JPS641548B2 - - Google Patents
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- JPS641548B2 JPS641548B2 JP55066397A JP6639780A JPS641548B2 JP S641548 B2 JPS641548 B2 JP S641548B2 JP 55066397 A JP55066397 A JP 55066397A JP 6639780 A JP6639780 A JP 6639780A JP S641548 B2 JPS641548 B2 JP S641548B2
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Classifications
-
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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-
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-
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-
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- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/5846—Reactive treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/02—Pretreatment of the material to be coated
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、金属被膜を物理的蒸気析出法によ
つて被加工物表面に形成した後、これを周囲の空
気に触れさせる前にその表面にさらに不活性の薄
膜層を形成する不動態化処理を行つて耐酸化耐候
性を与えようとする装置に関するものである。
つて被加工物表面に形成した後、これを周囲の空
気に触れさせる前にその表面にさらに不活性の薄
膜層を形成する不動態化処理を行つて耐酸化耐候
性を与えようとする装置に関するものである。
例えば、建築用断熱材、装飾、ペーパーケミカ
ルコンデンサーなどに使用される表面処理された
長尺材である金属化フイルムにおいて、表面にア
ルミニウム、クローム、亜鉛、錫などの薄膜を真
空蒸着、イオンプレーテイング、スパツタリング
などの物理的蒸気析出法によつて付着させること
は従来より公知である。これらの方法では成膜金
属が極めて活性化された状態での処理であるの
で、処理後大気中に取り出すと直ちに表面が酸化
し勝ちである。この時フイルムの部分的温度勾配
とか、直接露出されている面とフイルムで覆われ
ている捲き込まれた内部の面とかの局部的条件に
よつて、酸化度にムラを生じ、製品の品質、例え
ば電気的、光学的特性、装飾的価値などに劣化を
生ずる。
ルコンデンサーなどに使用される表面処理された
長尺材である金属化フイルムにおいて、表面にア
ルミニウム、クローム、亜鉛、錫などの薄膜を真
空蒸着、イオンプレーテイング、スパツタリング
などの物理的蒸気析出法によつて付着させること
は従来より公知である。これらの方法では成膜金
属が極めて活性化された状態での処理であるの
で、処理後大気中に取り出すと直ちに表面が酸化
し勝ちである。この時フイルムの部分的温度勾配
とか、直接露出されている面とフイルムで覆われ
ている捲き込まれた内部の面とかの局部的条件に
よつて、酸化度にムラを生じ、製品の品質、例え
ば電気的、光学的特性、装飾的価値などに劣化を
生ずる。
この発明は上記の欠点をなくするために、原材
料に被覆された金属薄膜の表面にそれぞれ大気に
触れる前に耐酸化耐候性の一様な被膜を形成する
装置を提供するものである。
料に被覆された金属薄膜の表面にそれぞれ大気に
触れる前に耐酸化耐候性の一様な被膜を形成する
装置を提供するものである。
この発明の装置は、真空室内で物理的蒸気析出
法により被加工物表面に金属被膜を析出させた
後、隣接した処理室内に真空を保持した状態で該
被加工物を導入させ、つで同処理室内の対向電極
間に低圧プラズマ放電中を通過させることを特徴
とする。
法により被加工物表面に金属被膜を析出させた
後、隣接した処理室内に真空を保持した状態で該
被加工物を導入させ、つで同処理室内の対向電極
間に低圧プラズマ放電中を通過させることを特徴
とする。
又表面処理された長尺材、例えば金属化フイル
ムに実施する場合のこの発明の装置は、材料装填
口、真空排気ポンプを具えた真空表面処理室と材
料取出口、活性ガス導入口及び真空排気ポンプを
具えた真空不動態化処理室をスリツトを介して連
接し、前記真空表面処理室には原料フイルム捲回
ローラ、水冷ローラ及び前記スリツトへの案内ロ
ーラを設けた上方部と前記水冷ローラの下方の露
出面に向つた物理的蒸気析出装置を設けた下方部
を設け、又前記真空不動態化処理室には上下に低
圧プラズマ放電電極板を設け前記スリツトよりフ
イルム捲取ローラへ前記電極板間を通してフイル
ムを案内する案内ローラを設けたことを特徴とす
る。以下に図面を参照してこの発明の実施例を詳
細に説明する。
ムに実施する場合のこの発明の装置は、材料装填
口、真空排気ポンプを具えた真空表面処理室と材
料取出口、活性ガス導入口及び真空排気ポンプを
具えた真空不動態化処理室をスリツトを介して連
接し、前記真空表面処理室には原料フイルム捲回
ローラ、水冷ローラ及び前記スリツトへの案内ロ
ーラを設けた上方部と前記水冷ローラの下方の露
出面に向つた物理的蒸気析出装置を設けた下方部
を設け、又前記真空不動態化処理室には上下に低
圧プラズマ放電電極板を設け前記スリツトよりフ
イルム捲取ローラへ前記電極板間を通してフイル
ムを案内する案内ローラを設けたことを特徴とす
る。以下に図面を参照してこの発明の実施例を詳
細に説明する。
第１図は長尺フイルムに耐酸化耐候性被膜を形
成するための装置の１実施例を示している。
成するための装置の１実施例を示している。
Ａ室は真空蒸着、イオンプレーテイング、スパ
ツタリングなどによりフイルムに連続的に成膜処
理をする真空表面処理室である。図示の実施例は
真空蒸着によるもので、上下の２室１，２に仕切
壁３によつて分れており、排気ポンプ４，５（図
示なし）によつて上室１は比較的低真空に、下室
２は蒸着用に高真空にするのが望ましい。スパツ
タ、イオンプレーテイングの場合には上下の２室
に仕切る必要はない。
ツタリングなどによりフイルムに連続的に成膜処
理をする真空表面処理室である。図示の実施例は
真空蒸着によるもので、上下の２室１，２に仕切
壁３によつて分れており、排気ポンプ４，５（図
示なし）によつて上室１は比較的低真空に、下室
２は蒸着用に高真空にするのが望ましい。スパツ
タ、イオンプレーテイングの場合には上下の２室
に仕切る必要はない。
Ａ室内で捲回ローラR1に捲回された原料フイ
ルム６が連続的に巻き出され、仕切壁３の孔より
下室２内に露出している水冷ローラR2の下面で
蒸発源７により蒸発金属を蒸着される。成膜され
たフイルム６は案内ローラR3を介してスリツト
ＳからＢ室内に導入される。
ルム６が連続的に巻き出され、仕切壁３の孔より
下室２内に露出している水冷ローラR2の下面で
蒸発源７により蒸発金属を蒸着される。成膜され
たフイルム６は案内ローラR3を介してスリツト
ＳからＢ室内に導入される。
極めて狭いスリツトＳを通過してＢ室に導入さ
れたフイルムは案内ローラB4を介して下方に方
向を変え、案内ローラR5により電極板p1，p2間
を通過させられ、案内ローラR6により上方に向
い、捲取ローラR7によつて捲き取られる。
れたフイルムは案内ローラB4を介して下方に方
向を変え、案内ローラR5により電極板p1，p2間
を通過させられ、案内ローラR6により上方に向
い、捲取ローラR7によつて捲き取られる。
このスリツトＳはフイルム６が通過できるだけ
の極めて小さい隙間であり、進行方向にやゝ長目
に延びる通過溝を形成している。Ｂ室の
10-1〜-3Torr程度の圧力のガスは、この溝の存在
する真空中の通気抵抗によつてＡ室への逆流は殆
んど無視できる。
の極めて小さい隙間であり、進行方向にやゝ長目
に延びる通過溝を形成している。Ｂ室の
10-1〜-3Torr程度の圧力のガスは、この溝の存在
する真空中の通気抵抗によつてＡ室への逆流は殆
んど無視できる。
このＢ室の圧力は、上述のように例えば
10-1〜-3Torr程度に真空ポンプ８（図示なし）に
よつて維持され、酸素、窒素又はこの混合ガスが
導入口９により注入されてＢ室は不活性ガスの雰
囲気とされる。
10-1〜-3Torr程度に真空ポンプ８（図示なし）に
よつて維持され、酸素、窒素又はこの混合ガスが
導入口９により注入されてＢ室は不活性ガスの雰
囲気とされる。
電極板p1，p2間には直流又は交流のたとえば約
1000Vの電圧をかけ電極間に上記のガスの低圧プ
ラズマ放電（グロー放電）を発生させる。
1000Vの電圧をかけ電極間に上記のガスの低圧プ
ラズマ放電（グロー放電）を発生させる。
すなわち、酸素又は窒素あるいは混合ガスのグ
ロー中ではこれらはイオンあるいは活性化された
ラヂカルなガスとなつているので、Ａ室で成膜さ
れた物理的蒸気析出膜の活性化された表面と極め
て容易に結合し、一様で緻密な酸化あるいは窒化
膜が金属表面を覆うようになる。
ロー中ではこれらはイオンあるいは活性化された
ラヂカルなガスとなつているので、Ａ室で成膜さ
れた物理的蒸気析出膜の活性化された表面と極め
て容易に結合し、一様で緻密な酸化あるいは窒化
膜が金属表面を覆うようになる。
さらにグロー中を通過する間に膜表面温度が上
り膜内の格子欠陥、内部応力を減少させ、電気抵
抗などの経時変化分をその時点で加速させて以後
の変化分を減少させるなどの効果を生ずる。
り膜内の格子欠陥、内部応力を減少させ、電気抵
抗などの経時変化分をその時点で加速させて以後
の変化分を減少させるなどの効果を生ずる。
なおＢ室内で電極板p1，p2間をフイルム６が通
過するため、図示の実施例のような案内ローラ
R4，R5，R6で経路を変換させるとグローの散逸
をふせぎ、グローに触れる効果を増すことができ
る。この経路は第２図に示すように変換してもよ
い。
過するため、図示の実施例のような案内ローラ
R4，R5，R6で経路を変換させるとグローの散逸
をふせぎ、グローに触れる効果を増すことができ
る。この経路は第２図に示すように変換してもよ
い。
このプラズマガス中を通過するため蒸着された
金属被膜の表面は積極的に酸化あるいは窒化され
て一様の緻密な酸化膜あるいは窒化膜が生ずる。
金属被膜の表面は積極的に酸化あるいは窒化され
て一様の緻密な酸化膜あるいは窒化膜が生ずる。
でき上つたフイルムを大気中にとり出して放置
しても、この表面の不動態化膜を有する二重構造
のため、大気中の酸素との結合は、これ以上進行
せず安定な膜となつているものであるから、長く
大気中に保存されても、膜質の変化はなく、耐酸
化耐候性を増加させた長尺フイルムを得ることが
できる。
しても、この表面の不動態化膜を有する二重構造
のため、大気中の酸素との結合は、これ以上進行
せず安定な膜となつているものであるから、長く
大気中に保存されても、膜質の変化はなく、耐酸
化耐候性を増加させた長尺フイルムを得ることが
できる。
第１図中の１０，１１はＡ，Ｂ室の蓋を示し、
ここよりフイルムの出し入れをすることができ
る。
ここよりフイルムの出し入れをすることができ
る。
第１図、第２図は長尺材フイルムを表面処理後
に耐酸化耐候性被膜を形成する装置の説明図であ
る。 Ａ……真空表面処理室、Ｂ……不動態化処理
室、Ｃ……積込室、Ｄ……物理的蒸気処理室、Ｅ
……低圧プラズマ放電処理室、Ｆ……積出室、
R1……捲回ローラ、R7……捲取ローラ、R2，
R3，R4，R5，R6……案内ローラ、p1，p2……電
極板、３……仕切板、４，５，８……排気ポン
プ、６……フイルム、７……蒸発源、９……ガス
導入口。
に耐酸化耐候性被膜を形成する装置の説明図であ
る。 Ａ……真空表面処理室、Ｂ……不動態化処理
室、Ｃ……積込室、Ｄ……物理的蒸気処理室、Ｅ
……低圧プラズマ放電処理室、Ｆ……積出室、
R1……捲回ローラ、R7……捲取ローラ、R2，
R3，R4，R5，R6……案内ローラ、p1，p2……電
極板、３……仕切板、４，５，８……排気ポン
プ、６……フイルム、７……蒸発源、９……ガス
導入口。
Claims (1)
- １ 材料装填口、真空排気ポンプを具えた真空表
面処理室と材料取出口、活性ガス導入口及び真空
排気ポンプを具えた真空不動態化処理室をスリツ
トを介して連接し、前記真空表面処理室には原料
フイルム捲回ローラ、水冷ローラ及び前記スリツ
トへの案内ローラを設けた上方部と前記水冷ロー
ラの下方の露出面に向つた物理的蒸気析出装置を
設けた下方部を設け、又前記真空不動態化処理室
には上下に低圧プラズマ放電電極板を設け、前記
スリツトよりフイルム捲取ローラへ前記電極板間
を通してフイルムを案内する案内ローラを設けた
ことを特徴とする長尺フイルムの表面処理後の耐
酸化耐候性被膜の形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6639780A JPS56163262A (en) | 1980-05-21 | 1980-05-21 | Method and apparatus for forming oxidation and weather resistant film after surface treatment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6639780A JPS56163262A (en) | 1980-05-21 | 1980-05-21 | Method and apparatus for forming oxidation and weather resistant film after surface treatment |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17034184A Division JPS60194060A (ja) | 1984-08-17 | 1984-08-17 | 表面処理後の耐酸化耐候性被膜の形成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56163262A JPS56163262A (en) | 1981-12-15 |
| JPS641548B2 true JPS641548B2 (ja) | 1989-01-11 |
Family
ID=13314629
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6639780A Granted JPS56163262A (en) | 1980-05-21 | 1980-05-21 | Method and apparatus for forming oxidation and weather resistant film after surface treatment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS56163262A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0082654A1 (en) * | 1981-12-19 | 1983-06-29 | General Engineering Radcliffe 1979 Limited | Apparatus for and a method of coating a length of material |
| JPH0762238B2 (ja) * | 1990-08-03 | 1995-07-05 | 松下電器産業株式会社 | 両面蒸着フィルムの製造方法 |
| BE1010420A3 (fr) * | 1996-07-12 | 1998-07-07 | Cockerill Rech & Dev | Procede pour la formation d'un revetement sur un substrat et installation pour la mise en oeuvre de ce procede. |
| GB2529649B (en) * | 2014-08-27 | 2016-07-27 | Bobst Manchester Ltd | Vacuum coaters and methods of operating a vacuum coater |
-
1980
- 1980-05-21 JP JP6639780A patent/JPS56163262A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56163262A (en) | 1981-12-15 |
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