SE510818C2 - Förfarande för framställning av finkornigt metall- och keramikpulver - Google Patents
Förfarande för framställning av finkornigt metall- och keramikpulverInfo
- Publication number
- SE510818C2 SE510818C2 SE9301466A SE9301466A SE510818C2 SE 510818 C2 SE510818 C2 SE 510818C2 SE 9301466 A SE9301466 A SE 9301466A SE 9301466 A SE9301466 A SE 9301466A SE 510818 C2 SE510818 C2 SE 510818C2
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- metal
- reaction
- reactor
- gas
- reactants
- Prior art date
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
- B22F9/02—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes
- B22F9/12—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from gaseous material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/90—Carbides
- C01B32/914—Carbides of single elements
- C01B32/921—Titanium carbide
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
- B22F9/16—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes
- B22F9/18—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds
- B22F9/28—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds starting from gaseous metal compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B13/00—Oxygen; Ozone; Oxides or hydroxides in general
- C01B13/14—Methods for preparing oxides or hydroxides in general
- C01B13/20—Methods for preparing oxides or hydroxides in general by oxidation of elements in the gaseous state; by oxidation or hydrolysis of compounds in the gaseous state
- C01B13/22—Methods for preparing oxides or hydroxides in general by oxidation of elements in the gaseous state; by oxidation or hydrolysis of compounds in the gaseous state of halides or oxyhalides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/068—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/072—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/076—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with titanium or zirconium or hafnium
- C01B21/0763—Preparation from titanium, zirconium or hafnium halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G25/00—Compounds of zirconium
- C01G25/02—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G33/00—Compounds of niobium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2998/00—Supplementary information concerning processes or compositions relating to powder metallurgy
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/51—Particles with a specific particle size distribution
- C01P2004/52—Particles with a specific particle size distribution highly monodisperse size distribution
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/64—Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/12—Surface area
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/80—Compositional purity
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Description
10
15
20
25
30
35
510 819 2
Förutom de nu kända pulverframställningsförfarandena i stor
teknisk skala är det knappast eller endast med svårighet
möjligt att framställa pulver med genomsnittskornstorlekar
av mindre än 0,5 um, uppmätt enligt FSSS (och ej enskilda
partikelstorlekar). För dessa konventionellt framställda
fina pulver kan man i praktiken inte utesluta, att en viss
procentsats av grövre korn ingår i materialet, vilket har
en skadlig inverkan på de mekaniska egenskaperna hos därav
framställda byggdelar. Vid traditionella malningsförhållanden
erhåller man även en mycket bred kornstorleksfördelning,
som för dessa pulver inte ens med siktningssteg väsentligt
kan göras snävare.
Hittills kända förfaranden för framställning av mycket
fina pulver via gasfas arbetar delvis i två steg, varvid
det andra steget tjänar till att överföra den mer eller
mindre amorfa mellanprodukten till kristallin form och
avskilja oönskade biprodukter från reaktionen.
Andra gasfasförfaranden arbetar inte med en strömnings-
tekniskt optimerad varmväggreaktor utan tillämpar för
omsättningen en plasmalåga eller andra energibärare såsom
laserstrålar. Nackdelar med dessa förfaranden är i huvudsak
de i praxis ej kontrollerbara reaktionsbetingelserna i
olika områden av reaktionszonen med mycket stora temperatur-
gradienter och/eller turbulenta strömningar. Därigenom
bildas pulver med bred kornstorleksfördelning.
Talrika förslag till förfaranden för framställning av mycket
fina hårdsubstanspulver och mycket fina metallpulver har
framlagts, vilka emellertid samtliga är behäftade med nack-
delar. Således uppvisar t ex även det i US-A 4 994 107
bekantgjorda förfarandet, där en rörreaktor för framställning
av likformiga, ej agglomererade pulver beskrives, betydande
praktiska nackdelar. P g a blandningen av alla reaktions-
komponenter före den varma zonen sker ingen definierad början
av groddbildningsreaktionen. Inte heller kan väggreaktioner
förhindras. Därigenom förstoras faran för att stora partiklar
10
15
20
25
30
35
510 5818
3
kommer in i det i övrigt fina pulvret och ej längre kan av-
lägsnas.
I EP-A O 379 910 beskrives ett tvåstegsförfarande för
framställning av Si3N4 från gasfas, enligt vilket utgångs-
halogeniden inblåses i flytande form via en tvåsubstansdysa
i reaktorrummet. Inte heller enligt detta förfarande är
det möjligt att ställa till förfogande ett godtagbart och
tillfredsställande pulver.
Andra förslag för framställning av mycket fina enhetliga
pulver är omsättning vid undertryck men även olika sol-gel-
-förfaranden. Även dessa förslag uppvisar nackdelar såsom
arbeten i flera steg, dålig reglerbarhet för kornstorleken,
kornstorleksfördelning och satsdrift.
Även de föreslagna plasma-, laser- eller explosions-
förfarandena (EP-A 0 290 177, EP-A 0 151 490) uppvisar
de nämnda nackdelarna.
Ett ytterligare förslag (EP-A 0 290 177) arbetar med
karbonylsönderdelning för framställning av fina metall-
pulver.
Även framställning av fina pulver genom speciellt genomförd
magnesiotermisk omsättning av motsvarande metallklorider
för framställning av t ex TiN eller TiC åstadkommer inte
finheten och enhetligheten hos de i enlighet med det före-
slagna förfarandet framställda pulvret (G.W. Elger, Met.
Transactions 20 B, 8, 1989, sid. 493-497).
Inte heller de i US-A 4 642 207, US-A 4 689 075, EP-A 152 957
och EP-A 151 490 beskrivna förfarandena, som avser för-
ångning av metall genom ljusbåge- eller elektronstrålning
samt reaktion av gasformiga reaktionskomponenter i en
glimurladdning, motsvarar fordringarna på ett ekonomiskt
genomfört förfarande för framställning av mycket jämna
och mycket fina pulver.
10
15
20
25
30
35
510 818
Syftet med föreliggande uppfinning är således att ställa
till förfogande ett förfarande, som ej uppvisar de beskrivna
nackdelarna hos förfarandena enligt känd teknik.
Man har funnit ett förfarande, som uppfyller dessa fordring-
ar. Detta förfarande är föremålet för föreliggande upp-
finning.
Det rör sig enligt uppfinningen om ett förfarande för fram-
ställning av finkorniga metall- och/eller keramikpulver genom
reaktion av motsvarande metallföreningar och motsvarande
reaktionskomponenter i gasfas, varvid metallföreningen resp.
-föreningarna och den ytterligare eller de ytterligare reak-
tionskomponenterna får reagera i gasformigt tillstånd i en
rörreaktor, slutkondenseras direkt från gasfas homogent under
uteslutning av varje väggreaktion och därefter avskiljes från
reaktionsmediet, vilket förfarande kännetecknas av att me-
tallföreningarna och reaktionskomponenten eller -komponenter-
na var för sig med åtminstone reaktionstemperatur införes i
rörreaktorn som koaxiella, laminära, likalöpande delströmmar.
För det fall, att flera metallföreningar och/eller reaktions-
komponenter skall införas väljes resp. gasblandningar så, att
ingen reaktion uppträder under värmningsförloppet, vilka
leder till fasta reaktionsprodukter. Det är speciellt gynn-
samt om metallföreningarna, reaktionskomponenterna och pro-
duktpartiklarna genomströmmar reaktorn laminärt.
Genom den skilda förvärmningen av processgaserna till åt-
minstone reaktionstemperatur kan stället för grodd- eller
kärnbildning begränsas. Den laminära strömningen i reaktions-
behållaren säkerställer en snäv tidsuppehållsfördelning
för groddarna resp. kärnorna resp. partiklarna. Även på
detta sätt kan en mycket snäv kornstorleksfördelning uppnås.
10
15
20
25
30
35
510 818
För att emellertid säkerställa en genomblandning av de
båda koaxiella delströmmarna uppnås genom inbyggnad av
en störningskropp i den annars strängt laminära strömningen
en till sin intensitet och utbredning definierad Karmansk
5
virvelväg.
En föredragen utföringsform av förfarandet enligt upp-
finningen består alltså i att de koaxiella, laminära
delströmmarna av metallföreningen resp. -föreningarna
och reaktionskomponenterna blandas på ett definierat
sätt medelst en virvelväg enligt Karman.
Reaktionsmediet avskärmas från reaktionsväggen genom att en
inertgasström införes genom speciellt utformade ringspalter i
reaktorväggen, vilken gasström via en Coanda-effekt ligger
emot reaktorväggen. De i reaktionskärlet genom en homogen
avskiljning från gasfas vid typiska uppehållstider mellan 10
och 300 msek bildade metall- eller keramikpulverpartiklarna
lämnar reaktionsbehållaren gemensamt med de gasformiga reak-
tionsprodukterna (t ex HCl), ej omsatta reaktionskomponenter
och inertgaserna, vilka inblåses som bärargas, spolningsgas
och i syfte att minska HCl-adsorption. I enlighet med för-
farandet enligt uppfinningen kan man uppnå utbyten, räknat på
metallkomponenten, av
upp till 100%.
Avskiljningen av metall- eller keramikpulvren företas därvid
företrädesvis vid temperaturer över kok- resp. sublimerings-
temperaturerna för de insatta metallföreningarna, reaktions-
komponenterna och/eller under reaktionen bildade ofrånkomliga
produkterna. Avskiljningen kan därvid med fördel företas i
ett återblåsningsfilter. Om detta drivs vid höga temperaturer
av t ex 600°C kan adsorptionen av gaserna, speciellt de
ej inerta gaserna såsom HCl, NH3, TiCl4 osv, hållas ringa
på de mycket stora ytorna hos keramik- eller metallpulvren.
Speciellt förhindras vid framställning av nitrider bildning
av NH4Cl (över 350°C).
10
15
20
25
30
35
510 818
6
De fortfarande kvarvarande, på pulverytan adsorberade
störande substanserna kan åter avlägsnas i en efterkopplad
vakuumbehållare, företrädesvis ånyo vid temperaturer av
ca 600°C. De färdiga pulvren bör därefter avdragas från
anläggningen under uteslutning av luft.
Föredragna metallföreningar inom uppfinningens ram är en
eller flera från gruppen BCI3, borsyraestrar, boraner, SiCl4,
andra klorsilaner, silaner, metallhalogenider, delvis hydrer-
ade metallhalogenider, metallhydrider, metallalkoholater,
metallalkyler, metallamider, metallazider, metallboranater
och metallkarbonyler.
Föredragna ytterligare reaktionskomponenter är en eller
flera från gruppen H2, NH3, hydrazin, aminer, CH4, andra
alkaner, alkener, alkyner, aryler, 02, luft, BCl3, borsyra-
estrar, boraner, SiCl4, andra klorsilaner och silaner.
I enlighet med förfarandet enligt uppfinningen kan nano-
eller mikrodispersa (kristallina eller amorfa) metall-
och/eller keramikpulver framställas, varvid föredragna
metall- och/eller keramikpulver är karbider, nitrider,
borider, silicider, fosfiter, sulfider, oxider och/eller
kombination därav av elementen B, Al, Si, Ti, Zr, Hf, V,
Nb, Ta, Cr, Mo, W, La, Y, Fe, Co, Ni eller dessa element
ensamma eller i kombination med varandra.
Det är möjligt att i enlighet med förfarandet enligt upp-
finningen framställa metall- och keramikpulver med en in-
ställbar partikelstorlek av mellan 3 och 3 000 nm (3 um),
vilka uppvisar en extremt snäv partikelstorleksfördelning.
Karaktäristiskt för de således framställda partiklarna är
en fullständig frånvaro av partiklar, som är väsentligt
större än genomsnittskornstorleken. Således uppvisar de
i enlighet med förfarandet enligt uppfinningen framställda
pulvren i allmänhet mindre än 1% enskilda partiklar, som
avviker mer än 20% från medelkornstorleken. Partiklar,
som avviker med mer än 50%, föreligger inte.
10
15
20
25
30
35
510lis1s
7
De icke-oxidiska pulvren uppvisar ytterst ringa syre-
halter (mindre än 1 000 ppm). Ytterligare karaktäristika
för pulvren är deras höga renhet, höga ytrenhet och goda
reproducerbarhet.
Beroende av kornstorlek och substans kan de icke-oxidiska
pulvren vara mycket luftkänsliga till pyrofora. För undan-
röjande av denna egenskap kan dessa pulver på ett definierat
sätt ytmodifieras genom behandling med gas/ångblandningar.
Fig. 1 visar schematiskt en anordning, med vilken förfarandet
enligt uppfinningen kan genomföras. Med hänvisning till
Fig. 1 belyses i det följande genomföringen av förfarandet
enligt uppfinningen. De därvid explicit omnämnda förfarings-,
substans- och/eller anordningsparametrarna utgör därvid
endast valda möjligheter av många och är således inte
begränsande för uppfinningen.
De fasta, flytande eller gasformiga metallföreningarna in-
doseras i en utanför anordnad förångare 1 eller i en inom
högtemperaturugnen anordnad förångare la, där de förångas
vid temperaturer av 200-2 000°C och transporteras medelst
en inert bärargas (N2, Ar eller He) till gasförvärmaren 2a.
De ytterligare reaktionskomponenterna 3 såsom H2, NH3 och
CH4 eller för framställningen av metalloxider och/eller
syre, värmes likaledes i en gasförvärmare 2. Före inträdet
i reaktionsreaktorn 4 formas de från gasförvärmarna 2 ut-
strömmande turbulenta enskilda strömtrådarna i en dysa 5
till två koaxiella, laminära och rotationssymmetriska ström-
trådar eller -strängar. I rörreaktorn 4 genomblandas den
mellerstra strömsträngen 6, som innehåller metallkomponenten,
och den omhöljande strömsträngen 7, som innehåller resten
av reaktionskomponenterna, under definierade betingelser.
Därvid inträffar reaktionen vid temperaturer mellan 500
och 2 000°C enligt t ex följande exempel på fall:
10
15
20
25
30
35
510 818
8
Ticl4 + NH: + 1/2 H2 > 'riN + 4 Hcl eller
TiCl4 + CH4 > TiC + 4 HCl eller
AlCl3 + NH3 > AlN + 3 HCl eller
TiCl4 + 2BCl3 + 5H2 > TiB2 + 10 HCl eller
TaCl5 + CH4 + 1/2 H2 > TaC + 5 HCl eller
4BCl3 + CH4 + 4H2 > B4C + 12 HCl eller
WCI6 + + 3H2 > W + 6 HCl eller
M0Cl5 + 2SiCl4 + 6 1/2 H2 > M0Si2 + 13 HCl eller
2NbCl5 + 2 1/2 02 > Nb2O5 + 5 C12 eller
3SiH4 + 4NH3 > Si3N4 + 12 H2 eller
ZrCl4 + 202 > ZrO2 + 2 C12 eller
Niclz + H2 > Ni + 2 Hcl
För att säkerställa en genomblandning av de båda koaxiella
strömningssträngarna kan man genom inbyggnad av en störnings-
kropp 17 i den i övrigt strängt laminära strömningen åstad-
komma en virvelväg enligt Karman. De båda koaxiella ström-
ningssträngarna separeras vid dysutloppet medelst en svag
inertgasström 16 för att förhindra pålagningar vid dysan 5.
För att förhindra den energetiskt starkt föredragna hetero-
gena avskiljningen av dessa substanser vid den varma reaktor-
väggen spolas denna genom ringspalten 8 med en inertgasström
9 (NZ, Ar eller He), som genom Coanda-effekt ligger emot
reaktorväggen. De i reaktorn genom en homogen avskiljning
från gasfasen bildade metall- eller keramikpulverpartiklarna
lämnar denna gemensamt med de gasformiga reaktionsprodukterna
(t ex HCI), inertgasen och ej omsatta reaktanter och kommer
direkt till ett återblåsningsfilter 10, där de avskiljes.
Ãterblåsningsfiltret 10 drivs vid temperaturer mellan 300
och 1 O00°C, varigenom adsorptionen av gaserna, speciellt
3 och TiCl4,
mycket stora ytan hos dessa pulver hålles vid en låg nivå.
Dessutom förhindras bildning av NH4Cl från överskott av
de icke-inerta gaserna såsom HCl, NH på den
NH3 (vid framställning av metallnitrider) och HCl. I en
efterföljande behållare 11 minskas ytterligare rester av
adsorberade gaser på pulvren genom företrädesvis växelvis
anläggning av vakuum och spolning med olika gaser vid
10
15
20
25
30
35
510 818
9
300-1 0O0°C. Goda effekter uppnås om gaser såsom N2, Ar
eller Kr insättes. Med speciell fördel insättes SF6.
I enlighet med förfarandet enligt uppfinningen är det även
möjligt att framställa metastabila ämnessystem och partiklar
med kärn/mantel-strukturer. Därvid erhålles metastabila
substanssystem genom inställning av mycket höga kylnings-
hastigheter i den undre delen av reaktorn.
Partiklarna med kärn/mantel-struktur erhålles genom
att man i den undre delen av reaktorn inför ytterligare
reaktionsgaser.
Från evakueringsbehållaren 11 kommer pulvren till kylnings-
behållaren 12, innan de via slussen 13 kommer till upp-
samlings- och försändningsbehållaren 14. I kylningsbehållaren
12 kan genom inblåsning av olika gas/ånga-blandningar
partikelytan på ett definierat sätt ytmodifieras.
Som material för sådana byggdelar, som utsättes för tempe-
raturer av upp till 2 000°C och högre, t ex värmeväxlare 2
och 3, dysa 5, reaktor 4 och reaktoromhöljningsrör 15, kan
man företrädesvis insätta belagd grafit, speciellt finkorn-
grafit. En beläggning kan t ex vara nödvändig om den nöd-
vändiga kemiska beständigheten för grafiten mot de insatta
gaserna såsom metallklorider, HCl, H2, NH3, N2 och 02 vid
de givna temperaturerna ej är tillräcklig eller om erosionen
vid högre strömningshastigheter (0,5-50 m/sek) är mycket
betydande eller om gasdensiteten hos grafiten därigenom
kan höjas eller om ytskrovligheten hos reaktorbyggdelarna
kan nedsättas därmed.
Som skikt kan man insätta t ex SiC, B4C, TiN, TiC, Al2O3,
Ta2O3 och Ni (endast upp till 1 200°C). Även kombinationer
av olika skikt, t ex med "arteget" täckskikt, är möjliga.
Dessa skikt kan med fördel anbringas medelst CVD, plasma-
sprutning och elektrolys (Ni).
10
15
20
25
30
35
510 818
10
För framställning av oxider erbjuder sig för dessa delar
oxidkeramiska material. Om endast låga temperaturer erfordras
är en insats av metalliska material även möjlig.
För inställning av partikelstorleken hos keramik- och
metallpulvren kan samtidigt tre tillvägagångssätt insättas:
- Inställning av ett bestämt förhållande för reaktions-
och inertgaserna.
- Inställning av ett bestämt tryck.
- Inställning av en bestämd temperatur-uppehållstid-profil
längsmed reaktoraxeln.
Temperatur-uppehållstid-profilen inställes enligt följande:
- Genom två eller flera värmningszoner från början av
gasförvärmaren 2 fram till änden av rörreaktorn 4.
- Genom variation av reaktortvärsnittet längsmed dess
längdaxel.
- Genom variation av gasgenomströmningen och därmed
vid givet reaktortvärsnitt strömningshastigheterna.
En väsentlig fördel med varierbarheten för temperatur-
-uppehållstid-profilen enligt uppfinningen är möjligheten
att frånkoppla kärnbildningszonen från kärntillväxtzonen.
Därmed är det enligt uppfinningen möjligt att för fram-
ställning av "grövre" pulver (t ex inom området 0,1-3 pm
för TiN) vid mycket låg temperatur och kort uppehållstid
(d v s mindre reaktortvärsnitt för en bestämd längd)
tillåta bildning av endast få groddar eller kärnor, som
därefter vid hög temperatur och lång uppehållstid (stort
reaktortvärsnitt) kan växa till "grövre" partiklar. Det
är även möjligt att framställa "fina" pulver (t ex för TiN
inom området från 3 nm till 100 nm): i ett område med hög
temperatur och relativt lång uppehållstid uppnås bildning
10
15
20
25
30
35
ll
av ett stort antal kärnor, som i den fortsatta reaktorn
vid låga temperaturer och kort uppehållstid (mindre reaktor-
tvärsnitt) tillväxer endast i ringa omfång. En inställning
av samtliga övergångar mellan de här kvalitativt visade
gränsfallen är möjlig.
I kylningsbehållaren 12 är genom inblåsning av en lämplig
gas/ånga-blandning en passivering av delvis mycket luft-
känsliga till pyrofora pulver möjlig. Partikelytorna hos
dessa keramikpulver kan beläggas såväl med ett oxidskikt
med definierad tjocklek som med lämpliga organiska föreningar
såsom högre alkoholer, aminer eller sintringshjälpmedel
såsom paraffiner i en inert bärargasström. Beläggningen kan
även genomföras med avseende på den fortsatta bearbetnings-
möjligheten för pulvret.
Oxidskikten kan anbringas t ex med en definierad fuktad
inertgas-luft-ström liksom även med en inertgas/C02-ström
(företrädesvis lämpad för karbider).
Uppfinningen belyses nedan ytterligare medelst exempel
utan att dessa begränsar uppfinningens skyddsomfång.
Exempel 1
TiN framställdes enligt följande reaktionslikhet
TiCl4 + NH3 + 1/2 H2 > TiN + 4HC1
i en apparatur enligt Fig. 1, varvid ett överskott av NH3
och H2 upprätthölls.
Man tilldoserade 100 g/min TiCl4 (flytande, kokpunkt 136°C)
i förångaren 1, varvid man förångade och tillsammans med
50 Nl/min N2 värmde till 800°C. Denna gasblandning leddes in
i gasförvärmaren 2a. Reaktionskomponenterna H2 (200 Nl/min)
och NH3 (95 Nl/min) infördes i gasförvärmaren 2. Reaktions-
komponenterna förvärmdes skilt för sig till en temperatur
av ca 1 OOO°C. Temperaturmätningen gjordes därvid medelst
10
15
20
25
30
35
510 818
12
ett W5Re-W26Re-termoelement 18 på det i Fig. 1 visade stället
(1 175°C). Före inträdet i reaktionsröret 4 formades de från
gasförvärmarna 2 utströmmande turbulenta enkelströmsträngar-
na i den yttre delen av dysan 5 till en homogen, rotations-
symmetrisk och laminär ringström. Den från gasförvärmaren 2a
utströmmande gasströmmen laminariserades likaledes i dysan
5 och infördes i ringströmningen. Dysan 5 bestod därvid av
tre koaxiellt i förhållande till varandra anordnade deldysor.
Från mitt-deldysan utströmmade en inertgasström 16, som
förflyttade stället för reaktionens början, d v s samman-
träffandet av de båda delströmmarna 6 och 7 bort från dysan
i reaktionsröret. I den inre strömningssträngen åstadkoms
medelst störningskroppen 17 med ett kännetecknande mått av
3,0 mm (anordnad i dysans längdaxel) en virvelväg enligt
Karman. Reaktionsröret hade vid en total längd av 1 100 mm
vid dysutloppet en innerdiameter av 40 mm, 200 mm under dysan
en innerdiameter av 30 mm och vid utloppet 50 mm. Därvid
förändrades innertvärsnittet ständigt under beaktande av
strömningslagarna. Reaktionsröret 4 var sammansatt av 18
segment, varvid segmenten genomgående var förenade medelst
en distans- och centreringsring. På dessa ställen åstadkoms
även en ringspalt 8. Som temperatur för reaktionsröret 4
inställdes 1 O80°C, uppmätt vid reaktorytterväggen, 400 mm
under dysan, medelst W5Re-W26Re-termoelementet 19. Trycket
i reaktionsröret 4 var praktiskt identiskt med trycket i
återblåsningsfiltret 10. Detta uppgick till 250 mbar över-
tryck. Reaktorväggen genomspolades genom 18 ringspalter 8
med 200 Nl/min N2. Om spolningen av reaktorväggen med en
inertgas utelämnas kan tillväxter ske, vilka delvis kan leda
snabbt till en reaktortilltäppning och därmed till avbrott
av processen. I varje fall erhålles emellertid, p g a den
sig ändrande reaktorgeometrin, en sig likaledes förändrande
produkt. För att minska HCl-partialtrycket inblåstes genom
den sjätte ringspalten nedifrån medelst en ytterligare gas-
inloppsanordning 200 Nl/min N2 i reaktionsröret 4. Produkten
(TiN med en enhetlig partikelstorlek av ca 10 nm) avskildes
i återblåsningsfiltret 10 vid en temperatur av 600°C från
gaserna (H2, NH3, HCl, N2).
10
15
20
25
30
35
510 181811'
13
Valet av denna temperatur gjordes å ena sidan med syfte
att förhindra bildning av NH4Cl (över 350°C) och å andra
sidan med tanke på att hålla den primära beläggningen av
de mycket stora partikelytorna (115 m2/g) med HCl på en
låg Ni-nivå (ca 1,5% Cl).
Den således framställda TiN uppsamlades under 40 minuter
(d v s 1 300 g) i återblåsningsfiltret för att sedan över-
föras till evakueringsbehållaren ll. I denna behållare
genomströmmade under ett tidsrum av 35 minuter åtta pump-
-genomflödescykler med slutvakuum 0,1 mbar abs. Behållaren
genomströmmades med Ar till ett tryck av 1 100 mbar abs.
Efter 35 minuter överfördes det således behandlade TiN-
-pulvret till kylningsbehållaren 12. I denna behållare
är genom inblåsning av olika gas/ång-blandningar även en
målmedveten ytbeskaffenhet möjlig. Efter kylning av pulvret
till under 50°C överfördes detta utan kontakt med den yttre
luften genom slussen 13 till uppsamlings- och försändnings-
behållaren.
Det pyrofora TiN-pulvret uppvisade vid en specifik yta
av 115 m2/g, enligt BET, uppmätt enligt N2-1-punkt-
-metoden (DIN 66 131), motsvarande 10 nm, en extremt
snäv kornstorleksfördelning.
En REM-upptagning av detta TiN-pulver med en specifik yta
av 115 m2/g visade den mycket snäva fördelningen av partikel-
måtten och frihet från korn med överdriven storlek. Mindre än
1% av de enskilda partiklarna uppvisar därefter en avvikelse
av mer än 10% och inga enkelpartiklar en avvikelse med mer
än 40% från medelkornstorleken. Enligt nuvarande mätteknik
kan en tillförlitlig utsaga beträffande en partikelstorleks-
fördelning för sådana extremt fina pulver erhållas endast
medelst bildalstrande metoder (t ex REM, TEM).
Analys av detta TiN-pulver gav en syrehalt av 95 ppm och
summan av icke-oxidiska föroreningar uppgick till 800 ppm.
10
15
20
25
30
35
510 818
14
Exempel 2
TiN framställdes enligt reaktionslikheten
TiCl4 + NH3 + 1/2 H2 > TiN + 4HC1
i en apparatur enligt Fig. 1, varvid man upprätthöll ett
överskott av NH3 och H2.
Till förångaren 1 doserade man härvid 100 g/min TiCl4 (flyt-
ande, kokpunkt l36°C), varvid förångades och tillsammans med
50 Nl/min N2 värmde till 950°C. Denna gasblandning leddes in
i gasförvärmaren 2a. Reaktionskomponenterna H2 (200 Nl/min)
och NH3 (95 Nl/min) infördes i gasförvärmaren 2. Reaktions-
komponenterna förvärmdes var för sig till en temperatur av
ca 700°C. Temperaturmätningen skedde därvid medelst ett
W5Re-W26Re-termoelement 18 på det i Fig. 1 betecknade stället
(850°C). Före inträdet i reaktionsröret 4 formades de från
gasförvärmaren 2 utströmmande turbulenta enkelströmsträngar-
na i den yttre delen av dysan 5 till en homogen, rotations-
symmetrisk och laminär ringström. Den från gasförvärmaren 2a
utströmmande gasströmmen laminariserades likaledes i dysan
5 och infördes i ringströmningen. Dysan 5 bestod därvid av
tre koaxiellt i förhållande till varandra anordnade deldysor.
Från den mellersta deldysan utströmmade en inertgasström 16,
vilken försköt stället för reaktionens början, d v s samman-
träffandet av de båda delströmmarna 6 och 7 bort från dysan
i reaktionsröret. I den inre strömsträngen åstadkoms medelst
störningskroppen 17 med ett kännetecknande mått av 4,0 mm
(anordnad i dysans längdaxel) en virvelväg enligt Karman.
Reaktionsröret hade vid en total längd av 1 320 mm vid dys-
utloppet en innerdiameter av 25 mm, från 120 till 180 mm
under dysan en utvidgning av innerdiametern till 48 mm. Vid
utloppet uppgick innerdiametern till 65 mm. Därvid ändrades
innertvärsnittet ständigt under beaktande av strömningslagar-
na. Reaktionsröret 4 var sammansatt av 22 segment, varvid
de var för sig var inbördes förenade medelst en distans- och
centreringsring. På dessa ställen åstadkoms en ringspalt 8.
10
15
20
25
30
35
510 (8185
15
Som temperatur för reaktionsröret 4 inställdes 1 570°C,
uppmätt vid reaktorytterväggen, 400 mm under dysan medelst
W5Re-W26Re-termoelementet 19. Trycket i reaktionsröret 4
var praktiskt taget identiskt med trycket i återblåsnings-
filtret 10. Detta uppgick till 250 mbar övertryck. Reaktor-
väggen spolades genom 22 ringspalter 8 med 200 Nl/min N2.
Om denna spolning av reaktorväggen med en inertgas ute-
lämnades kunde tillväxter ske, vilka delvis mycket snabbt
kan leda till reaktortilltäppning och därmed till avbrott
av processen. I varje fall åstadkommes emellertid, genom
den sig ändrande reaktorgeometrin, en sig likaledes ändrande
produkt. För att minska HCl-partialtrycket inblåstes genom
en ytterligare ringspalt i det sjätte segmentet underifrån
medelst en ytterligare gasinloppsanordning 200 Nl/min Ar
i reaktionsröret 4. Produkten (TiN med en enhetlig partikel-
storlek av ca 50 nm) avskildes i återblåsningsfiltret 10
vid en temperatur av 600°C från gaserna (H2, NH3, HCl, N2).
Valet av denna temperatur gjordes å ena sidan för att
förhindra bildning av NH4Cl (över 350°C) och å andra
sidan för att hålla den primära beläggningen av de mycket
stora partikelytorna (41,5 m2/g) med HCl på en låg nivå
(ca 1% Cl).
Det således framställda TiN uppsamlades under 40 minuter
(d v s 1 300 g) i återblåsningsfiltret för att sedan över-
föras till evakueringsbehållaren 11. I denna behållare genom-
blåstes under en tid av 35 minuter åtta pump-genomströmnings-
cykler med ett slutvakuum av 0,1 mbar abs. Behållaren genom-
spolades med Ar till ett tryck av 1 100 mbar abs. Efter
35 minuter överfördes det således behandlade TiN-pulvret
till kylningsbehållaren 12. I denna behållare är genom in-
blåsning av olika gas/ång-blandningar även en målmedveten
ytutformning möjlig. Efter kylning av pulvret till under
50°C överfördes detta utan kontakt med den yttre luften
förmedelst slussen 13 till uppsamlings- och försändnings-
behållaren.
10
15
20
25
30
35
510 818
16
Det pyrofora TiN-pulvret uppvisade vid en specifik yta
av 41,5 m2/g, enligt BET, uppmätt enligt N2-1-punkt-
-metoden (DIN 66 131), motsvarande 50 nm, en extremt
snäv kornstorleksfördelning.
En REM-upptagning av detta TiN-pulver med en specifik
yta av 41,5 m2/g visade den mycket snäva fördelningen av
partikelmåtten och avsaknad av korn med överdriven storlek.
Mindre än 1% av de enskilda partiklarna uppvisar i enlighet
därmed en avvikelse av mer än 10% och inga enskilda partiklar
uppvisar en avvikelse med mer än 40% från medelkornstorleken.
Enligt nuvarande mätteknik kan en tillförlitlig utsaga be-
träffande partikelstorleksfördelningen för sådana extremt
fina pulver erhållas endast medelst bildalstrande metoder
(f. ex REM, TEM) .
Analys av detta TiN-pulver gav en syrehalt av 70 ppm
och en summa av icke-oxidiska föroreningar av 820 ppm.
Exempel 3
TiC framställdes enligt följande reaktionslikhet
TiCl4 + CH4 > TiC + 4HCl
i en apparatur enligt Fig. 1, varvid ett ringa överskott
av CH
4 upprätthölls och dessutom H2 tillsattes.
Härvid satte man till förångaren la 90 g/min TiCl4 (flyt-
ande, kokpunkt 136°C), varvid förångades och tillsammans
med 50 Nl/min Ar värmdes till 1 200°C i gasförvärmaren 2a.
Reaktionskomponenterna H2 (170 Nl/min) och CH4 (25 Nl/min)
infördes i gasförvärmaren 2. Reaktionskomponenterna för-
värmdes var för sig till en temperatur av ca 1 050°C.
Temperaturmätningen gjordes därvid medelst ett W5Re-W26Re-
-termoelement 18 på det i Fig. 1 betecknade stället
(1 200°C). Före inträdet i reaktionsröret 4 formades de
från gasförvärmaren 2 utströmmande turbulenta enskilda
10
15
20
25
30
35
5100 81821
17
strömsträngarna i den yttre delen av dysan 5 till en homogen,
rotationssymmetrisk och laminär ringström. Den från gas-
förvärmaren 2a utströmmande gasströmmen laminariserades
likaledes i dysan 5 och infördes i ringströmningen. I denna
mellersta strängström åstadkoms medelst störningskroppen 17
med ett kännetecknande mått av 4,0 mm i dysans längdaxel en
virvelväg enligt Karman. Reaktionsröret hade vid en total
längd av 1 320 mm vid dysutloppet en diameter av 25 mm, från
120 till 180 mm under dysan en utvidgad diameter av 48 mm
och vid utloppet uppgick diametern till 65 mm. Därvid ändra-
des innertvärsnittet ständigt under beaktande av strömnings-
lagarna. Reaktionsröret 4 var sammansatt av 22 segment, var-
vid segment sammanbands medelst en distans- och centrerings-
ring. På dessa ställen åstadkoms en ringspalt 8.
Som temperatur för reaktionsröret 4 inställdes 1 700°C,
uppmätt vid reaktorytterväggen, 400 mm under dysan, medelst
W5Re-W26Re-termoelementet 19. Trycket i reaktionsröret 4
var praktiskt taget identiskt med trycket i återblåsnings-
filtret 10. Detta uppgick till 250 mbar övertryck. Reaktor-
väggen spolades genom 22 ringspalter 8 med 200 Nl/min Ar.
Om spolningen av reaktorväggen med en inertgas utelämnades
kunde tillväxter ske, som delvis mycket snabbt kan leda till
reaktortilltäppning och därmed till ett avbrott av processen.
I varje fall åstadkommes emellertid, p g a den sig föränder-
liga reaktorgeometrin, en sig likaledes förändrande produkt.
För att minska HCl-partialtrycket inblåstes genom en ytter-
ligare ringspalt i det sjätte segmentet nedifrån medelst en
ytterligare gasinloppsanordning 200 Nl/min Ar i reaktions-
röret 4. Produkten (TiC med en enhetlig partikelstorlek
av ca 50 nm) avskildes i återblåsningsfiltret 10 vid en
temperatur av 600°C från gaserna (H2, CH4, HCl, Ar).
Valet av denna temperatur gjordes för att hålla den
primära beläggningen av de mycket stora partikelytorna
(45,6 m2/g) med HCl på en låg nivå (ca 1% Cl).
Den således framställda TiC uppsamlades under 40 minuter
(d v s 1 300 g) i återblåsningsfiltret för att sedan
10
15
20
25
30
510 818
18
överföras till evakueringsbehållaren 11. Genom denna
behållare passerade under en tid av 35 minuter åtta pump-
-genomströmningscykler med ett slutvakuum av 0,1 mbar abs.
Behållaren genomströmmades med Ar till ett tryck av
1 100 mbar abs. Efter 35 minuter överfördes det således
behandlade TiC-pulvret till kylningsbehållaren 12. I denna
behållare är genom inblåsning av olika gas/ång-blandning-
ar även en målmedveten ytutformning möjlig. Efter kylning
av pulvret till under 50°C överfördes detta utan kontakt
med den yttre luften förmedelst slussen 13 till uppsamlings-
och försändningsbehållaren.
Det pyrofora TiC-pulvret uppvisade vid en specifik yta
av 45,6 m2/g enligt BET, uppmätt enligt N2-l-punkt-
-metoden (DIN 66 131), motsvarande 10 nm, en extremt
snäv kornstorleksfördelning.
En REM-upptagning av detta TiC-pulver med en specifik
yta av 45,6 m2/g visade den mycket snäva fördelningen
av partikelmåtten och frihet från korn med överdriven
storlek. Mindre än 1% av de enskilda partiklarna uppvisar
i enlighet därmed en avvikelse med mer än 10% och inga
enskilda partiklar en avvikelse med mer än 40% från medel-
kornstorleken. Enligt nuvarande mätteknik kan en till-
förlitlig utsaga över partikelstorleksfördelningen för
ett sådant extremt fint pulver erhållas endast medelst
bildalstrande metoder (t ex REM, TEM).
Analys av detta TiC-pulver gav en syrehalt av 80 ppm
och en summa av icke-oxidiska föroreningar av 890 ppm.
10
15
20
25
30
35
5 ífoiïåsd '
19
Exempel 4
Ta framställdes enligt följande reaktionslikhet
TaCl5 + 2 1/2 H > Ta + 5HCl
2
i en apparatur enligt Fig. 1, varvid man upprätthöll ett
överskott av H2.
Härvid doserade man till förângaren la 100 g/min TaCl5
(fast, kokpunkt 142°C), förångade och värmde tillsammans
med 50 Nl/min Ar i gasförvärmaren 2a till 1 300°C. Reaktions-
komponenten H2 (200 Nl/min) infördes i gasförvärmaren 2.
Reaktionskomponenterna förvärmdes var för sig till en tempe-
ratur av ca 1 300°C. Temperaturmätningen gjordes därvid med-
elst ett W5Re-W26Re-termoelement 18 på det i Fig. 1 visade
stället (1 450°C). Före inträdet i reaktionsröret 4 forma-
des de från gasförvärmaren 2 utströmmande turbulenta enkel-
strömsträngarna i den yttre delen av dysan 5 till en homogen,
rotationssymmetrisk och laminär ringström. Den från gas-
förvärmaren 2a utströmmande gasströmmen laminariserades
likaledes i dysan 5 och infördes i ringströmningen. Dysan 5
bestod därvid av tre koaxiellt i förhållande till varandra
anordnade deldysor. Från den mellersta deldysan utströmmade
en inertgasström 16, som försköt stället för reaktionens
början, d v s sammanträffandet för de båda delströmmarna 6
och 7 bort från dysan i reaktionsröret. I den inre ström-
strängen åstadkoms medelst störningskroppen 17 med ett känne-
tecknande mått av 3,0 mm (anordnad i dysans längdaxel) en
virvelväg enligt Karman. Rörreaktorn hade vid en total längd
av 1 100 mm vid dysutloppet en innerdiameter av 40 mm, 200 mm
under dysan en innerdiameter av 30 mm och vid utloppet 50 mm.
Därvid ändrades innertvärsnittet ständigt under beaktande
av strömningslagarna. Reaktionsröret 4 var sammansatt av
18 segment, varvid segmenten var förenade medelst en distans-
och centreringsring. På dessa ställen åstadkoms en ringspalt
8. Som temperatur för reaktionsröret 4 inställdes 1 230°C,
uppmätt vid reaktorytterväggen, 400 mm under dysan, medelst
W5Re-W26Re-termoelementet 19. Trycket i reaktionsröret 4
10
15
20
25
30
35
510 818
20
var praktiskt taget identiskt med trycket i återblåsnings-
filtret 10. Detta uppgick till 250 mbar övertryck. Reaktor-
väggen genomspolades genom 18 ringspalter 8 med 200 Nl/min
Ar. Om denna spolning av reaktorväggen med en inertgas ute-
lämnades kan tillväxter uppstå, vilka delvis mycket snabbt
kan leda till reaktortilltäppning och därmed till avbrott
av processen. I varje fall åstadkommes emellertid, genom
den sig ändrande reaktorgeometrin, en sig likaledes ändran-
de produkt. För att minska HCI-partialtrycket inblåstes
i reaktionsröret 4 genom den sjätte ringspalten nedifrån
medelst en ytterligare gasinloppsanordning 200 Nl/min Ar.
Produkten (Ta med en enhetlig partikelstorlek av ca 25 nm)
avskildes i återblåsningsfiltret 10 vid en temperatur av
600°C från gaserna (H2, HCl, Ar).
Valet av denna temperatur gjordes i syfte att hålla den
primära beläggningen av de mycket stora partikelytorna
(18 m2/g) med HCl på en låg nivå (ca 0,8% Cl).
Det således framställda Ta uppsamlades under 40 minuter
(d v s 2 000 g) i återblåsningsfiltret för att sedan
överföras till evakueringsbehållaren 11. Denna behållare
genomströmmades under ett tidsrum av 35 minuter av åtta
pump-genomströmningscykler med ett slutvakuum av 0,1 mbar
abs. Behållaren genomströmmades med Ar till ett tryck av
1 100 mbar abs. Efter 35 minuter överfördes det således
behandlade Ta-pulvret till kylningsbehållaren 12. I denna
behållare är genom inblåsning av olika gas/ång-blandningar
även en målmedveten ytutformning möjlig. Efter kylning
av pulvret till under 50°C överfördes detta utan kontakt
med den yttre luften förmedelst slussen 13 till uppsamlings-
och försändningsbehållaren.
Det pyrofora Ta-pulvret uppvisade vid en specifik yta
av 17 m2/g enligt EET, uppmätt enligt N2-1-punkt-
-metoden (DIN 66 131), motsvarande 25 nm, en extremt
snäv kornstorleksfördelning.
10
15
20
25
30
35
ànbiiswsiw
21
En REM-upptagning av detta Ta-pulver med en specifik yta
av 25 m2/g visade den mycket snäva fördelningen av partikel-
måtten och friheten från korn med överstorlek. Mindre än 1%
av de enskilda partiklarna uppvisar en avvikelse med mer än
10% och inga enskilda partiklar uppvisar en avvikelse av
mer än 40% från medelkornstorleken. Enligt nuvarande mät-
teknik kan en tillförlitlig utsaga över en partikelstorleks-
fördelning för sådan extremt fina pulver erhållas endast
via bildalstrande metoder (t ex REM, TEM).
Analys av detta Ta-pulver gav en syrehalt av 70 ppm och
summan av icke-oxidiska föroreningar uppgick till 430 ppm.
Exempel 5
Nb2O5 framställdes enligt följande reaktionslikhet
2 NbCl5 + 2 1/2 02 > Nb2O5 + 5Cl2
i en apparatur enligt Pig. l. Som syrebärare insattes luft
i överskott.
Härvid doserade man till förångaren la 100 g/min NbCl5
(fast, kokpunkt 254°C), förångade och värmde tillsammans
med 50 Nl/min N2 i gasförvärmaren 2a till l 250°C. Luft
(400 Nl/min) infördes i gasförvärmaren 2. Reaktionskomponent-
erna förvärmdes var för sig till en temperatur av ca 1 200°C.
Temperaturmätningen gjordes därvid medelst ett W5Re-W26Re-
-termoelement 18 på det i Fig. 1 visade stället (1 450°C).
Före inträdet i reaktionsröret 4 formades de från gas-
förvärmaren 2 utströmmande turbulenta enkelströmsträngarna
i den yttre delen av dysan 5 till en homogen, rotations-
symmetrisk och laminär ringström. Den från gasförvärmaren
2a utströmmande gasströmmen laminariserades likaledes i dysan
5 och infördes i ringströmningen. Dysan 5 bestod därvid av
tre koaxiellt i förhållande till varandra anordnade deldysor.
Från den mellersta deldysan utströmmade en inertgasström 16,
som försköt stället för reaktionens början, d v s samman-
träffandet av de båda delströmmarna 6 och 7 bort från dysan
10
15
20
25
30
35
510 818
22
i reaktionsröret. I den inre strömsträngen åstadkoms med-
elst störningskroppen 17 med ett kännetecknande mått av
4,0 mm (anordnad i dyslängdaxeln) en virvelväg enligt Karman.
Reaktionsröret hade vid en total längd av 1 100 mm vid dys-
utloppet en innerdiameter av 45 mm, 200 mm under dysan en
innerdiameter av 30 mm. Efter en utvidgning till 90 mm (vid
290 mm under dysan) uppgick innerdiametern vid utloppet till
105 mm.
Därvid ändrades innerdiametern under beaktande av strömnings-
lagarna. Reaktionsröret 4 var sammansatt av 18 segment,
varvid segmenten var förenade medelst en distans- och
centreringsring. På dessa ställen åstadkoms genomgående
en ringspalt 8.
Dysan 5, reaktionsröret 4 och värmeväxlaren 2 var tillverkade
av oxidkeramik. Värmeväxlaren 2a bestod av skiktad grafit.
Den stora vidgningen av reaktorns tvärsnitt är nödvändig för
att med lång uppehållstid överföra även biprodukten Nb02Cl
till Nb205.
som temperatur för reaktionsröret 4 inställdes 1 300°C,
uppmätt vid reaktorytterväggen, 400 mm under dysan, medelst
W5Re-W26Re-termoelementet 19. Trycket i reaktionsröret 4
var praktiskt taget identiskt med trycket i återblåsnings-
filtret 10. Detta uppgick till 250 mbar övertryck. Reaktor-
väggen spolades genom 18 ringspalter 8 med 200 Nl/min N2.
Om denna spolning av reaktorväggen med en inertgas utelämnas
kan tillväxter ske, som delvis mycket snabbt kan leda till
reaktortilltäppning och därmed till avbrott i processen. I
varje fall åstadkommes emellertid, genom den sig förändrande
reaktorgeometrin, en sig likaledes ändrande produkt. För
att minska C12-partialtrycket inblåstes i reaktionsröret 4
genom den sjätte ringspalten nedifrån medelst en ytterligare
gasinloppsanordning 200 Nl/min N2. Produkten (Nb205 med
en enhetlig partikelstorlek av ca 45 nm) avskildes i åter-
blåsningsfiltret 10 vid en temperatur av 600°C från gaserna
(C12, NZ).
10
15
20
25
30
35
siåb is1š i
23
Valet av denna temperatur för att hålla den primära
beläggningen av de mycket stora partikelytorna (42 m2/g)
med C12 på en låg nivå.
Det således framställda Nb205 uppsamlades under 40 minuter
(d v s 1 950 g) i återblåsningsfiltret för att därefter
överföras till evakueringsbehållaren 11. Denna behållare
genomlöptes under en tid av 35 minuter av åtta pump-
-genomströmningscykler med ett slutvakuum av 0,1 mbar abs.
Behållaren genomströmmades med Ar till ett tryck av
1 100 mbar abs. Efter 35 minuter överfördes det således
behandlade Nb205-pulvret till kylningsbehållaren 12. I
denna behållare är genom inblåsning av olika gas/ång-
-blandningar även en målmedveten ytutformning möjlig.
Efter kylning av pulvret till under 50°C överfördes detta
utan kontakt med den yttre luften medelst slussen 13 till
uppsamlings- och försändningsbehållaren.
Nb205-pulvret visade vid en specifik yta av 42 m2/g enligt
BET, uppmätt enligt N2-1-punkt-metoden (DIN 66 131), mot-
svarande 45 nm, en extremt snäv kornstorleksfördelning.
En REM-upptagning av detta Nb205-pulver med en specifik yta
av 42 m2/g visade den mycket snäva fördelningen av partikel-
måtten och friheten från korn med överstorlek. Mindre än
1% av de enskilda partiklarna uppvisar därmed en avvikelse
med mer än 10% och inga enskilda partiklar uppvisar en
avvikelse med mer än 40% från medelkornstorleken. Enligt
nuvarande mätteknik kan en tillförlitlig utsaga beträffande
en partikelstorleksfördelning för ett sådat extremt fint
pulver erhållas endast medelst bildalstrande metoder (t ex
REM, TEM).
Analys av detta Nb205-pulver gav som summa av de metalliska
föroreningarna 700 ppm.
Claims (7)
- l. Förfarande för framställning av finkorniga metall- och/ eller keramikpulver genom reaktion av motsvarande metall- föreningar och ytterligare reaktionskomponenter i gasfas, varvid metallföreningen resp. -föreningarna och den ytter- ligare resp. de ytterligare reaktionskomponenterna får rea- gera i gasformigt tillstànd i en rörreaktor och därefter kon- denseras homogent direkt från gasfasen under uteslutning av varje väggreaktion genom avskärmning av reaktionsmediet från rörreaktorns vägg, och därefter avskiljes från reaktions- mediet, kännetecknat av att metallföreningarna och ytterli- gare reaktionskomponent eller -komponenter var för sig med åtminstone reaktionstemperatur, dvs med åtminstone en tempe- ratur, vid vilken de kan reagera, som koaxiella, laminära, i samma riktning strömmande delströmmar införes i rörreaktorn under avskärmning från reaktorväggen.
- 2. Förfarande enligt krav l, kännetecknat av att reaktions- komponenterna och produktpartiklarna genomströmmar reaktorn laminärt.
- 3. Förfarande enligt krav 2, kännetecknat av att de koaxiel- la, laminära delströmmarna av reaktionskomponenterna blandas på ett definierat sätt medelst en virvelväg enligt Kármán.
- 4. Förfarande enligt ett eller flera av krav 1-3, känne- tecknat av att avskiljningen av metall- eller keramikpulvret företas vid temperaturer som ligger över kok- resp sublime- ringstemperaturen för de insatta reaktionskomponenterna och/ eller för under reaktionen ofránkomligen bildade biprodukter.
- 5. Förfarande enligt krav 4, kännetecknat av att de avskilda metall- eller keramikpulvren renas genom växelvist anläggande av vakuum och genomströmning med olika gaser såsom N2, Ar och Kr, speciellt föredraget SF6. 10 510 818 25
- 6. Förfarande enligt ett av krav 4 eller 5, kânnetecknat av att de avskilda metall- eller keramikpulvren ytmodifieras genom behandling med gas/ånga-blandningar.
- 7. Förfarande enligt ett eller flera av krav 1-6, känneteck- nat av att som metallföreningar insättes en eller flera från gruppen BCl3, borsyraestrar, boraner, SiCl4, andra halogen- silaner, silaner, metallhalogenider, delvis hydrerade metall- halogenider, metallhydrider, metallalkoholater, metall- alkyler, metallamider, metallazider, metallboranater och metallkarbonyler.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4214719A DE4214719C2 (de) | 1992-05-04 | 1992-05-04 | Verfahren zur Herstellung feinteiliger Metall- und Keramikpulver |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SE9301466D0 SE9301466D0 (sv) | 1993-04-29 |
| SE9301466L SE9301466L (sv) | 1993-11-05 |
| SE510818C2 true SE510818C2 (sv) | 1999-06-28 |
Family
ID=6458136
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SE9301466A SE510818C2 (sv) | 1992-05-04 | 1993-04-29 | Förfarande för framställning av finkornigt metall- och keramikpulver |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5472477A (sv) |
| JP (1) | JPH0649514A (sv) |
| KR (1) | KR100251665B1 (sv) |
| AT (1) | AT405723B (sv) |
| DE (1) | DE4214719C2 (sv) |
| IL (1) | IL105592A (sv) |
| SE (1) | SE510818C2 (sv) |
Families Citing this family (38)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE9403581U1 (de) | 1994-03-03 | 1994-04-28 | Kernforschungszentrum Karlsruhe Gmbh, 76133 Karlsruhe | Beschichtetes Nanopulver und Vorrichtung zu dessen Herstellung |
| DE4445205A1 (de) * | 1994-12-17 | 1996-06-20 | Degussa | Zirkondioxidpulver, Verfahren zu seiner Herstellung und Verwendung |
| US6524548B1 (en) | 1994-12-17 | 2003-02-25 | Degussa Ag | Zirconium dioxide powder, method of its production and use |
| DE19623587A1 (de) * | 1996-06-13 | 1997-12-18 | Dlr Deutsche Forschungsanstalt | Keramische Verdampfermaterialien |
| US6832735B2 (en) * | 2002-01-03 | 2004-12-21 | Nanoproducts Corporation | Post-processed nanoscale powders and method for such post-processing |
| US5851507A (en) * | 1996-09-03 | 1998-12-22 | Nanomaterials Research Corporation | Integrated thermal process for the continuous synthesis of nanoscale powders |
| US5905000A (en) * | 1996-09-03 | 1999-05-18 | Nanomaterials Research Corporation | Nanostructured ion conducting solid electrolytes |
| US6933331B2 (en) | 1998-05-22 | 2005-08-23 | Nanoproducts Corporation | Nanotechnology for drug delivery, contrast agents and biomedical implants |
| WO1998022539A1 (de) * | 1996-11-15 | 1998-05-28 | Bayer Aktiengesellschaft | Uv-lichtabsorber, eine matrix, enthaltend diesen uv-lichtabsorber, ein verfahren zum herausfiltern ultravioletter strahlung und die verwendung von uv-lichtabsorbern |
| WO1998024576A1 (en) * | 1996-12-05 | 1998-06-11 | The University Of Connecticut | Nanostructured metals, metal alloys, metal carbides and metal alloy carbides and chemical synthesis thereof |
| DE19746513A1 (de) * | 1997-10-22 | 1999-04-29 | Agfa Gevaert Ag | Farbfotografisches Aufzeichnungsmaterial |
| DE19749082A1 (de) * | 1997-11-06 | 1999-05-12 | Bayer Ag | Nanoskalige anorganische Pigmente enthaltende Ink-Jet-Tinten |
| DE19756740A1 (de) | 1997-12-19 | 1999-06-24 | Bayer Ag | UV-geschützte elektrochrome Vorrichtung |
| JP4611464B2 (ja) * | 1998-06-12 | 2011-01-12 | 東邦チタニウム株式会社 | 金属粉末の製造方法 |
| ES2232177T3 (es) | 1998-09-08 | 2005-05-16 | Bayer Innovation Gmbh | Dispositivo electrocromico con filtro amarillo. |
| DE19905797A1 (de) | 1999-02-12 | 2000-08-17 | Bayer Ag | Elektrochrome Vorrichtung mit Nanoteilchen und UV-Absorber in der Schutzschicht |
| IL134891A0 (en) * | 2000-03-06 | 2001-05-20 | Yeda Res & Dev | Reactors for production of tungsten disulfide hollow onion-like nanoparticles |
| KR100366774B1 (ko) * | 2000-03-21 | 2003-01-09 | 이재성 | 초미립 금속분말제품 제조장치 |
| US7241399B2 (en) * | 2000-09-08 | 2007-07-10 | Centrum Fuer Angewandte Nanotechnologie (Can) Gmbh | Synthesis of nanoparticles |
| IL139266A0 (en) | 2000-10-25 | 2001-11-25 | Yeda Res & Dev | A method and apparatus for producing inorganic fullerene-like nanoparticles |
| US6513728B1 (en) | 2000-11-13 | 2003-02-04 | Concept Alloys, L.L.C. | Thermal spray apparatus and method having a wire electrode with core of multiplex composite powder its method of manufacture and use |
| US6674047B1 (en) | 2000-11-13 | 2004-01-06 | Concept Alloys, L.L.C. | Wire electrode with core of multiplex composite powder, its method of manufacture and use |
| US6428596B1 (en) | 2000-11-13 | 2002-08-06 | Concept Alloys, L.L.C. | Multiplex composite powder used in a core for thermal spraying and welding, its method of manufacture and use |
| JP3995082B2 (ja) * | 2001-07-18 | 2007-10-24 | 日鉱金属株式会社 | ゲート酸化膜形成用ハフニウムシリサイドターゲット及びその製造方法 |
| US6855426B2 (en) | 2001-08-08 | 2005-02-15 | Nanoproducts Corporation | Methods for producing composite nanoparticles |
| US7442227B2 (en) | 2001-10-09 | 2008-10-28 | Washington Unniversity | Tightly agglomerated non-oxide particles and method for producing the same |
| CA2463444C (en) * | 2001-11-06 | 2008-02-19 | Cyprus Amax Minerals Company | Apparatus and method for producing pigment nano-particles |
| US7029507B2 (en) * | 2001-11-29 | 2006-04-18 | Nanoproducts Corporation | Polishing using multi-metal oxide nanopowders |
| US20050287925A1 (en) * | 2003-02-07 | 2005-12-29 | Nathan Proch | Collectible item and code for interactive games |
| US7220793B2 (en) * | 2002-02-20 | 2007-05-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Curable film-forming composition exhibiting improved resistance to degradation by ultraviolet light |
| US7449044B2 (en) * | 2002-09-30 | 2008-11-11 | Toho Titanium Co., Ltd. | Method and apparatus for producing metal powder |
| US7708974B2 (en) | 2002-12-10 | 2010-05-04 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Tungsten comprising nanomaterials and related nanotechnology |
| BRPI0400086A (pt) * | 2004-03-09 | 2005-11-01 | Cbmm Sa | Catalisador de cobalto para sìntese de fischer-tropsch, suporte para o mesmo, processos de preparação do suporte e do catalisador e uso do catalisador |
| CA2512317A1 (en) * | 2004-07-20 | 2006-01-20 | E.I. Dupont De Nemours And Company | Process for making metal oxide nanoparticles |
| CN101151210B (zh) * | 2005-03-30 | 2011-09-21 | 福冈县 | 碳化钛粉末和碳化钛-陶瓷复合粉末及其制造方法,以及碳化钛粉末的烧结体和碳化钛-陶瓷复合粉末的烧结体及其制造方法 |
| DE102005035704A1 (de) * | 2005-07-27 | 2007-02-01 | Behr Gmbh & Co. Kg | Zu verlötende Oberfläche |
| KR100869065B1 (ko) * | 2006-09-21 | 2008-11-18 | 요업기술원 | 금속 나노 분말의 소결 방법 및 그 소결체, 금속 나노 분말의 제조 방법 |
| JP7054391B2 (ja) * | 2016-07-08 | 2022-04-13 | アルコア ユーエスエイ コーポレイション | セラミック粉末を製造するためのシステム及び方法 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AT236133B (de) * | 1961-05-03 | 1964-10-12 | Union Carbide Corp | Verfahren zur Herstellung ultrafeiner Metallteilchen |
| CH526333A (de) * | 1967-05-19 | 1972-08-15 | Bayer Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Durchführung von Reaktionen zwischen Gasen |
| US3671220A (en) * | 1969-05-19 | 1972-06-20 | Nordstjernan Rederi Ab | Process for the production of powdered metals |
| JPS597765B2 (ja) * | 1980-09-13 | 1984-02-21 | 昭宣 吉澤 | 微粉末金属の製造方法 |
| US4383853A (en) * | 1981-02-18 | 1983-05-17 | William J. McCollough | Corrosion-resistant Fe-Cr-uranium238 pellet and method for making the same |
| JPS59227765A (ja) * | 1983-06-04 | 1984-12-21 | 科学技術庁金属材料技術研究所長 | セラミツクスの超微粒子の製造法 |
| DE3581293D1 (de) * | 1984-02-09 | 1991-02-21 | Toyota Motor Co Ltd | Verfahren zur herstellung von ultrafeinen keramikpartikeln. |
| JPS60175537A (ja) * | 1984-02-22 | 1985-09-09 | Toyota Motor Corp | セラミツク超微粒子の製造方法 |
| JPS6193828A (ja) * | 1984-10-16 | 1986-05-12 | Natl Res Inst For Metals | 混合超微粉の製造法 |
| US4994107A (en) * | 1986-07-09 | 1991-02-19 | California Institute Of Technology | Aerosol reactor production of uniform submicron powders |
| US4808216A (en) * | 1987-04-25 | 1989-02-28 | Mitsubishi Petrochemical Company Limited | Process for producing ultrafine metal powder |
| GB8809651D0 (en) * | 1988-04-23 | 1988-05-25 | Tioxide Group Plc | Nitrogen compounds |
| DE3924300A1 (de) * | 1989-01-21 | 1991-01-31 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von pulverfoermigen metallnitriden |
| US5178844A (en) * | 1990-04-03 | 1993-01-12 | Phillips Petroleum Company | Method and apparatus for producing nitride products |
-
1992
- 1992-05-04 DE DE4214719A patent/DE4214719C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-04-22 US US08/050,590 patent/US5472477A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-04-28 JP JP5123159A patent/JPH0649514A/ja active Pending
- 1993-04-29 AT AT0083493A patent/AT405723B/de not_active IP Right Cessation
- 1993-04-29 SE SE9301466A patent/SE510818C2/sv not_active IP Right Cessation
- 1993-04-30 KR KR1019930007410A patent/KR100251665B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1993-05-03 IL IL10559293A patent/IL105592A/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| SE9301466D0 (sv) | 1993-04-29 |
| IL105592A0 (en) | 1993-09-22 |
| AT405723B (de) | 1999-11-25 |
| IL105592A (en) | 1996-12-05 |
| DE4214719C2 (de) | 1995-02-02 |
| JPH0649514A (ja) | 1994-02-22 |
| KR100251665B1 (ko) | 2000-04-15 |
| DE4214719A1 (de) | 1993-11-11 |
| KR930023096A (ko) | 1993-12-18 |
| ATA83493A (de) | 1999-03-15 |
| US5472477A (en) | 1995-12-05 |
| SE9301466L (sv) | 1993-11-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5356120A (en) | Device for producing finely-divided metal and ceramic powder | |
| KR100251665B1 (ko) | 미립자 금속 및 세라믹 분말의 제조 방법 | |
| JP3356323B2 (ja) | 微粒子金属粉 | |
| KR100251664B1 (ko) | 미립자 금속 분말 | |
| KR100254065B1 (ko) | 미립자 산화물 세라믹 분말 | |
| US5855678A (en) | Fluidized bed reactor to deposit a material on a surface by chemical vapor deposition, and methods of forming a coated substrate therewith | |
| EP0650791B1 (de) | Feinteilige Metall-, Legierungs- und Metallverbindungspulver | |
| US5389585A (en) | Fine non-oxide ceramic powders | |
| US3848068A (en) | Method for producing metal compounds | |
| US6416862B1 (en) | Ultrafine particulate zinc oxide and production process thereof | |
| EP1215174B1 (en) | Highly white zinc oxide fine particles and method for preparation thereof | |
| US3429661A (en) | Process for the preparation of finely divided,non-pyrophoric nitrides of zirconium,hafnium,niobium,and tantalum | |
| JPH06127923A (ja) | 多結晶シリコン製造用流動層反応器 | |
| JPS6250466A (ja) | 窒化珪素膜を有する物品の製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| NUG | Patent has lapsed |
Ref document number: 9301466-0 Format of ref document f/p: F |