) | PH18963A (ja) |
| PT (1) | PT72837B (ja) |
| SU (1) | SU1210661A3 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| OA06786A (fr) * | 1980-04-16 | 1982-12-31 | Roussel Uclaf | Nouveaux dérivés de l'acide cyclopropane, leur préparation, leur application à la lutte contre les parasites des végétaux et des animaux, les compositions les renfermant et les nouveaux intermediaires obtenus. |
| FR2491060A1 (fr) * | 1980-10-01 | 1982-04-02 | Roussel Uclaf | Esters d'acides cyclopropanes carboxyliques apparentes a l'acide pyrethrique, leur procede de preparation et leur application a la lutte contre les parasites |
| US4489093A (en) * | 1980-10-01 | 1984-12-18 | Roussel Uclaf | Insecticidal esters |
| FR2526018A1 (fr) * | 1982-04-30 | 1983-11-04 | Roussel Uclaf | Esters d'acides cyclopropane carboxyliques d'alcool a-cyano 3-phenoxybenzyle substitue, leur procede de preparation et les compositions les renfermant |
| FR2526017B1 (fr) * | 1982-04-30 | 1985-10-11 | Roussel Uclaf | Ester d'acide cyclopropane carboxylique et d'alcool (s) cyano (4-fluoro 3-phenoxyphenyl) methylique, son procede de preparation et les compositions pesticides le renfermant |
| FR2533416B1 (fr) * | 1982-09-29 | 1988-09-02 | Roussel Uclaf | Nouvelles compositions pesticides renfermant un photostabilisant |
| FR2539411B2 (fr) * | 1983-01-17 | 1986-04-25 | Roussel Uclaf | Nouveaux derives de l'acide cyclopropane carboxylique, leur procede de preparation, leur application a la lutte contre les parasites |
| FR2610624B1 (fr) * | 1987-02-06 | 1989-06-09 | Roussel Uclaf | Nouveaux esters d'acides cyclopropanecarboxyliques apparentes a l'acide pyrethrique, leur procede de preparation et leur application a la lutte contre les parasites |
| US5212246A (en) * | 1990-09-28 | 1993-05-18 | Himont Incorporated | Olefin polymer films |
| FR2691966A1 (fr) * | 1992-06-04 | 1993-12-03 | Roussel Uclaf | Nouveau procédé de préparation d'esters de l'acide 2,2-diméthyl 3-[(z) 1-propényl] cyclopropane carboxylique et intermédiaires. |
| JP3694915B2 (ja) | 1994-06-17 | 2005-09-14 | 住友化学株式会社 | エステル化合物およびそれを有効成分とする有害生物防除剤 |
| US5943815A (en) | 1997-03-14 | 1999-08-31 | University Of Florida | Method and delivery system for the carbon dioxide-based, area specific attraction of insects |
| HUP0200237A3 (en) | 2001-01-24 | 2004-01-28 | Sumitomo Chemical Co | Process for producing cyclopropanecarboxylates |
| ZA200409433B (en) * | 2003-11-26 | 2005-07-14 | Sumitomo Chemical Co | Process for the preparation of carboxylic acid esters. |
| EP2067794A1 (en) | 2007-12-06 | 2009-06-10 | Borealis Technology OY | Use of a Ziegler-Natta procatalyst containing a trans-esterification product of a lower alcohol and a phthalic ester for the production of reactor grade thermoplastic polyolefins with improved paintability |
| EP2637784B1 (en) * | 2010-11-11 | 2022-05-18 | Mitsubishi Chemical UK Limited | A process for the production of ethylenically unsaturated carboxylic acids or esters and a catalyst therefor |
| WO2021022059A1 (en) * | 2019-07-30 | 2021-02-04 | University Of Florida Research Foundation, Incorporated | Synergistic mixtures for arthropod toxicity and repellency |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3666789A (en) * | 1969-05-21 | 1972-05-30 | Sumitomo Chemical Co | Cyclopropanecarboxylic acid esters |
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| JPS515450B1 (ja) * | 1971-06-29 | 1976-02-20 | ||
| US4024163A (en) * | 1972-05-25 | 1977-05-17 | National Research Development Corporation | Insecticides |
| DE2326077C2 (de) * | 1972-05-25 | 1985-12-12 | National Research Development Corp., London | Ungesättigte Cyclopropancarbonsäuren und deren Derivate, deren Herstellung und diese enthaltende Insektizide |
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| FR2482955A1 (fr) * | 1980-05-23 | 1981-11-27 | Roussel Uclaf | Nouveaux derives de l'acide cyclopropane carboxylique, leur procede de preparation et leur application a la lutte contre les parasites |
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- 1980-04-15 OA OA57375A patent/OA06786A/xx unknown
- 1980-04-16 FR FR8008491A patent/FR2480748A1/fr active Granted
- 1980-09-24 FR FR8020478A patent/FR2490635A2/fr active Granted
-
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