JPS6430358U - - Google Patents

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JPS6430358U
JPS6430358U JP3564988U JP3564988U JPS6430358U JP S6430358 U JPS6430358 U JP S6430358U JP 3564988 U JP3564988 U JP 3564988U JP 3564988 U JP3564988 U JP 3564988U JP S6430358 U JPS6430358 U JP S6430358U
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JP
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reaction chamber
substrate
vapor phase
metal thin
active metal
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【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の実施例を示す図、第2図は作
成された薄膜の性質を示す図、第3図は多の実施
例を示す図である。 10……真空系、11……反応室、13,14
……真空室、20……排気系、31……基板、4
0……加熱手段、50……気体を導入する手段で
ある。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 内部を真空にする反応室と、前記反応室内
    を排気する排気系、前記反応室内に基板を設置し
    且つこの基板を所定の温度に加熱する手段、及び
    前記容器内に所定の気体を導入する手段を有して
    前記基板上に化学的に活性な金属薄膜の成長を行
    う気相成長装置において、前記反応室の内部の到
    達圧力を、1×10−6Torr以下に排気する
    ようにしたことを特徴とする化学的に活性な金属
    薄膜の気相成長装置。 (2) 前記反応室に、少なくとも一つの真空室を
    連設し、当該真空室を通して基板を前記反応室に
    出し入れすることにより、前記反応室内を常に真
    空に維持するようにしたことを特徴とする請求項
    1記載の化学的に活性な金属薄膜の気相成長装置
    。
JP3564988U 1988-03-17 1988-03-17 Pending JPS6430358U (ja)

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JP3564988U JPS6430358U (ja) 1988-03-17 1988-03-17

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JPS6430358U true JPS6430358U (ja) 1989-02-23

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JP3564988U Pending JPS6430358U (ja) 1988-03-17 1988-03-17

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59110775A (ja) * 1982-12-13 1984-06-26 Koujiyundo Kagaku Kenkyusho:Kk 金属膜形成方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59110775A (ja) * 1982-12-13 1984-06-26 Koujiyundo Kagaku Kenkyusho:Kk 金属膜形成方法

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