JPS6437035U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6437035U JPS6437035U JP13139887U JP13139887U JPS6437035U JP S6437035 U JPS6437035 U JP S6437035U JP 13139887 U JP13139887 U JP 13139887U JP 13139887 U JP13139887 U JP 13139887U JP S6437035 U JPS6437035 U JP S6437035U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exhaust
- plasma processing
- exhaust port
- gas
- processed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 4
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第1図は本考案の一実施例による装置の断面側
面図、第2図A及び同図Bは第1図のX−X′線
及びY−Y′線に沿つた各断面図、第3図は従来
装置の断面側面図、第4図は第3図の上部電極の
平面図、第5図乃至第7図は被処理体のエツチン
グ前と後を示す各断面図である。 図中、101……ベルジヤ、101a……第1
の排気口、102……上部電極、102a……上
部電極板、102a1……第2の排気口、102
a2……ガス導入口、102b……上部支持軸、
102b1……排気経路部、102b2……ガス
導入経路部、103……下部電極、103a……
下部電極板、103b……下部支持軸、105…
…マニホールド、106……第1の排気量調整器
、107……第2の排気量調整器。
面図、第2図A及び同図Bは第1図のX−X′線
及びY−Y′線に沿つた各断面図、第3図は従来
装置の断面側面図、第4図は第3図の上部電極の
平面図、第5図乃至第7図は被処理体のエツチン
グ前と後を示す各断面図である。 図中、101……ベルジヤ、101a……第1
の排気口、102……上部電極、102a……上
部電極板、102a1……第2の排気口、102
a2……ガス導入口、102b……上部支持軸、
102b1……排気経路部、102b2……ガス
導入経路部、103……下部電極、103a……
下部電極板、103b……下部支持軸、105…
…マニホールド、106……第1の排気量調整器
、107……第2の排気量調整器。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) ベルジヤ内に反応ガスを導入するためのガ
ス導入口と、該ガス導入口に対向配置され、被処
理体を支持する支持手段と、上記ベルジヤ内を排
気するための排気口とを備え、上記ベルジヤ内に
導入された反応ガスをガスプラズマ化して上記被
処理体をプラズマ処理するプラズマ処理装置にお
いて、 排気口を、支持手段の外周囲を相対的に囲む第
1の排気口と上記支持手段に支持された被処理体
の中央部に対向配置された第2の排気口とから構
成し且つガス導入口を上記第2の排気口の周囲を
囲んで配置したことを特徴とするプラズマ処理装
置。 (2) 第1及び第2の排気口からベルジヤ外に導
出した排気経路上の排気量を各々個別に調整する
排気量調整手段を備えたことを特徴とする実用新
案登録請求の範囲第1項記載のプラズマ処理装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13139887U JPS6437035U (ja) | 1987-08-31 | 1987-08-31 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13139887U JPS6437035U (ja) | 1987-08-31 | 1987-08-31 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6437035U true JPS6437035U (ja) | 1989-03-06 |
Family
ID=31387427
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13139887U Pending JPS6437035U (ja) | 1987-08-31 | 1987-08-31 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6437035U (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100935144B1 (ko) * | 2006-12-20 | 2010-01-06 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 플라스마 처리 장치 |
| JPWO2014129246A1 (ja) * | 2013-02-21 | 2017-02-02 | 株式会社 イアス | 基板のエッチング装置及び基板の分析方法 |
| JP2018021216A (ja) * | 2016-08-01 | 2018-02-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜装置 |
-
1987
- 1987-08-31 JP JP13139887U patent/JPS6437035U/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100935144B1 (ko) * | 2006-12-20 | 2010-01-06 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 플라스마 처리 장치 |
| JPWO2014129246A1 (ja) * | 2013-02-21 | 2017-02-02 | 株式会社 イアス | 基板のエッチング装置及び基板の分析方法 |
| JP2018021216A (ja) * | 2016-08-01 | 2018-02-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜装置 |