WO2019123990A1 - 二軸配向熱可塑性樹脂フィルム - Google Patents

二軸配向熱可塑性樹脂フィルム Download PDF

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WO2019123990A1
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film
less
thermoplastic resin
biaxially oriented
height
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PCT/JP2018/043483
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千代敏弘
鈴木維允
遠山秀旦
東大路卓司
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Toray Industries Inc
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Toray Industries Inc
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B3/00—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form
    • B32B3/26—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer
    • B32B3/30—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer characterised by a layer formed with recesses or projections, e.g. hollows, grooves, protuberances, ribs
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C55/00—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor
    • B29C55/02—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets
    • B29C55/10—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets multiaxial
    • B29C55/12—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets multiaxial biaxial

Definitions

  • the present invention relates to a biaxially oriented thermoplastic resin film having fine projections on the surface.
  • Thermoplastic resins are used in various industrial fields because of their good processability.
  • products obtained by processing these thermoplastic resins into a film form play an important role in today's life such as industrial applications, optical products applications, packaging applications, magnetic recording tape applications and the like.
  • processability of films used in the manufacture of electronic information devices there is a demand for improvement in processability of films used in the manufacture of electronic information devices.
  • many methods are adopted in which other materials are laminated on the film surface and optical processing such as a photoresist is performed on the film. For this reason, in order to improve the processability of a film, it is a general means to improve the smoothness of the film while maintaining the transparency of the film.
  • Patent Document 1 a technique for improving the slipperiness by roughening the surface with an additive without containing particles in the film
  • Patent Document 2 encloses organic resin particles on the film surface.
  • a technique for improving the slipperiness by constructing a coat layer that exhibits slipperiness is disclosed.
  • An object of the present invention is to provide a biaxially oriented thermoplastic resin film having good smoothness and slipperiness, and further having improved scratch resistance in film forming and processing steps.
  • the present invention takes the following composition. That is, [I] The surface of at least one side has a maximum protrusion height of less than 20 nm, the number of protrusions having a height of 1 nm or more and less than 2 nm is A (pieces / mm 2 ), and the number of protrusions having a height of 3 nm or more and less than 20 nm is B The biaxially-oriented thermoplastic resin film whose B / A is 0.001 or more and 5.000 or less when (in / mm 2 ).
  • thermoplastic resin constituting the biaxially oriented thermoplastic resin film is any one of polyester resin, polyethylene resin, polypropylene resin, polyphenylene sulfide resin, and polyimide resin as a main component [I] to [VII]
  • the biaxially oriented thermoplastic resin film of the present invention has good transparency, smoothness and slipperiness, and further has scratch resistance in the film forming and processing steps.
  • R top R 1 nm as measured by AFM (Atomic Force Microscope)
  • R 2nm R 3nm
  • the two-layer configuration diagram of the biaxially oriented thermoplastic resin film of the present invention Three-layer configuration diagram of the biaxially oriented thermoplastic resin film of the present invention
  • Three-layer structure diagram of the biaxially oriented thermoplastic resin film of the present invention It is a conceptual diagram showing the cross section of the permite
  • the present invention relates to biaxially oriented thermoplastic resin films.
  • the thermoplastic resin as referred to in the present invention is a resin which exhibits plasticity when heated.
  • Representative resins include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene ⁇ , ⁇ -dicarboxylate, polymer from P-hexahydroxylylene terephthalate, polymer from 1,4 cyclohexane dimethanol, poly-P -Polyester resins having an ester bond in the main chain as typified by ethylene oxybenzoate, polyarylate, polycarbonate and the like and copolymers thereof, further nylon 6, nylon 66, nylon 610, nylon 12, nylon 11, etc.
  • Polyamide resins having an adduct bond in the main chain as typified by: polyethylene, polypropylene, ethylene vinyl acetate copolymer, polymethylpentene, polybutene, polyisobutylene, polystyrene etc.
  • Typical examples are polyolefin resins consisting mainly of hydrocarbon, such as polyether sulfone (PES), polyphenylene oxide (PPO), polyetheretherketone (PEEK), polyethylene oxide, polypropylene oxide, polyoxymethylene, etc.
  • Polyether resins polyvinyl chloride, halogenated polymer resins represented by polyvinylidene chloride, polyvinylidene fluoride, polychlorotrifluoroethylene, etc., and polyphenylene sulfide (PPS) resin, polysulfone resin and copolymers thereof And modified products, polyimide resins and the like.
  • PPS polyphenylene sulfide
  • the thermoplastic resin used in the present invention is preferably composed mainly of polyester resin, polyolefin resin, polyphenylene sulfide (PPS) resin and polyimide (PI) resin from the viewpoint of transparency and film forming property, and among them, especially, among them, especially Polyester is further preferred.
  • the term "main component” as used herein refers to a component containing more than 50% by weight and 100% by weight or less in 100% by weight of all components of the film.
  • the polyester resin said by this invention is formed by polycondensing a dicarboxylic acid structural component and a diol structural component.
  • a component shows the thing of the minimum unit which can be obtained by hydrolyzing a polyester resin.
  • dicarboxylic acid component constituting such polyester resin examples include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,8- Aromatic dicarboxylic acids such as naphthalene dicarboxylic acid, 4,4'-diphenyl dicarboxylic acid, 4,4'-diphenyl ether dicarboxylic acid, or ester derivatives thereof can be mentioned.
  • diol component which comprises this polyester resin
  • ethylene glycol 1, 2- propanediol, 1, 3- propanediol, 1, 4- butanediol, 1, 2- butanediol, 1, 3- butane diol
  • Aliphatic diols such as diols, cycloaliphatic diols such as cyclohexanedimethanol, spiroglycol, and the like, and those in which a plurality of the above-mentioned diols are linked are exemplified.
  • biomass include sugar resources such as sugar cane and sugar beet, and starch resources such as corn, rice and potato.
  • polyester resins polyethylene terephthalate (PET), polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate (PEN), and some dicarboxylic acid components of PET are isophthalic acid and naphthalene from the viewpoint of mechanical properties and transparency.
  • PET polyethylene terephthalate
  • PEN polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate
  • the biaxially oriented thermoplastic resin film of the present invention needs to be biaxially oriented.
  • the mechanical strength of the film can be improved and the slipperiness can be improved.
  • the term "biaxial orientation" as used herein refers to those exhibiting a biaxial orientation pattern by wide-angle X-ray diffraction.
  • a biaxially oriented thermoplastic resin film can be obtained by stretching a thermoplastic resin sheet in an unstretched state in the sheet longitudinal direction and the width direction, and then performing heat treatment to complete crystal orientation. Details will be described later.
  • the maximum height (maximum protrusion height) of the protrusions measured by AFM (Atomic Force Microscope) according to the method described later is at least one surface of the thermoplastic resin film and R top (nm)
  • the number of protrusions having R top (nm) of less than 20 nm and having a height of 1 nm or more and less than 2 nm is A (pieces / mm 2 )
  • the number of protrusions having a height of 3 nm or more and less than 20 nm is B (pieces / mm)
  • B / A needs to be 0.001 or more and 5.000 or less (hereinafter, the maximum projection height is less than 20 nm, and B / A is 0.001 or more and 5.000 or less
  • a film surface may be simply referred to as the surface).
  • R top (nm) in the present invention reflects the height of the projection having the largest projection height present on the film surface.
  • R top (nm) is 20 nm or more
  • the film when the film is wound in a roll, defects occur on the other side of the film, or when laminating another layer on the surface of the film, the projection is formed on another layer Give a defect.
  • the processability of the film may be reduced, or the haze of the film may be increased to lose transparency of the film, which may cause defects in optical processing of a photoresist or the like.
  • R top when R top is small, the film has no protrusion having a certain protrusion height or more, and the slipperiness of the film may be deteriorated.
  • R top (nm) is preferably 3 nm or more and less than 20 nm, more preferably 3 nm or more and 15 nm or less, still more preferably 3 nm or more and 10 nm or less, and most preferably 3 nm or more and 5 nm or less.
  • the number A (pieces / mm 2 ) of protrusions having a height of 1 nm or more and less than 2 nm in the present invention reflects the number of protrusions present in the film ground portion of the surface.
  • the area when contacting with another surface hereinafter, the area when contacting with another surface may be referred to as a contact area
  • the slipperiness of the film is improved.
  • the slipperiness of the film may be high, and thus the winding shift may occur at the time of film winding.
  • the number A (pieces / mm 2 ) of projections having a height of 1 nm or more and less than 2 nm is preferably 1.0 ⁇ 10 7 pieces / mm 2 or more and 1.0 ⁇ 10 9 pieces / mm 2 or less, more preferably 2 It is not less than 0 ⁇ 10 7 pieces / mm 2 and not less than 5.0 ⁇ 10 8 pieces / mm 2 .
  • the number B (pieces / mm 2 ) of protrusions having a height of 3 nm or more and less than 20 nm in the present invention reflects the number of protrusions present at positions away from the ground portion of the surface, and the height present on the ground portion It has the effect of preventing the contact of projections of 1 nm or more and less than 2 nm with other surfaces and further improving the slipperiness of the film. Is a value calculated using the height 1nm or more number of 2nm below projections A number of (pieces / mm 2) and a height of less than 3nm than 20nm protrusion B (number / mm 2) B / A is, both It reflects the balance of the number of projections.
  • B / A In the case where B / A is large, the percentage of projections having a height of 1 nm or more and less than 2 nm contributing to the slipperiness is reduced, so that the slipperiness is reduced, and the film formation / processing suitability of the film is reduced. In addition, when B / A is small, the ratio of projections having a height of 3 nm or more and less than 20 nm is decreased, and the area in which the other surface contacts the film base portion is increased. ⁇ The processing accuracy decreases. In addition to this, many scratches occur due to the friction between the film and the process roll. A more preferable range of B / A is 0.010 or more and 2.000 or less, and a further preferable range is 0.010 or more and 0.080 or less.
  • the number of less than height 3 nm 20 nm protrusions B (number / mm 2) and the height 1nm or more number of 2nm below the projections A (number / mm 2), the number A is when trying to increase the number B
  • the B / A can be controlled to the above-mentioned range by the method described later in the present invention.
  • the number C (pieces / mm 2 ) of protrusions having a height of 2 nm or more and less than 3 nm in the present invention is the number A (pieces / mm 2 ) of protrusions having a height of 1 nm or more and less than 2 nm and the height 3 nm to less than 20 nm
  • the number of projections present at an intermediate position of the number of projections B (pieces / mm 2 ) is reflected.
  • the number of projections C (number / mm 2 ) is not particularly limited, but when R top (nm) which is the maximum projection height is 5 nm or less, the influence can not be neglected, and the projections having a height of 1 nm or more and less than 2 nm. It has been found that the scratch resistance may change depending on the value of C / A, which is a ratio to the number A (pieces / mm 2 ) of. Specifically, it is preferable that the value of C / A is 0.100 or more and 2.000 or less when R top (nm) is 5 nm or less. More preferably, it is 0.200 or more and 0.400 or less.
  • the value of C / A is less than 0.100, even if the value of C / A is within the preferable range, the influence of the other surface coming into contact with the ground surface can not be ignored, and the scratch resistance may decrease.
  • the value of C / A is greater than 2.000, the base portion is no different from being present at a protrusion having a height of 2 nm or more and less than 3 nm, and the scratch resistance of the film may be reduced.
  • the number of protrusions having a height of 1 nm or more and less than 10 nm on the surface of the biaxially oriented thermoplastic resin film of the present invention is D (pieces / mm 2 )
  • the number D is the height of protrusions from the vicinity of the ground existing on the surface It represents the total number of protrusions present at a high position less than 10 nm, and the total number of protrusions that play a role in preventing adhesion (blocking) between the films and the associated wrinkles when the film is wound on a roll.
  • the roll may be tightened depending on the storage temperature when the roll is stored for a long time.
  • the film in a roll state receives a large pressure in the thickness direction.
  • the inventors of the present invention have intensively studied, among the protrusions present on the surface, the protrusions having a protrusion height of 10 nm or more contribute to pressure dispersion, while the height of the protrusions becomes high and the difference in height from the ground portion causes wrinkles. It has been found that it may contribute to the occurrence of surface defects.
  • the number of protrusions D with a protrusion height of 1 nm or more and less than 10 nm is 5.0 ⁇ 10 7 to 6.0 ⁇ 10 9 pieces / mm 2 It is preferable that When the number of protrusions D is less than 5.0 ⁇ 10 7 pieces / mm 2 , the contact area between the films in the roll state is increased to cause adhesion, making it difficult to unroll the film, or During storage in the condition, wrinkles and surface defects may occur frequently.
  • the number of protrusions D exceeds 6.0 ⁇ 10 9 pieces / mm 2 , blocking of the films can be suppressed, but there may be a case where the film is misaligned to lower productivity.
  • the preferable range of the number of protrusions D is 1.7 ⁇ 10 8 to 1.0 ⁇ 10 9 pieces / mm 2 , and more preferably 2.0 ⁇ 10 8 to 8.0 ⁇ 10 8 pieces / mm 2 . is there.
  • the surface of the biaxially oriented thermoplastic resin film of the present invention preferably has an arithmetic average roughness Ra of 3.0 nm or less, more preferably 0.5 nm or more and 3.0 nm or less. . If it is less than 0.5 nm, there are few projections effective to reduce the contact area, and slipperiness (slidability) may be reduced. On the other hand, when it exceeds 3.0 nm, since there are coarse projections, when the biaxially oriented thermoplastic resin film of the present invention is wound, unevenness may be transferred and the smoothness of the film may be lost.
  • the surface of the biaxially oriented thermoplastic resin film of the present invention is determined by AFM measurement described later, and the average value D1 nm of the circle equivalent diameter of the cross section of the protrusion at a position 1 nm high from the reference surface is 15 nm or more and 30 nm or less Is preferred.
  • the average equivalent circle diameter is less than 15 nm, even if the above-mentioned projections are present in large numbers (in high density), they are easily deformed at the time of contact with other surfaces, and serve to reduce the contact area It may not be.
  • the average value of the equivalent circle diameter exceeds 30 nm, the projections are coarse, the number of projections having a height of 1 nm or more and less than 2 nm may be reduced, and as a result, the slipperiness of the film may be reduced.
  • the atmospheric pressure is in the range of 700 Torr to 780 Torr.
  • a film to be treated is introduced between the opposite electrode and the earth roll, a plasma exciting gas is introduced into the apparatus, and the gas is plasma excited by applying a high frequency voltage between the electrodes.
  • a glow discharge is performed between the electrodes. Thereby, the film surface is finely processed to form projections.
  • the plasma-exciting gas refers to a gas that can be plasma-excited under the conditions as described above.
  • plasma-exciting gases include rare gases such as argon, helium, neon, krypton and xenon, nitrogen, carbon dioxide, oxygen, fluorocarbons such as tetrafluoromethane, and mixtures thereof.
  • the plasma-exciting gas may be used alone or in combination of two or more at an arbitrary mixing ratio. From the viewpoint of increasing the activity when excited by plasma, it is preferable to contain at least one of argon, oxygen and carbon dioxide, and it is more preferable to contain oxygen.
  • the frequency of the high frequency voltage in plasma processing is preferably in the range of 1 kHz to 100 kHz.
  • the discharge treatment strength (E value) determined by the following method is preferably in the range of 10 to 2000 W ⁇ min / m 2 from the viewpoint of protrusion formation, more preferably 40 to 500 W ⁇ min / m 2 is there. If the discharge treatment strength (E value) is too low, projections may not be formed sufficiently, and if the discharge treatment strength (E value) is too high, the thermoplastic resin film may be damaged or ashing proceeds And preferred projections may not be formed.
  • E Vp ⁇ Ip / (S ⁇ Wt)
  • E E value (W ⁇ min / m 2 )
  • Vp Applied voltage
  • Ip Applied current
  • S Processing speed (m / min)
  • Wt Processing width (m)
  • FIG. 1 A conceptual diagram showing R top , R 1 nm , R 2 nm, R 3 nm and R 20 nm measured by AFM is shown in FIG.
  • the reference surface is a height determined such that the distance from the reference surface on the measurement surface is 0 (a positive value if higher than the reference surface, a negative value if lower than the reference surface). Value).
  • thermoplastic resin film particularly a film having an amorphous part and a crystalline part such as PET or PEN
  • it is processed from a soft amorphous part.
  • finely dividing the crystal part and the amorphous part finer protrusions can be formed by atmospheric pressure glow discharge treatment, and the soft amorphous part is deeply scraped by increasing the crystal part. Can increase the height of the protrusions.
  • the intrinsic viscosity (IV) of the layer having the surface of the thermoplastic resin film of the present invention is preferably 0.55 dl / g or more, more preferably 0.70 dl / g or more.
  • IV is a number reflecting the length of the molecular chain, and the longer the molecular chain, the crystallographic part and the amorphous part are easily formed clearly in the same molecular chain, so by atmospheric pressure glow discharge treatment It is preferable because formation of finer projections is facilitated.
  • IV is less than 0.55 dl / g, crystallization is likely to progress due to the short molecular chain, so breakage may frequently occur in the stretching step, making film formation difficult.
  • R top (nm) tends to be increased by dispersing other thermoplastic resin components in the nano-order size in the thermoplastic resin constituting the film. Further, it is also effective means to increase the strength of the atmospheric pressure glow discharge treatment and the activity of the plasma exciting gas used in the atmospheric pressure glow discharge treatment.
  • the biaxially oriented thermoplastic resin film of the present invention may have a single-layer structure or a structure of two or more layers in which other resins are laminated.
  • P1 layer When the layer having the surface is referred to as P1 layer and the layer to be laminated is referred to as P2 layer, P1 layer / P2 layer configuration in which the surface having the protrusion of P1 layer is the outermost layer Is preferred.
  • P1 layer / P2 layer / P1 layer In the case of a three-layer structure, it may be a two-kind three-layer structure (P1 layer / P2 layer / P1 layer) or a different three-layer structure (P1 layer / P2 layer / P3 layer) in which another resin is laminated. .
  • the method for laminating other resin layers such as P1 layer and P2 layer or P3 layer is not particularly limited, but coextrusion method to be described later, or another resin layer raw material is added to the film in the middle of film formation
  • a method of melt extruding and laminating while extruding from a die (melt laminating method), a method of laminating films after film formation with an adhesive layer, and the like can be used, among them.
  • a coextrusion process which can be performed is preferably used.
  • the coefficient of friction ( ⁇ k) between the metal and the surface having the projections under the measurement conditions described later is preferably 0.20 or more and 0.55 or less. More preferably, it is 0.20 or more and 0.40 or less, and most preferably 0.20 or more and 0.37 or less. If it exceeds 0.55, the slipperiness is not sufficient and the film of the present invention can not be formed and processed. When it is less than 0.20, winding deviation may occur when winding the film of the present invention.
  • the haze of the film is preferably 0.60% or less.
  • the haze of the film exceeds 0.60%, transmitted light is scattered when the film is used, and for example, in dry film resist support applications, defects occur in the resist wiring. More preferably, it is 0.50% or less, still more preferably 0.45% or less.
  • the biaxially oriented thermoplastic resin film of the present invention may contain organic particles and / or inorganic particles as long as the properties of the present invention are not impaired, but in order to obtain the maximum properties of the present invention Is preferably substantially free of particles.
  • the phrase "containing substantially no particles” means that the content of particles with respect to the thermoplastic resin film is 500 ppm or less, more preferably 50 ppm or less, and most preferably 10 ppm or less.
  • the biaxially oriented thermoplastic resin film of the present invention adds an AS agent (antistatic agent) for the purpose of preventing electrification or imparts optical characteristics according to the intended use within the range that does not impair the characteristics of the present invention.
  • AS agent antistatic agent
  • Dyes, dyes, and organic and inorganic wavelength conversion materials may be added for the purpose.
  • thermoplastic resin film of the present invention will be described by taking a biaxially oriented polyester resin film as an example, but the present invention is interpreted as being limited to only those obtained by this example. It is not a thing.
  • a polymerization method by a conventional method can be adopted.
  • melt polymerization It can be obtained by conducting a reaction.
  • the solid phase polymerization reaction may be performed on the polyester resin obtained by the melt polymerization reaction below the melting point temperature of the polyester resin.
  • the biaxially oriented thermoplastic resin film of the present invention can be obtained by the conventionally known production method, but by producing the stretching and heat treatment steps under the following conditions, the formation of projections is controlled and it has the preferable physical properties as described above. It can be a surface.
  • the biaxially oriented thermoplastic resin film of the present invention uses a method (melt casting method) in which the dried raw material is heated and melted in an extruder if necessary, and extruded from a die onto a cast drum cooled can do.
  • a method melting method
  • the raw material is dissolved in a solvent, and the solution is extruded from a die onto a support such as a cast drum or an endless belt to form a film, and then the solvent is removed by drying from the film layer to form a sheet.
  • a method (solution casting method) or the like can also be used.
  • an extruder is used for each layer constituting the laminated polyester film to melt the raw materials of each layer, and these are provided between the extruder and the die.
  • a method (co-extrusion method) of laminating in a molten state with a joining device, guiding to a die, and extruding from a die onto a cast drum to process into a sheet shape is suitably used.
  • the laminated sheet is solidified by contact cooling and solidified by static electricity on a drum cooled to a surface temperature of 20 ° C. or more and 60 ° C. or less to produce an unstretched film.
  • the temperature of the casting drum is more preferably 25 ° C. or more and 60 ° C.
  • atmospheric pressure glow discharge treatment described later may be applied to form projections on the film surface after biaxial stretching. If the temperature exceeds 60 ° C., the film may stick to the cast drum, making it difficult to obtain an unstretched film.
  • the unstretched film obtained here is subjected to surface treatment such as plasma treatment by atmospheric pressure glow discharge.
  • surface treatment such as plasma treatment by atmospheric pressure glow discharge.
  • These surface treatments may be performed immediately after obtaining the unstretched film, after being slightly stretched, or after stretching in the longitudinal and / or transverse directions, but in the present invention, it is preferable to surface treat the unstretched films.
  • the surface to be surface-treated may be either the surface (drum surface) in contact with the cast drum or the surface (non-drum surface) not in contact with the cast drum.
  • the unstretched film is biaxially stretched and biaxially oriented.
  • a stretching method sequential biaxial stretching method or simultaneous biaxial stretching method can be used.
  • a sequential biaxial stretching method in which stretching is performed first in the longitudinal direction and then in the width direction is effective for obtaining the biaxially oriented thermoplastic resin film of the present invention without stretching breakage.
  • the stretching conditions in the case of biaxial stretching an unstretched film are not particularly limited, but when the biaxially oriented thermoplastic resin film of the present invention is mainly made of a polyester resin, as stretching in the longitudinal direction, It is preferable that the unstretched film be introduced into a group of rolls heated to 70 ° C. or higher, stretched in the longitudinal direction (longitudinal direction, ie, the sheet traveling direction), and cooled by a group of rolls at a temperature of 20 to 50 ° C.
  • the lower limit of the heating roll temperature in stretching in the longitudinal direction is not particularly limited as long as the stretchability of the sheet is not impaired, but the glass transition temperature + 5 ° C of the polyester resin to be used is preferable.
  • the preferable range of the stretching ratio in the longitudinal direction is 2.5 times to 5 times.
  • a more preferable range is 3.0 times to 3.5 times.
  • the draw ratio in the longitudinal direction is 2.5 times or less, the orientation crystallization does not proceed and the film strength is significantly reduced.
  • the draw ratio is more than 4.5 times, the orientation crystallization of the polyester resin accompanying the drawing proceeds to make the film brittle and may cause breakage during film formation.
  • the film is guided to a tenter while gripping both ends of the film with clips, and is orthogonal to the longitudinal direction in an atmosphere heated to a temperature of 70 to 160 ° C.
  • the tenter device set temperature may generally be set so that the maximum temperature in the tenter is 200 ° C. or more and 250 ° C.
  • thermoplastic resin when another thermoplastic resin is used as the main component, it is preferable to set the melting point of the thermoplastic resin to ⁇ 55 ° C. or less and the melting point to ⁇ 5 ° C. or less.
  • the heat treatment temperature is less than 200 ° C.
  • the other thermoplastic resin when the other thermoplastic resin is the main component, the melting point of the thermoplastic resin is less than -55 ° C.
  • the protrusions formed by the atmospheric pressure glow discharge treatment may not grow sufficiently, and as a result, it may be difficult to form the protrusions in the above-mentioned preferable range.
  • thermoplastic resin when polyethylene terephthalate is the main component and heat treatment is carried out over 250 ° C., in the case where another thermoplastic resin is the main component, heat treatment is carried out over the melting point -5 ° C. of the thermoplastic resin. In some cases, the film melts and breaks frequently, resulting in a decrease in productivity.
  • a more preferable range of the heat treatment temperature when polyethylene terephthalate is the main component is 220 ° C. or more and 245 ° C. or less.
  • Tmeta which represents the heat history temperature which the film received at the time of heat treatment, when it is mainly composed of polyethylene terephthalate, it is preferable to be 190 ° C. or more and 245 ° C. or less from the above-mentioned reason.
  • a more preferable range is 210 ° C. or more and 240 ° C. or less.
  • a relaxation (relaxation) treatment may be performed in the range of 0% or more and 6% or less for the purpose of imparting dimensional stability to the film.
  • the stretching ratio is 3 to 5 times in the longitudinal direction and the width direction, but the area ratio (longitudinal stretching ratio x transverse stretching ratio) is preferably 9 to 20 times, more preferably 9 to 15 times. preferable.
  • the area magnification is less than 9 times, the durability of the obtained biaxially stretched film is insufficient, and when the area magnification is more than 20 times, the film tends to be easily broken during drawing.
  • the longitudinal force applied during stretching in this tenter is generally one of the factors that generate bowing, and the Poisson deformation of the film (stretching force in the longitudinal direction) in the stretching zone in the tenter, and the stretching zone And the difference in film stiffness at each temperature as it travels to the higher temperature heat treatment zone.
  • the greater the longitudinal force the more the film is drawn toward the longitudinal stretching zone.
  • the stress at the time of stretching can be made uniform, and a projection in the above range can be formed.
  • the film is highly oriented in the width direction by increasing the mechanical draw ratio in the width direction more than the mechanical draw ratio in the longitudinal direction.
  • the mechanical draw ratio in the longitudinal direction is X (%) and the mechanical magnification in the width direction is Y (%)
  • the value calculated by Y / X is 1.00 or more More preferably, it is 1.05 or more, more preferably 1.10 or more, and most preferably 1.20 or more.
  • the value of Y / X is less than 1.00, the effect of reducing the stress in the longitudinal direction can not be obtained, and the projection may not be controlled to a preferable range.
  • Step-up temperature of temperature in tenter Stretching by gradually raising the temperature in the tenter from 80 ° C and raising the maximum temperature of the stretching zone, lowering the maximum temperature of the heat treatment zone, lowering the starting temperature without changing the maximum temperature of the heat treatment zone, etc. This can be achieved by reducing the temperature difference between the zone and the heat treatment zone.
  • the temperature difference between the stretching zone and the heat treatment zone is preferably 160 ° C. or less. More preferably, it is 100 ° C. or less, and most preferably 40 ° C. or less.
  • the stretching temperature of the film is low, uniform stretching in the width direction can not be performed, and when the occurrence of thickness unevenness and flatness deteriorate, or the temperature of the heat treatment zone is high and the film melts and breaks However, there are cases where productivity may decline.
  • Additional stretching in heat treatment zone This can be achieved by stretching in the width direction again in the heat treatment zone disposed behind the stretching zone in the tenter.
  • stretching is preferably performed at a mechanical draw ratio of 1.05 times to 1.50 times in the width direction.
  • the draw ratio in the width direction is smaller than 1.05, the effect of suppressing the longitudinal force may not be obtained.
  • the draw ratio in the width direction is larger than 1.50 times, the film becomes brittle due to the increase in the degree of crystallization, and the uniformity of drawing may be broken or breakage may occur frequently, which may lower productivity. is there.
  • the film of the present invention obtained as described above has good smoothness and slipperiness, and is also excellent in scratch resistance in film forming and processing steps. Taking advantage of the characteristics, for example, it is suitably used as a release film (in particular, a release film of a polarizing plate or a release film used for producing a laminated ceramic capacitor) or a support of a magnetic recording medium.
  • the polarizing plate is a cross nicol method (two polarizing plates have their polarization planes orthogonal to each other as foreign material contamination or defect inspection, and the film is sandwiched between the polarization planes of the polarizing plate whose longitudinal direction and width direction are orthogonal to each other). Visual inspection of human beings)).
  • thermoplastic resin film of the present invention can suppress the occurrence of such problems while having excellent releasability, and thus can be suitably used as a release film of a polarizing plate.
  • thermoplastic resin film of the present invention has good smoothness and slipperiness, and is also excellent in scratch resistance in film forming and processing steps, so it should be suitably used as a release film used for producing a laminated ceramic capacitor. Can.
  • thermoplastic resin film when used as a support of a magnetic recording medium, it has the following problems.
  • magnetic recording media have been required to achieve higher density recording.
  • it is effective to make the magnetic layer thin and use fine particle magnetic materials to further improve the smoothness of the surface of the magnetic layer.
  • the thickness of the magnetic layer, the nonmagnetic layer, the backcoat layer, and further the support itself is reduced. Not only the smooth surface but also the roughening of the running surface is restricted.
  • the projections formed on the running surface are transferred to the magnetic surface, and a depression is formed on the smooth magnetic layer surface to deteriorate the smoothness of the magnetic layer surface.
  • the characteristics deteriorate. Only by reducing the diameter and reducing the concentration of the particles contained on the running surface side of the support in order to enhance the smoothness of the magnetic layer surface, the phenomenon that the added particles overlap in the thickness direction and the particles are pushed up to the surface As it happens, the coarse projections can not be improved yet.
  • the smoothness of the film is enhanced, the slipperiness between the film and the process roll tends to decrease, and therefore, the transportability of the film in the processing step decreases.
  • thermoplastic resin film of the present invention can suppress the occurrence of such problems while having excellent releasability, and therefore, as a support of a magnetic recording medium, particularly as a support of a coating type digital recording system It can be used suitably.
  • the threshold height (Threshold Height) of the protrusion height is set to 1 nm, 2 nm, and so on every 1 nm, the number of protrusions obtained by each threshold is counted, and the threshold number at which the number of protrusions counted becomes zero for the first time
  • the 1 nm lower threshold is taken as R top (nm) of the measurement image.
  • the analysis is performed on all 20 measurement images of each sample, and the average value is taken as the maximum projection height R top (nm) of the sample.
  • the threshold value (Threshold Height) of protrusion height calculated with attached analysis software is an average value (Density line) of protrusion density per 1 ⁇ m 2 at 1 nm (R 1 nm ),
  • the value of Mean row value converted to 1 mm 2 is N 1 nm (pieces / mm 2 ), and the average value of protrusion density per 1 ⁇ m 2 at 2 nm (R 2 nm ) is 1 mm (Density row, Mean row value)
  • N 2 nm (pieces / mm 2 ) is a value converted to 2 per unit
  • the value determined by the following equation is the number A (pieces / mm 2 ) of protrusions having a height of 1 nm or more and less than 2 nm.
  • a (pieces / mm 2 ) N 1 nm (pieces / mm 2 ) -N 2 nm (pieces / mm 2 )
  • the above analysis is performed on all 20 measurement images of each sample, and the average value thereof is the number A (pieces / mm 2 ) of protrusions having a height of 1 nm or more and less than 2 nm of the sample.
  • the threshold value (Threshold Height) of protrusion height calculated with attached analysis software is the average value (Density line) of protrusion density per 1 ⁇ m 2 at 3 nm (R 3 nm ),
  • the value of Mean row values converted to 1 mm 2 is N 3 nm (pieces / mm 2 ), and the average value of protrusion density per 1 ⁇ m 2 at 20 nm (R 20 nm ) (Density row, Mean row values) is 1 mm
  • the numerical value converted to 2 is N 20 nm (pieces / mm 2 )
  • the value obtained by the following equation be the number B (pieces / mm 2 ) of protrusions having a height of 3 nm or more and less than 20 nm in the measurement image.
  • B (pieces / mm 2 ) N 3 nm (pieces / mm 2 ) -N 20 nm (pieces / mm 2 )
  • the analysis is performed on all 20 measurement images of each sample, and the average value thereof is the number B (pieces / mm 2 ) of protrusions having a height of 3 nm or more and less than 20 nm.
  • the threshold value (Threshold Height) of protrusion height calculated with attached analysis software is an average value (Density line) of protrusion density per 1 ⁇ m 2 at 2 nm (R 2 nm ),
  • the value of Mean column value converted to 1 mm 2 is N 2 nm (pieces / mm 2 ), and the average value of the density of projections per 1 ⁇ m 2 at 3 nm (R 3 nm ) is 1 mm
  • N 3 nm (pieces / mm 2 ) be the value converted to 2 and let the value B calculated by the following equation be the number B (pieces / mm 2 ) of protrusions with a height of 2 nm or more and less than 3 nm.
  • C (pieces / mm 2 ) N 2 nm (pieces / mm 2 ) -N 3 nm (pieces / mm 2 ) (Vi) Protrusion number ratio C / A Regarding each measurement image, the number of protrusions in the image is the value obtained by dividing C (pieces / mm 2 ) obtained in the preceding paragraph (v) by A (pieces / mm 2 ) obtained in the paragraph (ii) Let C / A be, and let the average value of C / A of all the 20 measurement images of each sample be the number ratio C / A of projections having the sample.
  • the threshold value (Threshold Height) of protrusion height calculated with attached analysis software is an average value (Density line) of protrusion density per 1 ⁇ m 2 at 1 nm (R 1 nm ),
  • the value of Mean row value converted to 1 mm 2 is N 1 nm (pieces / mm 2 ), and the average value (density row, mean row value) of protrusion density per 1 ⁇ m 2 at 10 nm (R 10 nm ) is 1 mm
  • the numerical value converted to 2 is N 10 nm (pieces / mm 2 )
  • the value obtained by the following equation be the number D (pieces / mm 2 ) of protrusions having a height of 1 nm or more and less than 10 nm in the measurement image.
  • D (pieces / mm 2 ) N 1 nm (pieces / mm 2 ) -N 10 nm (pieces / mm 2 ) (Viii) Average value D 1 nm of equivalent circular diameters of protrusions at 1 nm height
  • the threshold value (Threshold Height) of the projection height is the average value of the circle equivalent diameter of the projection at 1 nm (the value of the Diameter row and the value of the Mean column) calculated by the attached analysis software in the same manner as in the preceding paragraph (i). Let D 1 nm (nm), and let the number ratio of protrusions having sample D 1 nm (nm) be the average value of D 1 nm of all 20 measurement images of each sample.
  • AFM measurement method ⁇ Device: Atomic force microscope (AFM) made by Bruker Dimention Icon with ScanAsyst ⁇ Cantilever: Silicon nitride probe ScanAsyst Air ⁇ Scan mode: ScanAsyst Scanning speed: 0.977 Hz -Scanning direction: Scanning in the width direction of the measurement sample prepared by the method described later-Measurement field of view: 1 ⁇ m square-Sample line: 512 ⁇ Peak Force SetPoint: 0.0195V to 0.0205V ⁇ Feedback Gain: 10 to 20 ⁇ LP Deflection BW: 40 kHz ⁇ Sample preparation: 23 ° C, 65% RH, 24 hours standing ⁇ AFM measurement environment: 23 ° C, 65% RH Method for preparing a measurement sample: A double-sided tape is attached to one side of an AFM sample disk (diameter 15 mm), and the AFM sample disk and the biaxially oriented thermoplastic resin of the present invention cut out
  • Measured value The aforementioned analysis is performed on the measured 20 images, each value is measured, and the average value is treated as each value of the sample.
  • Flatten Order 3rd Flatten Z Threshholding Direction: No theresholding ⁇ Find Threshold for: the whole image Flatten Z Threshold%: 0.00% -Mark Excluded Data: Yes [Particle Analysis mode setting] (Detect tab) ⁇ Threshold Height: Input according to each value ⁇ Feature Direction: Above ⁇ X Axis: Absolute ⁇ Number Histogram Bins: 512 ⁇ Histogram Filter Cutoff: 0.00 nm ⁇ Min Peak to Peak: 1.00 nm ⁇ Left Peak Cutoff: 0.00000% ⁇ Right Peak Cutoff: 0.00000% (Modify tab) ⁇ Beughbirhood Size: 3 ⁇ Number Pixels Off: 1 Do not perform any Dilate / Erode operations.
  • the number of scratches increased 0 to 1.
  • A The number of flaws increases 2-5.
  • B The increase number of scratches is five to ten.
  • C The number of scratches increased by 11 or more.
  • D The scratch resistance is good in A to C, and among them, A is the best.
  • Thickness ( ⁇ m) The film thickness was measured at arbitrary five places in a state in which ten sheets of the film were stacked, using a dial gauge and according to JIS K 7130 (1992) A-2. The average value was divided by 10 to obtain the film thickness of the sample.
  • the thickness of each layer was determined by the following method.
  • the film cross section is cut with a microtome in a direction parallel to the film width direction.
  • the cross section is observed with a scanning electron microscope at a magnification of 5000 to determine the thickness ratio of each laminated layer.
  • the thickness of each layer is calculated from the determined lamination ratio and the film thickness described above.
  • Intrinsic viscosity IV of film (dl / g)
  • [ ⁇ ] (dl / g) is calculated by the following equation (a), and the obtained value is taken as the intrinsic viscosity (IV).
  • the IV of the layer having the surface (P1 layer) is obtained by shaving only the P1 layer by a conventional method and the measurement is performed by the above-mentioned method.
  • Terminal carboxyl group amount (described as COOH amount in the table) About the amount of terminal carboxyl groups, it measured by the following method according to the method of Maulice. (Documents M. J. Maurice, F. Huizinga, Anal. Chim. Acta, 22 363 (1960)) In 50 mL of o-cresol / chloroform (weight ratio 7/3) was dissolved 2 g of a measurement sample (polyester resin (raw material) or a sheet obtained by separating only the P1 layer of a sheet for protecting the back of a solar cell) at a temperature of 80 ° C.
  • a measurement sample polyyester resin (raw material) or a sheet obtained by separating only the P1 layer of a sheet for protecting the back of a solar cell
  • the solution was titrated with a 05 N KOH / methanol solution to measure the terminal carboxyl group concentration, and the value was shown by the value of equivalent / ton of polyester resin.
  • the indicator at the time of titration used phenol red, and made the point which changed from yellow green to pink as the end point of titration.
  • the solution is filtered to measure the weight of the insoluble matter, and a value obtained by subtracting the weight of the insoluble matter from the measurement sample weight is measured weight The correction was made.
  • H Film forming stability
  • the film forming stability was evaluated as follows from the presence or absence of film breakage during continuous collection of 20000 m of the biaxially oriented thermoplastic resin film of the present invention. There is no film breakage during film formation of 20000 m. : A During film formation of 20000 m, film breakage occurred 1 to 3 times. : B During film formation of 20000 m, film breakage occurred 4 to 10 times. : C During film formation of 20000 m, film breakage occurred 10 times or more. : D The film formation stability is good in A to C, and among them, A is the most excellent.
  • Tm Melting point
  • Tmeta micro endothermic peak
  • the surface of the biaxially oriented thermoplastic resin film of the present invention is stacked so as to be in contact with the resist layer, and a biaxially oriented thermoplastic resin film is laminated on the resist layer using a rubber roller, A reticle patterned with chromium metal is placed, and exposure is performed using an I-line (ultraviolet light having a peak at a wavelength of 365 nm) stepper from above the reticle. c. After peeling the polyester film from the resist layer, the resist layer is placed in a container containing developer NA5 and development is carried out for about 1 minute. Thereafter, it is removed from the developer and washed with water for about 1 minute.
  • I-line ultraviolet light having a peak at a wavelength of 365 nm
  • the number of missing chips is 5 or less: A The number of missing pieces is 6 to 10: B The number of missing pieces is 11 to 15: C More than 16 missing pieces: D The photoresist properties are good at A to C, and among them, A is the best.
  • Blocking resistance A roll obtained by winding 10,000 m of the biaxially oriented thermoplastic resin film of the present invention was left at a temperature of 35 ° C. for 1 week, and then blocking resistance was evaluated as follows from the film state when the film was unwound. .
  • the film can be easily unwound and no wrinkles or surface defects can be identified. : A Although the film is easily unwound and there is no surface defect, wrinkles can be confirmed. : B Although the film can be easily unwound, surface defects or surface defects and wrinkles can be identified. : C It is difficult to unroll the film, or many wrinkles and surface defects can be identified. : D The blocking resistance is good at A to C, among which A is the best.
  • the obtained ceramic slurry is applied and dried by a die coater on the surface of the release film on which the release layer was provided in section a of the release film, so that the thickness after drying is 2 ⁇ m, and wound up.
  • the green sheet wound up as described above is drawn out and observed visually in a state where it is not peeled off from the release film, and the presence or absence of pinholes and the coated state of the sheet surface and the end portion are confirmed.
  • the area to be observed is 300 mm in width and 500 mm in length.
  • the shape transfer defect evaluation of the biaxially oriented thermoplastic resin film of the present invention was performed by the following method.
  • the biaxially oriented thermoplastic resin film of the present invention slit to a width of 1 m is transported under a tension of 200 N, and a coating solution for forming a nonmagnetic layer and a magnetic layer described later on the surface side of the biaxially oriented thermoplastic resin film of the present invention Multilayer application with a forming coating solution, and a coating solution for backcoat layer formation to be described later is applied to the side opposite to the surface, and further slit to a width of 12.65 mm (1/2 inch) to make pancake Do.
  • parts means “parts by mass”
  • Coating solution for magnetic layer formation Barium ferrite magnetic powder 100 parts (plate diameter: 20.5 nm, plate thickness: 7.6 nm, Plate ratio: 2.7, Hc: 191 kA / m ( ⁇ 2400 Oe)
  • Saturation magnetization 44 Am 2 / kg, BET specific surface area: 60 m 2 / g)
  • Polyurethane resin 12 parts Mass average molecular weight 10,000 Sulfonic acid functional group 0.5 meq / g Alpha-alumina HIT60 (Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 8 parts Carbon black # 55 (Asahi Carbon Co.) Particle size 0.015 ⁇ m 0.5 part Stearic acid 0.5 part Butyl stearate 2 parts Methyl ethyl ketone 180 parts Cyclohexanone 100 parts Coating liquid for forming the nonmagnetic layer
  • Non-magnetic powder ⁇ -iron oxide 100 parts Average major axis length 0.09
  • the coating solution was pumped through a horizontal sand mill containing 65% of the 1.0 mm diameter zirconia beads to the volume of the dispersion portion, and kept at 2,000 rpm for 120 minutes (the time substantially remaining in the dispersion portion) ), Dispersed.
  • To the resulting dispersion add polyisocyanate to the coating of the nonmagnetic layer, 5.0 parts, to the coating of the magnetic layer, add 2.5 parts, and add 3 parts of methyl ethyl ketone to obtain a filter with an average pore diameter of 1 ⁇ m.
  • the mixture was filtered to prepare coating solutions for forming the nonmagnetic layer and for forming the magnetic layer.
  • the obtained nonmagnetic layer-forming coating solution was applied and dried on the surface of the biaxially oriented thermoplastic resin film of the present invention such that the thickness after drying was 0.8 ⁇ m. Thereafter, the coating solution for forming a magnetic layer is applied so that the thickness of the dried magnetic layer is 0.07 ⁇ m, and cobalt having a magnetic force of 6,000 G (600 mT) while the magnetic layer is still in a wet state.
  • the magnet was oriented and dried by a solenoid having a magnetic force of 6,000 G (600 mT).
  • a coating liquid for forming a backcoat layer carbon black average particle size: 17 nm 100 parts, calcium carbonate average particle size: 40 nm 80 parts
  • a coating liquid for forming a backcoat layer carbon black average particle size: 17 nm 100 parts, calcium carbonate average particle size: 40 nm 80 parts
  • the thickness after calendering becomes 0.5 ⁇ m on the side opposite to the surface .
  • Alpha.-alumina Average particle size 200 nm 5 parts of polyurethane resin and polyisocyanate were dispersed.
  • curing was carried out at 65 ° C. for 72 hours.
  • the non-woven fabric and the razor blade were attached to a device having a slit product delivery and winding device so that the non-woven fabric and the razor blade were pressed against the magnetic surface, and the surface of the magnetic layer was cleaned with a tape cleaning device to obtain a magnetic tape.
  • the obtained tape stock was slit to a width of 12.65 mm (1/2 inch), and incorporated into a case for LTO to make a data storage cartridge having a magnetic recording tape length of 960 m.
  • This data storage was recorded in an environment of 23 ° C. and 50% RH (recording wavelength 0.55 ⁇ m) using an IBM LTO 7 drive, and then the cartridge was stored for 7 days in an environment of 50 ° C. and 80% RH. After the cartridge was stored at room temperature for 1 day, the full length was regenerated, and the error rate of the signal at the time of regeneration was measured.
  • the error rate is calculated by the following equation (b) from error information (error bit number) output from the drive.
  • Error rate (number of error bits) / (number of write bits) The error rate is less than 1.0 ⁇ 10 -6 .
  • a The error rate is 1.0 ⁇ 10 ⁇ 6 or more and less than 1.0 ⁇ 10 ⁇ 5 .
  • B The error rate is 1.0 ⁇ 10 ⁇ 5 or more and less than 1.0 ⁇ 10 ⁇ 4 .
  • PET-1 From terephthalic acid and ethylene glycol, polymerization was carried out according to a conventional method using antimony trioxide as a catalyst to obtain melt-polymerized PET substantially free of particles.
  • the glass transition temperature of the obtained melt-polymerized PET was 81 ° C., the melting point was 255 ° C., and the intrinsic viscosity was 0.62.
  • solid phase polymerization was carried out by a conventional method to obtain solid phase polymerized PET.
  • the glass transition temperature of the obtained solid phase polymerized PET was 81 ° C., the melting point was 255 ° C., and the intrinsic viscosity was 0.81.
  • PET-2 Polymerization was carried out in the same manner as in the preceding paragraph PET-1 to obtain a solid phase polymerized PET having a glass transition temperature of 81 ° C., a melting point of 255 ° C. and an intrinsic viscosity of 0.72.
  • PES RESIN A-643 GEX manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd.
  • methyl cellulose resin methyl cellulose resin
  • SM-15 methyl cellulose resin
  • n polyoxyethylene
  • Example 1 After drying PET-1 at 180 ° C. for 2 and a half hours under reduced pressure, it is fed to an extruder, melt-extruded, filtered by a filter, and kept at 37 ° C. using a die by electrostatic spray casting on a cooling roll. The resultant was wound around a casting drum, solidified by cooling, and an unstretched film was obtained. The unstretched film was introduced between the opposing electrode and the earth roll, nitrogen gas was introduced into the apparatus, and atmospheric pressure glow discharge treatment was performed under the condition that the E value was 160 W ⁇ min / m 2 .
  • the unstretched film after the treatment is sequentially 3.3 times (330%) in the longitudinal direction and 3.6 times (360%) in the width direction under the conditions described in Table 2 using the sequential biaxial stretching machine. It was stretched 11.9 times and then heat-treated at 240 ° C. under constant length. Thereafter, a relaxation treatment was applied in the width direction to obtain a biaxially oriented film with a thickness of 18 ⁇ m.
  • Tables 4 and 5 show physical properties, surface protrusion shapes, and characteristic evaluations of the obtained biaxially oriented film. The slidability was in a preferable range although slightly inferior, and the film was excellent in both scratch resistance, film formation stability, photoresist characteristics and blocking resistance.
  • Example 2-5 A biaxially oriented film having a thickness of 18 ⁇ m was obtained in the same manner as in Example 1 except that the film forming conditions were changed as shown in Table 2 and Table 3.
  • Tables 4 and 5 show physical properties, surface protrusion shapes, and characteristic evaluations of the obtained biaxially oriented film.
  • Example 2 when the heat treatment temperature was lowered than in Example 1, the number of protrusions having a height of 3 nm or more and less than 20 nm was reduced, and thus the ratio B / A of the number of protrusions was reduced. Although the scratch resistance was lower than Example 1, it was a good film including film forming stability, photoresist characteristics, and blocking resistance.
  • Example 3 when the heat treatment temperature was raised more than Example 1, B / A which is a projection number ratio increased because the number of projections having a height of 1 nm or more and less than 2 nm decreased.
  • the slipperiness and the blocking resistance decreased in comparison with Example 1, and the film forming stability also deteriorated, but it was within the practical range.
  • both the scratch resistance and the photoresist characteristics were good films.
  • Example 4 when the mechanical draw ratio is set to 4.0 times (400%) in the longitudinal direction and 4.5 times (450%) in the width direction, and the film is stretched 18.0 times in total, protrusion growth by stretching progresses.
  • B / A which is the number ratio of protrusions is increased.
  • the slipperiness and the blocking resistance were lower than those in Example 1, but they were within the practical range, and the film was excellent in both the scratch resistance, the film forming property and the photoresist characteristics.
  • Example 5 when the tenter temperature was raised stepwise according to Table 3 from Example 1, the number of protrusions having a height of 1 nm or more and less than 2 nm increased significantly, and B / A which is the number ratio of protrusions decreased.
  • the film has no problem in all of slipperiness, scratch resistance, film formation stability, photoresist characteristics and blocking resistance.
  • Examples 6, 7 In Examples 6 and 7, as the low area magnification condition, the condition (Example 6) in which the mechanical draw ratio is 3.3 times (330%) in the longitudinal direction and 3.6 times (360%) in the width direction, and high Tenter heat treatment according to the conditions described in Tables 2 and 3 under the conditions (Example 7) under the conditions of 4.0 times (400%) in the longitudinal direction and 4.5 times (450%) in the width direction as the area magnification conditions. Stretching was performed in the zone. Tables 4 and 5 show physical properties, surface protrusion shapes, and characteristic evaluations of the obtained biaxially oriented film.
  • Example 6 is in contrast to Example 1, and Example 7 is in contrast to Example 4 because the number of protrusions having a height of 1 nm or more and less than 2 nm is decreased, so that the ratio of the number of protrusions is increased, and the metal friction coefficient is also decreased. .
  • the film has no problem in all of slipperiness, scratch resistance, film formation stability, photoresist characteristics and blocking resistance.
  • Example 8 and 9 In Examples 8 and 9, the mechanical draw ratio in the longitudinal direction is 3.6 times (360%) according to the conditions described in Table 2 and Table 3 as “transverse tension of film” from Example 5 and Example 7, respectively. ), In the width direction was set to 4.5 times (450%). Tables 4 and 5 show physical properties, surface protrusion shapes, and characteristic evaluations of the obtained biaxially oriented film. As a result, Examples 8 and 9 both resulted in a film having no problems in all of slipperiness, scratch resistance, film formation stability, photoresist characteristics and blocking resistance.
  • Example 10 and 11 In Examples 10 and 11, similarly, PET-1 as a P1 layer raw material and PET-2 as a P2 layer raw material are dried at 180 ° C. for 2 and a half hours under reduced pressure, then supplied to an extruder, melt-extruded and filtered by a filter Then, films of Example 10 (two-layer structure) and Example 11 (three-layer structure) were obtained in the same manner as in Example 1 except that the electrostatic application casting method was used on a cooling roll through a die. The physical properties, surface protrusion shape and characteristic evaluation of the obtained biaxially oriented film are as shown in Tables 4 and 5. Both Examples 10 and 11 have slipperiness, scratch resistance, film forming stability, photoresist characteristics, It became a problem-free film in all of the blocking resistance.
  • Example 12 The raw material of the P1 layer was changed to a mixture with a polyimide resin-based PET resin (a mixture of PI and PET; melting point 255 ° C.) (Example 12), and to polypropylene resin (PP; melting point 165 ° C.) (Example 13)
  • Example 12 in which PI is used, the photoresist property is reduced compared to Example 7 There was no problem in practicality, and in all of Examples 12 to 14, the films were all free of problems in slipperiness, scratch resistance, film formation stability, and blocking resistance.
  • Example 15 The same procedure as in Example 10 was carried out except that PET-1 and MB-A, which is a fine silica particle master pellet, were blended with the raw material of the P1 layer so that the fine silica particles become the amount described in Table 1, and supplied to the extruder. A biaxially oriented film was obtained. The physical properties, surface protrusion shape, and property evaluations of the obtained biaxially oriented film are as shown in Tables 4 and 5. In Example 15, the ratio of the number of protrusions, B / A, is increased relative to Example 10. Although scratch resistance and blocking resistance were slightly inferior, there was no problem in practical use, and the slip property, film formation stability, and photoresist characteristics became a film without problems.
  • Example 16 A biaxially oriented film with a thickness of 18 ⁇ m was obtained in the same manner as in Example 8 except that the raw material of the P1 layer was changed to PET-2.
  • Tables 4 and 5 show physical properties, surface protrusion shapes, and characteristic evaluations of the obtained biaxially oriented film.
  • Example 17 and 18 As described in Table 3, Example 17 and Example 18 were obtained in the same manner as in Examples 8 and 9 except that the film thickness was 30 ⁇ m. Physical properties, surface protrusion shape, and characteristic evaluations of the obtained biaxially oriented thermoplastic resin film are as shown in Tables 6 and 7. As in Examples 8 and 9, Examples 17 and 18 resulted in films having no problem in all of slip, scratch resistance, film formation stability, photoresist characteristics, and blocking resistance.
  • the biaxially oriented thermoplastic resin films of Examples 17 and 18 were evaluated for green sheet assuming a film for forming a green sheet according to the method described above, and as shown in Tables 6 and 7, both were good. These results are suitable for use as a support film for forming a green sheet.
  • Example 19 and 20 As described in Table 3, Example 19 and Example 20 were obtained in the same manner as in Examples 8 and 9 except that the film thickness was 4.5 ⁇ m. Physical properties, surface protrusion shape, and characteristic evaluations of the obtained biaxially oriented thermoplastic resin film are as shown in Tables 6 and 7. In Examples 19 and 20, as in Examples 8 and 9, the films have no problem in all of slip, scratch resistance, film formation stability, photoresist characteristics and blocking resistance.
  • the biaxially oriented thermoplastic resin films of Examples 19 and 20 were subjected to the error rate evaluation assuming the base film for a magnetic recording medium by the above-described method. As a result, as shown in Tables 6 and 7, both results were good. It can be suitably used as a base film for magnetic recording media.
  • a biaxially oriented film is obtained by the same method as in Example 1 except that the film is introduced into the continuous biaxial stretching machine without performing atmospheric pressure glow discharge treatment. Obtained.
  • the physical properties, surface protrusion shape and characteristic evaluation of the obtained biaxially oriented film are as shown in Tables 4 and 5. Since atmospheric pressure glow discharge treatment was not carried out, the formation of projections was insufficient, and the ratio of the number of projections B / A was reduced to 0. As a result, a film having significantly inferior slipperiness, scratch resistance and blocking resistance was obtained.
  • Example 3 From Example 1, a biaxially oriented film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the heat treatment temperature was raised to 255 ° C.
  • the physical properties, surface protrusion shape and characteristic evaluation of the obtained biaxially oriented film are as shown in Tables 4 and 5.
  • B / A which is the ratio of the number of protrusions, increases until it exceeds 5 and the slip property is significantly deteriorated.
  • the heat treatment temperature was raised to the vicinity of the melting point of the polyester resin, the film breakage at the outlet of the tenter occurred frequently and stable film formation could not be carried out.
  • Example 4 From Example 1, a biaxially oriented film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the heat treatment temperature was lowered to 200 ° C.
  • the physical properties, surface protrusion shape and characteristic evaluation of the obtained biaxially oriented film are as shown in Tables 4 and 5.
  • the ratio B / A of protrusions is reduced to 0.
  • a film having significantly inferior slipperiness and scratch resistance is obtained.
  • PET-1 and MB-B which is a large diameter silica particle master pellet are blended so that the large diameter silica particles become the amount described in Table 1, and a PET-1 is extruded as a raw material of P2 layer.
  • a biaxially oriented film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the film was supplied to.
  • the physical properties, surface protrusion shape and characteristic evaluation of the obtained biaxially oriented film are as shown in Tables 4 and 5.
  • the maximum protrusion height is more than 20 nm, the haze is increased, the photoresist properties are significantly deteriorated, and film unwinding from the roll is easy, but surface defects derived from protrusions with a protrusion height of 20 nm or more on the film surface And the film became inferior in blocking resistance.
  • Example 6 The same method as in Example 1 was used except that PET-1 as a raw material for the P1 layer and sodium stearate (crystal nucleating agent-1) as a crystal nucleating agent as additives were blended in amounts described in Table 1. A biaxially oriented film was obtained. The physical properties, surface protrusion shape and characteristic evaluation of the obtained biaxially oriented film are as shown in Tables 4 and 5. While the number A of protrusions having a height of 1 nm or more and less than 2 nm is reduced, the number of protrusions B having a height of 3 nm or more and less than 20 nm is increased. It worsened from Example 1.
  • Example 7 After obtaining an unstretched film in the same manner as in Example 1, the film is stretched 3.3 times (330%) in the longitudinal direction when introduced into a sequential biaxial stretching machine without performing atmospheric pressure glow discharge treatment. Thereafter, coating solution 1 was applied, and then the film was stretched 3.6 times (360%) in the width direction and dried to obtain a biaxially oriented film having a coating layer with a thickness of 0.3 ⁇ m.
  • the physical properties, surface protrusion shape and characteristic evaluation of the obtained biaxially oriented film are as shown in Tables 4 and 5.
  • the slip property, film formation stability, photoresist characteristics, and blocking resistance have no problem in practical use, but they are coated. There were many scratches due to the layer being scraped, and the scratch resistance significantly deteriorated.
  • Comparative Examples 8 and 9 As described in Table 3, Comparative Example 8 and Comparative Example 9 were respectively obtained in the same manner as Comparative Examples 1 and 2 except that the film thickness was 30 ⁇ m. Physical properties, surface protrusion shape, and characteristic evaluations of the obtained biaxially oriented thermoplastic resin film are as shown in Tables 6 and 7.
  • the films of Comparative Examples 8 and 9 were significantly inferior in slipperiness, scratch resistance and blocking resistance to the films of Comparative Examples 1 and 2, respectively.
  • the biaxially oriented thermoplastic resin films of Comparative Examples 8 and 9 were subjected to green sheet evaluation on the assumption of a support film for forming a green sheet according to the method described above. As a result, as shown in Tables 6 and 7, the green sheet evaluation was significantly inferior to those of Examples 17 and 18 as shown in Tables 6 and 7.
  • Comparative Examples 10 and 11 As described in Table 3, Comparative Example 10 and Comparative Example 11 were respectively obtained in the same manner as Comparative Examples 1 and 2 except that the film thickness was 4.5 ⁇ m. Physical properties, surface protrusion shape, and characteristic evaluations of the obtained biaxially oriented thermoplastic resin film are as shown in Tables 6 and 7.
  • the films of Comparative Examples 10 and 11 were significantly inferior in slipperiness, scratch resistance and blocking resistance to the films of Comparative Examples 1 and 2, respectively.
  • the error rate evaluation assuming the base film for a magnetic recording medium was carried out by the method described above on the films of Comparative Examples 10 and 11, many scratches occurred on the surface due to the friction between the process roll and the film during winding. As shown in Tables 6 and 7, both films were significantly inferior in error rate evaluation to Examples 19 and 20.
  • thermoplastic resin film of the present invention has good transparency, smoothness, and slipperiness, and can also improve scratch resistance in the film forming and processing steps, so that the photosensitive resin composition can be bulked on one side. It can be suitably used as a polyester film for a dry film resist support used, a film for an optical device substrate, a release film for a ceramic capacitor, and a film for a magnetic recording medium.

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Abstract

少なくとも片側の表面が、最大突起高さが２０ｎｍ未満であり、高さ１ｎｍ以上２ｎｍ未満の突起の個数をＡ（個／ｍｍ２）、高さ３ｎｍ以上２０ｎｍ未満の突起の個数をＢ（個／ｍｍ２）とした場合に、Ｂ／Ａが０．００１以上５以下である二軸配向熱可塑性樹脂フィルムにより、良好な透明性、平滑性と易滑性を有し、さらに製膜・加工工程おける傷つき耐性を向上させた二軸配向熱可塑性樹脂フィルムを提供する。

Description

二軸配向熱可塑性樹脂フィルム
　本発明は、表面に微細な突起を有する二軸配向熱可塑性樹脂フィルムに関するものである。
　熱可塑性樹脂はその加工性の良さから、様々な工業分野に利用されている。また、これら熱可塑性樹脂をフィルム状に加工した製品は工業用途、光学製品用途、包装用途、磁気記録テープ用途など今日の生活において重要な役割を果たしている。近年、電子情報機器において、小型化、高集積化が進み、それに伴って、電子情報機器の作製に用いられるフィルムには加工性の向上が求められている。特に、電子情報機器の作製には、フィルム表面に他の素材を積層させ、フィルムごとフォトレジストなどの光学的な加工を施す手法が多く採られる。このため、フィルムの加工性向上のためには、フィルムの透明性を保持しつつフィルムの平滑性を高めることが一般的な手段である。
　上記の要求に応えるためには、フィルム表面に透明性、易滑性と平滑性、さらに加工性を付与する必要がある。このため、例えば特許文献１には、フィルムに粒子を含有させることなく添加剤により表面を荒らすことで易滑性を向上させる技術が、特許文献２には、フィルム表面に有機樹脂粒子を内包する易滑性を発現するコート層を構築することで易滑性を向上させる技術が開示されている。
特開２０１６－２２１８５３号公報 特開２００５－１５３３２２号公報
　しかしながら、特許文献１に記載されているように添加剤を用いる場合、易滑性は満足するが添加濃度ムラによる表面の荒れや、添加剤由来の異物が生じることにより、平滑性が低下したり、表面散乱を起こし透明性が低下したりすることが課題になる。また、特許文献２に記載されているように易滑性のコート層を設ける場合、加工工程中でコート層が剥がれ工程汚染の原因に繋がることが課題になる。本発明は上記事情に鑑み、良好な平滑性と易滑性を有し、さらに製膜・加工工程おける傷つき耐性も向上させた二軸配向熱可塑性樹脂フィルムを提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明は以下の構成を取る。すなわち、
［Ｉ］少なくとも片側の表面が、最大突起高さが２０ｎｍ未満であり、高さ１ｎｍ以上２ｎｍ未満の突起の個数をＡ（個／ｍｍ２）、高さ３ｎｍ以上２０ｎｍ未満の突起の個数をＢ（個／ｍｍ２）とした場合に、Ｂ／Ａが０．００１以上５．０００以下である二軸配向熱可塑性樹脂フィルム。
［ＩＩ］前記表面が、高さ２ｎｍ以上３ｎｍ未満の突起の個数をＣ（個／ｍｍ２）とした場合、Ｃ／Ａが０．１００以上２．０００以下である［Ｉ］に記載の二軸配向熱可塑性樹脂フィルム。
［ＩＩＩ］前記表面の算術平均粗さＲａが３．０ｎｍ以下である［Ｉ］または［ＩＩ］に記載の二軸配向熱可塑性樹脂フィルム。
［ＩＶ］前記表面を有する層が実質的に粒子を含有しない［Ｉ］～［ＩＩＩ］のいずれかに記載の二軸配向熱可塑性樹脂フィルム。
［Ｖ］前記表面の突起において高さ１ｎｍにおける突起断面の円相当径の平均値が１５ｎｍ以上３０ｎｍ以下である［Ｉ］～［ＩＶ］のいずれかに記載の二軸配向熱可塑性樹脂フィルム。
［ＶＩ］前記高さ１ｎｍ以上２ｎｍ未満の突起の個数Ａが１．０×１０７個／ｍｍ２以上１．０×１０９個／ｍｍ２以下である［Ｉ］～［Ｖ］のいずれかに記載の二軸配向熱可塑性樹脂フィルム。
［ＶＩＩ］前記表面の高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起の個数をＤ（個／ｍｍ２）とした場合、突起個数Ｄが５．０×１０７～６．０×１０９個／ｍｍ２である［Ｉ］～［ＶＩ］のいずれかに記載の二軸配向熱可塑性樹脂フィルム。
［ＶＩＩＩ］前記二軸配向熱可塑性樹脂フィルムを構成する熱可塑性樹脂が、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリイミド樹脂のいずれかを主成分とする［Ｉ］～［ＶＩＩ］に記載のフィルム
［ＩＸ］離型用フィルムとして用いられる［Ｉ］～［ＶＩＩＩ］のいずれかに記載の二軸配向熱可塑性樹脂フィルム。
［Ｘ］ドライフィルムレジスト支持体用フィルムとして用いられる［Ｉ］～［ＶＩＩＩ］のいずれかに記載の二軸配向熱可塑性樹脂フィルム。
［ＸＩ］積層セラミックコンデンサーを製造する工程においてグリーンシート成形の支持体用フィルムとして用いられる［Ｉ］～［ＶＩＩＩ］のいずれかに記載の二軸配向熱可塑性樹脂フィルム。
［ＸＩＩ］磁気記録媒体用ベースフィルムに用いられる、［Ｉ］～［ＶＩＩＩ］のいずれかに記載の二軸配向熱可塑性樹脂フィルム。
　本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムは、良好な透明性、平滑性と易滑性を有し、さらに製膜・加工工程おける傷つき耐性を有する。
ＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ　Ｆｏｒｃｅ　Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）で測定されるＲｔｏｐ、Ｒ１ｎｍ、Ｒ２ｎｍ、Ｒ３ｎｍ、Ｒ２０ｎｍをあらわす概念図である。 本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムの２層構成図 本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムの３層構成図 本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムの異種３層構成図 ＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ　Ｆｏｒｃｅ　Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）で測定される高さ１ｎｍの位置における突起の断面をあらわす概念図である。
　以下、本発明を詳細に説明する。
　本発明は二軸配向熱可塑性樹脂フィルムに関する。本発明で言う熱可塑性樹脂とは、加熱すると塑性を示す樹脂である。代表的な樹脂としてはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンα、β－ジカルボキシレート、Ｐ－ヘキサヒドロ・キシリレンテレフタレートからのポリマー、１，４シクロヘキサンジメタノールからのポリマー、ポリ－Ｐ－エチレンオキシベンゾエート、ポリアリレート、ポリカーボネートなど及びそれらの共重合体で代表されるように主鎖にエステル結合を有するポリエステル樹脂類、更にナイロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン１２、ナイロン１１、などで代表されるように主鎖にアドミ結合を有するポリアミド樹脂類、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリメチルペンテン、ポリブテン、ポリイソブチレン、ポリスチレンなどで代表されるように主としてハイドロカーボンのみからなるポリオレフィン樹脂類、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリフェニレンオキサイド（ＰＰＯ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、ポリオキシメチレンなどで代表されるポリエーテル樹脂類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、ポリクロロトリフルオロエチレンなどで代表されるハロゲン化ポリマー樹脂類およびポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）樹脂、ポリスルフオン樹脂およびそれらの共重合体や変性体、ポリイミド樹脂などである。
　本発明において用いられる熱可塑性樹脂としては、透明性、製膜性の観点からポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）樹脂、ポリイミド（ＰＩ）樹脂を主成分とすることが好ましく、その中でも特にポリエステルが更に好ましい。ここでいう主成分とはフィルムの全成分１００重量％において、５０重量％を超えて１００重量％以下含有している成分を示す。
　また、本発明で言うポリエステル樹脂はジカルボン酸構成成分とジオール構成成分を重縮合してなるものである。なお、本明細書内において、構成成分とはポリエステル樹脂を加水分解することで得ることが可能な最小単位のことを示す。
　かかるポリエステル樹脂を構成するジカルボン酸構成成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４－ナフタレンジカルボン酸、１，５－ナフタレンジカルボン酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸、１，８－ナフタレンジカルボン酸、４，４’－ジフェニルジカルボン酸、４，４’－ジフェニルエーテルジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸、もしくはそのエステル誘導体が挙げられる。
　また、かかるポリエステル樹脂を構成するジオール構成成分としては、エチレングリコール、１，２－プロパンジオール、１，３－プロパンジオール、１，４－ブタンジオール、１，２－ブタンジオール、１，３－ブタンジオール等の脂肪族ジオール類、シクロヘキサンジメタノール、スピログリコールなどの脂環式ジオール類、上述のジオールが複数個連なったものなどが挙げられる。
　また、近年、環境負荷の観点から化石燃料由来の原料からの脱却とバイオマス由来原料への切り替えが求められており、本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムの環境負荷を減らすことを目的として、バイオマスに由来する上記例示のジオール構成成分を好適に用いることができる。バイオマスの具体的な例としては、サトウキビ、テンサイなどの糖質資源やトウモロコシ、米、イモ類などでんぷん資源があげられる。
　前述のポリエステル樹脂の中でも、機械特性、透明性の観点から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン－２，６－ナフタレンジカルボキシレート（ＰＥＮ）、およびＰＥＴのジカルボン酸成分の一部にイソフタル酸やナフタレンジカルボン酸を共重合したポリエステル樹脂、ＰＥＴのジオール成分の一部にシクロヘキサンジメタノール、スピログリコール、ジエチレングリコールを共重合したポリエステル樹脂が好適に用いられる。
　本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムは、二軸配向していることが必要である。二軸配向していることにより、フィルムの機械強度が向上し易滑性を向上させることができる。ここでいう二軸配向とは、広角Ｘ線回折で二軸配向のパターンを示すものをいう。二軸配向熱可塑性樹脂フィルムは、一般に未延伸状態の熱可塑性樹脂シートをシート長手方向および幅方向に延伸し、その後熱処理を施し結晶配向を完了させることにより、得ることができる。詳しくは後述する。
　本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムは、少なくとも片側の表面が、後述の方法に従ってＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ　Ｆｏｒｃｅ　Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）で測定される突起の最大高さ（最大突起高さ）をＲｔｏｐ（ｎｍ）とした場合、Ｒｔｏｐ（ｎｍ）が２０ｎｍ未満であり、かつ高さ１ｎｍ以上２ｎｍ未満の突起の個数をＡ（個／ｍｍ２）、高さ３ｎｍ以上２０ｎｍ未満の突起の個数をＢ（個／ｍｍ２）とした場合に、Ｂ／Ａが０．００１以上５．０００以下である必要がある（以降、最大突起高さが２０ｎｍ未満であり、Ｂ／Ａが０．００１以上５．０００以下であるフィルム表面を、単に前記表面という場合がある）。
　本発明におけるＲｔｏｐ（ｎｍ）は、フィルム表面に存在する最大の突起高さを有する突起の高さを反映している。Ｒｔｏｐ（ｎｍ）が２０ｎｍ以上の場合、フィルムをロール状に巻き取った際にフィルムの他の面に欠陥を生じたり、フィルムの表面に他の層を積層する際に突起によって他の層に欠陥を与えたりする。その結果、フィルムの加工性が低下する場合や、フィルムのヘイズが上昇しフィルムの透明性が失われ、フォトレジストなどの光学的な加工時に欠点を誘発する原因になる場合がある。また、Ｒｔｏｐが小さい場合、フィルムに一定の突起高さ以上を有する突起が存在しないことになり、フィルムの易滑性が悪化する場合がある。Ｒｔｏｐ（ｎｍ）は、好ましくは３ｎｍ以上２０ｎｍ未満であり、より好ましくは３ｎｍ以上１５ｎｍ以下、さらに好ましくは３ｎｍ以上１０ｎｍ以下、最も好ましくは３ｎｍ以上５ｎｍ以下である。
　本発明における高さ１ｎｍ以上２ｎｍ未満の突起の個数Ａ（個／ｍｍ２）は、前記表面のフィルム地肌部に存在する突起の個数を反映している。突起個数Ａ（個／ｍｍ２）が多くなることで他の面との接触する際の面積（以下、他の面との接触する際の面積を接触面積と称することがある）が低下し、フィルムの易滑性が向上する。突起個数Ａ（個／ｍｍ２）が多い場合、フィルムの易滑性が高くなることでフィルム巻き取り時に巻きずれが発生する場合がある。また、突起個数Ａ（個／ｍｍ２）が少ない場合、フィルムが平坦になることで他の面との接触面積が増加し、製膜工程やその後の加工工程における工程ロールとの摩擦が増加しシワが発生したり、またフィルム巻き取りが困難になったりすることで、製膜・加工の適正が低下する場合がある。高さ１ｎｍ以上２ｎｍ未満の突起の個数Ａ（個／ｍｍ２）は、好ましくは１．０×１０７個／ｍｍ２以上１．０×１０９個／ｍｍ２以下であり、より好ましくは２．０×１０７個／ｍｍ２以上５．０×１０８個／ｍｍ２以下である。
　本発明における高さ３ｎｍ以上２０ｎｍ未満の突起の個数Ｂ（個／ｍｍ２）は、前記表面の地肌部から離れた位置に存在する突起の個数を反映しており、地肌部に存在する高さ１ｎｍ以上２ｎｍ未満の突起と他の面との接触を妨げ、フィルムの易滑性を更に向上する効果を有する。高さ１ｎｍ以上２ｎｍ未満の突起の個数Ａ（個／ｍｍ２）と高さ３ｎｍ以上２０ｎｍ未満の突起の個数Ｂ（個／ｍｍ２）を用いて算出される値であるＢ／Ａは、両突起の個数のバランスを反映している。Ｂ／Ａが大きい場合、易滑性に寄与する高さ１ｎｍ以上２ｎｍ未満の突起の割合が低下することで易滑性が下がり、フィルムの製膜・加工適正が低下する。また、Ｂ／Ａが小さい場合、高さ３ｎｍ以上２０ｎｍ未満の突起の割合が低下し、他の面がフィルム地肌部と接触する面積が増加することで、フィルムの易滑性が低下し製膜・加工の適正が低下する。これに加え、フィルムと工程ロールとの摩擦に起因する傷つきが多く発生する。Ｂ／Ａのより好ましい範囲としては０．０１０以上２．０００以下であり、更に好ましい範囲としては０．０１０以上０．０８０以下である。従来技術では、高さ３ｎｍ以上２０ｎｍ未満の突起の個数Ｂ（個／ｍｍ２）と高さ１ｎｍ以上２ｎｍ未満の突起の個数Ａ（個／ｍｍ２）は、個数Ｂを増やそうとすると個数Ａは減少し、個数Ａを増やそうとすると個数Ｂが減少するというトレードオフの関係にあったが、本発明においては後述する方法により、Ｂ／Ａを上述の範囲に制御することが可能である。
　本発明における高さ２ｎｍ以上３ｎｍ未満の突起の個数Ｃ（個／ｍｍ２）は、前記表面の上記高さ１ｎｍ以上２ｎｍ未満の突起の個数Ａ（個／ｍｍ２）と高さ３ｎｍ以上２０ｎｍ未満の突起の個数Ｂ（個／ｍｍ２）の中間位置に存在する突起の個数を反映している。突起個数Ｃ（個／ｍｍ２）は特に限定されないが、最大突起高さであるＲｔｏｐ（ｎｍ）が５ｎｍ以下となる場合にはその影響が無視できなくなり、前記高さ１ｎｍ以上２ｎｍ未満の突起の個数Ａ（個／ｍｍ２）との比であるＣ／Ａの値により傷つき耐性が変化する場合があることが判明した。具体的にはＲｔｏｐ（ｎｍ）が５ｎｍ以下でＣ／Ａの値は、０．１００以上２．０００以下であることが好ましい。より好ましくは０．２００以上０．４００以下である。Ｃ／Ａの値が０．１００未満の場合、前記Ｃ／Ａの値が好ましい範囲内であっても他の面が地肌部に接触する影響が無視できなくなり、傷つき耐性が低下する場合がある。またＣ／Ａの値が２．０００より大きくなると地肌部が高さ２ｎｍ以上３ｎｍ未満の突起部分に存在するのと変わらなくなり、フィルムの傷つき耐性が低下する場合がある。
　本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムの前記表面における高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起の個数をＤ（個／ｍｍ２）とした場合、個数Ｄは前記表面に存在する地肌近傍から突起高さ１０ｎｍ未満の高い位置に存在する突起の総個数を表しており、フィルムをロールに巻き取った場合にフィルム間での凝着（ブロッキング）やそれに伴うシワの発生を防ぐ役割を担う突起の総個数を表している。フィルムをロールとして巻取る際にはフィルムに一定の張力をかけて巻取るのに加え、ロールを長期間保管する際には保管温度によってはロールが巻き締まる場合がある。このためロール状態のフィルムは厚み方向に大きな圧力を受けている。フィルム同士のブロッキングやシワ、表面欠点発生を防ぐには、表面に形成した突起によりかかる圧力を分散させ、フィルム面間の凝着を抑制することが重要となる。本発明者らが鋭意検討したところ、表面に存在する突起のうち突起高さが１０ｎｍ以上の突起は、圧力分散に寄与する一方で、突起高さが高くなり地肌部との高低差からシワ、表面欠点の発生に寄与する場合があることが判明した。このためロール状態でのフィルムのブロッキングとシワ、表面欠点を防ぐには、突起高さが１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数Ｄが５．０×１０７～６．０×１０９個／ｍｍ２となることが好ましい。突起個数Ｄが５．０×１０７個／ｍｍ２未満となる場合、ロール状態でのフィルム同士の接触面積が増加し凝着すことで、フィルムを巻き出すことが困難になる場合や、ロール状態での保管時にシワ、表面欠点が多発する場合がある。一方で、突起個数Ｄが６．０×１０９個／ｍｍ２を超える場合、フィルム同士のブロッキングを抑制できる一方で、フィルムの巻きずれが発生し生産性が落ちる場合がある。突起個数Ｄの好ましい範囲は１．７×１０８～１．０×１０９個／ｍｍ２であり、さらに好ましい範囲としては２．０×１０８～８．０×１０８個／ｍｍ２である。
　本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムの前記表面は、表面粗さを表す算術平均粗さＲａは３．０ｎｍ以下であることが好ましく、０．５ｎｍ以上３．０ｎｍ以下であることがより好ましい。０．５ｎｍで未満ある場合、接触面積を減らすのに有効な突起が少なく、すべり性（易滑性）が低下することがある。一方３．０ｎｍを超える場合、粗大な突起が存在するため、本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムを巻き取る場合に凹凸が転写しフィルムの平滑性が失われる場合がある。
　本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムの前記表面は、後述のＡＦＭ測定により求められる、基準面より高さ１ｎｍの位置における突起の断面の円相当径の平均値Ｄ１ｎｍが１５ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることが好ましい。円相当径の平均値が１５ｎｍ未満である場合、前述の突起が多く（高密度に）存在した場合でも、他の面との接触時に容易に変形してしまい、接触面積を低下させる働きを担えない場合がある。一方、円相当径の平均値が３０ｎｍを超える場合、突起が粗大であり、高さ１ｎｍ以上２ｎｍ未満の突起個数が低下し、結果フィルムの易滑性が低下する場合がある。
　フィルムの透明性を悪化させることなく、フィルム表面の突起高さを上記の範囲とするための方法は特に限定されないが、例えば、ナノインプリントのようにモールドを用いて表面に形状を転写させる方法、大気圧グロー放電によるプラズマ表面処理、光学的に影響を及ぼしにくい２次粒径が１０ｎｍを下回る微細な粒子の表層への添加をした後、後述の二軸延伸を行うが挙げられる。インラインでの製膜適応性や微細な突起の形成個数の観点からは、大気圧グロー放電によるプラズマ処理や微細粒子添加を行い二軸延伸することが好ましく、突起形成の均一性やフィルムへのダメージが少ないことから大気圧グロー放電によるプラズマ処理を行い二軸延伸することが更に好ましい。ここでいう大気圧とは７００Ｔｏｒｒ～７８０Ｔｏｒｒの範囲である。
　大気圧グロー放電処理は、相対する電極とアースロール間に処理対象のフィルムを導き、装置中にプラズマ励起性気体を導入し、電極間に高周波電圧を印加することにより、該気体をプラズマ励起させ電極間においてグロー放電を行うものである。これによりフィルム表面が微細に加工され突起が形成する。
　プラズマ励起性気体とは前記のような条件においてプラズマ励起されうる気体をいう。プラズマ励起性気体としては、例えば、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガス、窒素、二酸化炭素、酸素、またはテトラフルオロメタンのようなフロン類およびそれらの混合物などが挙げられる。また、プラズマ励起性気体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の混合比で組み合わせてもよい。プラズマによって励起された場合に活性が高くなる観点から、アルゴン、酸素、二酸化炭素のうちの少なくとも１種を含むことが好ましく、酸素を含むことがより好ましい。プラズマ処理における高周波電圧の周波数は１ｋＨｚ～１００ｋＨｚの範囲が好ましい。また、以下方法で求められる放電処理強度（Ｅ値）は、１０～２０００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２の範囲で処理することが突起形成の観点から好ましく、より好ましくは４０～５００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２である。放電処理強度（Ｅ値）が低すぎると、突起が十分に形成されない場合があり、放電処理強度（Ｅ値）が高すぎると、熱可塑性樹脂フィルムにダメージを与えてしまう、または、アッシングが進行し、好ましい突起が形成されない場合がある。
＜放電処理強度（Ｅ値）の求め方＞
　Ｅ＝Ｖｐ×Ｉｐ／（Ｓ×Ｗｔ）
Ｅ：Ｅ値（Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２）
Ｖｐ：印加電圧（Ｖ）
Ｉｐ：印加電流（Ａ）
Ｓ：処理速度（ｍ／ｍｉｎ）
Ｗｔ：処理幅（ｍ）
　ＡＦＭで測定されるＲｔｏｐ、Ｒ１ｎｍ、Ｒ２ｎｍ、Ｒ３ｎｍ、Ｒ２０ｎｍをあらわす概念図を図１に示す。図１中、基準面とは、測定表面における基準面からの距離が０となるように定められる高さである（基準面よりも高い場合は正の値、基準面よりも低い場合は負の値となる）。
　一般的に、大気圧グロー放電処理によって熱可塑性樹脂フィルム、とくにＰＥＴやＰＥＮのように非晶部と結晶部を持つフィルムの表面をアッシングする場合、柔らかい非晶部から加工されていく。結晶部と非晶部を細分化させることで、大気圧グロー放電処理することでより微細な突起を形成することができ、また、結晶部を増やしておくことで柔らかい非晶部が深く削れることで突起高さを高くすることが可能となる。
　このため、本発明の熱可塑性樹脂フィルムの前記表面を有する層の固有粘度（ＩＶ）は、０．５５ｄｌ／ｇ以上であることが好ましく、より好ましくは０．７０ｄｌ／ｇ以上である。ＩＶは、分子鎖の長さを反映した数字であり、分子鎖が長い方が、同一分子鎖の中で結晶部と非晶部を明確に形成しやすいため、大気圧グロー放電処理することでより微細な突起を形成することが容易となるため好ましい。また、ＩＶが０．５５ｄｌ／ｇ未満の場合、分子鎖が短いことで結晶化が進行しやすくなるため、延伸工程で破断が頻発し製膜が困難になる場合がある。
　また、フィルムを構成する熱可塑性樹脂中に他の熱可塑性樹脂成分をナノオーダーのサイズで分散させることで、Ｒｔｏｐ（ｎｍ）は大きくなる傾向にある。また、大気圧グロー放電処理の強度や、大気圧グロー放電処理の際に用いるプラズマ励起性気体の活性を上げることも有効な手段である。
　本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムは、単膜構成であっても他の樹脂を積層した２層以上の構成であってもよい。２層構成とする場合、前記表面を有する層をＰ１層、積層する層をＰ２層と称する場合、Ｐ１層の突起を有する表面が最外層になるように配したＰ１層／Ｐ２層構成とすることが好ましい。３層構成とする場合、２種３層構成（Ｐ１層／Ｐ２層／Ｐ１層）でも、更に別の樹脂を積層した異種３層構成（Ｐ１層／Ｐ２層／Ｐ３層）であってもよい。
　Ｐ１層とＰ２層、Ｐ３層等の他の樹脂層を積層する方法としては特に制限されないが、後述する共押出法や、製膜途中のフィルムに他の樹脂層原料を押出機に投入して溶融押出して口金から押出しながらラミネートする方法（溶融ラミネート法）、製膜後のフィルム同士を接着剤層とを介して積層する方法などを用いることができ、中でも前述処理による突起形成と積層を同時に行える共押出法が好ましく用いられる。
　本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムは、後述する測定条件における前記突起を有する表面と金属との摩擦係数（μｋ）が、０．２０以上０．５５以下であることが好ましい。より好ましくは０．２０以上０．４０以下、最も好ましくは０．２０以上０．３７以下である。０．５５を超える場合、易滑性が十分でなく、本発明のフィルムを製膜・加工することができない。０．２０を下回る場合、本発明のフィルムを巻き取る際に巻きズレが生じる場合がある。
　本発明の熱可塑性樹脂フィルムは、ドライフィルムレジスト支持体用フィルムなどの高い光線透過性（透明性）が求められる用途で用いる場合、フィルムのヘイズが０．６０％以下となることが好ましい。フィルムのヘイズが０．６０％を超える場合、フィルムを使用するに際して透過光が散乱されてしまい、例えばドライフィルムレジスト支持体用途では、レジスト配線に欠点が発生する。より好ましくは０．５０％以下、更に好ましくは０．４５％以下である。
　本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムは、本発明の特性を損なわない範囲で、有機粒子または無機粒子、あるいはその両方を含有しても構わないが、本発明の特性を最大限得るためには、実質的に粒子を含有しないことが好ましい。実質的に粒子を含有しないとは、熱可塑性樹脂フィルムに対する粒子の含有量が５００ｐｐｍ以下、さらに好ましくは５０ｐｐｍ以下、最も好ましくは１０ｐｐｍ以下である。
　また、本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムは、本発明の特性を損なわない範囲で、帯電防止を目的にＡＳ剤（帯電防止剤）を添加したり、使用用途に応じた光学特性を付与する目的で染料、色素や有機および無機の波長変換材料を添加したりしてもよい。
　次に、本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムの製造方法について、二軸配向ポリエステル樹脂フィルムを例に挙げて説明するが、本発明は、かかる例によって得られる物のみに限定して解釈されるものではない。
　本発明に用いられるポリエステル樹脂を得る方法としては、常法による重合方法が採用できる。例えば、テレフタル酸等のジカルボン酸構成成分またはそのエステル形成性誘導体と、エチレングリコール等のジオール構成成分またはそのエステル形成性誘導体とを公知の方法でエステル交換反応あるいはエステル化反応させた後、溶融重合反応を行うことによって得ることができる。また、必要に応じ、溶融重合反応で得られたポリエステル樹脂を、ポリエステル樹脂の融点温度以下にて、固相重合反応を行っても良い。
　本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムは、従来公知の製造方法で得ることが出来るが、延伸、熱処理工程を以下の条件で製造することにより、突起形成を制御し上述の通り好ましい物性を持つ表面とすることができる。
　本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムは、必要に応じて乾燥した原料を押出機内で加熱溶融し、口金から冷却したキャストドラム上に押し出してシート状に加工する方法（溶融キャスト法）を使用することができる。その他の方法として、原料を溶媒に溶解させ、その溶液を口金からキャストドラム、エンドレスベルト等の支持体上に押し出して膜状とし、次いでかかる膜層から溶媒を乾燥除去させてシート状に加工する方法（溶液キャスト法）等も使用することができる。
　２層以上の積層ポリエステル樹脂フィルムを溶融キャスト法により製造する場合、積層ポリエステルフィルムを構成する層毎に押出機を用い、各層の原料を溶融せしめ、これらを押出装置と口金の間に設けられた合流装置にて溶融状態で積層したのち口金に導き、口金からキャストドラム上に押し出してシート状に加工する方法（共押出法）が好適に用いられる。該積層シートは、表面温度２０℃以上６０℃以下に冷却されたドラム上で静電気により密着冷却固化し、未延伸フィルムを作製する。キャストドラムの温度は、より好ましくは２５℃以上６０℃以下、さらに好ましくは３０℃以上５５℃以下である。２０℃以下では後述する大気圧グロー放電処理を施し、二軸延伸した後のフィルム表面の突起形成が十分でない場合がある。６０℃を超えると、キャストドラムにフィルムが貼り付き、未延伸フィルムを得ることが困難になる場合がある。
　次いで、ここで得られた未延伸フィルムに大気圧グロー放電によるプラズマ処理などの表面処理を施す。これらの表面処理は未延伸フィルムを得た直後でも、微延伸を施した後でも、縦および／又は横方向に延伸した後でも良いが、本発明では未延伸フィルムに表面処理することが好ましい。また、表面処理を施す面はキャストドラムに接していた面（ドラム面）でもキャストドラムに接していない面（非ドラム面）のいずれでも良い。
　その後、未延伸フィルムを二軸延伸し、二軸配向せしめる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法又は同時二軸延伸法を用いることができる。最初に長手方向、次に幅方向の延伸を行う逐次二軸延伸法が、延伸破れなく本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムを得るのに有効である。
　（二軸延伸）
　未延伸フィルムを二軸延伸する場合の延伸条件に関しては特に制限されるものでは無いが、本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムがポリエステル樹脂を主成分とする場合、長手方向の延伸としては、未延伸フィルムを７０℃以上に加熱されたロール群に導き、長手方向（縦方向、すなわちシートの進行方向）に延伸し、２０～５０℃の温度のロール群で冷却することが好ましい。長手方向の延伸における加熱ロール温度の下限についてはシートの延伸性を損なわない限り特に制限はないが、使用するポリエステル樹脂のガラス転移温度＋５℃が好ましい。また、長手方向の延伸倍率の好ましい範囲は２．５倍～５倍である。より好ましい範囲としては３．０倍～３．５倍である。長手方向の延伸倍率が２．５倍以下であると、配向結晶化が進行せずフィルム強度が著しく低下する。一方で、延伸倍率が４．５倍を超える場合、延伸に伴うポリエステル樹脂の配向結晶化が進行することで脆くなると共に製膜時の破れが発生する場合がある。
続いて、長手方向に直角な方向（幅方向）の延伸に関しては、フィルムの両端をクリップで把持しながらテンターに導き、７０～１６０℃の温度に加熱された雰囲気中にて、長手方向に直角な方向（幅方向）への３～５倍の延伸、およびその後、延伸されたフィルムを熱処理し、フィルム内部の分子配向構造の安定化を行うことが好ましい。熱処理時にフィルムの受けた熱履歴温度に関しては、後述する示差走査熱量計（ＤＳＣ）にて測定される融点温度の直下に現れる微小吸熱ピーク（以下、Ｔｍｅｔａと称することがある。）温度にて確認することができるが、テンター装置設定温度としては例えばポリエチレンテレフタレート（融点２５５℃）が主成分である場合には、一般にテンター内の最高温度が２００℃以上２５０℃以下であるように設定することが好ましく、他の熱可塑性樹脂を主成分とする際は、当該熱可塑性樹脂の融点－５５℃以下融点－５℃以下に設定することが好ましい。ポリエチレンテレフタレートが主成分である場合においては、熱処理温度が２００℃を下回る場合、他の熱可塑性樹脂を主成分とする場合においては、当該熱可塑性樹脂の融点－５５℃を下回る場合、前記、大気圧グロー放電処理により形成された突起が十分に成長できず結果として前述の好ましい範囲の突起を形成することが困難になる場合がある。一方、ポリエチレンテレフタレートが主成分であり、２５０℃を超えて熱処理を施す場合、他の熱可塑性樹脂を主成分とする場合においては、当該熱可塑性樹脂の融点－５℃を超えて熱処理を施す場合、フィルムが融解し破れが多発し生産性が低下する場合がある。ポリエチレンテレフタレートが主成分である場合の熱処理温度のより好ましい範囲としては２２０℃以上２４５℃以下である。
　熱処理時にフィルムの受けた熱履歴温度を表すＴｍｅｔａの範囲としては、ポリエチレンテレフタレートを主成分とする場合、前述の理由から１９０℃以上２４５℃以下であることが好ましい。より好ましい範囲としては２１０℃以上２４０℃以下である。
更に熱処理した後に、フィルムに寸法安定性を付与することを目的として、０％以上６％以下の範囲でリラックス（弛緩）処理を行ってもよい。
延伸倍率は、長手方向と幅方向それぞれ３～５倍とするが、その面積倍率（縦延伸倍率×横延伸倍率）は９～２０倍であることが好ましく、９～１５倍であることがより好ましい。面積倍率が９倍未満であると、得られる二軸延伸フィルムの耐久性が不十分となり、面積倍率が２０倍を超えると延伸時に破れを生じ易くなる傾向がある。
　本発明の突起を形成させるためには、テンター内での延伸時に長手方向の力が掛からないテンターの温度条件、延伸条件を選択することが重要である。このテンター内での延伸時にかかる長手方向の力は、一般にボーイングを発生させる因子の一つであり、テンター内における延伸ゾーンでのフィルムのポアソン変形力（長手方向に収縮する力）と、延伸ゾーンから、より高温の熱処理ゾーンへと進む際に生じる各温度でのフィルム剛性の差とによって支配されている。この長手方向の力が大きいほどフィルムが長手方向延伸ゾーン側に引き込まれる。この長手方向の力を低減させることで、延伸時の応力を均一にでき、前記範囲の突起を形成することができる。具体的な処方としては「フィルムの幅方向高配向度化」、「テンター内温度の段階昇温」、「熱処理ゾーンでの追延伸」の３つの条件を採用することが有効である。この３つの条件は独立して適用しても、組み合わせて適用しても構わない。
　（フィルムの幅方向高配向度化）
　フィルムの幅方向高配向度化は、長手方向の機械延伸倍率よりも幅方向の機械延伸倍率を大きくすることで実施される。具体的には長手方向の機械延伸倍率をＸ（％）、幅方向の機械倍倍率をＹ（％）とした時、Ｙ／Ｘにて算出される値が１．００以上であることが好ましい、より好ましくは１．０５以上、更に好ましくは１．１０以上、最も好ましくは１．２０以上である。Ｙ／Ｘの値が１．００を下回る場合、前記長手方向の応力を低下させる効果が得られず、突起を好ましい範囲に制御できない場合がある。
　（テンター内温度の段階昇温）
　テンター内温度を８０℃から段々と昇温していき、延伸ゾーンの最高温度を上げること、熱処理ゾーンの最高温度を下げること、熱処理ゾーンの最高温度をそのままに開始温度を下げることなどで、延伸ゾーンと熱処理ゾーンの温度差を低減することで達成できる。具体的には延伸ゾーンと熱処理ゾーンとの温度差が１６０℃以下であることが好ましい。さらに好ましくは１００℃以下、最も好ましくは４０℃以下である。温度差が１６０℃を超える場合、フィルムの延伸温度が低く、幅方向に均一な延伸ができず、厚みムラの発生や平面性が悪化する場合、もしくは熱処理ゾーンの温度が高くフィルムが融解し破れが多発、生産性が低下する場合がある。
　（熱処理ゾーンでの追延伸）
　テンター内、延伸ゾーンの後ろに配する熱処理ゾーンにて再度幅方向に延伸を行うことで達成できる。具体的には熱処理ゾーンにて幅方向に１．０５倍以上１．５０倍以下で機械延伸倍率にて延伸することが好ましい。幅方向の延伸倍率が１．０５倍より小さい場合、前記長手方向の力を抑制する効果が得られない場合がある。一方、幅方向の延伸倍率が１．５０倍より大きい場合、フィルムの結晶化度が上がることで脆くなり、延伸の均一性が崩れたり破れが多発したりすることで生産性が低下する場合がある。
　上記のようにして得られる本発明のフィルムは、良好な平滑性と易滑性を有し、さらに製膜・加工工程おける傷つき耐性にも優れる。その特性を活かして、例えば、離型フィルム（特に偏光板の離型フィルムや積層セラミックコンデンサーの製造に用いる離型フィルム）や、磁気記録媒体の支持体として好適に用いられる。
　従来の熱可塑性樹脂フィルムを偏光板の離型フィルムとして用いる場合は、以下のような課題を有していた。偏光板は、異物混入や欠陥検査としてクロスニコル法（２枚の偏光板を互いに偏光面を直交させ、その間にフィルムの長手方向、幅方向をそれぞれ直交する偏光板の偏光面に合わせて挟まれた状態での透過光を観察する方法）による人間の目視検査が行われている。かかる検査において、偏光板の離型フィルムとして、離型性を向上させるために粒子を含有した従来の熱可塑性樹脂フィルムを用いると、粒子に起因する光漏れが生じやすく、正確な目視検査が困難となり、異物混入や欠点である輝点を見落とすという問題が生じる。本発明の熱可塑性樹脂フィルムは、優れた離型性を有しつつ、かかる問題の発生を抑制することが可能であるため、偏光板の離型フィルムとして好適に用いることができる。
　また、従来の熱可塑性樹脂フィルムを、積層セラミックコンデンサーの製造に用いる離型フィルムとして用いる場合は、以下のような課題を有していた。近年、積層セラミックコンデンサーは小型・高容量化が進んでいる。そのため、積層セラミックコンデンサーの製造に用いる離型フィルムの表面に粗大な突起があると、グリーンシート製品を巻き上げた際にグリーンシートに転写し、キズやへこみを生じたりすると大きな問題となる。一方で、従来の熱可塑性樹脂フィルムでは、粗大な突起の発生を抑制しつつ、良好な易滑性を、さらに製膜・加工工程おける傷つき耐性を付与することはできていなかった。本発明の熱可塑性樹脂フィルムは、良好な平滑性と易滑性を有し、さらに製膜・加工工程おける傷つき耐性にも優れるため、積層セラミックコンデンサーの製造に用いる離型フィルムとして好適に用いることができる。
　また、従来の熱可塑性樹脂フィルムを、磁気記録媒体の支持体として使用される場合は、以下のような課題を有していた。近年、磁気記録媒体はさらなる高密度記録化が要求されている。更なる高密度記録を達成するためには、磁性層の薄膜化や微粒子磁性体を使用し磁性層表面の平滑性をさらに向上させることが有効である。特に、近年の強磁性六方晶フェライト粉末を用いてなる塗布型デジタル記録方式の磁気記録媒体用支持体においては、磁性層や非磁性層、バックコート層、さらには支持体自体の薄膜化に伴い平滑面のみならず走行面の粗面化が制約されている。製造過程で磁気記録媒体としてロール状態で保存する場合、走行面に形成されている突起が磁性面に転写し、平滑な磁性層表面に窪みを形成させ磁性層表面の平滑性が悪化し電磁変換特性が低下するといった問題がある。磁性層表面の平滑性を高めるために支持体の走行面側に含有する粒子の小径化や低濃度化を図るだけでは、添加した粒子が厚み方向に重なることで表面に粒子が突き上げられる現象が起こるため、依然として粗大突起が改善できない。一方で、フィルムの平滑性を高めると、フィルムと工程ロールとの易滑性は低下する傾向があるため、加工工程においてフィルムの搬送性が低下する。その結果、加工性が低下するという課題が発生するため、フィルムの加工性と易滑性をともに向上させることは困難であった。本発明の熱可塑性樹脂フィルムは、優れた離型性を有しつつ、かかる問題の発生を抑制することが可能であるため、磁気記録媒体の支持体、特に塗布型デジタル記録方式の支持体として好適に用いることができる。
　［特性の評価方法］
　Ａ．ＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ　Ｆｏｒｃｅ　Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）による評価
（ｉ）最大突起高さＲｔｏｐ（ｎｍ）
以下の測定方法によって得られるフィルム表面の画像を、付属の解析ソフト（ＮａｎｏＳｃｏｐｅ　Ａｎａｌｙｓｉｓ　Ｖｅｒｓｉｏｎ　１．４０）を用い解析する。得られるフィルム表面のＨｅｉｇｈｔ　Ｓｅｎｓｏｒ画像を下記するＦｌａｔｔｅｎ処理のみを施した後、Ｐａｒｔｉｃｌｅ　Ａｎａｌｙｓｉｓ解析モードを下記の通り設定することで、フィルム表面の基準面が自動的に決定される。該基準面から、突起高さの閾値（Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ　Ｈｅｉｇｈｔ）を１ｎｍ、２ｎｍ・・・と１ｎｍごとに定め、各閾値で得られる突起個数をカウントし、カウントされる突起個数が初めて０になる閾値から１ｎｍ低い閾値をその測定画像のＲｔｏｐ（ｎｍ）とする。
前記解析を各サンプルにおける２０か所の測定画像全てにおいて行い、その平均値をサンプルの最大突起高さＲｔｏｐ（ｎｍ）とする。
　（ｉｉ）高さ１ｎｍ以上２ｎｍ未満の突起の個数Ａ（個／ｍｍ２）
　前記（ｉ）項と同様にして、付属の解析ソフトにて算出される、突起高さの閾値（Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ　Ｈｅｉｇｈｔ）が１ｎｍ（Ｒ１ｎｍ）での１μｍ２当たりの突起密度の平均値（Ｄｅｎｓｉｔｙ行、Ｍｅａｎ列の値）を１ｍｍ２当たりに換算した数値をＮ１ｎｍ（個／ｍｍ２）、２ｎｍ（Ｒ２ｎｍ）での１μｍ２当たりの突起密度の平均値（Ｄｅｎｓｉｔｙ行、Ｍｅａｎ列の値）を１ｍｍ２当たりに換算した数値をＮ２ｎｍ（個／ｍｍ２）とした時、次の式で求められる値をその測定画像の高さ１ｎｍ以上２ｎｍ未満の突起の個数Ａ（個／ｍｍ２）とする。
Ａ（個／ｍｍ２）＝Ｎ１ｎｍ（個／ｍｍ２）－Ｎ２ｎｍ（個／ｍｍ２）
前記解析を各サンプルにおける２０か所の測定画像全てにおいて行い、その平均値をサンプルの高さ１ｎｍ以上２ｎｍ未満の突起の個数Ａ（個／ｍｍ２）とする。
　（ｉｉｉ）高さ３ｎｍ以上２０ｎｍ未満の突起の個数Ｂ（個／ｍｍ２）
前記（ｉ）項と同様にして、付属の解析ソフトにて算出される、突起高さの閾値（Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ　Ｈｅｉｇｈｔ）が３ｎｍ（Ｒ３ｎｍ）での１μｍ２当たりの突起密度の平均値（Ｄｅｎｓｉｔｙ行、Ｍｅａｎ列の値）を１ｍｍ２当たりに換算した数値をＮ３ｎｍ（個／ｍｍ２）、２０ｎｍ（Ｒ２０ｎｍ）での１μｍ２当たりの突起密度の平均値（Ｄｅｎｓｉｔｙ行、Ｍｅａｎ列の値）を１ｍｍ２当たりに換算した数値をＮ２０ｎｍ（個／ｍｍ２）とした時、次の式で求められる値をその測定画像の高さ３ｎｍ以上２０ｎｍ未満の突起の個数Ｂ（個／ｍｍ２）とする。
Ｂ（個／ｍｍ２）＝Ｎ３ｎｍ（個／ｍｍ２）－Ｎ２０ｎｍ（個／ｍｍ２）
前記解析を各サンプルにおける２０か所の測定画像全てにおいて行い、その平均値をサンプルの高さ３ｎｍ以上２０ｎｍ未満の突起の個数Ｂ（個／ｍｍ２）とする。
　（ｉｖ）突起個数比率Ｂ／Ａ
　各測定画像に関して、前記（ｉｉｉ）項で求められたＢ（個／ｍｍ２）を、（ｉｉ）項にて求められたＡ（個／ｍｍ２）により除した値をその画像の突起個数比率Ｂ／Ａとし、各サンプルの２０か所の測定画像全てのＢ／Ａの平均値をサンプル持つ突起個数比率Ｂ／Ａとする。
　（ｖ）高さ２ｎｍ以上３ｎｍ未満の突起の個数Ｃ（個／ｍｍ２）
前記（ｉ）項と同様にして、付属の解析ソフトにて算出される、突起高さの閾値（Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ　Ｈｅｉｇｈｔ）が２ｎｍ（Ｒ２ｎｍ）での１μｍ２当たりの突起密度の平均値（Ｄｅｎｓｉｔｙ行、Ｍｅａｎ列の値）を１ｍｍ２当たりに換算した数値をＮ２ｎｍ（個／ｍｍ２）、３ｎｍ（Ｒ３ｎｍ）での１μｍ２当たりの突起密度の平均値（Ｄｅｎｓｉｔｙ行、Ｍｅａｎ列の値）を１ｍｍ２当たりに換算した数値をＮ３ｎｍ（個／ｍｍ２）とした時、次の式で求められる値をその測定画像の高さ２ｎｍ以上３ｎｍ未満の突起の個数Ｂ（個／ｍｍ２）とする。
Ｃ（個／ｍｍ２）＝Ｎ２ｎｍ（個／ｍｍ２）－Ｎ３ｎｍ（個／ｍｍ２）
　（ｖｉ）突起個数比率Ｃ／Ａ
　各測定画像に関して、前項（ｖ）項で求められたＣ（個／ｍｍ２）を、（ｉｉ）項にて求められたＡ（個／ｍｍ２）により除した値をその画像の突起個数比率Ｃ／Ａとし、各サンプルの２０か所の測定画像全てのＣ／Ａの平均値をサンプル持つ突起個数比率Ｃ／Ａとする。
　（ｖｉｉ）高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起の個数Ｄ（個／ｍｍ２）
前記（ｉ）項と同様にして、付属の解析ソフトにて算出される、突起高さの閾値（Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ　Ｈｅｉｇｈｔ）が１ｎｍ（Ｒ１ｎｍ）での１μｍ２当たりの突起密度の平均値（Ｄｅｎｓｉｔｙ行、Ｍｅａｎ列の値）を１ｍｍ２当たりに換算した数値をＮ１ｎｍ（個／ｍｍ２）、１０ｎｍ（Ｒ１０ｎｍ）での１μｍ２当たりの突起密度の平均値（Ｄｅｎｓｉｔｙ行、Ｍｅａｎ列の値）を１ｍｍ２当たりに換算した数値をＮ１０ｎｍ（個／ｍｍ２）とした時、次の式で求められる値をその測定画像の高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起の個数Ｄ（個／ｍｍ２）とする。
Ｄ（個／ｍｍ２）＝Ｎ１ｎｍ（個／ｍｍ２）－Ｎ１０ｎｍ（個／ｍｍ２）
　（ｖｉｉｉ）高さ１ｎｍ地点での突起の円相当径の平均値Ｄ１ｎｍ
　前項（ｉ）項と同様にして、付属の解析ソフトにて算出される、突起高さの閾値（Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ　Ｈｅｉｇｈｔ）が１ｎｍでの突起の円相当径の平均値（Ｄｉａｍｅｔｅｒ行、Ｍｅａｎ列の値）をＤ１ｎｍ（ｎｍ）とし、各サンプルの２０か所の測定画像全てのＤ１ｎｍの平均値をサンプル持つ突起個数比率Ｄ１ｎｍ（ｎｍ）とする。
　（ｉｘ）算術平均粗さＲａ
　前項（ｉ）項と同様にして、以下の測定方法により得られたフィルム表面のＨｅｉｇｈｔ　Ｓｅｎｓｏｒ画像を下記するＦｌａｔｔｅｎ処理を施した後、Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ解析モードにて表示されるＩｍａｇｅ　Ｒａの値を測定画像の算術平均粗さＲａ（ｎｍ）とし、各サンプルの２０か所の測定画像全てのＲａの平均値をサンプル持つ算術平均粗さＲａ（ｎｍ）とする。
　［ＡＦＭ測定方法］
・装置：Ｂｒｕｋｅｒ社製　原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）
Ｄｉｍｅｎｔｉｏｎ　Ｉｃｏｎ　ｗｉｔｈ　ＳｃａｎＡｓｙｓｔ
・カンチレバー：窒化ケイ素製プローブ　ＳｃａｎＡｓｙｓｔ　Ａｉｒ
・走査モード：ＳｃａｎＡｓｙｓｔ
・走査速度：０．９７７Ｈｚ
・走査方向：後述する方法にて作製した測定サンプルの幅方向に走査を行う
・測定視野：１μｍ四方
・サンプルライン：５１２
・Ｐｅａｋ　Ｆｏｒｃｅ　ＳｅｔＰｏｉｎｔ：０．０１９５Ｖ～０．０２０５Ｖ
・Ｆｅｅｄｂａｃｋ　Ｇａｉｎ：１０～２０
・ＬＰ　Ｄｅｆｌｅｃｔｉｏｎ　ＢＷ：４０　ｋＨｚ
・サンプル調整：２３℃、６５％ＲＨ、２４時間静置
・ＡＦＭ測定環境：２３℃、６５％ＲＨ
　・測定サンプル作成方法：ＡＦＭ試料ディスク（直径１５ｍｍ）の片面に両面テープを貼りつけ、ＡＦＭ試料ディスクと、約１５ｍｍ×１３ｍｍ（長手方向×幅方向）に切り出した本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムの前記表面（測定面）とは逆側の面とを張り合わせ、測定サンプルとした。
　・サンプル測定回数：各サンプル同士が少なくとも５μｍ以上離れるように場所を変え、２０回測定を行う。
　・測定値：測定した２０か所の画像に関して前述の解析を行い、各数値を測定しその平均値をサンプルの持つ各数値として扱う。
［Ｆｌａｔｔｅｎ処理］
・Ｆｌａｔｔｅｎ　Ｏｒｄｅｒ：３ｒｄ
　・Ｆｌａｔｔｅｎ　Ｚ　Ｔｈｒｅｓｈｈｏｌｄｉｎｇ　Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ：Ｎｏ　ｔｈｅｒｅｓｈｏｌｄｉｎｇ
・Ｆｉｎｄ　Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ　ｆｏｒ：ｔｈｅ　ｗｈｏｌｅ　ｉｍａｇｅ
・Ｆｌａｔｔｅｎ　Ｚ　Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ　％：０．００　％
・Ｍａｒｋ　Ｅｘｃｌｕｄｅｄ　Ｄａｔａ：Ｙｅｓ
［Ｐａｒｔｉｃｌｅ　Ａｎａｌｙｓｉｓモード設定］
（Ｄｅｔｅｃｔタブ）
・Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ　Ｈｅｉｇｈｔ：各値に応じて入力
・Ｆｅａｔｕｒｅ　Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ：Ａｂｏｖｅ
・Ｘ　Ａｘｉｓ：Ａｂｓｏｌｕｔｅ
・Ｎｕｍｂｅｒ　Ｈｉｓｔｏｇｒａｍ　Ｂｉｎｓ：５１２
・Ｈｉｓｔｏｇｒａｍ　Ｆｉｌｔｅｒ　Ｃｕｔｏｆｆ：０．００　ｎｍ
・Ｍｉｎ　Ｐｅａｋ　ｔｏ　Ｐｅａｋ：１．００　ｎｍ
・Ｌｅｆｔ　Ｐｅａｋ　Ｃｕｔｏｆｆ：０．０００００％
・Ｒｉｇｈｔ　Ｐｅａｋ　Ｃｕｔｏｆｆ：０．０００００％
（Ｍｏｄｉｆｙタブ）
・Ｂｅｕｇｈｂｉｒｈｏｏｄ　Ｓｉｚｅ：３
・Ｎｕｍｂｅｒ　Ｐｉｘｅｌｓ　Ｏｆｆ：１
・一切のＤｉｌａｔｅ／Ｅｒｏｄｅ操作を行わない。
（Ｓｅｌｅｃｔタブ）
・Ｉｍａｇｅ　Ｃｕｒｓｏｒ　Ｍｏｄｅ：Ｐａｒｔｉｃｌｅ　Ｓｅｌｅｃｔ
・Ｂｏｕｎｄ　Ｐａｒｔｉｃｌｅｓ：Ｙｅｓ
・Ｎｏｎ－Ｒｅｐｒｅｓｅｎｔａｔｉｖｅ　Ｐａｒｔｉｃｌｅｓ：Ｎｏ
・Ｈｅｉｇｈｔ　Ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ：Ｒｅｌａｔｉｖｅ　Ｔｏ　Ｍａｘ　Ｐｅａｋ
・Ｎｕｍｂｅｒ　Ｈｉｓｔｏｇｒａｍ　Ｂｉｎｓ：５０
・前記数値を求めるに際し、解析画像中の特定のピーク、エリアを選択しない。
・Ｄｉａｍｅｔｅｒ、Ｈｅｉｇｈｔ、Ａｒｅａ全てのヒストグラムで特定の場所を選択しない。
　Ｂ．金属摩擦係数（μｋ）
フィルム幅を１２．６５ｍｍのテープ状にスリットしたものをテープ走行試験機ＳＦＴ－７００型（（株）横浜システム研究所製）を使用し、２３℃６５％ＲＨ雰囲気下にて、フィルムに荷重１００ｇをかけた状態で走行させ、走行後の摩擦係数（μｋ）を下記の式より求めた。なお、本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムにおいて前記表面がガイド（金属ロール）に接するようにセットし、５回の測定の平均値から求めた。
　μｋ＝（２／π）×ｌｎ（Ｔ２／Ｔ１）
Ｔ１：張力荷重（１００ｇｆ）
Ｔ２：走行中の張力（単位：ｇｆ）
ガイド径：６ｍｍΦ
ガイド材質：ＳＵＳ２７（表面粗度０．２Ｓ）
巻き付け角：９０°
走行距離：１０ｃｍ
走行速度：３．３ｃｍ／秒。
　Ｃ．傷つき耐性
　前記Ｂ項でのテープ走行試験機における１０ｃｍのテープ走行を同一箇所に対して５回実施し、走行試験前後の金属ロールとの接触面側のキズを目視観察し、走行方向に１ｃｍ以上の長さを持つキズの増加本数を数える。各サンプルに関して任意の５か所に対して試験を行いその平均値をそのサンプルの傷つき耐性とし、下記の通りで評価を行った。
　キズの増加本数が０～１本。：Ａ
　キズの増加本数が２～５本。：Ｂ
キズの増加本数が５～１０本。：Ｃ
キズの増加本数が１１本以上。：Ｄ
傷つき耐性はＡ～Ｃが良好で有り、その中で最もＡが優れている。
　Ｄ．厚み（μｍ）
フィルム厚みは、ダイヤルゲージを用い、ＪＩＳ Ｋ７１３０（１９９２年）Ａ－２法に準じて、フィルムを１０枚重ねた状態で任意の５ヶ所について厚さを測定した。その平均値を１０で除した値をサンプルのフィルム厚みとした。
　フィルムが積層フィルムである場合、下記の方法にて、各層の厚みを求めた。フィルム断面を、フィルム幅方向に平行な方向にミクロトームで切り出す。該断面を走査型電子顕微鏡で５０００倍の倍率で観察し、積層各層の厚み比率を求める。求めた積層比率と上記したフィルム厚みから、各層の厚みを算出する。
　Ｅ．フィルムの固有粘度ＩＶ（ｄｌ／ｇ）
　オルトクロロフェノール１００ｍｌに本発明のフィルムを溶解させ（溶液濃度Ｃ＝１．２ｇ／ｄｌ）、その溶液の２５℃での粘度を、オストワルド粘度計を用いて測定する。また、同様に溶媒の粘度を測定する。得られた溶液粘度、溶媒粘度を用いて、下記（ａ）式により、［η］（ｄｌ／ｇ）を算出し、得られた値でもって固有粘度（ＩＶ）とする。
（ａ）ηｓｐ／Ｃ＝［η］＋Ｋ［η］２・Ｃ
（ここで、ηｓｐ＝（溶液粘度（ｄｌ／ｇ）／溶媒粘度（ｄｌ／ｇ））―１、Ｋはハギンス定数（０．３４３とする）である）。
　本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムが積層構成である場合、前記表面を持つ層（Ｐ１層）のＩＶはＰ１層のみを常法により削り出し、前述の方法で測定を行う。
　Ｆ．末端カルボキシル基量（表中ではＣＯＯＨ量と記載する。）
　末端カルボキシル基量については、Ｍａｕｌｉｃｅの方法に準じて、以下の方法にて測定した。（文献Ｍ．Ｊ． Ｍａｕｌｉｃｅ， Ｆ． Ｈｕｉｚｉｎｇａ，  Ａｎａｌ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ，２２  ３６３（１９６０））
測定試料（ポリエステル樹脂（原料）または太陽電池裏面保護用シートのＰ１層のみを分離したもの）２ｇをｏ－クレゾール／クロロホルム（重量比７／３）５０ｍＬに温度８０℃にて溶解し、０．０５ＮのＫＯＨ／メタノール溶液によって滴定し、末端カルボキシル基濃度を測定し、当量／ポリエステル樹脂１ｔｏｎの値で示した。なお、滴定時の指示薬はフェノールレッドを用いて、黄緑色から淡紅色に変化したところを滴定の終点とした。なお、測定試料を溶解させた溶液に無機粒子などの不溶物がある場合は、溶液を濾過して不溶物の重量測定を行い、不溶物の重量を測定試料重量から差し引いた値を測定試料重量とする補正を実施した。
　Ｇ．すべり性（易滑性）
本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムを製膜し連続した５０００ｍのロール巻取りを１０回行い、得られた１０本のロールの様子からフィルム巻取り性を下記の通り評価した。
　１０回のロール採取をトラブルなく実施できる。：Ａ
　１０回中１～２回でロールに折れ、シワが見られる。：Ｂ
　１０回中３～５回でロールに折れ、シワが見られる。：Ｃ
　１０回中５回以上でロールに折れ、シワが見られる。：Ｄ
すべり性（易滑性）はＡ～Ｃが良好で有り、その中で最もＡが優れている。
　Ｈ．製膜安定性
本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムを連続で２００００ｍ採取する間のフィルム破れの有無から、製膜安定性を次のように評価した。
２００００ｍの製膜中、フィルム破れが全くない。：Ａ
２００００ｍの製膜中、フィルム破れ１～３回発生した。：Ｂ
２００００ｍの製膜中、フィルム破れ４～１０回発生した。：Ｃ
２００００ｍの製膜中、フィルム破れが１０回以上発生した。：Ｄ
製膜安定性はＡ～Ｃが良好で有り、その中で最もＡが優れている。
　Ｉ．融点（Ｔｍ）、微小吸熱ピーク（Ｔｍｅｔａ）
ＪＩＳ Ｋ７１２１－１９８７に従って示差走査熱量計として、セイコーインスツルメンツ社製ＤＳＣ（ＥＸＳＴＡＲ　ＤＳＣ６２２０）を用いて、試料５ｍｇをアルミニウム製受皿上、室温（２５℃）から３００℃まで、昇温速度２０℃／分で昇温した。そのとき、観測される融解の吸熱ピークのピーク温度を融点（Ｔｍ）、Ｔｍ直下の微小吸熱ピークをＴｍｅｔａとした。
　Ｊ．ヘイズ
一辺が５ｃｍの正方形状のフィルムサンプルを３点（３個）準備する。次にサンプルを２３℃、６０％ＲＨにおいて、４０時間放置する。それぞれのサンプルを日本電色工業（株）製濁度計「ＮＤＨ５０００」を用いて、ＪＩＳ「透明材料のヘイズの求め方」（Ｋ７１３６　２０００年版）に準ずる方式で実施する。それぞれの３点（３個）のヘイズの値を平均して、フィルムのヘイズの値とした。
　Ｋ．フォトレジスト特性
　以下ａ．からｃ．の方法により評価を行う。
ａ．片面鏡面研磨した６インチＳｉウエハー上に、東京応化（株）製のネガレジスト“ＰＭＥＲＮ－ＨＣ６００”を塗布し、大型スピナーで回転させることによって厚み７μｍのレジスト層を作製する。次いで、窒素循環の通風オーブンを用いて７０℃の温度条件で約２０分間の前熱処理を行う。
ｂ．本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムの前記表面をレジスト層と接触するように重ね、ゴム製のローラーを用いて、レジスト層上に二軸配向熱可塑性樹脂フィルムをラミネートし、その上に、クロム金属でパターニングされたレチクルを配置し、そのレクチル上からＩ線（波長３６５ｎｍにピークをもつ紫外線）ステッパーを用いて露光を行う。
ｃ．レジスト層からポリエステルフィルムを剥離した後、現像液Ｎ－Ａ５が入った容器にレジスト層を入れ約１分間の現像を行う。その後、現像液から取り出し、水で約１分間の洗浄を行う。現像後に作成された線状レジストパターンのＬ／Ｓ（μｍ）（Ｌｉｎｅ　ａｎｄ　Ｓｐａｃｅ）＝８／８μｍの３０本の状態を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて約８００～３０００倍率で観察し、線状パターンに幅２．４μｍ以上の欠けのある本数で以下のように評価した。
　欠けのある本数が５本以下：Ａ
　欠けのある本数が６から１０本：Ｂ
　欠けのある本数が１１から１５本：Ｃ
　欠けのある本数が１６本以上：Ｄ
フォトレジスト特性はＡ～Ｃが良好であり、その中で最もＡが優れている。
　Ｌ．ブロッキング耐性
　本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムを１００００ｍ巻き取ったロールを温度３５℃にて１週間放置した後、フィルムを巻出した際のフィルム状態から、ブロッキング耐性を次のように評価した。
　フィルムを容易に巻出せ、シワや表面欠点も確認できない。：Ａ
　フィルムを容易に巻出せ表面欠点もないが、シワが確認できる。：Ｂ
　フィルムを容易に巻出せるが、表面欠点または表面欠点とシワが確認できる。：Ｃ
　フィルムを巻出すのが困難、またはシワや表面欠点が多く確認できる。：Ｄ
ブロッキング耐性はＡ～Ｃが良好であり、その中で最もＡが優れている。
　Ｍ．グリーンシート特性評価（実施例１７、１８、比較例８、９のみ実施）
　以下ａ．からｂ．の方法によりグリーンシート特性評価を行う。
ａ．離型層の塗布
　本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムの前記表面に、架橋プライマー層（東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製商品名ＢＹ２４－８４６）を固形分１質量％に調整した塗布液を塗布／乾燥し、乾燥後の塗布厚みが０．１μｍとなるようにグラビアコーターで塗布し、１００℃で２０秒乾燥硬化した。その後１時間以内に付加反応型シリコーン樹脂（東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製商品名ＬＴＣ７５０Ａ）１００質量部、白金触媒（東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製商品名ＳＲＸ２１２）２質量部を固形分５質量％に調整した塗布液を、乾燥後の塗布厚みが０．１μｍとなるようにグラビアコートで塗布し、１２０℃で３０秒乾燥硬化した後に巻き取り、離型フィルムを得た。
ｂ．グリーンシートの塗布状態の評価（セラミックススラリーの塗布性）
　チタン酸バリウム（富士チタン工業（株）製商品名ＨＰＢＴ－１）１００質量部、ポリビニルブチラール（積水化学（株）製商品名ＢＬ－１）１０質量部、フタル酸ジブチル５質量部とトルエン－エタノール（質量比３０：３０）６０質量部に、数平均粒径２ｍｍのガラスビーズを加え、ジェットミルにて２０時間混合・分散させた後、濾過してペースト状のセラミックスラリーを調整した。得られたセラミックスラリーを、離型フィルムの前項ａにて離型層を設けた面の上に乾燥後の厚みが２μｍとなるように、ダイコーターにて塗布し乾燥させ、巻き取り、グリーンシートを得た。 上記で巻き取られたグリーンシートを、繰り出し、離型フィルムから剥がさない状態にて目視で観察し、ピンホールの有無や、シート表面および端部の塗布状態を確認する。なお観察する面積は幅３００ｍｍ、長さ５００ｍｍである。離型フィルムの上に成型されたグリーンシートについて、背面から１０００ルクスのバックライトユニットで照らしながら、塗布抜けによるピンホールあるいは、離型フィルム背面の表面転写による凹み状態を観察する。
ピンホールも凹みも無い。：Ａ
ピンホールは無く、凹みが３個以内認められる。：Ｂ
ピンホールは無く、凹みが５個以内認められる。：Ｃ
ピンホールが一部認められる、または凹みが６個以上認められる。：Ｄ
グリーンシート特性評価としてはＡ～Ｃが良好であり、その中で最もＡが優れている。
　Ｎ．エラーレート評価（実施例１９、２０、比較例１０、１１のみ実施）
　本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムの形状転写欠点評価は、下記の方法にて評価を行った。１ｍ幅にスリットした本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムを、張力２００Ｎで搬送させ、本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムの前記表面側に後述する非磁性層形成用塗布液と磁性層形成用塗布液とを重層塗布、また前記表面とは反対面側に後述するバックコート層形成用塗布液を塗布し、さらに１２．６５ｍｍ（１／２インチ）幅にスリットし、パンケーキを作成する。
　（以下、「部」とあるのは「質量部」を意味する。）
　磁性層形成用塗布液
　　バリウムフェライト磁性粉末　　　　　　　　　　　　　１００部
（板径：２０．５ｎｍ、板厚：７．６ｎｍ、
板状比：２．７、Ｈｃ：１９１ｋＡ／ｍ（≒２４００Ｏｅ）
飽和磁化：４４Ａｍ２／ｋｇ、ＢＥＴ比表面積：６０ｍ２／ｇ）
　　ポリウレタン樹脂　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１２部
　　　　質量平均分子量　１０，０００
　　　　スルホン酸官能基　０．５ｍｅｑ／ｇ
　　α－アルミナ　ＨＩＴ６０（住友化学社製）　　　　　　　８部
　　カーボンブラック　＃５５（旭カーボン社製）
　　　　粒子サイズ０．０１５μｍ　　　　　　　　　　　　０．５部
　　ステアリン酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．５部
　　ブチルステアレート　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２部
　　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　１８０部
　　シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００部
　非磁性層形成用塗布液
　　非磁性粉体　α酸化鉄　　　　　　　　　　　　　　　　１００部
　　　　平均長軸長０．０９μｍ、ＢＥＴ法による比表面積　５０ｍ２／ｇ
　　　　ｐＨ　７
　　　　ＤＢＰ吸油量　２７～３８ｍｌ／１００ｇ
　　　　表面処理層Ａｌ２Ｏ３　８質量％
　　カーボンブラック　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２０部
　　　　“コンダクテックス”（登録商標）ＳＣ－Ｕ（コロンビアンカーボン社製）
　　ポリウレタン樹脂　ＵＲ８２００（東洋紡社製）　　　　　１８部
　　フェニルホスホン酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３部
　　シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　　３００部
　　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　３００部
　　ブチルステアレート　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１部
　　ステアリン酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２部
　上記の塗布液のそれぞれについて、各成分をニ－ダで混練した。１．０ｍｍφのジルコニアビーズを分散部の容積に対し６５％充填する量を入れた横型サンドミルに、塗布液をポンプで通液し、２，０００ｒｐｍで１２０分間（実質的に分散部に滞留した時間）、分散させた。得られた分散液にポリイソシアネ－トを非磁性層の塗料には５．０部、磁性層の塗料には２．５部を加え、さらにメチルエチルケトン３部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性層形成用および磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製した。
　得られた非磁性層形成用塗布液を、本発明の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムの前記表面上に、乾燥後の厚さが０．８μｍになるように塗布乾燥させた。その後、磁性層形成用塗布液を乾燥後の磁性層の厚さが０．０７μｍになるように塗布を行い、磁性層がまだ湿潤状態にあるうちに６，０００Ｇ（６００ｍＴ）の磁力を持つコバルト磁石と６，０００Ｇ（６００ｍＴ）の磁力を持つソレノイドにより配向させ乾燥させた。
続いて、前記表面とは反対面側にカレンダ後の厚みが０．５μｍとなるようにバックコート層形成用塗布液（カーボンブラック　平均粒子サイズ：１７ｎｍ　１００部、炭酸カルシウム平均粒子サイズ：４０ｎｍ　８０部、αアルミナ　平均粒子サイズ：２００ｎｍ　５部をポリウレタン樹脂、ポリイソシアネートに分散）を塗布した。次いでカレンダで温度９０℃、線圧３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）にてカレンダ処理を行った後、６５℃で、７２時間キュアリングした。さらに、スリット品の送り出し、巻き取り装置を持った装置に不織布とカミソリブレードが磁性面に押し当たるように取り付け、テープクリーニング装置で磁性層の表面のクリーニングを行い、磁気テープを得た。
　得られたテープ原反を１２．６５ｍｍ（１／２インチ）幅にスリットし、それをＬＴＯ用のケースに組み込み、磁気記録テープの長さが９６０ｍのデータストレージカートリッジを作成した。このデータストレージを、ＩＢＭ社製ＬＴＯ７ドライブを用いて２３℃５０％ＲＨの環境で記録し（記録波長０．５５μｍ）、次に、カートリッジを５０℃、８０％ＲＨ環境下に７日間保存した。カートリッジを１日常温に保存した後、全長の再生を行い、再生時の信号のエラーレートを測定した。エラーレートはドライブから出力されるエラー情報（エラービット数）から次式（ｂ）にて算出する。
　（ａ）エラーレート＝（エラービット数）／（書き込みビット数）
　エラーレートが１．０×１０－６未満。：Ａ
　エラーレートが１．０×１０－６以上、１．０×１０－５未満。：Ｂ
　エラーレートが１．０×１０－５以上、１．０×１０－４未満。：Ｃ
　Ｄ：エラーレートが１．０×１０－４以上。：Ｄ
形状転写欠点評価としてはＡ～Ｃが良好であり、その中で最もＡが優れている。
以下、本発明について実施例を挙げて説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。
　［ＰＥＴ－１の製造］テレフタル酸およびエチレングリコールから、三酸化アンチモンを触媒として、常法により重合を行い、実質的に粒子を含有しない溶融重合ＰＥＴを得た。得られた溶融重合ＰＥＴのガラス転移温度は８１℃、融点は２５５℃、固有粘度は０．６２であった。その後、常法により固相重合を行い、固相重合ＰＥＴを得た。得られた固相重合ＰＥＴのガラス転移温度は８１℃、融点は２５５℃、固有粘度は０．８１であった。
　［ＰＥＴ－２の製造］前項ＰＥＴ－１と同様に重合を行い、ガラス転移温度は８１℃、融点は２５５℃、固有粘度は０．７２の固層重合ＰＥＴを得た。
　［ＭＢ－Ａの製造］前項ＰＥＴ－１の重合に際し、ＰＥＴに対する添加量が５０％となるように、エチレングリコールに分散させた２次平均粒子径が３ｎｍの微小シリカ粒子（シリカ－１）を添加し、ＭＢ－Ａを得た。得られた溶融重合ＭＢ－Ａのガラス転移温度は８１℃、融点は２５５℃、固有粘度は０．７６であった。
　［ＭＢ－Ｂの製造］前項ＰＥＴ－１の重合に際し、ＰＥＴに対する添加量が５０％となるように、エチレングリコールに分散させた２次平均粒子径が４０ｎｍの大径シリカ粒子（シリカ－２）を添加し、ＭＢ－Ａを得た。得られた溶融重合ＭＢ－Ａのガラス転移温度は８１℃、融点は２５５℃、固有粘度は０．７０であった。
　［ＰＩの製造］ＰＥＴ－１　４５重量％と、ＳＡＢＩＣ社製のポリエーテルイミド“Ｕｌｔｅｍ１０１０”５５重量％を、ベント孔付き押出機に投入し、ベント孔を１ｋＰａ以下になるように減圧しながら混練し、ポリイミド樹脂を主成分とするＰＥＴ樹脂との混合体（以下、ＰＩと称することがある）を得た。
　［塗液１］水溶性アクリル－ポリエステル樹脂（高松油脂株式会社製　ペスレジンＡ－６４３ＧＥＸ）の水溶液（固形分重量２重量％）を６５重量部、メチルセルロース系樹脂（信越化学（株）製　ＳＭ－１５）の水溶液（固形分重量２重量％）を２０重量部、平均粒子径が３０ｎｍであるポリメタクリル酸メチル粒子の水分散液（固形分重量２重量％）を１０重量部、ポリオキシエチレン（ｎ＝７）ラウリルエーテルの水溶液（固形分重量２重量％）を５重量部混合することで得られる。
　（実施例１）
ＰＥＴ－１を１８０℃で２時間半減圧乾燥した後、押出機に供給し、溶融押出してフィルターで濾過した後、ダイを介し冷却ロール上に静電印可キャスト法を用いて、３７℃に保ったキャスティングドラムに巻き付け冷却固化して未延伸フィルムを得た。この未延伸フィルムを相対する電極とアースロール間に導き、装置中に窒素ガスを導入し、Ｅ値が１６０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２となる条件で大気圧グロー放電処理を行った。
処理後の未延伸フィルムを逐次二軸延伸機により表２に記載の条件にて、長手方向に３．３倍（３３０％）、および幅方向にそれぞれ３．６倍（３６０％）、トータルで１１．９倍延伸しその後、定長下２４０℃で熱処理した。その後、幅方向に弛緩処理を施し、厚み１８μｍの二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの物性、表面突起形状、特性評価を表４、表５に示す。すべり性はやや劣るものの好ましい範囲内であり、傷つき耐性、製膜安定性、フォトレジスト特性、ブロッキング耐性ともに良好なフィルムであった。
　（実施例２－５）
　製膜条件を表２、表３の通り変えた以外は、実施例１と同様にして厚み１８μｍの二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの物性、表面突起形状、特性評価を表４、表５に示す。
　実施例２では熱処理温度を実施例１より低下させたところ、高さ３ｎｍ以上２０ｎｍ未満の突起個数が低下することで突起個数比率であるＢ／Ａが減少した。傷つき耐性が実施例１より低下するものの、製膜安定性、フォトレジスト特性、ブロッキング耐性含め良好なフィルムであった。
　実施例３では熱処理温度を実施例１より上昇させたところ、高さ１ｎｍ以上２ｎｍ未満の突起個数が減少することで突起個数比率であるＢ／Ａが増加した。すべり性、ブロッキング耐性が実施例１対比で低下し、製膜安定性も悪化したが実用の範囲内であった。また、傷つき耐性、フォトレジスト特性ともに良好なフィルムであった。
　実施例４では、機械延伸倍率を長手方向に４．０倍（４００％）、幅方向に４．５倍（４５０％）とし、トータルで１８．０倍延伸したところ、延伸による突起成長が進み実施例１よりも高さ１ｎｍ以上２ｎｍ未満の突起個数が減少することで突起個数比率であるＢ／Ａが増加した。すべり性、ブロッキング耐性が実施例１対比で低下するものの実用の範囲内であり、傷つき耐性、製膜性、フォトレジスト特性ともに良好なフィルムであった。
　実施例５では実施例１よりテンター温度を表３に従い段階的に上昇させたところ、高さ１ｎｍ以上２ｎｍ未満の突起個数が大幅に増加し、突起個数比率であるＢ／Ａが減少、結果、すべり性、傷つき耐性、製膜安定性、フォトレジスト特性、ブロッキング耐性全てにおいて問題の無いフィルムとなった。
　（実施例６、７）
実施例６、７では、低面積倍率条件として、機械延伸倍率を長手方向に３．３倍（３３０％）、幅方向に３．６倍（３６０％）の条件（実施例６）、および高面積倍率条件として、長手方向に４．０倍（４００％）、幅方向に４．５倍（４５０％）の条件（実施例７）の下、表２、表３に記載の条件に従いテンター熱処理ゾーンにて延伸を行った。得られた二軸配向フィルムの物性、表面突起形状、特性評価を表４、表５に示す。
実施例６は実施例１対比で、実施例７は実施例４対比で高さ１ｎｍ以上２ｎｍ未満の突起個数が減少することで突起個数比率であるＢ／Ａが増加、金属摩擦係数も低下した。結果、すべり性、傷つき耐性、製膜安定性、フォトレジスト特性、ブロッキング耐性全てにおいて問題の無いフィルムとなった。
　（実施例８、９）
実施例８、９では、それぞれ実施例５および実施例７から、「フィルムの横テン化」として表２、表３に記載の条件に従い、機械延伸倍率を長手方向に３．６倍（３６０％）、幅方向に４．５倍（４５０％）に設定した。得られた二軸配向フィルムの物性、表面突起形状、特性評価を表４、表５に示す。結果、実施例８、９どちらもすべり性、傷つき耐性、製膜安定性、フォトレジスト特性、ブロッキング耐性全てにおいて問題の無いフィルムとなった。
　（実施例１０、１１）
実施例１０、１１では、同様にＰ１層原料として、ＰＥＴ－１を、Ｐ２層原料としてＰＥＴ－２を１８０℃で２時間半減圧乾燥した後、押出機に供給し、溶融押出してフィルターで濾過した後、ダイを介し冷却ロール上に静電印可キャスト法を用いた以外は実施例１と同様にして実施例１０（２層構成）、実施例１１（３層構成）のフィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの物性、表面突起形状、特性評価を表４、表５に示す通りであり、実施例１０、１１どちらもすべり性、傷つき耐性、製膜安定性、フォトレジスト特性、ブロッキング耐性全てにおいて問題の無いフィルムとなった。
　（実施例１２～１４）
Ｐ１層の原料を、ポリイミド樹脂を主成分とするＰＥＴ樹脂との混合体（ＰＩとＰＥＴの混合体；融点２５５℃）に変更（実施例１２）、ポリプロピレン樹脂（ＰＰ；融点１６５℃）に変更（実施例１３）、ポリフェニレンサルファイド樹脂（ＰＰＳ；融点２８０℃）に変更（実施例１４）し、表２、表３の通り製膜条件を変更した以外は実施例７と同様に二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの物性、表面突起形状、特性評価を表４、表５に示す通りであり、ＰＩを用いた実施例１２はフォトレジスト特性が実施例７に比べて干低下したものの実用性には問題なく、実施例１２～１４ともすべり性、傷つき耐性、製膜安定性、ブロッキング耐性全てにおいて問題の無いフィルムとなった。
　（実施例１５）
Ｐ１層の原料にＰＥＴ－１と微小シリカ粒子マスタペレットであるＭＢ－Ａを微小シリカ粒子が表１記載の量となるように配合し、押出機に供給した以外は実施例１０と同様にして二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの物性、表面突起形状、特性評価を表４、表５に示す通りであり、実施例１５は突起個数比率であるＢ／Ａが実施例１０に対して増加し、傷つき耐性、ブロッキング耐性がやや劣るものの実用上問題なく、またすべり性、製膜安定性、フォトレジスト特性は問題の無いフィルムとなった。
　（実施例１６）
Ｐ１層の原料をＰＥＴ－２とした以外は、実施例８と同様にして厚み１８μｍの二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの物性、表面突起形状、特性評価を表４、表５に示す。Ｐ１層に固有粘度（ＩＶ）が低いポリエステル樹脂を用いることで突起形成の進行が抑制されるが、高さ１ｎｍ以上２ｎｍ未満の突起個数が減少することで突起個数比率であるＢ／Ａが増加し、すべり性が僅かに低下するものの実用上問題なく、傷つき耐性、製膜安定性、フォトレジスト特性、ブロッキング耐性に優れたフィルムとなった。
　（実施例１７、１８）
表３に記載の通り、フィルム厚みが３０μｍである以外は実施例８、９と同様にして、それぞれ実施例１７、実施例１８を得た。得られた二軸配向熱可塑性樹脂フィルムの物性、表面突起形状、特性評価は表６、表７に示す通りである。実施例１７、１８は実施例８、９と同等にすべり性、傷つき耐性、製膜安定性、フォトレジスト特性、ブロッキング耐性全てにおいて問題の無いフィルムとなった。
実施例１７、１８の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムに、上述した方法にて、グリーンシート成形の支持体用フィルムを想定したグリーンシート評価を実施したところ、表６、７に示す通りどちらも良好な結果であり、グリーンシート成形の支持体用フィルムとして好適に用いることができる。
　（実施例１９、２０）
表３に記載の通り、フィルム厚みが４．５μｍである以外は実施例８、９と同様にして、それぞれ実施例１９、実施例２０を得た。得られた二軸配向熱可塑性樹脂フィルムの物性、表面突起形状、特性評価は表６、表７に示す通りである。実施例１９、２０は実施例８、９と同等にすべり性、傷つき耐性、製膜安定性、フォトレジスト特性、ブロッキング耐性全てにおいて問題の無いフィルムとなった。
実施例１９、２０の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムに、上述した方法にて、磁気記録媒体用ベースフィルムを想定したエラーレート評価を実施したところ、表６、７に示す通りどちらも良好な結果であり、磁気記録媒体用ベースフィルムとして好適に用いることができる。
　（比較例１）
実施例１と同様の方法で未延伸フィルムを得た後、大気圧グロー放電処理を行わずに逐次二軸延伸機へと導入したこと以外は実施例１と同様の方法で二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの物性、表面突起形状、特性評価を表４、表５に示す通りであり。大気圧グロー放電処理を実施していないため、突起形成が不十分で突起個数比率であるＢ／Ａが０まで低下、結果、すべり性、傷つき耐性、ブロッキング耐性が大幅に劣るフィルムとなった。
　（比較例２）
実施例４と同様の方法で未延伸フィルムを得た後、大気圧グロー放電処理を行わずに逐次二軸延伸機へと導入したこと以外は実施例１と同様の方法で二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの物性、表面突起形状、特性評価を表４、表５に示す通りである。大気圧グロー放電処理を実施していないため、突起形成が不十分で突起個数比率であるＢ／Ａが０まで低下、結果、すべり性、傷つき耐性、ブロッキング耐性が大幅に劣るフィルムとなった。
　（比較例３）
　実施例１より、熱処理温度を２５５℃まで上昇させる以外は実施例１と同様の方法で二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの物性、表面突起形状、特性評価を表４、表５に示す通りである。高さ３ｎｍ以上２０ｎｍ未満の突起個数が増加することで突起個数比率であるＢ／Ａが５を超えるまで増加し、すべり性が大幅に悪化。一方、熱処理温度がポリエステル樹脂の融点近傍まで上げたため、テンター出口でのフィルム破れが多発し安定な製膜は実施できなかった。またブロッキング耐性に関しても、高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起の個数をＤは実施例１から低下するもロールからのフィルム巻き出しは実用上問題なかったが、突起高さが１０ｎｍ以上の突起が存在することでロールに表面欠点が頻発した。
　（比較例４）
　実施例１より、熱処理温度を２００℃まで低下させる以外は実施例１と同様の方法で二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの物性、表面突起形状、特性評価を表４、表５に示す通りである。高さ３ｎｍ以上２０ｎｍ未満の突起個数が低下することで突起個数比率であるＢ／Ａが０まで低下、結果、すべり性、傷つき耐性が大幅に劣るフィルムとなった。
　（比較例５）
　Ｐ１層の原料としてＰＥＴ－１と大径シリカ粒子マスタペレットであるＭＢ－Ｂを大径シリカ粒子が表１記載の量になるように配合し、またＰ２層の原料としてＰＥＴ－１を押出機に供給した以外は実施例１と同様の方法にて二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの物性、表面突起形状、特性評価を表４、表５に示す通りである。最大突起高さが２０ｎｍを超え、ヘイズが上昇し、フォトレジスト特性が大幅に劣り、またロールからのフィルム巻き出しは容易であるものの、フィルム表面に突起高さ２０ｎｍ以上の突起に由来する表面欠点が多発しブロッキング耐性に劣るフィルムとなった。
　（比較例６）
　Ｐ１層の原料としてＰＥＴ－１と、添加剤として結晶核剤であるステアリン酸ナトリウム（結晶核剤‐１）を表１記載の量になるように配合した以外は実施例１と同様の方法にて二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの物性、表面突起形状、特性評価を表４、表５に示す通りである。高さ１ｎｍ以上２ｎｍ未満の突起の個数Ａが低減する一方で、高さ３ｎｍ以上２０ｎｍ未満の突起の個数Ｂが増加することで突起個数比率であるＢ／Ａが増加することで、すべり性は実施例１より悪化した。一方で、添加剤由来の表面異物が多く発生することでヘイズが上昇しフォトレジスト特性が大幅に悪化した。また高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起の個数をＤが減少すると共に、高さが１０ｎｍ以上の突起が多く存在することで、表面欠点が多発しておりブロッキング耐性が大幅に悪化した。
　（比較例７）
実施例１と同様の方法で未延伸フィルムを得た後、大気圧グロー放電処理を行わずに逐次二軸延伸機へと導入する際に、長手方向に３．３倍（３３０％）に延伸した後に塗液１を塗布し、次いで幅方向に３．６倍（３６０％）に延伸し乾燥することで厚さ０．３μｍの塗布層を有する二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの物性、表面突起形状、特性評価を表４、表５に示す通りであり、すべり性、製膜安定性、フォトレジスト特性、ブロッキング耐性は実用上問題ないものの、コート層が削れることによる傷が多発し、傷つき耐性が大幅に悪化した。
　（比較例８、９）
表３に記載の通り、フィルム厚みが３０μｍである以外は比較例１、２と同様にして、それぞれ比較例８、比較例９をそれぞれ得た。得られた二軸配向熱可塑性樹脂フィルムの物性、表面突起形状、特性評価は表６、表７に示す通りである。比較例８、９は比較例１、２と同等にすべり性、傷つき耐性、ブロッキング耐性が大幅に劣るフィルムとなった。
比較例８、９の二軸配向熱可塑性樹脂フィルムに、上述した方法にて、グリーンシート成形の支持体用フィルムを想定したグリーンシート評価を実施したところ、工程ロールや巻取り時のフィルム間での摩擦により表面にキズが多く発生しており、表６、７に示す通りどちらも実施例１７、１８に比べグリーンシート評価が大幅に劣る結果となった。
　（比較例１０、１１）
表３に記載の通り、フィルム厚みが４．５μｍである以外は比較例１、２と同様にして、それぞれ比較例１０、比較例１１をそれぞれ得た。得られた二軸配向熱可塑性樹脂フィルムの物性、表面突起形状、特性評価は表６、表７に示す通りである。比較例１０、１１は比較例１、２と同等にすべり性、傷つき耐性、ブロッキング耐性が大幅に劣るフィルムとなった。
比較例１０、１１のフィルムに上述した方法にて、磁気記録媒体用ベースフィルムを想定したエラーレート評価を実施したところ、工程ロールや巻取り時のフィルム間での摩擦により表面にキズが多く発生しており、表６、７に示す通りどちらも実施例１９、２０に比べエラーレート評価が大幅に劣るフィルムであった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
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Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
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本発明の熱可塑性樹脂フィルムは良好な透明性、平滑性、易滑性を有し、さらに製膜・加工工程における傷つき耐性も向上させることができるため、片面に感光樹脂組成物を体積して使用されるドライフィルムレジスト支持体用ポリエステルフィルムや光学デバイス基材用フィルム、セラミックコンデンサー用離型フィルム、磁気記録媒体用フィルムとして好適に用いることができる。
１．突起形成処理を施した層（Ｐ１層）
２．ＡＦＭ解析における基準面（高さ０ｎｍ）
３．高さ１ｎｍ線（Ｒ１ｎｍ）
４．高さ２ｎｍ線（Ｒ２ｎｍ）
５．高さ３ｎｍ線（Ｒ３ｎｍ）
６．最大突起高さ（Ｒｔｏｐ）
７．高さ２０ｎｍ線（Ｒ２０ｎｍ）
８．Ｐ２層
９．Ｐ３層
１０．高さ１ｎｍの位置における突起の断面

Claims (12)

  1. 少なくとも片側の表面が、最大突起高さが２０ｎｍ未満であり、高さ１ｎｍ以上２ｎｍ未満の突起の個数をＡ（個／ｍｍ２）、高さ３ｎｍ以上２０ｎｍ未満の突起の個数をＢ（個／ｍｍ２）とした場合に、Ｂ／Ａが０．００１以上５．０００以下である二軸配向熱可塑性樹脂フィルム。
  2. 前記表面が、高さ２ｎｍ以上３ｎｍ未満の突起の個数をＣ（個／ｍｍ２）とした場合、Ｃ／Ａが０．１００以上２．０００以下である請求項１に記載の二軸配向熱可塑性樹脂フィルム。
  3. 前記表面の算術平均粗さＲａが３．０ｎｍ以下である請求項１または２に記載の二軸配向熱可塑性樹脂フィルム。
  4. 前記表面を有する層が実質的に粒子を含有しない請求項１～３のいずれかに記載の二軸配向熱可塑性樹脂フィルム。
  5. 前記表面の突起において高さ１ｎｍにおける突起断面の円相当径の平均値が１５ｎｍ以上３０ｎｍ以下である請求項１～４のいずれかに記載の二軸配向熱可塑性樹脂フィルム。
  6. 前記高さ１ｎｍ以上２ｎｍ未満の突起の個数Ａが１．０×１０７個／ｍｍ２以上１．０×１０９個／ｍｍ２以下である請求項１～５のいずれかに記載の二軸配向熱可塑性樹脂フィルム。
  7. 前記表面の高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起の個数をＤ（個／ｍｍ２）とした場合、突起個数Ｄが５．０×１０７～６．０×１０９個／ｍｍ２である請求項１～６のいずれかに記載の二軸配向熱可塑性樹脂フィルム。
  8. 前記二軸配向熱可塑性樹脂フィルムを構成する熱可塑性樹脂が、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリイミド樹脂のいずれかを主成分とする請求項１～７のいずれかに記載の二軸配向熱可塑性樹脂フィルム。
  9. 離型用フィルムとして用いられる請求項１～８のいずれかに記載の二軸配向熱可塑性樹脂フィルム。
  10. ドライフィルムレジスト支持体用フィルムとして用いられる請求項１～８のいずれかに記載の二軸配向熱可塑性樹脂フィルム。
  11. 積層セラミックコンデンサーを製造する工程においてグリーンシート成形の支持体用フィルムとして用いられる請求項１～８のいずれかに記載の二軸配向熱可塑性樹脂フィルム。
  12. 磁気記録媒体用ベースフィルムに用いられる、請求項１～８のいずれかに記載の二軸配向熱可塑性樹脂フィルム。
     
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