SU1127004A1 - Способ изготовлени цилиндрических магнитных пленок - Google Patents
Способ изготовлени цилиндрических магнитных пленок Download PDFInfo
- Publication number
- SU1127004A1 SU1127004A1 SU833612885A SU3612885A SU1127004A1 SU 1127004 A1 SU1127004 A1 SU 1127004A1 SU 833612885 A SU833612885 A SU 833612885A SU 3612885 A SU3612885 A SU 3612885A SU 1127004 A1 SU1127004 A1 SU 1127004A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- solution
- temperature
- magnetic films
- alloy
- deposition
- Prior art date
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 26
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 title description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 20
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 17
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims abstract description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 abstract description 13
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract description 12
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 abstract description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 4
- 230000007704 transition Effects 0.000 abstract description 4
- IERHLVCPSMICTF-XVFCMESISA-N CMP group Chemical group P(=O)(O)(O)OC[C@@H]1[C@H]([C@H]([C@@H](O1)N1C(=O)N=C(N)C=C1)O)O IERHLVCPSMICTF-XVFCMESISA-N 0.000 description 6
- 239000013317 conjugated microporous polymer Substances 0.000 description 6
- 210000003643 myeloid progenitor cell Anatomy 0.000 description 6
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 102000017915 BDKRB2 Human genes 0.000 description 1
- 101150022344 BDKRB2 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017709 Ni Co Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003267 Ni-Co Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003262 Ni‐Co Inorganic materials 0.000 description 1
- HWGNTVAOEDPQKW-UHFFFAOYSA-N S1(=O)(=O)OS(=O)(=O)O1.[Na] Chemical compound S1(=O)(=O)OS(=O)(=O)O1.[Na] HWGNTVAOEDPQKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 150000002505 iron Chemical class 0.000 description 1
- 159000000014 iron salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910001004 magnetic alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 description 1
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 description 1
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЦИПИНД1РИЧЕСКИХ МАГНИТНЫХ ПЛЕНОК, основанный на электролитическом осаждении сло ферромагнитного сплава на немагнитную проволочную подложку и его термомагнитной обработке, о т Ji и чающийс тем, что, с целью повьипени надежности изготовлени цилиндрических магнитных пленок путем одновременного поддержагог стабильности их химического состава, толщины и кристаллической структуры, в раствор осаждени периодически ввод т соль бдного из элементов осаждаемого Сплава с наибольшим электроотрицательным потешу алом осаждени в Количестве 0,06-0,24 исходного содержани ее в растворе при уменьшении температуры раствора на 0,5-2 С от исходного значени в момент перехода коэффициента магнитострикции .в область отрицательнызс значений, | после чего температуру раствора повышают до исходного значени .
Description
f Изобретение относитс к вычислительной технике и может быть исполь зовано П1)и и готовлении запоминающих матриц на цилиндрических магнитных пленках (ЦМП) . Известен способ изготовлени ЩШ осн 9аннь1й на получении требуемого значени коэффициента магнитострикции путем регулировани тока .электролитического рса сдени феррсймагнитвого сплава по резу ьтАтам сравнени коэф йнциента мi гвИt9 .тpикIщи с эталонной величиной tit Недостаток известиоГо способа заключаетс в том, что при изменении плотности тока электролитического осажд ннч измен етс кристаллическа структура осадка и, как следствие , устойчивость записываемой на пленку информащш к воздействин) размагничивающего магнитного пол . Наиболее близким техническим ре memieM к изобретеш вл етс способ изготовлени ЩШ, основанный на электролитическом осаждении сло Ферромагнитного сплава, термомагнитной обработке и получении требуеi№K значений магнитного потока на (сыщени и коэф|| даента магнито . стрикции путем р-егулировани электро л литического тока и температуры осазвд ни ферромагнитного сплава по резуль татам сравнени магнитного потока насыщени и коэффидаента магнито- стрики и с эталонншл величинами C2 Недостаток данного способа обусловлей тем, что при электролитическо осаждении магнитной пленки не удаетс одновременно обеспечить стабильность толврны, хиш ческого состава и кристаллической структуры магнитных пленок , а значит, и определ емых иьм магнитных характеристик - магнитного потока насыщени , коэффициента магнитострикции и коэрцитивной силы маг нитной пленки. Цель изобретени - повьшение надежности изготовлени ЦМП путем одно временного, поддержани стабильности их xи шчeckoгo состава, толщины и кристаллической структуры. Поставленна цель достигаетс тем что согласно способу изготовлени ЦМП, основанному на электролитическо осаждении сло ферромагнитного сплав на немагнитную проволочную подложкз& его термомагнитной обработке, в ра ;вор осаждени периодически ввод т соль одного из элементов осаждени сплава с наибольшим элёктроотрицательаым потен1щал Ж осаждени в количестве 0,06-0,24 исходного содеркани его в растворе при умень аениИ температуры раствора на 0, от исходного значени в ыюмент перехода коэффициента магнитострикции в область отрицательных значений, после чего температуру раствора повышают до исходного значени . . На чертеже изображен график зависимости температуры раствора осаждени от времени оса адени при условии получени ЩШ с коэффициентом магнитострикции , близким к нулю. При электролитическом осаждении ферромагйитного сплава необходимо поддерживать коэффициент магнитострикдаи близким к нулю, а значит, обеспечивать посто нство химического состава пленки. Йга этого снижают температуру раствора осаждени , что дает возможность за счел- большего увеличени скорости осаждени наиболее электроотрицательного элемента сплава относительно скорости осаждени остальных элементов сплава скомпенсировать уменьшение относительного содержани наиболее электроотрицатепьиого элемента и растворе с течекией времени. Дл поддержани посто нной толп ны ЦМП при снижении темиературы необходимо увеличивать гшртность тока электролитического осажде1ШЯ и поддерживать посто нной кристаллическую структуру, а значит, и определ емую ею коэрцитивную силу. Дл ойновременного поддержани стабильности химического состава, топвданы и кристаллической структуры ЩЯ после снижени температуры раствора осаждени от первоначальной величины Т0 СточкаА) до температуры Т (точки В,С) в момент перехода коэффидаента магнитострикг щи в область отрицательных значений (точка С), т,-е. в момент, когда получение пленок с прежним хиьшческим составом при установленной температуре невозможно , в раствор осаждени ввод т соль наиболее электроотрицательного элемента осаждаемого сплава. Количество вводимой соли должно быть пропорционально величине снижени температуры , т.е. пропорционально относительному обеднению раствора осаждени солью указанного элемента после снижени температуры и при уменьшении температуры раствора на 0,52 С от первоначалbHofti количество вводимой соли должно составить 0,06 0,24 от исходного содержани ее в растворе. После введени соли темпе ратуру раствора осаждени увеличивают до первоначальной величины (то А ) и продолжают процесс изготов лени чпленок. При уменьшении температуры раствора осаждени менее чем на 0,5 С, стабильное поддержание требуемых значений магнитных свойств достигаетс регулрррвани м плотности тока электролтатического осаждени без введени соли элемента с наибольшим электроотрицательньм потенциалом осаждени . При уменьшений температуры раствора досаждени более, чем на , ; уменьшение толщины осаждаемой пленки такового, что увеличение плотнос ти тока осаждени , позвол нлдее полу чить требуемое значение магнитного потока насьщени , приводит к сущест венному измененгао кристаллической структуры, а именно, к измельчению зерна ее вследствие увеличени интенсивности образовани новых цен ров роста пленки при увеличении ско рости разр да ионов на катоде без соответствующего возраст;ани скорос ти их доставки в прикатодную област ( к подложке) и снижению концентрации ионов в прикатодной области.Уменьшение зерна структуры пленки вызывае г изменение структурно-чувствительных магнитных характеристик, в частности величины коэрцитивной СИЛЫЧИ не позвол ет получать цилиндрические магнитные пленки с требуёмыми з.наче1да ми магнитных свойств. При введении соли элемента сплава с наибольшим электроотрицательным потенциалом в количестве менее 0,06 содержани его в растворе осаждени повышением температуры раствора до первоначальной величины не обеспечиваетс сохранение химччёског-о состав ЦМП. вследствие, недостаточного сительного изменени содержани com наибслее электроотрицательного элемента в растворе, что не позвол ет получить пленку с заданньм коэффициентом магнитострикций. При введений соли наиболее электроотрицательного элемента сплава в количестве более 0,24 содержани его в растворе дл 004 обеспечени сохранени химического i i состава пленки необходимо повьш1ать температуру раствора осаждени до величины выше первоначальной и снижать электролитический ток осаждени дл получени заданной толщины ЦМП, что вызывает увеличение зерна кристаллической структуры и отключение структурно-чувствительных свойств пленки от требуемьк значений. Приме р. Изготовл ют ЦМП согласно изобретению при непрерывном процессе прохождени проволочной подшо ски и последовательном формировании цилиндрической магнитной пленки с требуемыми значени ми магнитных параметров. . ; В качестве подложек используют проволоку из бериллевой бронзы БРБ2, ,на которую после осаждени медного .подсло электролитически осаждают слой .ферромагнитного сплава Fe-Ni-Co из электролита, содержащего соли железа, никел и кобальта с добавками сегнетовой соли, сахарина и натрийпаурилсульфата . Измерение коэффициента магнитострикции производ т по изменению дифференциальной про1ницаемости при раст жении пленки, магнитный поток измер ют индукционн№4 методом, коэрцитивную силу определ ют цо петле гистерезиса, измер емой в направлении оси легкого намагничивани .. При снижении температуры раствора осаждени на 0,5-2°С в момент перехода коэффициента магнитострикции в область отрицательных значений ввод т в раствор осаждени соль железа, как наиболее электроотрицательного элемента сплава , в количестве 0,06-0,24 содержани его.в растворе осаждени , после чего температуру раствора осаждени поднимают до первоначальной, т.е. соответствукщей началу изготовлени годных магнитных пленок. Изготовление магнитных пленок с использованием базового варианта t2J позвол ет получать пленки с разбросом арактеристик около 20% и не дает ВОЗМОЖНОСТИ поддерживать стабильньм роцент выхода годных ЦМП. При использовании предложенного пособа, основанного на коррекции остава раствора осаждени по измеению температуры осаждени и позвол -
I1127004
ющего псМучать ЦМП заданного хи шчес- Ожидаемый экоиоьотческий эффект кого состава, процент выхода год- св зан с повышением надежности изгоных пленок стабилизируетс , разброс товлени ЦМП и составл ет около их характеристик не превышает 5Z. 10 тыс. руб.
Claims (1)
- СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЦИПИНД1РИЧЕСКИХ МАГНИТНЫХ ПЛЕНОК, основанный на электролитическом осаждении чающийся тем, что, с целью повьипения надежности изготовления цилиндрических магнитных пленок путем одновременного поддержания стабильности их химического состава, толщины и кристаллической структуры, в раствор осаждения периодически вводят соль ддного из элементов осаждаемого Сплава с наибольшим электроотрицательным потенциалом осаждения в Количестве 0,06-0,24 исходного содержания ее в растворе при уменьшении температуры раствора на 0,5-2 С от исходного значения в момент перехода коэффициента магнитострикцииS Un., И 270041 1127004
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU833612885A SU1127004A1 (ru) | 1983-07-01 | 1983-07-01 | Способ изготовлени цилиндрических магнитных пленок |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU833612885A SU1127004A1 (ru) | 1983-07-01 | 1983-07-01 | Способ изготовлени цилиндрических магнитных пленок |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SU1127004A1 true SU1127004A1 (ru) | 1984-11-30 |
Family
ID=21071143
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SU833612885A SU1127004A1 (ru) | 1983-07-01 | 1983-07-01 | Способ изготовлени цилиндрических магнитных пленок |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| SU (1) | SU1127004A1 (ru) |
-
1983
- 1983-07-01 SU SU833612885A patent/SU1127004A1/ru active
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 1.Вопросы радиоэлектроники. Сер. ЭВТ, вып. 6, 1974, с. 66-59. 2. Авторское свидетельство СССР № 728158, кл. G 11 С 11/14, 1978 (прототип). * |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6197364B1 (en) | Production of electroless Co(P) with designed coercivity | |
| US3031386A (en) | Electrolytic bath for use in electrodeposition of ferromagnetic compositions | |
| JP3229718B2 (ja) | 軟磁性合金、軟磁性薄膜および多層膜 | |
| JPS6353277B2 (ru) | ||
| Venkatasetty | Electrodeposition of thin magnetic permalloy films | |
| CA1227452A (en) | Perpendicular magnetic recording medium and fabrication | |
| JPS60220914A (ja) | 磁性薄膜 | |
| US5011581A (en) | Process for producing a thin alloy film having high saturation magnetic flux density | |
| US3950234A (en) | Method for electrodeposition of ferromagnetic alloys and article made thereby | |
| US20100247960A1 (en) | Patterned ecc and gradient anisotropy media through electrodeposition | |
| SU1127004A1 (ru) | Способ изготовлени цилиндрических магнитных пленок | |
| EP0395111A2 (en) | Method of manufacturing high magnetic flux density electrodeposited quarternary alloy thin film | |
| US5571573A (en) | Process of forming magnetic devices with enhanced poles | |
| JPH0766034A (ja) | 軟磁性材料膜及びその製造方法 | |
| JP3211815B2 (ja) | 軟質磁性薄膜及びその製造方法 | |
| US5830587A (en) | Magnetic devices with enhanced poles | |
| Freitag et al. | Electrodeposited Nickel‐Iron‐Molybdenum Thin Magnetic Films | |
| JPH02104688A (ja) | Fe−Ni合金箔を製造するためのFe−Ni合金電解析出方法 | |
| US7274541B2 (en) | Magnetic thin film head, the fabrication method, and magnetic disk | |
| JPS5948904A (ja) | 記録媒体 | |
| JPH0636929A (ja) | めっき磁性薄膜およびその製造方法 | |
| JP2003022909A (ja) | 磁性薄膜とその製造方法、及びそれを用いた磁気ヘッド | |
| JP2633326B2 (ja) | 高飽和磁束密度合金薄膜の製造方法 | |
| Sulitanu | A suitable method for obtaining Ni-W thin magnetic films | |
| JPH02263990A (ja) | 鉄―ニッケル合金メッキ膜の電解メッキ法 |