JPS649976B2 - - Google Patents
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式
(式中、Rfは炭素数1〜20個を有するペルフ
ルオロアルキル基、Arは置換若しくは未置換の
フエニル基であり、Xは−OSO2Yで表わされる
基、−OCOZで表わされる基、ハロゲン原子、
BF4、ClO4、PF4、PF6、AsF4、AsF6、SbF6、
又はSbF4である。ただしYは置換若しくは未置
換のアルキル基、置換若しくは未置換のアリール
基、ハロゲン原子、OM基、アルコキシ基、フエ
ノキシ基又はペルハロアルキル基であり、Zは置
換若しくは未置換のアルキル基、置換若しくは未
置換のアリール基又はペルハロアルキル基であ
る。Mは水素原子、アルカリ金属原子、アンモニ
ウム残基、ピリジニウム残基又は【式】で表 わされる基であり、R1、R2、R3、R4、R5及びR6
は水素原子、ハロゲン原子、置換又は未置換のア
ルキル基又はアリール基であり、R9は水素原子、
アルキル基又はアリール基である。nは0又は1
である。R1とR5は一体となり環状構造を形成し
得る。)で表わされるペルフルオロアルキル置換
エステルの製造方法に関する。 本発明により得られる前記一般式()で表わ
されるペルフルオロアルキル置換エステルは、表
面活性を有する有用物質合成の中間体となり得
る。例えば前記一般式()で表わされるペルフ
ルオロアルキル置換エステルのうちギ酸2−(ペ
ルフルオロアルキル)エチルエステルや酢酸2−
(ペルフルオロアルキル)エチルエステルは加水
分解することにより、2−(ペルフルオロアルキ
ル)エタノールへ導くことができる〔R&Dレポ
ート“フツ素化合物の化学と工業”,(1977年、シ
ーエムシー出版)388頁及びJ・Org.Chem.,23,
1166(1958)参照〕。このアルコールは界面活性
剤、撥水撥油剤、紙、皮革、繊維等の表面処理
剤、消火剤、集油剤、潤滑油添加剤等の中間体と
して有用なものである〔有機合成化学、第31巻、
第6号508頁(1973年)、R&Dレポート“フツ素
化合物の化学と工業”(1977年、シーエムシー出
版)参照〕。 また、ギ酸又は酢酸4−(ペルフルオロアルキ
ル)−2−ブテニルエステルは加水分解すること
によつて4−(ペルフルオロアルキル)−2−ブテ
ン−1−オールへ導くことができる(参考例1及
び2参照)。4−(ペルフルオロアルキル)−2−
ブテン−1−オールは界面活性剤、撥水撥油剤、
紙、皮革、繊維等の表面処理剤、消火剤、集油
剤、潤滑油添加剤、フツ素ゴム、集積回路用レジ
スト等の中間体として有用なものである。例え
ば、脱水反応を行なうことにより容易に表面活性
を有するフツ素重合体のモノマーとして有用な1
−(ペルフルオロアルキル)−1,3−ブタジエン
へ導くことができる(参考例3、米国特許第
2892824号、第2912407号及び第3398128号参照)。
また、4−(ペルフルオロアルキル)−2−ブテン
−1−オールをメタクリル酸クロリドと反応させ
ることにより、繊維等の撥水撥油剤として、また
集積回路用のレジストとして有用なフツ素メタク
リル酸エステル重合体のモノマーであるメタクリ
ル酸4−(ペルフルオロアルキル)−2−ブテニル
エステルを製造することができる(参考例4、R
&Dレポート“フツ素化合物の最先端応用技術”
138頁及び“フツ素化合物の化学と工業”391頁参
照)。メタクリル酸4−(ペルフルオロアルキル)
−2−ブテニルエステルは酸部分とペルフルオロ
アルキル基部分との中間に不飽和結合をもつ全く
新しい型の撥水撥油剤及び集積回路用のレジスト
製造用のモノマーである。 1−(ペルフルオロアルキル)−1,3−ブタジ
エンの従来の製造方法として例えばペルフルオロ
アルキル基がトリフルオロメチル基の場合、(1)ト
リフルオロアセチルアセトンを高圧、高温(150
気圧、100℃)の条件下、ラネーニツケルで還元
し、ジオールを得て、更に酢酸無水物でジアセテ
ートにした後、470℃で熱分解を行つて得る方法
〔J・Amer.Chem・Soc.,76,5147(1954)参
照〕、また(2)トリフルオロ酢酸エチルとコハク酸
ジエチルとをクライゼン縮合させた後、酸性加水
分解を行つて得られる5,5,5−トリフルオロ
ラエブル酸(5,5,5−trifluorolaevulic
acid)を水素化リチウムアルミニウムで還元し、
ジオールとし、更にジアセテートとした後、520
℃で熱分解する方法(Tetrahedron,1960,164
参照)、更に(3)3,3,3−トリフルオロ−1−
プロピンとエチルアルコールとの混合物に60CO
のγ線を長時間照射することによつて付加物を
得、五酸化リンで脱水する方法(特公昭46−
14044号参照)が知られている。 しかしながら(1)及び(2)の方法は反応経路が長
く、しかも最後の熱分解反応は500℃前後という
高温下に行うため、省エネルギーという観点から
好ましくない。(3)は放射性物質である60Coを使用
し、しかも収率が低い。以上の点から1−(ペル
フルオロアルキル)−1,3−ブタジエンの製造
のための従来法は工業的な製法としては不満足な
ものである。 従来、前記一般式()で表わされるペルフル
オロアルキル置換エステルの製造法としては、ヨ
ードペルフルオロアルカンとエチレンをラジカル
発生条件下反応させ2−(ペルフルオロアルキル)
エチル沃化物とした後(1)ジメチルホルムアミドと
高温(140℃)で反応させ加水分解して得る方法
〔J・Chem.Soc.,1949,2856及びR&Dレポー
ト,“フツ素化合物の化学と工業”(1977,シーエ
ムシー出版)388頁参照〕又は(2)酢酸銀と処理す
る方法〔J.Org.Chem.,23,1166(1958)〕が知ら
れている。 しかしながら従来法のヨードペルフルオロアル
カンとエチレンとの反応は、ラジカル反応条件下
のため重合反応が併発しやすく反応制御が困難で
あり、次のジメチルホルムアミドと反応させる方
法(1)では高温を必要とするため省エネルギーの観
点から好ましくない。また、酢酸銀を用いる方法
(2)は、高価な銀塩を使うため経済的に不利であ
る。 以上の点から従来法は工業的製法としては不満
足である。 本発明者等は、従来の欠点を克服すべく鋭意検
討を続けた結果、温和な条件下で簡便にペルフル
オロアルキル置換エステルを製造する方法を見出
し、本発明を完成するに至つたものである。 本発明は、一般式 (式中、Rfは炭素数1〜20個を有するペルフ
ルオロアルキル基、Arは置換若しくは未置換の
フエニル基であり、Xは−OSO2Yで表わされる
基、−OCOZで表わされる基、ハロゲン原子、
BF4、ClO4、PF4、PF6、AsF4、AsF6、SbF6又
はSbF4である。ただしYは置換若しくは未置換
のアルキル基、置換若しくは未置換のアリール
基、ハロゲン原子、OM基、アルコキシ基、フエ
ノキシ基、又はペルハロアルキル基であり、Zは
置換若しくは未置換のアルキル基、置換若しくは
未置換のアリール基又はペルハロアルキル基であ
る。Mは水素原子、アルカリ金属原子、アンモニ
ウム残基、ピリジニウム残基又は【式】で表 わされる基である。)で表わされるペルフルオロ
アルキルアリールヨードニウム化合物と、一般式 R1R2C(=CR3−CR4(=oCR5R6 −() (R1、R2、R3、R4、R5及びR6は水素原子、ハ
ロゲン原子、置換若しくは未置換のアルキル基又
はアリール基である。nは0又は1である。R1
とR5は一体となり環状構造を形成し得る。)で表
わされるエン化合物と、一般式 (式中、R7、R8及びR9は水素原子、アルキル
基又はアリール基である。)で表わされるアミド
化合物とを反応させ続いて加水分解することによ
つて前記一般式()で表わされるペルフルオロ
アルキル置換エステルを製造するものである。 本発明の原料である前記一般式()で表わさ
れるペルフルオロアルキルアリールヨードニウム
化合物は、工業的に入手できる沃化ペルフルオロ
アルカンを酸化又はフツ素化して得られるジ(ト
リフルオロアセトキシ)ヨードペルフルオロアル
カン又はジフルオロヨードペルフルオロアルカン
〔Zh.Org.Khim・6,329(1970),J.Fluorine
Chem.,8,177(1976)及びJ.Amer.Chem.Soc.,
91,3054(1969)参照〕を酸の存在下、置換又は
未置換のベンゼンと反応させる方法、置換又は未
置換のベンゼンと反応させた後ハロゲン化アルカ
リ金属塩と処理する方法、又はペルフルオロアル
キルアリールヨードニウムクロリドと銀塩とを反
応させる方法により得ることができる〔Zh.
Org・Khim.7,1473(1971),Zh.Org.Khim.,
16,232(1980)、西独公開特許第3021226号、仏国
公開特許第2458527号及び特開昭55−162763号参
照〕。 また一般式()で表わされるペルフルオロア
ルキルアリールヨードニウム化合物においてXが
−OSO2Y(Y=OM)であり、Mがアルカリ金属
原子、アンモニウム残基又はピリジニウム残基の
場合は、一般式()で表わされるペルフルオロ
アルキルヨードニウム化合物(X=OSO2Y,Y
=OH)を相当する塩基で処理することによつて
得られる。 前記一般式()で表わされるペルフルオロア
ルキルアリールヨードニウム化合物としては、n
−ヘンエイコサフルオロデシルフエニルヨードニ
ウムトリフルオロメタンスルホネート、7−トリ
フルオロメチル−ヘキサデカフルオロオクチルフ
エニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネ
ート、n−ヘプタデカフルオロオクチルフエニル
ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、
n−ペンタデカフルオロヘプチルフエニルヨード
ニウムトリフルオロメタンスルホネート、n−ト
リデカフルオロヘキシルフエニルヨードニウムト
リフルオロメタンスルホネート、i−ヘプタフル
オロプロピルフエニルヨードニウムトリフルオロ
メタンスルホネート、n−ヘプタフルオロプロピ
ルフエニルヨードニウムトリフルオロメタンスル
ホネート、ペンタフルオロエチルフエニルヨード
ニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフ
ルオロメチルフエニルヨードニウムトリフルオロ
メタンスルホネート、ペンタフルオロエチルフエ
ニルヨードニウムクロリド、n−ヘプタフルオロ
プロピル−p−トリルヨードニウムクロリド、n
−ヘプタデカフルオロオクチルトリルヨードニウ
ムクロリド、n−ヘプタフルオロプロピルトリル
ヨードニウムトリフルオロアセテート、n−ヘプ
タデカフルオロオクチルフエニルヨードニウムメ
タンスルホネート、n−ヘプタデカフルオロオク
チルフエニルヨードニウムトリクロルメタンスル
ホネート、n−ヘプタフルオロプロピル−p−ト
リルヨードニウムメタンスルホネート、n−ヘプ
タデカフルオロオクチルトリルヨードニウムメタ
ンスルホネート、n−ヘプタフルオロプロピル−
p−トリルヨードニウムベンゼンスルホネート、
モノ(ペンタフルオロエチルフエニルヨードニウ
ム)スルフエート、モノ(n−ヘプタフルオロプ
ロピルフエニルヨードニウム)スルフエート、モ
ノ(i−ヘプタフルオロプロピルフエニルヨード
ニウム)スルフエート、モノ(n−トリデカフル
オロヘキシルフエニルヨードニウム)スルフエー
ト、モノ(n−ヘプタデカフルオロオクチルフエ
ニルヨードニウム)スルフエート、モノ(n−ヘ
ンエイコサフルオロデシルフエニルヨードニウ
ム)スルフエート、ビス(n−ヘプタフルオロプ
ロピルフエニルヨードニウム)スルフエート、n
−ヘプタフルオロプロピルフエニルヨードニウム
フルオロスルホネート、n−ヘプタデカフルオロ
オクチルフエニルヨードニウムクロルスルホネー
ト、n−ヘプタフルオロプロピルフエニルヨード
ニウムメチルスルフエート、n−ヘプタデカフル
オロオクチルフエニルヨードニウムピリジニウム
スルフエート、n−ヘプタフルオロプロピルフエ
ニルヨードニウムナトリウムスルフエート、n−
ヘプタフルオロプロピルフエニルヨードニウムカ
リウムスルフエート、n−トリデカフルオロヘキ
シルフエニルヨードニウムテトラフルオロボレー
ト等を例示することができる。 また、前記一般式()で表わされるエン化合
物としては、エチレン、スチレン、p−メチルス
チレン、p−クロロスチレン、プロペン、ヘキセ
ン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、アリルベ
ンゼン、1−フエニル−1−プロペン、アリルフ
エニルエーテル、1,3−ブタジエン、2−メチ
ル−1,3−ブタジエン、2−クロル−1,3−
ブタジエン、1−フエニル−1,3−ブタジエ
ン、2−フエニル−1,3−ブタジエン、1,3
−ペンタジエン、シクロヘキサジエン、シクロヘ
プタジエン、シクロオクタジエン、5,6−ジヒ
ドロ−2H−ピラン、1,4−ジヒドロナフタレ
ン、1,4−シクロヘキサジエン等を例示するこ
とができる。 また、前記一般式()で表わされるアミド化
合物としては、N,N−ジメチルホルムアルデヒ
ド、N−メチルホルムアルデヒド、ホルムアルデ
ヒド、N,N−ジメチルアセトアミド等を例示す
ることができる。加水分解は反応混合物を水と接
触させることによつて達せられる。また、反応液
に最初から水を存在させて反応系内で同時に加水
分解を行なわせても何んら不都合ではない。 反応の実施に当つては、前記一般式()で表
わされるアミド化合物を過剰量用いて溶媒として
使用することができるがその他、例えば塩化メチ
レン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロルエタ
ン、テトラクロルエタン、1,1,2−トリクロ
ルトリフルオロエタン等の含ハロゲン化物、アセ
トン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド
(DMSO)、ニトロメタン、酢酸エチル等の極性
溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン等のエーテル、ベンゼン、トルエン、
ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、デカリン
等の炭化水素系溶媒、等も用いることができる。 反応温度は−30℃〜120℃であるが、反応が効
率よく進行するためには−20℃〜100℃が好まし
い。 以下、実施例により本発明を更に詳細に説明す
る。 実施例 1 n−ヘプタデカフルオロオクチルフエニルヨー
ドニウムトリフルオロメタンスルホネート193mg
(0.25mmol)を反応容器に入れ、真空ポンプで脱
気した後、N,N−ジメチルホルムアミド2mlを
加えて溶解させた。1,3−ブタジエンを導入
し、室温で2時間撹拌した。水2mlを加えエーテ
ル抽出を行なつた。排出液は、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後、溶媒を減圧下で留去した。残査をシ
リカゲルカラム(5%エーテル/n−ペンタン展
開)にかけギ酸(4−(n−ヘプタデカフルオロ
オクチル)−2−ブテニルエステル81mgを得た。
収率36%。なお物性値は表2に示す。 実施例 2〜8 実施例1と同様の操作で、表1に示される条件
下反応を行なつた。結果は表1に示す。なお物性
値は表2に示す。 【表】 【表】 なお物性値は表2に示してある。
【表】 参考例 1 n−C8F17CH2CH=CHCH2OCHO→ n−C8F17CH2CH=CHCH2OH ギ酸4−(n−ヘプタデカフルオロオクチル)−
2−ブテニルエステル150mg(0.29mmol)、エタ
ノール4ml、水1ml及び1N水酸化ナトリウム水
0.35ml(0.35mmol)の混合物を3時間還流した。
その後食塩水を加えて酢酸エチルで抽出した。抽
出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥後シリカゲル
のカラムクロマトグラフイーにかけて120mgの4
−(n−ヘプタデカフルオロオクチル)−2−ブテ
ン−1−オールを得た。収率85%。物性値は以下
の通りであつた。 融点:32〜33℃ 1H−NMR(δ、重クロロホルム中);1.80
(s,1H),2.81(td,J=18.4,6.0Hz,
2H),4.12(d,J=4.4Hz,2H),5.62(dt,
J=16.0,6.0Hz,1H),5.88(dt,J=
16.0,4,4Hz,1H). 19F−NMR(ppm,重クロロホルム中CCl3F内部
標準);81.36(t,J=10Hz,CF3),113.5(m,
α−CF2). IR(cm-1,neat);3400(OH),1680(c=c),
1150,1200(c−F). Massスペクトル(m/e);490(M+). 参考例 2 n−C8F17CH2CH=CHCH2OCOCHO3→ n−C8F17CH2CH=CHCH2OH ギ酸4−(n−ヘプタデカフルオロオクチル)−
2−ブテニルエステルの代りに酢酸4−(n−ヘ
プタデカフルオロオクチル)−2−ブテニルエス
テル290mg(0.38mmol)を用いた他はモル比共す
べて参考例1と同様の条件で反応を行ない、190
mgの4−(n−ヘプタデカフルオロオクチル)−2
−ブテン−1−オールを油状体として得た。収率
75%。 参考例 3 n−C8F17CH2CH=CHCH2OHP2O5 ―――→ n−C8F17CH=CHCH=CH2 4−(n−ヘプタデカフルオロオクチル)−2−
ブテン−1−オール490mg(1mmol)と五酸化リ
ン852mg(6mmol)とを混合し、液体窒素のトラ
ツプをつけた真空ポンプで減圧にしながら80〜
100℃に4時間加熱した。混合物を塩化メチレン
で抽出し、1−(n−ヘプタデカフルオロオクチ
ル)−1,3−ブタジエン144mgを得た。液体窒素
冷却下のトラツプからも47mgの生成物が得られ、
合計191mg(収率40%)が得られた。 無色油状体 1H−NMR(ppm,重クロロホルム中);5.36〜
5.87(m,3H),6.16〜6.88(m,2H).19 F−NMR(ppm,重クロロホルム中、CCl3F内
部標準);81.40(t,J=10Hz,CF3),111.9(m,
α−CF2). IR(cm-1,neat);1155,1210,1250(CF),1615,
1665(c=c). マススペクトル(m/e);472(M+). 元素分析;実測値;C,30.49%;H,1.06% 計算値;C,30.53%;H,1.07%. 参考例 4 n−C6F13CH2CH=CHCH2OH+CH2 =CHCOCl→n−C6F13CH2CH =CHCH2OCOCH=CH2 4−(n−トリデカフルオロヘキシル)−2−ブ
テン−1−オール222mg(0.57mmol)とトリエチ
ルアミン138mg(1.36mmol)を4mlのエーテルに
溶かし、室温でかくしはんしながら2mlのエーテ
ルに溶かしたアクリル酸クロリド124mg
(1.36mmol)を滴下した。さらに1時間半かくは
んしたのち、沈殿をろ過して除いた。ろ液の溶媒
を減圧下で留去し、残渣をシリカゲルカラム(5
%エーテル/n−ペンタン展開)にかけアクリル
酸4−(n−トリデカフルオロヘキシル)−2−ブ
テニルエステル138mgを得た。収率55%。 無色油状体1 H−NMR(ppm,重クロロホルム中);2.83(td,
J=17.8,6.0Hz,2H),4.42(d,J=4.0
Hz,2H),5.54〜6.00(m,2H),5.77(dd,
J=9.8,2.4Hz,1H),6.07(dd,J=
17.6,9.8Hz,1H),6.39(dd,J=17.6,
2.4Hz,1H).19 F−NMR(ppm,重クロロホルム中、CCl3F内
部標準);81.28(t,J=10Hz,CF3),113.4(m,
α−CF2). IR(cm-1,neat;1145,1190,1240(CF),1620,
1635(c=c),1735(c=o). マススペクトル(m/e);444(M+).
ルオロアルキル基、Arは置換若しくは未置換の
フエニル基であり、Xは−OSO2Yで表わされる
基、−OCOZで表わされる基、ハロゲン原子、
BF4、ClO4、PF4、PF6、AsF4、AsF6、SbF6、
又はSbF4である。ただしYは置換若しくは未置
換のアルキル基、置換若しくは未置換のアリール
基、ハロゲン原子、OM基、アルコキシ基、フエ
ノキシ基又はペルハロアルキル基であり、Zは置
換若しくは未置換のアルキル基、置換若しくは未
置換のアリール基又はペルハロアルキル基であ
る。Mは水素原子、アルカリ金属原子、アンモニ
ウム残基、ピリジニウム残基又は【式】で表 わされる基であり、R1、R2、R3、R4、R5及びR6
は水素原子、ハロゲン原子、置換又は未置換のア
ルキル基又はアリール基であり、R9は水素原子、
アルキル基又はアリール基である。nは0又は1
である。R1とR5は一体となり環状構造を形成し
得る。)で表わされるペルフルオロアルキル置換
エステルの製造方法に関する。 本発明により得られる前記一般式()で表わ
されるペルフルオロアルキル置換エステルは、表
面活性を有する有用物質合成の中間体となり得
る。例えば前記一般式()で表わされるペルフ
ルオロアルキル置換エステルのうちギ酸2−(ペ
ルフルオロアルキル)エチルエステルや酢酸2−
(ペルフルオロアルキル)エチルエステルは加水
分解することにより、2−(ペルフルオロアルキ
ル)エタノールへ導くことができる〔R&Dレポ
ート“フツ素化合物の化学と工業”,(1977年、シ
ーエムシー出版)388頁及びJ・Org.Chem.,23,
1166(1958)参照〕。このアルコールは界面活性
剤、撥水撥油剤、紙、皮革、繊維等の表面処理
剤、消火剤、集油剤、潤滑油添加剤等の中間体と
して有用なものである〔有機合成化学、第31巻、
第6号508頁(1973年)、R&Dレポート“フツ素
化合物の化学と工業”(1977年、シーエムシー出
版)参照〕。 また、ギ酸又は酢酸4−(ペルフルオロアルキ
ル)−2−ブテニルエステルは加水分解すること
によつて4−(ペルフルオロアルキル)−2−ブテ
ン−1−オールへ導くことができる(参考例1及
び2参照)。4−(ペルフルオロアルキル)−2−
ブテン−1−オールは界面活性剤、撥水撥油剤、
紙、皮革、繊維等の表面処理剤、消火剤、集油
剤、潤滑油添加剤、フツ素ゴム、集積回路用レジ
スト等の中間体として有用なものである。例え
ば、脱水反応を行なうことにより容易に表面活性
を有するフツ素重合体のモノマーとして有用な1
−(ペルフルオロアルキル)−1,3−ブタジエン
へ導くことができる(参考例3、米国特許第
2892824号、第2912407号及び第3398128号参照)。
また、4−(ペルフルオロアルキル)−2−ブテン
−1−オールをメタクリル酸クロリドと反応させ
ることにより、繊維等の撥水撥油剤として、また
集積回路用のレジストとして有用なフツ素メタク
リル酸エステル重合体のモノマーであるメタクリ
ル酸4−(ペルフルオロアルキル)−2−ブテニル
エステルを製造することができる(参考例4、R
&Dレポート“フツ素化合物の最先端応用技術”
138頁及び“フツ素化合物の化学と工業”391頁参
照)。メタクリル酸4−(ペルフルオロアルキル)
−2−ブテニルエステルは酸部分とペルフルオロ
アルキル基部分との中間に不飽和結合をもつ全く
新しい型の撥水撥油剤及び集積回路用のレジスト
製造用のモノマーである。 1−(ペルフルオロアルキル)−1,3−ブタジ
エンの従来の製造方法として例えばペルフルオロ
アルキル基がトリフルオロメチル基の場合、(1)ト
リフルオロアセチルアセトンを高圧、高温(150
気圧、100℃)の条件下、ラネーニツケルで還元
し、ジオールを得て、更に酢酸無水物でジアセテ
ートにした後、470℃で熱分解を行つて得る方法
〔J・Amer.Chem・Soc.,76,5147(1954)参
照〕、また(2)トリフルオロ酢酸エチルとコハク酸
ジエチルとをクライゼン縮合させた後、酸性加水
分解を行つて得られる5,5,5−トリフルオロ
ラエブル酸(5,5,5−trifluorolaevulic
acid)を水素化リチウムアルミニウムで還元し、
ジオールとし、更にジアセテートとした後、520
℃で熱分解する方法(Tetrahedron,1960,164
参照)、更に(3)3,3,3−トリフルオロ−1−
プロピンとエチルアルコールとの混合物に60CO
のγ線を長時間照射することによつて付加物を
得、五酸化リンで脱水する方法(特公昭46−
14044号参照)が知られている。 しかしながら(1)及び(2)の方法は反応経路が長
く、しかも最後の熱分解反応は500℃前後という
高温下に行うため、省エネルギーという観点から
好ましくない。(3)は放射性物質である60Coを使用
し、しかも収率が低い。以上の点から1−(ペル
フルオロアルキル)−1,3−ブタジエンの製造
のための従来法は工業的な製法としては不満足な
ものである。 従来、前記一般式()で表わされるペルフル
オロアルキル置換エステルの製造法としては、ヨ
ードペルフルオロアルカンとエチレンをラジカル
発生条件下反応させ2−(ペルフルオロアルキル)
エチル沃化物とした後(1)ジメチルホルムアミドと
高温(140℃)で反応させ加水分解して得る方法
〔J・Chem.Soc.,1949,2856及びR&Dレポー
ト,“フツ素化合物の化学と工業”(1977,シーエ
ムシー出版)388頁参照〕又は(2)酢酸銀と処理す
る方法〔J.Org.Chem.,23,1166(1958)〕が知ら
れている。 しかしながら従来法のヨードペルフルオロアル
カンとエチレンとの反応は、ラジカル反応条件下
のため重合反応が併発しやすく反応制御が困難で
あり、次のジメチルホルムアミドと反応させる方
法(1)では高温を必要とするため省エネルギーの観
点から好ましくない。また、酢酸銀を用いる方法
(2)は、高価な銀塩を使うため経済的に不利であ
る。 以上の点から従来法は工業的製法としては不満
足である。 本発明者等は、従来の欠点を克服すべく鋭意検
討を続けた結果、温和な条件下で簡便にペルフル
オロアルキル置換エステルを製造する方法を見出
し、本発明を完成するに至つたものである。 本発明は、一般式 (式中、Rfは炭素数1〜20個を有するペルフ
ルオロアルキル基、Arは置換若しくは未置換の
フエニル基であり、Xは−OSO2Yで表わされる
基、−OCOZで表わされる基、ハロゲン原子、
BF4、ClO4、PF4、PF6、AsF4、AsF6、SbF6又
はSbF4である。ただしYは置換若しくは未置換
のアルキル基、置換若しくは未置換のアリール
基、ハロゲン原子、OM基、アルコキシ基、フエ
ノキシ基、又はペルハロアルキル基であり、Zは
置換若しくは未置換のアルキル基、置換若しくは
未置換のアリール基又はペルハロアルキル基であ
る。Mは水素原子、アルカリ金属原子、アンモニ
ウム残基、ピリジニウム残基又は【式】で表 わされる基である。)で表わされるペルフルオロ
アルキルアリールヨードニウム化合物と、一般式 R1R2C(=CR3−CR4(=oCR5R6 −() (R1、R2、R3、R4、R5及びR6は水素原子、ハ
ロゲン原子、置換若しくは未置換のアルキル基又
はアリール基である。nは0又は1である。R1
とR5は一体となり環状構造を形成し得る。)で表
わされるエン化合物と、一般式 (式中、R7、R8及びR9は水素原子、アルキル
基又はアリール基である。)で表わされるアミド
化合物とを反応させ続いて加水分解することによ
つて前記一般式()で表わされるペルフルオロ
アルキル置換エステルを製造するものである。 本発明の原料である前記一般式()で表わさ
れるペルフルオロアルキルアリールヨードニウム
化合物は、工業的に入手できる沃化ペルフルオロ
アルカンを酸化又はフツ素化して得られるジ(ト
リフルオロアセトキシ)ヨードペルフルオロアル
カン又はジフルオロヨードペルフルオロアルカン
〔Zh.Org.Khim・6,329(1970),J.Fluorine
Chem.,8,177(1976)及びJ.Amer.Chem.Soc.,
91,3054(1969)参照〕を酸の存在下、置換又は
未置換のベンゼンと反応させる方法、置換又は未
置換のベンゼンと反応させた後ハロゲン化アルカ
リ金属塩と処理する方法、又はペルフルオロアル
キルアリールヨードニウムクロリドと銀塩とを反
応させる方法により得ることができる〔Zh.
Org・Khim.7,1473(1971),Zh.Org.Khim.,
16,232(1980)、西独公開特許第3021226号、仏国
公開特許第2458527号及び特開昭55−162763号参
照〕。 また一般式()で表わされるペルフルオロア
ルキルアリールヨードニウム化合物においてXが
−OSO2Y(Y=OM)であり、Mがアルカリ金属
原子、アンモニウム残基又はピリジニウム残基の
場合は、一般式()で表わされるペルフルオロ
アルキルヨードニウム化合物(X=OSO2Y,Y
=OH)を相当する塩基で処理することによつて
得られる。 前記一般式()で表わされるペルフルオロア
ルキルアリールヨードニウム化合物としては、n
−ヘンエイコサフルオロデシルフエニルヨードニ
ウムトリフルオロメタンスルホネート、7−トリ
フルオロメチル−ヘキサデカフルオロオクチルフ
エニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネ
ート、n−ヘプタデカフルオロオクチルフエニル
ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、
n−ペンタデカフルオロヘプチルフエニルヨード
ニウムトリフルオロメタンスルホネート、n−ト
リデカフルオロヘキシルフエニルヨードニウムト
リフルオロメタンスルホネート、i−ヘプタフル
オロプロピルフエニルヨードニウムトリフルオロ
メタンスルホネート、n−ヘプタフルオロプロピ
ルフエニルヨードニウムトリフルオロメタンスル
ホネート、ペンタフルオロエチルフエニルヨード
ニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフ
ルオロメチルフエニルヨードニウムトリフルオロ
メタンスルホネート、ペンタフルオロエチルフエ
ニルヨードニウムクロリド、n−ヘプタフルオロ
プロピル−p−トリルヨードニウムクロリド、n
−ヘプタデカフルオロオクチルトリルヨードニウ
ムクロリド、n−ヘプタフルオロプロピルトリル
ヨードニウムトリフルオロアセテート、n−ヘプ
タデカフルオロオクチルフエニルヨードニウムメ
タンスルホネート、n−ヘプタデカフルオロオク
チルフエニルヨードニウムトリクロルメタンスル
ホネート、n−ヘプタフルオロプロピル−p−ト
リルヨードニウムメタンスルホネート、n−ヘプ
タデカフルオロオクチルトリルヨードニウムメタ
ンスルホネート、n−ヘプタフルオロプロピル−
p−トリルヨードニウムベンゼンスルホネート、
モノ(ペンタフルオロエチルフエニルヨードニウ
ム)スルフエート、モノ(n−ヘプタフルオロプ
ロピルフエニルヨードニウム)スルフエート、モ
ノ(i−ヘプタフルオロプロピルフエニルヨード
ニウム)スルフエート、モノ(n−トリデカフル
オロヘキシルフエニルヨードニウム)スルフエー
ト、モノ(n−ヘプタデカフルオロオクチルフエ
ニルヨードニウム)スルフエート、モノ(n−ヘ
ンエイコサフルオロデシルフエニルヨードニウ
ム)スルフエート、ビス(n−ヘプタフルオロプ
ロピルフエニルヨードニウム)スルフエート、n
−ヘプタフルオロプロピルフエニルヨードニウム
フルオロスルホネート、n−ヘプタデカフルオロ
オクチルフエニルヨードニウムクロルスルホネー
ト、n−ヘプタフルオロプロピルフエニルヨード
ニウムメチルスルフエート、n−ヘプタデカフル
オロオクチルフエニルヨードニウムピリジニウム
スルフエート、n−ヘプタフルオロプロピルフエ
ニルヨードニウムナトリウムスルフエート、n−
ヘプタフルオロプロピルフエニルヨードニウムカ
リウムスルフエート、n−トリデカフルオロヘキ
シルフエニルヨードニウムテトラフルオロボレー
ト等を例示することができる。 また、前記一般式()で表わされるエン化合
物としては、エチレン、スチレン、p−メチルス
チレン、p−クロロスチレン、プロペン、ヘキセ
ン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、アリルベ
ンゼン、1−フエニル−1−プロペン、アリルフ
エニルエーテル、1,3−ブタジエン、2−メチ
ル−1,3−ブタジエン、2−クロル−1,3−
ブタジエン、1−フエニル−1,3−ブタジエ
ン、2−フエニル−1,3−ブタジエン、1,3
−ペンタジエン、シクロヘキサジエン、シクロヘ
プタジエン、シクロオクタジエン、5,6−ジヒ
ドロ−2H−ピラン、1,4−ジヒドロナフタレ
ン、1,4−シクロヘキサジエン等を例示するこ
とができる。 また、前記一般式()で表わされるアミド化
合物としては、N,N−ジメチルホルムアルデヒ
ド、N−メチルホルムアルデヒド、ホルムアルデ
ヒド、N,N−ジメチルアセトアミド等を例示す
ることができる。加水分解は反応混合物を水と接
触させることによつて達せられる。また、反応液
に最初から水を存在させて反応系内で同時に加水
分解を行なわせても何んら不都合ではない。 反応の実施に当つては、前記一般式()で表
わされるアミド化合物を過剰量用いて溶媒として
使用することができるがその他、例えば塩化メチ
レン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロルエタ
ン、テトラクロルエタン、1,1,2−トリクロ
ルトリフルオロエタン等の含ハロゲン化物、アセ
トン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド
(DMSO)、ニトロメタン、酢酸エチル等の極性
溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン等のエーテル、ベンゼン、トルエン、
ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、デカリン
等の炭化水素系溶媒、等も用いることができる。 反応温度は−30℃〜120℃であるが、反応が効
率よく進行するためには−20℃〜100℃が好まし
い。 以下、実施例により本発明を更に詳細に説明す
る。 実施例 1 n−ヘプタデカフルオロオクチルフエニルヨー
ドニウムトリフルオロメタンスルホネート193mg
(0.25mmol)を反応容器に入れ、真空ポンプで脱
気した後、N,N−ジメチルホルムアミド2mlを
加えて溶解させた。1,3−ブタジエンを導入
し、室温で2時間撹拌した。水2mlを加えエーテ
ル抽出を行なつた。排出液は、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後、溶媒を減圧下で留去した。残査をシ
リカゲルカラム(5%エーテル/n−ペンタン展
開)にかけギ酸(4−(n−ヘプタデカフルオロ
オクチル)−2−ブテニルエステル81mgを得た。
収率36%。なお物性値は表2に示す。 実施例 2〜8 実施例1と同様の操作で、表1に示される条件
下反応を行なつた。結果は表1に示す。なお物性
値は表2に示す。 【表】 【表】 なお物性値は表2に示してある。
【表】 参考例 1 n−C8F17CH2CH=CHCH2OCHO→ n−C8F17CH2CH=CHCH2OH ギ酸4−(n−ヘプタデカフルオロオクチル)−
2−ブテニルエステル150mg(0.29mmol)、エタ
ノール4ml、水1ml及び1N水酸化ナトリウム水
0.35ml(0.35mmol)の混合物を3時間還流した。
その後食塩水を加えて酢酸エチルで抽出した。抽
出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥後シリカゲル
のカラムクロマトグラフイーにかけて120mgの4
−(n−ヘプタデカフルオロオクチル)−2−ブテ
ン−1−オールを得た。収率85%。物性値は以下
の通りであつた。 融点:32〜33℃ 1H−NMR(δ、重クロロホルム中);1.80
(s,1H),2.81(td,J=18.4,6.0Hz,
2H),4.12(d,J=4.4Hz,2H),5.62(dt,
J=16.0,6.0Hz,1H),5.88(dt,J=
16.0,4,4Hz,1H). 19F−NMR(ppm,重クロロホルム中CCl3F内部
標準);81.36(t,J=10Hz,CF3),113.5(m,
α−CF2). IR(cm-1,neat);3400(OH),1680(c=c),
1150,1200(c−F). Massスペクトル(m/e);490(M+). 参考例 2 n−C8F17CH2CH=CHCH2OCOCHO3→ n−C8F17CH2CH=CHCH2OH ギ酸4−(n−ヘプタデカフルオロオクチル)−
2−ブテニルエステルの代りに酢酸4−(n−ヘ
プタデカフルオロオクチル)−2−ブテニルエス
テル290mg(0.38mmol)を用いた他はモル比共す
べて参考例1と同様の条件で反応を行ない、190
mgの4−(n−ヘプタデカフルオロオクチル)−2
−ブテン−1−オールを油状体として得た。収率
75%。 参考例 3 n−C8F17CH2CH=CHCH2OHP2O5 ―――→ n−C8F17CH=CHCH=CH2 4−(n−ヘプタデカフルオロオクチル)−2−
ブテン−1−オール490mg(1mmol)と五酸化リ
ン852mg(6mmol)とを混合し、液体窒素のトラ
ツプをつけた真空ポンプで減圧にしながら80〜
100℃に4時間加熱した。混合物を塩化メチレン
で抽出し、1−(n−ヘプタデカフルオロオクチ
ル)−1,3−ブタジエン144mgを得た。液体窒素
冷却下のトラツプからも47mgの生成物が得られ、
合計191mg(収率40%)が得られた。 無色油状体 1H−NMR(ppm,重クロロホルム中);5.36〜
5.87(m,3H),6.16〜6.88(m,2H).19 F−NMR(ppm,重クロロホルム中、CCl3F内
部標準);81.40(t,J=10Hz,CF3),111.9(m,
α−CF2). IR(cm-1,neat);1155,1210,1250(CF),1615,
1665(c=c). マススペクトル(m/e);472(M+). 元素分析;実測値;C,30.49%;H,1.06% 計算値;C,30.53%;H,1.07%. 参考例 4 n−C6F13CH2CH=CHCH2OH+CH2 =CHCOCl→n−C6F13CH2CH =CHCH2OCOCH=CH2 4−(n−トリデカフルオロヘキシル)−2−ブ
テン−1−オール222mg(0.57mmol)とトリエチ
ルアミン138mg(1.36mmol)を4mlのエーテルに
溶かし、室温でかくしはんしながら2mlのエーテ
ルに溶かしたアクリル酸クロリド124mg
(1.36mmol)を滴下した。さらに1時間半かくは
んしたのち、沈殿をろ過して除いた。ろ液の溶媒
を減圧下で留去し、残渣をシリカゲルカラム(5
%エーテル/n−ペンタン展開)にかけアクリル
酸4−(n−トリデカフルオロヘキシル)−2−ブ
テニルエステル138mgを得た。収率55%。 無色油状体1 H−NMR(ppm,重クロロホルム中);2.83(td,
J=17.8,6.0Hz,2H),4.42(d,J=4.0
Hz,2H),5.54〜6.00(m,2H),5.77(dd,
J=9.8,2.4Hz,1H),6.07(dd,J=
17.6,9.8Hz,1H),6.39(dd,J=17.6,
2.4Hz,1H).19 F−NMR(ppm,重クロロホルム中、CCl3F内
部標準);81.28(t,J=10Hz,CF3),113.4(m,
α−CF2). IR(cm-1,neat;1145,1190,1240(CF),1620,
1635(c=c),1735(c=o). マススペクトル(m/e);444(M+).
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 で表わされるペルフルオロアルキルアリールヨー
ドニウム化合物と、一般式 R1R2C(=CR3−CR4=)oCR5R6 で表わされるエン化合物と、一般式 で表わされるアミド化合物とを反応させ、次いで
加水分解することからなる、一般式 で表わされるペルフルオロアルキル置換エステル
の製造方法(式中、Rfは炭素数1〜20個を有す
るペルフルオロアルキル基、Arは置換若しくは
未置換のフエニル基であり、Xは−OSO2Yで表
わされる基、−OCOZで表わされる基、ハロゲン
原子、BF4、ClO4、PF4、PF6、AsF4、AsF6、
SbF6又はSbF4である。ただしYは置換若しくは
未置換のアルキル基、置換若しくは未置換のアリ
ール基、ハロゲン原子、OM基、アルコキシ基、
フエノキシ基又はペルハロアルキル基であり、Z
は置換若しくは未置換のアルキル基、置換若しく
は未置換のアリール基又はペルハロアルキル基で
ある。Mは水素原子、アルカリ金属原子、アンモ
ニウム残基、ピリジニウム残基又は【式】で 表わされる基であり、R1、R2、R3、R4、R5及び
R6は水素原子、ハロゲン原子、置換又は未置換
のアルキル基又はアリール基であり、R7、R8及
びR9は水素原子、アルキル基又はアリール基で
ある。nは0又は1である。R1とR5は一体とな
り環状構造を形成し得る。)。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15385681A JPS5857338A (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | ペルフルオロアルキル置換エステルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15385681A JPS5857338A (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | ペルフルオロアルキル置換エステルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5857338A JPS5857338A (ja) | 1983-04-05 |
| JPS649976B2 true JPS649976B2 (ja) | 1989-02-21 |
Family
ID=15571595
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15385681A Granted JPS5857338A (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | ペルフルオロアルキル置換エステルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5857338A (ja) |
-
1981
- 1981-09-30 JP JP15385681A patent/JPS5857338A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5857338A (ja) | 1983-04-05 |
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