ES2684802T3 - Empleo de subnitrato de bismuto en pinturas por electrodeposición - Google Patents
Empleo de subnitrato de bismuto en pinturas por electrodeposición Download PDFInfo
- Publication number
- ES2684802T3 ES2684802T3 ES08785518.5T ES08785518T ES2684802T3 ES 2684802 T3 ES2684802 T3 ES 2684802T3 ES 08785518 T ES08785518 T ES 08785518T ES 2684802 T3 ES2684802 T3 ES 2684802T3
- Authority
- ES
- Spain
- Prior art keywords
- bismuth
- electrodeposition
- electrodeposition paint
- paint according
- bismuth subnitrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000003973 paint Substances 0.000 title claims abstract description 69
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 title claims abstract description 59
- 229960001482 bismuth subnitrate Drugs 0.000 title claims abstract description 22
- HWSISDHAHRVNMT-UHFFFAOYSA-N Bismuth subnitrate Chemical compound O[NH+]([O-])O[Bi](O[N+]([O-])=O)O[N+]([O-])=O HWSISDHAHRVNMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract 11
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 15
- 150000001622 bismuth compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 19
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 12
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 claims description 11
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 claims description 11
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 10
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 7
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims description 7
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 7
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 6
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 6
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 5
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 5
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 2
- 239000003906 humectant Substances 0.000 claims description 2
- 238000010422 painting Methods 0.000 claims description 2
- 230000000475 sunscreen effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000000516 sunscreening agent Substances 0.000 claims description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims 1
- QGWDKKHSDXWPET-UHFFFAOYSA-E pentabismuth;oxygen(2-);nonahydroxide;tetranitrate Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[O-2].[Bi+3].[Bi+3].[Bi+3].[Bi+3].[Bi+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O QGWDKKHSDXWPET-UHFFFAOYSA-E 0.000 description 13
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical class CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- -1 for example Chemical class 0.000 description 7
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001621 bismuth Chemical class 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 5
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 5
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 5
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 4
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000013877 carbamide Nutrition 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium group Chemical group [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEHVDNNLFDJLR-UHFFFAOYSA-N 1,3-diphenylurea Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=O)NC1=CC=CC=C1 GWEHVDNNLFDJLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N Benzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC=C1 KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 2
- PXAJQJMDEXJWFB-UHFFFAOYSA-N acetone oxime Chemical compound CC(C)=NO PXAJQJMDEXJWFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- ZREIPSZUJIFJNP-UHFFFAOYSA-K bismuth subsalicylate Chemical compound C1=CC=C2O[Bi](O)OC(=O)C2=C1 ZREIPSZUJIFJNP-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229960000782 bismuth subsalicylate Drugs 0.000 description 2
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 2
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 2
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N o-Hydroxyethylbenzene Natural products CCC1=CC=CC=C1O IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N succinimide Chemical compound O=C1CCC(=O)N1 KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N urethane group Chemical group NC(=O)OCC JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZENGILVLUJGJX-NSCUHMNNSA-N (E)-acetaldehyde oxime Chemical compound C\C=N\O FZENGILVLUJGJX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- ZXHZWRZAWJVPIC-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatonaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(N=C=O)C(N=C=O)=CC=C21 ZXHZWRZAWJVPIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHXZXKMYCGVFA-UHFFFAOYSA-N 1,3-diazetidine-2,4-dione Chemical group O=C1NC(=O)N1 PCHXZXKMYCGVFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWIHAOZQQZSSBB-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-1-(2-isocyanatopropyl)cyclohexane Chemical compound O=C=NC(C)CC1(N=C=O)CCCCC1 DWIHAOZQQZSSBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthylamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 2,2-Bis(hydroxymethyl)propionic acid Chemical compound OCC(C)(CO)C(O)=O PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTMRRSWNXVJMBA-UHFFFAOYSA-L 2,2-diethylpropanedioate Chemical compound CCC(CC)(C([O-])=O)C([O-])=O LTMRRSWNXVJMBA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MRPZLXMWCIWOGP-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethyl-n-phenylaniline Chemical group CC1=CC=CC(NC=2C=CC=CC=2)=C1C MRPZLXMWCIWOGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDULGHZNHURECF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylaniline 2,4-dimethylaniline 2,5-dimethylaniline 2,6-dimethylaniline 3,4-dimethylaniline 3,5-dimethylaniline Chemical group CC1=CC=C(N)C(C)=C1.CC1=CC=C(C)C(N)=C1.CC1=CC(C)=CC(N)=C1.CC1=CC=C(N)C=C1C.CC1=CC=CC(N)=C1C.CC1=CC=CC(C)=C1N CDULGHZNHURECF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABROBCBIIWHVNS-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylbenzenethiol Chemical compound CCC1=CC=CC=C1S ABROBCBIIWHVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXUNZSDDXMPKLP-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenethiol Chemical compound CC1=CC=CC=C1S LXUNZSDDXMPKLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZXIZTKNFFYFOF-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazolidone Chemical compound O=C1NCCO1 IZXIZTKNFFYFOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 2-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1Cl ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQAMFDRRWURCFQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1h-imidazole Chemical compound CCC1=NC=CN1 PQAMFDRRWURCFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEAQRZUHTPSBBM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-3,3-dimethyl-7-nitro-4h-isoquinolin-1-one Chemical compound C1=C([N+]([O-])=O)C=C2C(=O)N(O)C(C)(C)CC2=C1 NEAQRZUHTPSBBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAPHHRYGSJGRMW-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-phenylmethoxyprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NOCC1=CC=CC=C1 QAPHHRYGSJGRMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSXVEPNJUHWQHW-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-2-ol Chemical compound CCC(C)(C)O MSXVEPNJUHWQHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQUPABOKLQSFBK-UHFFFAOYSA-N 2-nitrophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O IQUPABOKLQSFBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJMDLNIAGSYXLA-UHFFFAOYSA-N 6-iminooxadiazine-4,5-dione Chemical compound N=C1ON=NC(=O)C1=O PJMDLNIAGSYXLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000687716 Drosophila melanogaster SWI/SNF-related matrix-associated actin-dependent regulator of chromatin subfamily A containing DEAD/H box 1 homolog Proteins 0.000 description 1
- 241001269524 Dura Species 0.000 description 1
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Natural products CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 238000005684 Liebig rearrangement reaction Methods 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101001003146 Mus musculus Interleukin-11 receptor subunit alpha-1 Proteins 0.000 description 1
- 101000687741 Mus musculus SWI/SNF-related matrix-associated actin-dependent regulator of chromatin subfamily A containing DEAD/H box 1 Proteins 0.000 description 1
- VGGLHLAESQEWCR-UHFFFAOYSA-N N-(hydroxymethyl)urea Chemical compound NC(=O)NCO VGGLHLAESQEWCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQVWYOYUZDUNRW-UHFFFAOYSA-N N-Phenyl-1-naphthylamine Chemical compound C=1C=CC2=CC=CC=C2C=1NC1=CC=CC=C1 XQVWYOYUZDUNRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZERHIULMFGESH-UHFFFAOYSA-N N-phenylacetamide Chemical compound CC(=O)NC1=CC=CC=C1 FZERHIULMFGESH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical class OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBHRHUJRKGNOKX-UHFFFAOYSA-N [(4,6-diamino-1,3,5-triazin-2-yl)amino]methanol Chemical compound NC1=NC(N)=NC(NCO)=N1 MBHRHUJRKGNOKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004466 alkoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- 239000003139 biocide Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- ZDHGGOUPMGSLBR-UHFFFAOYSA-K bis(2-hydroxypropanoyloxy)bismuthanyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound [Bi+3].CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O ZDHGGOUPMGSLBR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- MVPVTQGVSBKPCQ-UHFFFAOYSA-K bismuth;2,2-dimethylpropanoate Chemical compound [Bi+3].CC(C)(C)C([O-])=O.CC(C)(C)C([O-])=O.CC(C)(C)C([O-])=O MVPVTQGVSBKPCQ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- NSPSPMKCKIPQBH-UHFFFAOYSA-K bismuth;7,7-dimethyloctanoate Chemical compound [Bi+3].CC(C)(C)CCCCCC([O-])=O.CC(C)(C)CCCCCC([O-])=O.CC(C)(C)CCCCCC([O-])=O NSPSPMKCKIPQBH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- ZZUFUNZTPNRBID-UHFFFAOYSA-K bismuth;octanoate Chemical compound [Bi+3].CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC([O-])=O ZZUFUNZTPNRBID-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N biuret Chemical compound NC(=O)NC(N)=O OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N butane-1,2-diol Chemical compound CCC(O)CO BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004657 carbamic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001718 carbodiimides Chemical class 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012084 conversion product Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSEUPUDHEBLWJY-HWKANZROSA-N diacetylmonoxime Chemical compound CC(=O)C(\C)=N\O FSEUPUDHEBLWJY-HWKANZROSA-N 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- BEPAFCGSDWSTEL-UHFFFAOYSA-N dimethyl malonate Chemical compound COC(=O)CC(=O)OC BEPAFCGSDWSTEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPNKDDZCLDMRHS-UHFFFAOYSA-N dinitrooxybismuthanyl nitrate Chemical class [Bi+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O PPNKDDZCLDMRHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001962 electrophoresis Methods 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- RAHHITDKGXOSCO-UHFFFAOYSA-N ethene;hydrochloride Chemical compound Cl.C=C RAHHITDKGXOSCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011167 hydrochloric acid Nutrition 0.000 description 1
- RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N hydron;methyl 4-methoxypyridine-2-carboxylate;chloride Chemical compound Cl.COC(=O)C1=CC(OC)=CC=N1 RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N imidazolidin-2-one Chemical compound O=C1NCCN1 YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 description 1
- WOFDVDFSGLBFAC-UHFFFAOYSA-N lactonitrile Chemical compound CC(O)C#N WOFDVDFSGLBFAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000053 low toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- VHWYCFISAQVCCP-UHFFFAOYSA-N methoxymethanol Chemical compound COCO VHWYCFISAQVCCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOOARYARZPXNAL-UHFFFAOYSA-N methyl-thiophenol Natural products CSC1=CC=CC=C1O SOOARYARZPXNAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- SWVGZFQJXVPIKM-UHFFFAOYSA-N n,n-bis(methylamino)propan-1-amine Chemical compound CCCN(NC)NC SWVGZFQJXVPIKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKHDXTZKLIHWBC-UHFFFAOYSA-N n-(1-chlorohexan-2-ylidene)hydroxylamine Chemical class CCCCC(CCl)=NO SKHDXTZKLIHWBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCFRVQXGPJMWPG-UHFFFAOYSA-N n-(2,6-dimethylheptan-4-ylidene)hydroxylamine Chemical compound CC(C)CC(=NO)CC(C)C UCFRVQXGPJMWPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNYZBFWKVMKMRM-UHFFFAOYSA-N n-benzhydrylidenehydroxylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=NO)C1=CC=CC=C1 DNYZBFWKVMKMRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N n-butan-2-ylidenehydroxylamine Chemical compound CCC(C)=NO WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQAQPCDUOCURKW-UHFFFAOYSA-N n-butyl mercaptan Natural products CCCCS WQAQPCDUOCURKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSHTWPWTCXQLQN-UHFFFAOYSA-N n-butylaniline Chemical compound CCCCNC1=CC=CC=C1 VSHTWPWTCXQLQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N n-methylidenehydroxylamine Chemical compound ON=C SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000003605 opacifier Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- XVNKRRXASPPECQ-UHFFFAOYSA-N phenyl n-phenylcarbamate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC(=O)NC1=CC=CC=C1 XVNKRRXASPPECQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N phosphine group Chemical group P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005496 phosphonium group Chemical group 0.000 description 1
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 1
- XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N phthalimide Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NC(=O)C2=C1 XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUWHAWMETYGRKB-UHFFFAOYSA-N piperidin-2-one Chemical compound O=C1CCCCN1 XUWHAWMETYGRKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUGYQRQAERSCNH-UHFFFAOYSA-N pivalic acid Chemical class CC(C)(C)C(O)=O IUGYQRQAERSCNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- DJEHXEMURTVAOE-UHFFFAOYSA-M potassium bisulfite Chemical compound [K+].OS([O-])=O DJEHXEMURTVAOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940099427 potassium bisulfite Drugs 0.000 description 1
- 235000010259 potassium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 150000003217 pyrazoles Chemical class 0.000 description 1
- 238000005956 quaternization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229960002317 succinimide Drugs 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N toluene Substances CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- AVWRKZWQTYIKIY-UHFFFAOYSA-N urea-1-carboxylic acid Chemical compound NC(=O)NC(O)=O AVWRKZWQTYIKIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 235000020681 well water Nutrition 0.000 description 1
- 239000002349 well water Substances 0.000 description 1
- 150000003739 xylenols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/44—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/44—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications
- C09D5/4488—Cathodic paints
- C09D5/4496—Cathodic paints characterised by the nature of the curing agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/08—Processes
- C08G18/0804—Manufacture of polymers containing ionic or ionogenic groups
- C08G18/0809—Manufacture of polymers containing ionic or ionogenic groups containing cationic or cationogenic groups
- C08G18/0814—Manufacture of polymers containing ionic or ionogenic groups containing cationic or cationogenic groups containing ammonium groups or groups forming them
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
- C08G18/40—High-molecular-weight compounds
- C08G18/58—Epoxy resins
- C08G18/581—Reaction products of epoxy resins with less than equivalent amounts of compounds containing active hydrogen added before or during the reaction with the isocyanate component
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/70—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
- C08G18/72—Polyisocyanates or polyisothiocyanates
- C08G18/80—Masked polyisocyanates
- C08G18/8003—Masked polyisocyanates masked with compounds having at least two groups containing active hydrogen
- C08G18/8006—Masked polyisocyanates masked with compounds having at least two groups containing active hydrogen with compounds of C08G18/32
- C08G18/8009—Masked polyisocyanates masked with compounds having at least two groups containing active hydrogen with compounds of C08G18/32 with compounds of C08G18/3203
- C08G18/8012—Masked polyisocyanates masked with compounds having at least two groups containing active hydrogen with compounds of C08G18/32 with compounds of C08G18/3203 with diols
- C08G18/8019—Masked aromatic polyisocyanates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
- C08G59/62—Alcohols or phenols
- C08G59/621—Phenols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D17/00—Pigment pastes, e.g. for mixing in paints
- C09D17/004—Pigment pastes, e.g. for mixing in paints containing an inorganic pigment
- C09D17/005—Carbon black
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D17/00—Pigment pastes, e.g. for mixing in paints
- C09D17/004—Pigment pastes, e.g. for mixing in paints containing an inorganic pigment
- C09D17/007—Metal oxide
- C09D17/008—Titanium dioxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/44—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications
- C09D5/4419—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications with polymers obtained otherwise than by polymerisation reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- C09D5/443—Polyepoxides
- C09D5/4434—Polyepoxides characterised by the nature of the epoxy binder
- C09D5/4438—Binder based on epoxy/amine adducts, i.e. reaction products of polyepoxides with compounds containing amino groups only
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
Pintura por electrón-deposición, que puede depositarse catódicamente, que contiene al menos un aglutinante y al menos un agente de reticulación, así como un compuesto de bismuto, caracterizada porque el compuesto de bismuto es un subnitrato de bismuto básico, hidroinsoluble y la pintura por electrodeposición contiene 0,05 a 5 % en peso de subnitrato de bismuto respecto de su contenido de sólidos.
Description
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
DESCRIPCIÓN
Empleo de subnitrato de bismuto en pinturas por electrodeposición
La invención se refiere a pinturas por electrodeposición que pueden depositarse catódicamente y que contienen compuestos de bismuto, a un procedimiento para la preparación de estas pinturas por electrodeposición y a su uso.
Por la literatura de patentes se conocen numerosos ejemplos para la preparación de pinturas por electrodeposición. En calidad de catalizadores de reticulación se emplean principalmente en tal caso compuestos de estaño y/o bismuto. En el último tiempo, en calidad de catalizadores de reticulación a este respecto preferiblemente se emplean los compuestos de bismuto puesto que, además de su alta actividad, también poseen una toxicidad baja en comparación con los compuestos de estaño. El empleo de los compuestos de bismuto como catalizadores en la formación de estructuras de uretano a partir de grupos isocianato e hidroxilo se conoce ya desde hace tiempo (J.H. Saunders and K.C. Frisch, Polyurethanes, Chemistry and Technology from High Polymers, Vol. XVI, Parte 1, Interscience Publishers, una división de John Wiley and Sons, Nueva York, 4a impresión, julio de 1967, página 167). Sin embargo, hasta ahora el empleo de compuestos de bismuto como catalizador en la fabricación de pinturas por electrodeposición es muy limitado. En la publicación EP 0 642 558 claramente se delimitan los posibles compuestos de bismuto para el empleo de pinturas por electrodeposición, ya que las sales fácilmente disponibles de ácidos de cadena larga como, por ejemplo, octanoato de bismuto y neodecanoato de bismuto al emplear en aglutinantes catiónicos provocan perturbaciones debido a exudaciones de tipo aceite. Además, debido a la incorporación en mezcla con el aglutinante o con una pasta de pigmento, los compuestos inorgánicos de bismuto son poco capaces de esparcirse y en esta forma deben tener una baja capacidad catalítica. En la patente europea EP 0 739 389 se describe un procedimiento simplificado para la preparación de una pintura anticorrosiva por medio de electrodeposición en el cual la pintura por electrodeposición contiene lactato de bismuto o dimetilpropionato de bismuto. Se mencionan otros posibles compuestos de bismuto, aunque aquí faltan indicaciones más detalladas; en los ejemplos se emplean principalmente solamente las sales del ácido láctico y del ácido dimetilpropiónico. No se menciona subnitrato de bismuto. Se describen otros complejos de bismuto a base de aminoácidos (EP 0 927 232) o de ácidos alcanosulfónicos (EP 1 163 302) como sistemas catalizadores estables y capaces de emplearse bien en pinturas por electrodeposición. Para mejorar la protección anticorrosión de pinturas por electrodeposición, en la publicación DE 100 01 222 A1 se menciona el uso de bismuto coloidal. En esta patente alemana se emplean sales de bismuto de ácidos carboxílicos alifáticos. Otro uso de sales de bismuto de ácidos carboxílicos orgánicos se describe en una pintura por electrodeposición de la solicitud alemana de patente DE 44 34 593 A1. Al preparar esta pintura anticorrosiva, deben impedirse en gran medida los componentes tóxicos. En la solicitud alemana de patente DE 102 36 350 A1 se describen pinturas por electrodeposición que contienen subsalicilato de bismuto, las cuales tienen un buen control de flujo, se encuentran libres de perturbaciones superficiales y garantizan una buena protección anticorrosiva. Sin embargo, estas pinturas conocidas por electrodeposición requieren una temperatura de horneado relativamente alta para lograr una reticulación suficiente.
Es objeto de la presente invención pinturas por electrodeposición que contengan nuevos compuestos de bismuto, en cuyo caso las reacciones de reticulación deben tener lugar en la pintura por electrodeposición según la invención a temperaturas de horneado tan bajas como sean posibles.
De manera sorprendente se ha encontrado que al emplear nitrato de bismuto básico (también conocido como subnitrato de bismuto) en calidad de catalizador de reticulación, es posible el horneado de las películas depositadas sobre un sustrato a temperaturas relativamente bajas.
Por lo tanto, es objeto de la invención una pintura por electrodeposición, del tipo mencionado al principio, que se caracteriza porque el compuesto de bismuto es un nitrato de bismuto básico.
Considerando el estado de la técnica, fue sorprendente y no previsible para el experto en la materia que el objeto fundamental de la invención pudiera lograrse con ayuda de los subnitratos de bismuto básicos. Principalmente fue sorprendente que las pinturas por electrodeposición según la invención pudieran prepararse fácilmente, fueran estables durante el almacenamiento, tuvieran un tamaño óptimo de partícula de los componentes dispersados y fueran capaces de filtrarse muy bien, pudieran depositarse sin problemas, de manera sencilla, mediante electroforesis sobre sustratos conductores de electricidad. Los recubrimientos por electrodeposición resultantes tuvieron un buen control de flujo, estuvieron libres de perturbaciones superficiales y manchas y ofrecieron una protección excelente frente a la corrosión y una protección en los bordes.
En las solicitudes europeas de patentes EP 151 0558 B1 y EP 1 518 906 se emplean muchas sales metálicas diferentes, entre otras también la sal de bismuto del ácido nítrico, para la preparación de pinturas por electrodeposición. Sin embargo, ninguno de las dos publicaciones de patentes describe en el empleo de nitratos básicos de bismuto. Las publicaciones europeas de patentes tampoco divulgan la disminución de la temperatura de horneado adicionando las sales de bismuto del ácido nítrico en calidad de catalizador de reticulación. Además, el nitrato de bismuto es bien hidrosoluble en contraste con el subnitrato de bismuto hidroinsoluble, empleado en la presente solicitud. Las sales disueltas de Bi pueden presentar algunas desventajas en las pinturas por electrodeposición. Las sales solubles se absorben en el ultra-filtrado y, por lo tanto, son extraídas de esta manera
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
continuamente de la pintura por electrodeposición. Además, después del tratamiento previo de la carrocería, algunos iones extraños pueden ser llevados al baño de electrodeposición. Estos iones extraños pueden desactivar los catalizadores solubles de Bi (EP 1 342 757).
Las pinturas por electrodeposición según la invención tienen preferentemente un contenido de sólidos de 5 a 50, preferiblemente de 5 a 35% en peso. Con respecto a esto, por sólidos se entiende la fracción de una pintura por electrodeposición que genera el recubrimiento por electrodeposición preparado a partir de la misma. Las pinturas por electrodeposición según la invención contienen al menos un aglutinante.
Los aglutinantes contienen grupos funcionales reactivos que pueden participar en reacciones térmicas de reticulación con grupos funcionales reactivos, complementarios, presentes en los agentes de reticulación.
El aglutinante contiene grupos catiónicos y/o potencialmente catiónicos. Los aglutinantes de este tipo se emplean en pinturas por electrodeposición capaces de depositarse de manera catódica.
Los ejemplos de grupos potencialmente catiónicos adecuados, que pueden convertirse en cationes mediante productos de neutralización y/o productos de cuaternización, son grupos amino primarios, secundarios o terciarios, grupos sulfuros secundarios o grupos fosfina terciarios, principalmente grupos amino terciarios o grupos sulfuros secundarios.
Ejemplos de grupos catiónicos adecuados son grupos amonio primarios, secundarios, terciarios o cuaternarios, grupos sulfonio terciarios o grupos fosfonio cuaternarios, preferentemente grupos amonio cuaternarios o grupos sulfonio terciarios, pero principalmente grupos amonio cuaternarios.
Ejemplos de agentes de neutralización adecuados para los grupos potencialmente catiónicos son ácidos inorgánicos y orgánicos, tales como ácido sulfúrico, ácido clorhídrico, ácido fosfórico, ácido fórmico, ácido acético, ácido láctico, ácido dimetilolpropiónico, ácido cítrico o ácidos sulfónicos tales como ácidos amidosulfónicos y ácidos alcanossulfónicos tales como, por ejemplo, ácido metanosulfónico, principalmente ácido fórmico, ácido acético o ácido láctico.
Ejemplos de aglutinantes adecuados para pinturas por electrodeposición son conocidos por las publicaciones EP 0 082 291A1, EP 0 234 395 A1, EP 0 227 975A1, EP 0 178 531 A1, EP 0 333 327, EP 0 310 971A1, EP 0 456 270 A1, US 3,922,253 A, EP 0 261 385 A1, EP 0 245 786A1, EP0 414 199A1, EP 0 476 514 A1, EP 0 817 684A1, EP 0 639 660A1, EP 0 595 186A1, DE 41 26 476A1, WO 98/33835, DE 33 00 570A1, DE 37 38 220A1, DE 35 18 732A1 o DE 196 18 379 A1. Estos son preferiblemente resinas que contienen grupos amonio o amino primarios, secundarios, terciarios o cuaternarios y/o grupos sulfonio terciarios, con índices de amino preferiblemente entre 20 y 250 mg de KOH/g y un peso molecular promedio de peso de 300 a 10.000 Daltons. Principalmente se usan resinas de (met)acrilato de amino, resinas amino-epóxicas, resinas amino-epóxicas con enlaces dobles terminales, resinas amino-epóxicas con grupos hidroxilo primarios y/u secundarios, resinas amino-poliuretánicas, resinas de polibutadieno que contienen grupos amino o productos de conversión modificados de resinas epóxicas / dióxido de carbono / amina.
Ejemplos de grupos funcionales reactivos adecuados son grupos hidroxilo, grupos tiol y grupos amino primarios y secundarios, principalmente grupos hidroxilo.
Ejemplos de grupos funcionales reactivos complementarios adecuados son grupos isocianato bloqueados.
Como agentes de reticulación pueden tomarse en consideración todos los agentes de consideración habituales y conocidos que contienen grupos funcionales reactivos complementarios adecuados. De preferencia se seleccionan los agentes de reticulación del grupo compuesto por poliisocianatos bloqueados, resinas de melamina-formaldehído, tris(alcoxicarbonilamino)triazinas y poliepóxidos. Preferiblemente se seleccionan los agentes de reticulación del grupo compuesto por poliisocianatos bloqueados y resinas de melamina-formaldehído altamente reactivas. De modo particularmente preferido se emplean los poliisocianatos bloqueados.
Los poliisocianatos bloqueados se preparan a partir de poliisocianatos de pintura habituales y conocidos que tienen grupos isocianato enlazados de modo alifático, cicloalifático, aralifático y/o aromático.
Ejemplos de poliisocianatos adecuados para pintura se describen, por ejemplo, en "Methoden der organischen Chemie'' [Métodos de la química orgánica], Houben-Weil, volumen 14/2, 4a edición, editorial Georg Thieme Verlag, Stuttgart 1963, página 61 a 70, y de W. Siefken, Liebigs Annalen der Chemie, volumen 562, páginas 75 a 136.
Otros ejemplos de poliisocianatos adecuados para dura son poliisocianatos que tienen grupos isocianurato, biuret, alofanato, iminooxadiazindiona, uretano, urea, carbodiimida y/o uretdiona, los cuales pueden obtenerse a partir de diisocianatos habituales y conocidos. De preferencia en calidad de diisocianatos se emplean diisocianato de hexametileno, diisocianato de isoforona, 2-isocianatopropilciclohexilisocianato, 2,4’-diisocianato de diciclohexilmetano, 4,4’-diisocianato de diciclohexilmetano o 1,3-bis(isocianatometil)ciclohexano (BIC), diisocianatos
derivados de ácidos grasos diméricos, 1,8-diisocianato-4-isocianatometil-octano, 1,7-diisocianato-4-isocianatometil- heptano, 1-isocianato-2-(3-isocianatopropil)ciclohexano, diisocianato de 2,4- y/o 2,6-tolueno, diisocianato de 4,4’- difenilmetano, diisocianato de naftaleno o mezclas de estos poliisocianatos.
Ejemplos de agentes adecuados de bloqueo para la preparación de poliisocianatos bloqueados son
5 i) Fenoles, como fenol, cresol, xilenol, nitrofenol, clorofenol, etilfenol, t-butilfenol, ácido hidroxibenzoico, ésteres de este ácido o 2,5-di-ter.-butil-4-hidroxitolueno;
ii) Lactamas, como £-caprolactam, 5-valerolactama, Y-butirolactama o p-propiolactama;
iii) Compuestos metilénicos activos, como malonato de dietilo, malonato de dimetilo, acepto acetato de etilo o de metilo o acetilacetona;
10 iv) Alcoholes como metanol, etanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-butanol, alcohol n-amílico, alcohol t-amílico, alcohol laurílico, éter monometílico de etilenglicol, éter monoetílico de etilenglicol, éter monobutílico de etilenglicol, éter monometílico de dietilenglicol, éter monoetílico de dietilenglicol, éter monometílico de propilenglicol, metoximetanol, ácido glicólico, ésteres de ácido glicólico, ácido láctico, ésteres de ácido láctico, metilolurea, metilolmelamina, alcohol de diacetona, etilenclorohidrina, etilenbromohidrina, 1,3-dicloro-2-propanol, 1,415 ciclohexildimetanol o acetocianhidrina;
v) Mercaptanos como butilmercaptano, hexilmercaptano, t-butilmercaptano, t-dodecilmercaptano, 2- mercaptobenzotiazol, tiofenol, metiltiofenol o etiltiofenol;
vi) Amidas ácidas tales como acetoanilida, acetoanisidinamida, acrilamida, metacrilamida, acetamida, estereamida o benzamida.
20 vii) Imidas como succinimida, ftalimida o maleinimida;
viii) Aminas como difenilamina, fenilnaftilamin, xilidina, N-fenilxilidina, carbazol, anilina, naftilamina, butilamina, dibutilamina o butilfenilamina;
ix) Imidazoles como imidazol o 2-etilimidazol;
x) Ureas como urea, tiourea, etilenurea, etilentiourea o 1,3-difenilurea;
25 xi) Carbamatos como N-fenilcarbamato de fenilo o 2-oxazolidona;
xii) Iminas como etilenimina;
xiii) Oximas como acetonoxima, formaldoxima, acetaldoxima, acetoxima, cetoxima de metilo-etilo, cetoxima de diisobutilo, monoxima de diacetilo, oxima de benzofenona u oximas de clorohexanona;
xiv) Sales de ácido sulfuroso como bisulfito de sodio o bisulfito de potasio;
30 xv) Ésteres de ácido hidroxámico como metacrilohidroxamato de bencilo (BMH) o metacrilohidroxamato de alilo; o
xvi) Pirazoles sustituidos, imidazoles o triazoles; así como
xvii) 1,2-Polioles como etilenglicol, propilenglicol, 1,2-butandiol;
xviii) 2-Hidroxiésteres como acrilato de 2-hidroxietilo, metacrilato de 2-hidroxietilo;
xix) Mezclas de estos agentes de bloqueo.
35 De acuerdo con la invención, las pinturas por electrodeposición según la invención contienen subnitrato de bismuto de la fórmula empírica 4(BiNO3(OH)2)BiO(OH). Tiene un contenido de bismuto según DAB (Farmacopea alemana) 7 de 71 a 74 % en peso. El subnitrato de bismuto es un compuesto comercial y es vendido, por ejemplo, por la compañía MCP HEK GmbH, Lübeck. De preferencia, las pinturas por electrodeposición según la invención contienen, con respecto a sus sólidos, 0,05 a 5, preferiblemente 0,1 a 4 y principalmente 0,2 a 3 % en peso de 40 subnitrato de bismuto.
Además, las pinturas por electrodeposición según la invención pueden contener además al menos un aditivo habituales y conocidos seleccionado del grupo compuesto por catalizadores diferentes de subnitrato de bismuto, pigmentos, aditivos anti-cráter, poli(alcoholes vinílicos), diluyentes reactivos que pueden curar térmicamente, colorantes solubles dispersos a nivel molecular, protectores de luz solar tales como absorbentes de UV y trampas de 45 radicales reversibles (HALS), antioxidantes, disolventes orgánicos con punto de ebullición bajo y alto ("largos"),
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
agentes de purga, humectantes, emulsionantes, aditivos de deslizamiento, inhibidores de polimerización, iniciadores termolábiles de radicales libres, promotores de adhesión, agentes de control de flujo, agentes auxiliares formadores de película, agentes ignífugos, inhibidores de corrosión, auxiliares de flujo libre, ceras, desecantes, biocidas y opacificantes, en cantidades efectivas.
Otros ejemplos de aditivos adecuados se describen en el manual »Lackadditive« [Aditivos para pinturas] de Johan Bieleman, Wiley-VCH, Weinheim, Nueva York, 1998, en D. Stoye y W. Freitag (editores), »Paints, Coatings and Solvents«, segunda edición completamente revisada, Wiley-VCH, Weinheim, Nueva York, 1998, »14.9. Solvent Groups«, páginas 327 a 373.
Preferentemente se emplean pigmentos en calidad de aditivos. Preferentemente se seleccionan los pigmentos del grupo compuesto por pigmentos orgánicos e inorgánicos, habituales y conocidos, colorantes, que proporcionan efecto, que conducen electricidad, que sirven de pantalla magnética, fluorescentes, de relleno e inhibidores de corrosión.
Las pinturas por electrodeposición según la invención se preparan mezclando y homogeneizando los componentes antes descritos y, opcionalmente, con ayuda de procedimientos y dispositivos de mezclado habituales y conocidos, tales como tanques con dispositivos de agitación, molinos agitadores, extrusores, amasadores, Ultraturrax, aparatos para disolver en línea, mezcladores estáticos, micro mezcladores, dispersadores de ruedas dentadas, boquillas de despresurización y/o microfluidizadores. En este caso, los pigmentos se incorporan a la pintura por electrodeposición preferentemente en forma de pastas de pigmento o de preparaciones de pigmentos (cf. Rompp Lexikon Lacke y Druckfarben [Pinturas y tintas de impresión], editorial Georg Thieme Verlag, Stuttgart, Nueva York, 1998, »Pigmentpraparationen« [Preparaciones de pigmentos], página 452). Otra ventaja particular del subnitrato de bismuto usado según la invención es que puede incorporarse de manera excelente a las pastas de pigmento y a las pinturas por electrodeposición según la invención.
Las pinturas electrodeposición según la invención pueden depositarse de modo catódico, habitualmente sobre sustratos plásticos capaces de conducir electricidad, por ejemplo, capaces de conducir electricidad o que se han hecho capaces de conducir electricidad, por ejemplo, que se han hecho capaces de conducir electricidad mediante metalización, o principalmente sustratos metálicos. La invención también se refiere, por lo tanto, al procedimiento para la deposición catódica de las pinturas por electrodeposición según la invención sobre sustratos de este tipo. Como sustratos metálicos pueden emplearse partes de todos los metales habituales, por ejemplo, las partes metálicas usuales en la industria automotriz, principalmente carrocerías de automóviles y sus partes.
A continuación, se explica más detalladamente la invención por medio de un ejemplo y de un ejemplo comparativo.
Ejemplo 1:
1.1 Preparación del agente de reticulación V1 (= ejemplo 1 de la publicación DE197 03 869)
En un reactor que está equipado con un condensador de reflujo, un termómetro interno y un conducto de entrada de gas inerte, se cargan inicialmente 1084 partes de isómeros y oligómeros de funcionalidad más alta a base de diisocianato de 4,4-difenilmetano con un peso equivalente de NCO de 135 (Basonat® A270, BASF AG) bajo una atmósfera de nitrógeno. Se adicionan 0,6 partes de dilaurato de dibutilestaño y gota a gota 1314 partes de diglicol de butilo con una velocidad tal que la temperatura de producto se mantiene por debajo de 70 °C. Opcionalmente tiene que enfriarse. La temperatura se mantiene por otros 120 minutos a 70 °C. Al hacer un control a continuación, ya no son detectables los grupos de NCO. Se enfría a 70 °C. El contenido de sólidos se encuentra en >97%.
1.2 Preparación de la dispersión acuosa de aglutinante D1 (= ejemplo 2.3 de la publicación DE 197 03 869)
En un reactor equipado con un condensador de reflujo, termómetro interno y conducto de entrada de gas inerte se cargan inicialmente 1128 partes de una resina epóxica habitual en el comercio a base de bisfenol A con un peso equivalente de epóxido (EEW) de 188,94 partes de fenol, 228 partes de bisfenol A y se calienta a 130 °C en nitrógeno. Agitando se adicionan 1,5 g de trifenilfosfina, después de lo cual se presenta una reacción isotérmica y la temperatura se incrementa a 160 °C se deja enfriar nuevamente a 130 °C y a continuación se controla el EEW. El valor nominal se encuentra en 478. Después se adicionan 15,7 partes de Plastilit 3060 (BASF AG) enfriando simultáneamente. A 95°C se adicionan 115,5 partes de dietanolamina, después de lo cual se presenta una reacción isotérmica. Después de 40 minutos se adicionan 61,2 partes de N,N-dimetilaminopropilamina. Después de una breve exotermia (140 °C), la mezcla se deja reaccionando durante 2 horas a 130 °C hasta que la desconocida permanece constante.
A la mezcla de reacción resultante se añaden agitando rápidamente 97,6 partes de butilglicol y 812 partes de la solución del agente de reticulación V2, caliente a 70 °C, y se descarga a 105 °C.
5
10
15
20
25
30
35
40
2400 partes de la mezcla resultante se incorporan inmediatamente dispersándose en una mezcla cargada inicialmente de 2173 partes de agua desmineralizada y 49,3 partes de ácido acético glacial. Después de adicionar otras 700 51 partes de agua desmineralizada, resulta una dispersión estable con los siguientes indicadores:
Sólidos (60min/130°C) : 45,1 %
Valor de pH: 5,9
Tamaño medio de partícula: 145nm
1.3 Preparación de la solución de resina de fricción R1
Según la publicación EP 505 445 B1, ejemplo 1.3, se prepara una resina de fricción que para mayor facilidad de manejo se neutraliza adicionalmente y se diluye con 2,82 partes de ácido acético glacial y 13,84 partes de agua desmineralizada completamente. El contenido original de sólidos se disminuye de esta manera a 60%.
1.4 Preparación de pastas acuosas de pigmento
1.4.1 Pasta de pigmento P1 (pasta de pigmentos según la invención)
Se adicionan los siguientes componentes en sucesión a un dispositivo para disolver de alta velocidad y se mezclan durante 30 minutos:
32,3 partes de agua desmineralizada
24.1 partes de solución de resina de fricción R1
5,6 partes de extensor de silicato de aluminio (ASP 200)
0,6 partes de negro de humo
32.7 partes de dióxido de titanio (TI-PURE R 900, DuPont)
4.7 partes de subnitrato de bismuto (contenido de Bi 71-74 %; proveedor, por ejemplo, HEK-Lübeck
A continuación, la mezcla es dispersada a una finura Hegman de 12 gm en un molino con agitación de laboratorio durante 1- 2 h y, opcionalmente, la viscosidad deseada de tratamiento se ajusta con agua adicional.
1.4.2 Pasta de pigmento P2 (ejemplo comparativo)
La pasta de pigmento 2 se prepara según el procedimiento del punto 1.4.1, aunque en lugar del subnitrato de bismuto se adicionan 6,0 partes de subsalicilato de bismuto (contenido de Bi: 56-59%, HEK-Lübeck).
1.5 Preparación de la pintura por electrodeposición
Para el ensayo como pinturas por electrodeposición que pueden depositarse de modo catódico, se combinan las dispersiones acuosas de aglutinante y las pastas de pigmento, descritas, de manera correspondiente a la siguiente tabla. El procedimiento acá es para introducir la dispersión aglutinante como una carga inicial y diluirla con agua desionizada. A continuación, la pasta de pigmento se introduce agitándose. Los valores indicados corresponden a las fracciones en peso.
Pintura por electrodeposición (ETL) No. ETL 1 ETL 2 Dispersión de aglutinante D1 2114 2114
Pasta de pigmento P1 294
Pasta de pigmento P2 294
Agua desmineralizada 2592 2592
2. Ensayo de las pinturas por electrodeposición
Los baños de pinturas por electrodeposición según la invención son envejecidos 24 horas a temperatura ambiente mientras se agitan. La deposición de las pinturas por electrodeposición se efectúa sobre paneles de acero fosfatizado con zinc, conectados como cátodos. El tiempo de deposiciones de 120 segundos a una temperatura de
baño de 32°C. La tensión de deposición se selecciona de modo que resulte un espesor de capa de la película de pintura horneada de 20 pm.
La película de pintura depositada se enjuaga con agua desionizada y se horneada durante 15 minutos a la temperatura especificada.
5 Para ensayar el estado de reticulación de las películas de pintura horneada se determinó la resistencia a butanona (metiletilcetona) como disolvente de acuerdo con DIN EN 13523-11 (ensayo de fricción). Para este propósito se determinó el número de frotaciones dobles con el cual se hizo reconocible un daño ostensible de la película de pintura. A un valor máximo de 100 frotaciones dobles, la película de pintura se evaluó como satisfactoria.
En la siguiente tabla 1 y en el gráfico 1 se exponen los resultados de la pintura por electrodeposición (ETL1) según 10 la invención y del ejemplo comparativo (ETL2) a diferentes temperaturas de horneada.
De los datos es evidente que la reacción de reticulación en la pintura por electrodeposición una invención ya es suficiente a temperaturas de horneado inferiores en 5-10 °C.
Tabla 1
- Resistencia frente a disolvente (DIN EN 13523-11, ensayo de fricción con MEK)
- ETL1 (según la invención) ETL2 (ejemplo comparativo)
- Temperatura de horneado.
- Frotaciones dobles con MEK
- 150°C
- 6 4
- 155°C
- 34 18
- 160°C
- 70 24
- 165°C
- 100 50
- 170°C
- 100 100
- 175°C
- 100 100
Resistencia al disolvente (DIN EN 13523-11, ensayo de fricción con MEK)
Claims (12)
- 51015202530REIVINDICACIONES1. Pintura por electrón-deposición, que puede depositarse catódicamente, que contiene al menos un aglutinante y al menos un agente de reticulación, así como un compuesto de bismuto, caracterizada porque el compuesto de bismuto es un subnitrato de bismuto básico, hidroinsoluble y la pintura por electrodeposición contiene 0,05 a 5 % en peso de subnitrato de bismuto respecto de su contenido de sólidos.
- 2. Pintura por electrodeposición según la reivindicación 1, caracterizada porque el subnitrato de bismuto básico tiene un contenido de bismuto de 70% en peso a 75% en peso.
- 3. Pintura por electrodeposición según una de las reivindicaciones 1 o 2, caracterizada porque el subnitrato de bismuto básico es un subnitrato de bismuto de la fórmula empírica 4(BiNO3(OH)2)BiO(OH).
- 4. Pintura por electrodeposición según una de las reivindicaciones 1 a 3, caracterizada porque el aglutinante contiene grupos catiónicos.
- 5. Pintura por electrodeposición según una de las reivindicaciones 1 a 4, caracterizada porque los grupos funcionales reactivos son grupos hidroxilo.
- 6. Pintura por electrodeposición según una de las reivindicaciones 1 a 5, caracterizada porque el agente de reticulación es un poliisocianato bloqueado.
- 7. Pintura por electrodeposición según una de las reivindicaciones 1 a 6, caracterizada porque contiene al menos un aditivo del grupo compuesto por pigmentos, sustancias de relleno, humectantes y dispersantes, protectores de luz solar e inhibidores de corrosión.
- 8. Procedimiento para la preparación de la pintura por electrodeposición según la reivindicación 1 a 7, caracterizado porque el aglutinante, el agente de reticulación y todos los otros componentes se mezclan con un subnitrato de bismuto básico, hidroinsoluble.
- 9. Uso de la pintura por electrodeposición según una de las reivindicaciones 1 a 7 para la pintura por deposición catódica.
- 10. Uso de la pintura por electrodeposición según una de las reivindicaciones 1 a 7 para la preparación de capas de imprimación mediante deposición catódica de sustratos con superficies capaces de conducir electricidad.
- 11. Uso de la pintura por electrodeposición según una de las reivindicaciones 1 a 7, en la pintura de vehículos automotores o de sus partes.
- 12. Uso de subnitrato de bismuto básico, hidroinsoluble, en calidad de catalizador de reticulación en pinturas por electrodeposición que pueden depositarse catódicamente, en cuyo caso las pinturas por electrodeposición contienen 0,05 a 5% en peso de subnitrato de bismuto respecto de su contenido de sólidos.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102007038824A DE102007038824A1 (de) | 2007-08-16 | 2007-08-16 | Einsatz von Bismutsubnitrat in Elektrotauchlacken |
| DE102007038824 | 2007-08-16 | ||
| PCT/EP2008/006642 WO2009021719A2 (de) | 2007-08-16 | 2008-08-13 | Einsatz von bismutsubnitrat in elektrotauchlacken |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ES2684802T3 true ES2684802T3 (es) | 2018-10-04 |
Family
ID=40070927
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| ES08785518.5T Active ES2684802T3 (es) | 2007-08-16 | 2008-08-13 | Empleo de subnitrato de bismuto en pinturas por electrodeposición |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US9493660B2 (es) |
| EP (1) | EP2190936B1 (es) |
| JP (1) | JP5579061B2 (es) |
| KR (1) | KR101488692B1 (es) |
| CN (2) | CN105062181B (es) |
| BR (1) | BRPI0815169A2 (es) |
| CA (1) | CA2695954A1 (es) |
| DE (1) | DE102007038824A1 (es) |
| ES (1) | ES2684802T3 (es) |
| MX (1) | MX2010000877A (es) |
| RU (1) | RU2010109453A (es) |
| WO (1) | WO2009021719A2 (es) |
Families Citing this family (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102007038824A1 (de) | 2007-08-16 | 2009-02-19 | Basf Coatings Ag | Einsatz von Bismutsubnitrat in Elektrotauchlacken |
| DE102008016220A1 (de) | 2008-03-27 | 2009-10-01 | Basf Coatings Ag | Elektrotauchlacke enthaltend Polymethylenharnstoff |
| JP5325610B2 (ja) * | 2009-03-02 | 2013-10-23 | 日本パーカライジング株式会社 | 金属表面処理用組成物、これを用いた金属表面処理方法およびこれらを用いた金属表面処理皮膜 |
| EP2489441A1 (en) * | 2011-02-21 | 2012-08-22 | Cytec Austria GmbH | Multi-layer coating films |
| JP6375304B2 (ja) | 2012-11-09 | 2018-08-15 | ビーエーエスエフ コーティングス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングBASF Coatings GmbH | リン酸塩汚染された電着塗装塗料組成物で被覆された物品の塗装硬化性の改良方法および電着塗装塗料組成物 |
| JP6325124B2 (ja) * | 2013-11-18 | 2018-05-16 | ビーエーエスエフ コーティングス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングBASF Coatings GmbH | 溶解のビスマスを含む導電性基材のための水性ディップコーティング組成物 |
| WO2015070930A1 (de) | 2013-11-18 | 2015-05-21 | Basf Coatings Gmbh | Wässrige beschichtungszusammensetzung zur tauchlack-beschichtung elektrisch leitfähiger substrate enthaltend bismut sowohl in gelöst als auch ungelöst vorliegender form |
| EP3071658B1 (de) | 2013-11-18 | 2017-12-13 | BASF Coatings GmbH | Zweistufiges verfahren zur tauchlack-beschichtung elektrisch leitfähiger substrate unter verwendung einer bi(iii)-haltigen zusammensetzung |
| EP3071652B1 (de) | 2013-11-19 | 2017-12-13 | BASF Coatings GmbH | Wässrige beschichtungszusammensetzung zur tauchlack-beschichtung elektrisch leitfähiger substrate enthaltend aluminiumoxid |
| EP3071659B1 (de) | 2013-11-19 | 2017-12-20 | BASF Coatings GmbH | Wässrige beschichtungszusammensetzung zur tauchlack-beschichtung elektrisch leitfähiger substrate enthaltend magnesiumoxid |
| US9982147B2 (en) | 2013-12-10 | 2018-05-29 | Basf Coatings Gmbh | Aqueous dip-coating composition for electroconductive substrates, comprising bismuth and a phosphorus-containing, amine-blocked compound |
| US20170002214A1 (en) * | 2013-12-19 | 2017-01-05 | Basf Coatings Gmbh | Process for coating electroconductive substrates |
| WO2016130656A1 (en) | 2015-02-10 | 2016-08-18 | Valspar Sourcing, Inc. | Novel electrodeposition system |
| JP2018100309A (ja) * | 2015-04-14 | 2018-06-28 | 日東化成株式会社 | 電着塗料組成物、電着塗料組成物用触媒 |
| BR112018013275A2 (pt) | 2015-12-31 | 2018-12-11 | Henkel Ag & Co Kgaa | revestimentos de autodeposição de baixo cozimento |
| BR112018016204A2 (pt) * | 2016-02-10 | 2018-12-18 | Swimc Llc | composição de revestimento, artigo revestido resistente à corrosão, e, método para fabricação de um artigo revestido resistente à corrosão. |
| CN106947308A (zh) * | 2017-04-14 | 2017-07-14 | 广东科德环保科技股份有限公司 | 一种超细电泳涂料及其制备方法 |
| US11692105B2 (en) | 2017-10-09 | 2023-07-04 | Basf Coatings Gmbh | Electrocoats containing at least one triazine compound |
| US12516201B2 (en) | 2019-04-15 | 2026-01-06 | Basf Coatings Gmbh | Aqueous coating composition for dipcoating electrically conductive substrates containing bismuth and lithium |
| US12509593B2 (en) | 2020-05-25 | 2025-12-30 | Basf Coatings Gmbh | Bismuth containing electrocoating material with improved catalytic activity |
| EP4095202A1 (en) * | 2021-05-28 | 2022-11-30 | Axalta Coating Systems GmbH | Electrocoating composition |
Family Cites Families (55)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH522007A (de) | 1968-03-21 | 1972-04-30 | Ciba Geigy Ag | Verfahren zur Herstellung von hochdispersen, aus Harnstoff-Formaldehyd-Polykondensationsprodukten bestehenden Feststoffen |
| US3922253A (en) | 1971-10-28 | 1975-11-25 | Ppg Industries Inc | Self-crosslinking cationic electrodepositable compositions |
| AT372099B (de) | 1981-11-26 | 1983-08-25 | Vianova Kunstharz Ag | Verfahren zur herstellung von waermehaertbaren, kationischen, wasserverduennbaren ueberzugsmitteln |
| DE3300570A1 (de) | 1983-01-10 | 1984-07-12 | Basf Farben + Fasern Ag, 2000 Hamburg | Wasserdispergierbare bindemittel fuer kationische elektrotauchlacke und verfahren zu ihrer herstellung |
| DE3436345A1 (de) | 1984-10-04 | 1986-04-17 | Herberts Gmbh, 5600 Wuppertal | Kathodisch abscheidbares waessriges elektrotauchlack-ueberzugsmittel und dessen verwendung zum beschichten von gegenstaenden |
| DE3518732A1 (de) | 1985-05-24 | 1986-11-27 | BASF Lacke + Farben AG, 4400 Münster | Wasserverduennbare bindemittel fuer kationische elektrotauchlacke und verfahren zu ihrer herstellung |
| JPH0626708B2 (ja) * | 1985-09-10 | 1994-04-13 | 関西ペイント株式会社 | 複合塗膜形成法 |
| DE3538792C1 (de) | 1985-10-31 | 1987-05-07 | Basf Lacke & Farben | Elektrophoretisch ueberbeschichtbare im Elektrotauchlackierverfahren aufgebrachte UEberzuege |
| AT383821B (de) | 1985-12-20 | 1987-08-25 | Vianova Kunstharz Ag | Verfahren zur herstellung von selbstvernetzenden lackbindemitteln und deren verwendung fuer kathodisch abscheidbare elektrotauchlacke |
| DE3624454A1 (de) | 1986-02-13 | 1987-08-20 | Hoechst Ag | Aminourethane, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
| DE3615810A1 (de) | 1986-05-10 | 1987-11-12 | Herberts Gmbh | Kathodisch abscheidbares waessriges elektrotauchlackueberzugsmittel und seine verwendung |
| DE3628121A1 (de) | 1986-08-19 | 1988-03-03 | Herberts Gmbh | Fremdvernetzende bindemittelkombination fuer mit wasser verduennbare lacke, kathodisch abscheidbares elektrotauchlackueberzugsmittel und dessen verwendung |
| DE3733552A1 (de) | 1987-10-03 | 1989-04-13 | Herberts Gmbh | Kathodisch abscheidbares waessriges elektrotauchlack-ueberzugsmittel und dessen verwendung |
| DE3738220A1 (de) | 1987-11-11 | 1989-05-24 | Basf Lacke & Farben | Verfahren zur herstellung kathodisch abscheidbarer bindemitteldispersionen mit vernetzern auf der basis von mit aminogruppen verkappten polyisocyanaten |
| US4931157A (en) | 1988-02-18 | 1990-06-05 | Ppg Industries, Inc. | Epoxy resin advancement using urethane polyols and method for use thereof |
| AT394197B (de) | 1989-08-23 | 1992-02-10 | Vianova Kunstharz Ag | Verfahren zur herstellung von bindemitteln fuer kathodisch abscheidbare lacke |
| DE3940782A1 (de) | 1989-12-09 | 1991-06-13 | Herberts Gmbh | Waessriges ueberzugsmittel fuer die elektrotauchlackierung und seine verwendung bei der herstellung von mehrschichtlackierungen |
| DE3942766A1 (de) | 1989-12-23 | 1991-06-27 | Basf Lacke & Farben | Verfahren zum beschichten elektrisch leitfaehiger substrate, waessriger lack, epoxid-aminaddukt und verwendung des epoxid-aminadduktes als reibharz zur herstellung von pigmentpasten |
| JPH0418460A (ja) | 1990-05-11 | 1992-01-22 | Kansai Paint Co Ltd | カチオン電着塗料用樹脂組成物 |
| DE4126476C9 (de) | 1990-08-09 | 2004-10-21 | Kansai Paint Co., Ltd., Amagasaki | Verfahren zur Bildung eines Films aus einem Anstrichstoff |
| AT394729B (de) | 1990-09-17 | 1992-06-10 | Vianova Kunstharz Ag | Verfahren zur herstellung von vernetzungskomponenten fuer kathodisch abscheidbarelackbindemittel |
| JP2983370B2 (ja) | 1991-04-16 | 1999-11-29 | 関西ペイント株式会社 | 電着塗料組成物 |
| CZ282509B6 (cs) | 1992-05-29 | 1997-07-16 | Vianova Resins Aktiengesellschaft | Katalytické, kationové pojivo laku, způsob jeho výroby a jeho použití |
| US5266611A (en) | 1992-07-21 | 1993-11-30 | The Dexter Corporation | Waterborne epoxy derived adhesive primers |
| DE4235778A1 (de) | 1992-10-23 | 1994-04-28 | Herberts Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Mehrschichtlackierungen |
| US5376457A (en) | 1993-08-19 | 1994-12-27 | Volvo Gm Heavy Truck Corporation | Vehicle coating process |
| DE4330002C1 (de) | 1993-09-04 | 1995-03-23 | Herberts Gmbh | Verfahren zur Lackierung von metallischen Substraten und Anwendung des Verfahrens |
| DE4423139A1 (de) * | 1994-07-01 | 1996-01-04 | Hoechst Ag | Härtung von kataphoretischen Tauchlacken mit Wismutkatalysatoren |
| DE4434593A1 (de) | 1994-09-28 | 1996-04-04 | Herberts Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer korrosionsschützenden, gut haftenden Lackierung und die dabei erhaltenen Werkstücke |
| DE19512017C1 (de) | 1995-03-31 | 1996-07-18 | Herberts Gmbh | Verfahren zur Mehrschichtlackierung |
| DE19618379A1 (de) | 1996-05-08 | 1997-11-13 | Basf Lacke & Farben | Mit Copolymeren des Vinylacetats modifizierte in Wasser dispergierbare Epoxidharze |
| US5908912A (en) * | 1996-09-06 | 1999-06-01 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Electrodepositable coating composition containing bismuth and amino acid materials and electrodeposition method |
| JPH10204338A (ja) * | 1997-01-23 | 1998-08-04 | Nippon Paint Co Ltd | カチオン電着塗料組成物 |
| DE19703869A1 (de) | 1997-02-03 | 1998-08-06 | Basf Coatings Ag | Wäßrige Bindemitteldispersion für kationische Elektrotauchlacke |
| DE19713189A1 (de) | 1997-03-27 | 1998-10-01 | Kimberly Clark Gmbh | Absorbierender Artikel |
| JP2000189891A (ja) * | 1998-12-28 | 2000-07-11 | Nippon Paint Co Ltd | 複層塗膜形成方法、多層塗膜形成方法およびそれによって得られた多層塗膜 |
| DE19908144C1 (de) | 1999-02-25 | 2000-03-16 | Herberts Gmbh & Co Kg | Kathodisch abscheidbare Tauchlacke, deren Herstellung und Verwendung |
| JP2000301062A (ja) | 1999-04-19 | 2000-10-31 | Kansai Paint Co Ltd | 複層塗膜形成法 |
| DE10001222A1 (de) | 2000-01-14 | 2001-08-09 | Basf Coatings Ag | Beschichtung, enthaltend kolloidal verteiltes metallisches Bismut |
| JP2002066441A (ja) * | 2000-08-28 | 2002-03-05 | Kansai Paint Co Ltd | 複層塗膜形成方法 |
| US6730203B2 (en) * | 2000-09-20 | 2004-05-04 | Kansai Paint Co., Ltd. | Multi-layer coating film-forming method |
| JP2002086052A (ja) | 2000-09-20 | 2002-03-26 | Kansai Paint Co Ltd | 複層塗膜形成方法 |
| US6887360B2 (en) | 2001-10-12 | 2005-05-03 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Stable, reduced gloss electrocoat compositions and methods for using the same |
| US6811667B2 (en) | 2002-03-04 | 2004-11-02 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Cathodic electrodeposition coating agents containing bismuth complexes, preparation and use thereof |
| DE10236350A1 (de) | 2002-08-08 | 2004-02-19 | Basf Coatings Ag | Bismutverbindungen enthaltende Elektrotauchlacke (ETL) |
| WO2004031306A1 (en) * | 2002-10-01 | 2004-04-15 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Electrodepositable coating compositions and related methods |
| JP4141791B2 (ja) * | 2002-10-17 | 2008-08-27 | 日本ペイント株式会社 | カチオン電着塗料及び電着塗膜の光沢値制御方法 |
| US7632386B2 (en) | 2003-08-28 | 2009-12-15 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Process for producing coatings on electrically conductive substrates by cathodic electrodeposition coating |
| US20070089996A1 (en) * | 2003-09-11 | 2007-04-26 | Nippon Paint Co., Ltd. | Method of forming a cationic electrodeposition film forming an electric through hole and an electric through hole-forming cationic electrocoating composition |
| US7211182B2 (en) | 2003-09-23 | 2007-05-01 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for producing coatings on electrically conductive substrates by cathodic electrodeposition coating |
| US20070008999A1 (en) * | 2004-06-07 | 2007-01-11 | Maxion Technologies, Inc. | Broadened waveguide for interband cascade lasers |
| DE102005006296A1 (de) | 2005-02-11 | 2006-08-24 | Degussa Ag | Wässrige Zusammensetzungen |
| DE102005057853A1 (de) | 2005-12-03 | 2007-06-06 | Degussa Gmbh | Wässrige Harze |
| JP2008150654A (ja) * | 2006-12-15 | 2008-07-03 | Nippon Paint Co Ltd | 金属基材、金属前処理方法及び複合被膜形成方法 |
| DE102007038824A1 (de) | 2007-08-16 | 2009-02-19 | Basf Coatings Ag | Einsatz von Bismutsubnitrat in Elektrotauchlacken |
-
2007
- 2007-08-16 DE DE102007038824A patent/DE102007038824A1/de not_active Ceased
-
2008
- 2008-08-13 RU RU2010109453/05A patent/RU2010109453A/ru not_active Application Discontinuation
- 2008-08-13 CN CN201510452769.1A patent/CN105062181B/zh active Active
- 2008-08-13 ES ES08785518.5T patent/ES2684802T3/es active Active
- 2008-08-13 BR BRPI0815169-5A patent/BRPI0815169A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2008-08-13 US US12/673,202 patent/US9493660B2/en active Active
- 2008-08-13 JP JP2010520484A patent/JP5579061B2/ja active Active
- 2008-08-13 WO PCT/EP2008/006642 patent/WO2009021719A2/de not_active Ceased
- 2008-08-13 EP EP08785518.5A patent/EP2190936B1/de active Active
- 2008-08-13 CA CA2695954A patent/CA2695954A1/en not_active Abandoned
- 2008-08-13 KR KR1020107004869A patent/KR101488692B1/ko active Active
- 2008-08-13 MX MX2010000877A patent/MX2010000877A/es unknown
- 2008-08-13 CN CN200880103005A patent/CN101835852A/zh active Pending
-
2016
- 2016-09-27 US US15/277,095 patent/US10975252B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR101488692B1 (ko) | 2015-02-03 |
| EP2190936B1 (de) | 2018-05-23 |
| CN101835852A (zh) | 2010-09-15 |
| US9493660B2 (en) | 2016-11-15 |
| CN105062181A (zh) | 2015-11-18 |
| US20110094890A1 (en) | 2011-04-28 |
| EP2190936A2 (de) | 2010-06-02 |
| US20170015845A1 (en) | 2017-01-19 |
| CA2695954A1 (en) | 2009-02-19 |
| MX2010000877A (es) | 2010-04-30 |
| BRPI0815169A2 (pt) | 2015-03-31 |
| US10975252B2 (en) | 2021-04-13 |
| RU2010109453A (ru) | 2011-09-27 |
| JP5579061B2 (ja) | 2014-08-27 |
| KR20100066483A (ko) | 2010-06-17 |
| WO2009021719A2 (de) | 2009-02-19 |
| DE102007038824A1 (de) | 2009-02-19 |
| WO2009021719A3 (de) | 2009-11-12 |
| CN105062181B (zh) | 2022-08-05 |
| JP2010536943A (ja) | 2010-12-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| ES2684802T3 (es) | Empleo de subnitrato de bismuto en pinturas por electrodeposición | |
| ES2293080T3 (es) | Lacas electroforeticas que contienen compuestos de bismuto. | |
| KR101584655B1 (ko) | 폴리메틸렌 우레아를 함유하는 캐소드 전착 코팅 | |
| CA2397383A1 (en) | Coating that contains a colloidally dispersed metallic bismuth | |
| ES2280832T3 (es) | Utilizacion de compuestos de bismuto como bactericidas en lacas acuosas de deposicion electroforetica. | |
| KR100221035B1 (ko) | 음극 전착도료 | |
| US6410146B2 (en) | Cationic electrodeposition coating composition | |
| JP2020147740A (ja) | ポリイソシアネート組成物、ブロックポリイソシアネート組成物、塗料組成物及び塗膜 | |
| US6369134B2 (en) | Cationic electrodeposition coating composition containing plasticizer | |
| JP2009167320A (ja) | 塗膜の防錆性を向上させる方法 | |
| JP3814738B2 (ja) | 高耐食性電着塗膜被覆物 | |
| JPH07126557A (ja) | 表面平滑性を改善するカチオン電着塗料用樹脂 | |
| KR20190096677A (ko) | 전착 수지 조성물 및 이를 포함하는 전착 도료 키트 | |
| JP2002294175A (ja) | 陰極電着塗料組成物 | |
| JP2001323221A (ja) | 4級アンモニウム塩を含有するカチオン電着塗料組成物 | |
| JP2002038079A (ja) | カチオン電着塗料組成物の製造方法およびそれから得られるカチオン電着塗料組成物 |