JPS6426367U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6426367U JPS6426367U JP11971387U JP11971387U JPS6426367U JP S6426367 U JPS6426367 U JP S6426367U JP 11971387 U JP11971387 U JP 11971387U JP 11971387 U JP11971387 U JP 11971387U JP S6426367 U JPS6426367 U JP S6426367U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- winding
- thin film
- chamber
- forming apparatus
- adherend substrate
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図は本考案の一実施例を示す巻取式薄膜形
成装置の模式的断面図を示す。 １……真空槽、２……排気口、３……巻出軸、
４……巻取軸、５……処理ドラム、６……ターゲ
ツト、７……ガス噴出管、８……仕切板、９……
遮蔽板、１０……コンダクタンスバルブ、１１…
…被着基体（フイルム）、１２，１３……ガイド
ロール、Ａ……巻取室、Ｂ……スパツタ処理室。
成装置の模式的断面図を示す。 １……真空槽、２……排気口、３……巻出軸、
４……巻取軸、５……処理ドラム、６……ターゲ
ツト、７……ガス噴出管、８……仕切板、９……
遮蔽板、１０……コンダクタンスバルブ、１１…
…被着基体（フイルム）、１２，１３……ガイド
ロール、Ａ……巻取室、Ｂ……スパツタ処理室。
Claims (1)
- プラスチツクフイルム等の被着基体に薄膜を形
成させる巻取式薄膜形成装置であつて、前記巻取
式薄膜形成装置は、仕切壁と処理ドラムにより分
離された巻取室と処理室とを具備しており、かつ
前記巻取室には前記被着基体を巻出す巻出軸と、
被着基体を巻取る巻取軸と、ガイドロールとを備
えており、一方処理室にはターゲツトと、ガス噴
出管とを備えており、かつ前記仕切壁にはガス噴
出管からガスの圧力を調整するための移動自在な
遮蔽板が設けられており、スパツタ処理中におい
て被着基体からデガツシングした不純物ガスが巻
取室側で排気されうるようにしたことを特徴とす
る巻取式薄膜形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11971387U JPS6426367U (ja) | 1987-08-04 | 1987-08-04 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11971387U JPS6426367U (ja) | 1987-08-04 | 1987-08-04 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6426367U true JPS6426367U (ja) | 1989-02-14 |
Family
ID=31365183
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11971387U Pending JPS6426367U (ja) | 1987-08-04 | 1987-08-04 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6426367U (ja) |
-
1987
- 1987-08-04 JP JP11971387U patent/JPS6426367U/ja active Pending
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