ES2724562T3 - Tratamiento para rejillas de electrodeposición para evitar metalización de las rejillas - Google Patents
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- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 title claims abstract description 51
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 title claims description 23
- 229920001944 Plastisol Polymers 0.000 claims abstract description 69
- 239000004999 plastisol Substances 0.000 claims abstract description 69
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 52
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 49
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 38
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 35
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 27
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 26
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract description 22
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims abstract description 22
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 18
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 18
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 13
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims abstract description 11
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 19
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 17
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 11
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims description 9
- BOXSVZNGTQTENJ-UHFFFAOYSA-L zinc dibutyldithiocarbamate Chemical compound [Zn+2].CCCCN(C([S-])=S)CCCC.CCCCN(C([S-])=S)CCCC BOXSVZNGTQTENJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- -1 dibutyl dibutyl dibutyl nickel dimethyldithiocarbamate Chemical compound 0.000 claims description 5
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 4
- RKQOSDAEEGPRER-UHFFFAOYSA-L zinc diethyldithiocarbamate Chemical compound [Zn+2].CCN(CC)C([S-])=S.CCN(CC)C([S-])=S RKQOSDAEEGPRER-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- KMNUDJAXRXUZQS-UHFFFAOYSA-L zinc;n-ethyl-n-phenylcarbamodithioate Chemical compound [Zn+2].CCN(C([S-])=S)C1=CC=CC=C1.CCN(C([S-])=S)C1=CC=CC=C1 KMNUDJAXRXUZQS-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- DUBNHZYBDBBJHD-UHFFFAOYSA-L ziram Chemical compound [Zn+2].CN(C)C([S-])=S.CN(C)C([S-])=S DUBNHZYBDBBJHD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- BLCKKNLGFULNRC-UHFFFAOYSA-L n,n-dimethylcarbamodithioate;nickel(2+) Chemical compound [Ni+2].CN(C)C([S-])=S.CN(C)C([S-])=S BLCKKNLGFULNRC-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 3
- DRKOTOCDZAUOFY-UHFFFAOYSA-L zinc;n,n-bis(7-methyloctyl)carbamodithioate Chemical compound [Zn+2].CC(C)CCCCCCN(C([S-])=S)CCCCCCC(C)C.CC(C)CCCCCCN(C([S-])=S)CCCCCCC(C)C DRKOTOCDZAUOFY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- YBKBEKGVHFHCRI-UHFFFAOYSA-L zinc;piperidine-1-carbodithioate Chemical compound [Zn+2].[S-]C(=S)N1CCCCC1.[S-]C(=S)N1CCCCC1 YBKBEKGVHFHCRI-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 5
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 19
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 19
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 17
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid group Chemical class S(O)(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 5
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 5
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 5
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 5
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 2
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- WITDFSFZHZYQHB-UHFFFAOYSA-N dibenzylcarbamothioylsulfanyl n,n-dibenzylcarbamodithioate Chemical group C=1C=CC=CC=1CN(CC=1C=CC=CC=1)C(=S)SSC(=S)N(CC=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 WITDFSFZHZYQHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNDQILQPPKQROV-UHFFFAOYSA-N dizinc Chemical compound [Zn]=[Zn] QNDQILQPPKQROV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MMIPFLVOWGHZQD-UHFFFAOYSA-N manganese(3+) Chemical compound [Mn+3] MMIPFLVOWGHZQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 2
- AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N sulfur trioxide Chemical compound O=S(=O)=O AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-4-hydroxybutanoate Chemical compound OCC(N)CC(O)=O BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZKXGVXFYDVCQP-UHFFFAOYSA-N NC(S)=S.CCCC[Ni]CCCC Chemical compound NC(S)=S.CCCC[Ni]CCCC WZKXGVXFYDVCQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229930188620 butyrolactone Natural products 0.000 description 1
- 230000000711 cancerogenic effect Effects 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 231100000315 carcinogenic Toxicity 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 239000012990 dithiocarbamate Substances 0.000 description 1
- 150000004659 dithiocarbamates Chemical class 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000011946 reduction process Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N thiram Chemical compound CN(C)C(=S)SSC(=S)N(C)C KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N tin(ii) oxide Chemical class [Sn]=O QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- AUMBZPPBWALQRO-UHFFFAOYSA-L zinc;n,n-dibenzylcarbamodithioate Chemical compound [Zn+2].C=1C=CC=CC=1CN(C(=S)[S-])CC1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1CN(C(=S)[S-])CC1=CC=CC=C1 AUMBZPPBWALQRO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
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Abstract
Un método de revestimiento de una rejilla de electrodeposición utilizada para soportar sustratos no conductores durante un proceso de metalizado, comprendiendo el método las etapas de: a) contacto de al menos una porción de la rejilla de electrodeposición con una composición, teniendo dispersada la composición en ella un aditivo, donde el aditivo está presente en la composición a una concentración en el intervalo de 1 % a 20 % en peso; y b) curado de la composición de plastisol sobre la rejilla de electrodeposición caracterizado por que la composición es una composición de plastisol y el aditivo tiene la estructura**Fórmula** donde R, R', R" y R'" son iguales o se seleccionan independientemente entre alquilo de C1-C10 (de cadena lineal o ramificada), bencilo, bencilo sustituido, fenilo o fenilo sustituido y M es un catión de metal divalente, seleccionado del grupo que consiste en níquel, cobre y zinc.
Description
DESCRIPCIÓN
Tratamiento para rejillas de electrodeposición para evitar metalización de las rejillas
Campo de la invención
La presente invención se refiere de forma general a un método de tratamiento de rejillas de electrodeposición para soportar sustratos no conductores durante una etapa de metalización.
Antecedentes de la invención
Durante muchos años, han estado disponibles procesos para facilitar la deposición de metales electrodepositados sobre sustratos plásticos. Normalmente, el proceso implica las etapas de:
1) Grabado del plástico en una solución de grabado adecuada, de manera que la superficie del plástico quede rugosa y humedecida para que el depósito aplicado posteriormente tenga una buena adhesión;
2) Activación de la superficie del plástico utilizando una solución iónica o coloidal de un metal (normalmente paladio) capaz de iniciar la deposición de un revestimiento de metal aplicado autocatalíticamente (p.ej., cobre o níquel);
3) Deposición de una capa fina de metal aplicado autocatalíticamente; y
4) Realización de electrodeposición de metal sobre el sustrato de plástico metalizado.
Normalmente, se aplicarán capas de cobre, níquel y/o cromo para producir el artículo acabado.
Los sustratos de plástico cuyo uso está más extendido son los copolímeros de acrilonitrilo/butadieno/estireno (ABS) o ABS mezclado con policarbonato (ABS/PC). Estos materiales se conforman fácilmente en componentes a través del proceso de moldeo por inyección. ABS comprende una matriz relativamente dura de copolímero de acrilonitrilo/estireno y el butadieno se polimeriza para formar una fase por separado. Es esta fase más blanda de polibutadieno (que contiene enlaces dobles en la cadena principal de polímero) la que puede gravarse fácilmente aplicando diversas técnicas.
Tradicionalmente, se ha llevado a cabo el grabado utilizando una mezcla de ácidos crómico y sulfúrico empleados a una temperatura elevada. El ácido crómico es capaz de disolver la fase polibutadieno del a Bs por oxidación de los enlaces dobles en la cadena principal de polímero de polibutadieno, lo cual se ha demostrado que es seguro y eficaz con respecto a una amplia gama de plásticos de ABS y ABS/PC. Sin embargo, cada vez está más regulado el uso de ácido crómico debido a su toxicidad y naturaleza carcinogénica. Por esta razón, se ha realizado una considerable investigación en busca de otros medios para grabar plásticos de ABS y se ha señalado una serie de enfoques para conseguirlo.
Por ejemplo, el permanganato ácido sirve para oxidar los enlaces dobles del polibutadieno. La escisión de cadena puede conseguirse entonces a través de una posterior oxidación con iones periodato. El ozono también tiene capacidad de oxidar polibutadieno. Sin embargo, el uso de ozono es enormemente peligroso y es altamente tóxico. Asimismo, se puede utilizar trióxido de azufre para grabar ABS, pero no se ha conseguido con éxito en una línea de metalizado típica. Otros ejemplos de técnicas para grabar plásticos de ABS se describen en la publicación de patente estadounidense No. 2005/0199587 para Bengston, la publicación de patente estadounidense No.
2009/0092757 para Sakou et al., y la patente estadounidense No. 5.160.600 para Gordhanbai et al.
Más recientemente, se ha descubierto que el plástico de ABS y ABS/PC puede grabarse en una solución que contiene iones de manganeso (III) en ácido sulfúrico fuerte, tal como se describe en la publicación de patente estadounidense No. 2013/0186774 para Pearson et al.
Para metalizar componentes plásticos, se unen a rejillas de metalizado que transmiten la corriente eléctrica a los componentes de plástico sensibilizados y metalizados. Tras el montaje de las rejillas de metalizado, pero antes de su uso, es deseable cubrir al menos una porción de la rejilla con un revestimiento aislante de plástico o similar, y un revestimiento aislante preferente y utilizado comúnmente es un plastisol, como por ejemplo una resina de poli(cloruro de vinilo) dispersada en un plastificante (es decir, un “plastisol de PVC”). El uso de un revestimiento de plastisol evita que la rejilla se cubra de metal durante el proceso de electrodeposición. El uso de plastisoles, como plastisoles de PVC, para el metalizado de rejillas es muy conocido, tal como se describe por ejemplo en la patente estadounidense No. 3.357.913 para Zavarella y la patente estadounidense No. 4.297.197 para Salman.
El uso de ácido crómico en la etapa de grabado antes de la activación es eficaz para modificar la superficie del revestimiento del plastisol de manera que sea resistente a la metalización después de ser revestido con un activador de paladio (normalmente un coloide de paladio y estaño). Sin embargo, cuando se reemplaza el ácido crómico con otras técnicas de grabado, por ejemplo, empleando procesos que contienen permanganato o manganeso (III), el revestimiento de plastisol de la rejilla de metalizado queda revestido con el activador y posteriormente queda revestido con una capa de níquel o cobre en la fase de metalizado no electrolítico.
Por lo tanto, un importante problema asociado a todos los métodos conocidos actualmente en los que no se utiliza ácido crómico en la fase de grabado es que los revestimientos de la rejilla suelen quedar metalizados en la posterior fase de metalizado no electrolítico. Este fenómeno se conoce como “sobremetalización de rejilla” y ha constituido un importante problema con cualquier forma de tecnología de grabado sin cromo.
Existe la necesidad dentro de la técnica de un revestimiento de plastisol de PVC modificado que se pueda utilizar en un proceso de grabado sin cromo sin la posterior metalización de la rejilla y que no contenga ingredientes que lixivien el plastisol ni causen efectos perjudiciales en los tanques de tratamiento.
La patente japonesa JP-S58104197 divulga una composición de resina para un bastidor de metalizado para su uso en electrodeposición, donde la composición de resina comprende de 1 a 10 partes en peso (hasta 100 partes en peso de resina) de un compuesto que tiene la fórmula RiR2NCSSxCSNR3R4 , donde Ri, R2, R3 y R4 son grupos alquilo de cadena lineal o ramificada que tienen de 1 a 12 átomos de carbono. La resina puede seleccionarse entre solución de resina de cloruro de vinilo y resina de copolietileno.
Sumario de la invención
Un objeto de la presente invención es inhibir la sobremetalización de rejilla en el proceso de electrodeposición de sustratos no conductores.
Otro objeto de la presente invención es inhibir la sobremetalización de rejilla en el proceso de electrodeposición de sustratos no conductores en el que los sustratos no conductores se graban empleando un reactivo para el grabado sin cromo.
Otro objeto más de la presente invención es proporcionar un revestimiento de plastisol modificado para rejillas de electrodeposición utilizado para soportar sustratos no conductores durante el proceso de electrodeposición.
Otro objeto más de la presente invención es proporcionar un revestimiento de plastisol modificado en el que los componentes del revestimiento no lixivian el plastisol en la línea de metalización.
Para dicho fin, en una realización, la presente invención se refiere de forma general a un método de revestimiento de una rejilla de electrodeposición utilizada para soportar sustratos no conductores durante un proceso de metalizado, comprendiendo el método las etapas de:
a) contacto de al menos una porción de la rejilla de electrodeposición con una composición de plastisol, teniendo dispersada la composición de plastisol en ella un aditivo que tiene una estructura:
donde R, R’, R" y R’" son iguales o se seleccionan independientemente entre alquilo de C1-C10 (de cadena lineal o ramificada), bencilo, bencilo sustituido, fenilo o fenilo sustituido y M es un catión de metal divalente, preferentemente seleccionado del grupo que consiste en níquel, cobre y zinc, donde el aditivo está presente en la composición de plastisol a una concentración en el intervalo de 1 % a 20 % en peso; y
b) curado del plastisol para formar un revestimiento de aislamiento sólido sobre la rejilla de electrodeposición. En otra realización, la presente invención se refiere de forma general a un método de metalización de sustratos no conductores, comprendiendo el método las etapas de:
a) montar las partes que se van a metalizar sobre una o más rejillas de electrodeposición, donde las rejillas de electrodeposición se revisten con una composición de plastisol antes de curarse sobre al menos una porción de la rejilla de electrodeposición, teniendo la composición de plastisol dispersado en ella un aditivo que tiene la estructura:
donde R, R’, R" y R’" son iguales o se seleccionan independientemente entre alquilo de C1-C10 (de cadena lineal o ramificada), bencilo, bencilo sustituido, fenilo o fenilo sustituido y M es un catión de metal divalente, preferentemente seleccionado del grupo que consiste en níquel, cobre y zinc, donde el aditivo está presente en la composición de plastisol a una concentración en el intervalo de 1 % a 20 % en peso;
b) grabado de los sustratos no conductores montados sobre la rejilla de electrodeposición tratada con un reactivo para el grabado que no contiene ácido crómico;
c) activación de la superficie de los sustratos no conductores por inmersión de la rejilla de electrodeposición con los sustratos no conductores montados encima en una solución que comprende paladio;
d) inmersión de la rejilla de electrodeposición que contiene los sustratos no conductores grabados y activados montados encima en un baño de metalización no electrolítico para depositar el metal encima no electrolíticamente sobre ellos; y
e) electrodeposición de los sustratos no conductores para colocar en placa metal,
donde la composición de plastisol sobre la rejilla de electrodeposición permanece desprovista de metal depositado no electrolíticamente.
Tal como se utiliza en el presente documento, se pretende que composición de plastisol incluya cualquier composición de plástico aislante que pueda servir para revestir una rejilla de electrodeposición y curarse sobre ella.
Descripción detallada de las realizaciones preferentes
La presente invención permite el tratamiento de rejillas de electrodeposición utilizadas para el fin de soportar sustratos no conductores durante una etapa de metalización. El método descrito en el presente documento permite la activación eficaz de plásticos que se han grabado sin el uso de ácido crómico al mismo tiempo que se evita el problema generalizado de la “sobremetalización” de la rejilla que tiene lugar en procesos donde se utilizan reactivos para el grabado sin ácido crómico para la rugosidad inicial del plástico. Por otra parte, la presente invención se refiere de forma general a la catálisis y posterior metalización de plásticos como plásticos ABS y ABS/PC que se han grabado en soluciones de proceso que no contienen ácido crómico y sin problemas de “sobremetalización- sobre al menos rejillas parcialmente revestidas.
Los autores de la presente invención han descubierto que son particularmente eficaces dos clases de compuestos de órgano-azufre en particular para prevenir la sobremetalización de rejillas de metalizado revestidas con plastisol cuando se incorporan en los revestimientos de plastisol. Estos compuestos se incorporan preferentemente en los revestimientos de plastisol a una concentración en el intervalo comprendido entre aproximadamente 1 y aproximadamente 20 % en peso, y más preferentemente entre aproximadamente 5 y aproximadamente 15 % en peso. Los compuestos eficaces incluyen compuestos seleccionados entre las estructuras 1 y 2, a continuación, donde la estructura 1 no se reivindica.
Estructura 1:
Donde R, R’, R" y R’" son iguales o se seleccionan independientemente del grupo que consiste en bencilo, bencilo sustituido, fenilo o fenilo sustituido, y X=(S)n donde n = 1 a 6. Un compuesto particularmente preferente de esta
estructura es disulfuro de tetrabencil tiuram. Los autores de la presente invención han observado que la presencia de sustituyentes aromáticos parece conferir una eficacia enormemente mejorada.
Estructura 2:
Donde R, R', R" y R'" son iguales o se seleccionan independientemente entre alquilo de C1-C10 (de cadena lineal o ramificada), bencilo, bencilo sustituido, fenilo o fenilo sustituido y M es un catión de metal divalente, preferentemente seleccionado del grupo que consiste en níquel, cobre y zinc.
Entre los ditiocarbamatos adecuados se incluyen, por ejemplo, dimetilditiocarbamato de zinc (ZDMC), dietilditiocarbamato de zinc (ZDEC), dibutilditiocarbamato de zinc (ZDBC), etilfenilditiocarbamato de zinc (ZEPC), dibencilditiocarbamato de zinc (ZBEC), pentametilenditiocarbamato de zinc (Z5MC), dibutil ditiocarbamato de níquel, dimetilditiocarbamato de níquel y diisononilditiocarbamato de zinc. Un compuesto particularmente preferente de esta estructura es dibutilditiocarbamato de níquel, en el que R, R', R" y R'" son todos grupos butilo y M es níquel.
Los autores de la presente invención han observado que cuando se incorporan los compuestos descritos en plastisoles y se utilizan en el revestimiento de una rejilla de electrodeposición, el revestimiento de plastisol modificado es muy eficaz para prevenir la nucleación de depósitos de níquel no electrolíticos tras el grabado y activación en el procesamiento de componentes de plástico. Por otra parte, estos compuestos tienen una solubilidad muy baja en las soluciones de procesamiento, incluyendo los acondicionadores de disolvente que se suelen emplear para mejorar la eficacia de la fase de grabado.
Por lo tanto, en una realización, la presente invención se refiere de forma general a un método de revestimiento de una rejilla de electrodeposición utilizada para soportar sustratos no conductores durante un proceso de metalizado, comprendiendo el método las etapas de:
a) contacto de al menos una porción de la rejilla de electrodeposición con una composición de plastisol, teniendo la composición de plastisol dispersada en ella un aditivo que tiene la estructura:
donde R, R', R" y R'" son iguales o se seleccionan independientemente entre alquilo de C1-C10 (de cadena lineal o ramificada), bencilo, bencilo sustituido, fenilo o fenilo sustituido y M es un catión de metal divalente, preferentemente seleccionado del grupo que consiste en níquel, cobre y zinc, donde el aditivo está presente en la composición de plastisol a una concentración en el intervalo de 1 % a 20 % en peso; y
b) curado de la composición de plastisol sobre la rejilla de electrodeposición.
Si se desea, se puede hacer rugosa la rejilla de electrodeposición para proporcionar una mejor adhesión al revestimiento de plastisol aplicado. A continuación, preferentemente, se precalienta la rejilla de electrodeposición antes de la aplicación del revestimiento de plastisol y se aplica de este modo el revestimiento de plastisol en la rejilla de electrodeposición precalentada. La temperatura a la que se precalienta la rejilla de metalizado dependerá del tipo de plastisol utilizado, pero se encuentra preferentemente en el intervalo entre 149 y 260 °C (300 y 500 °F), más preferentemente entre 177 y 232 °C (de 350 a 450 °F).
En una realización preferente, se aplica el revestimiento de plastisol por revestimiento por inmersión de la rejilla de electrodeposición en un baño del plastisol. El espesor del revestimiento de plastisol se encuentra normalmente en el intervalo de 0,64 mm (25 mils) a 2,5 mm (100 mils) o más.
Para obtener un espesor de revestimiento suficiente y para que el revestimiento quede sin hoyos ni vacíos, se puede sumergir la rejilla de electrodeposición varias veces en el baño del plastisol. Entre cada una de las operaciones de
inmersión (si se aplican varias etapas de inmersión), preferentemente, se curan las rejillas de electrodeposición revestidas con plastisol en un horno durante un breve período de tiempo, por ejemplo, entre aproximadamente 1 y aproximadamente 10 minutos, más preferentemente, entre aproximadamente 3 y aproximadamente 6 minutos. Una vez que se obtiene un revestimiento de plastisol que tiene el espesor deseado, se cura el revestimiento a una temperatura comprendida entre 149 y 204 °C (300 y 400 °F), más preferentemente entre 163 y 191 °C (de 325 a aproximadamente 375 °F) durante al menos 30 minutos y hasta 3-4 horas dependiendo del espesor del revestimiento y la eficiencia del horno para cocer (o curar) sólidamente el plastisol y formar el revestimiento de aislamiento sólido.
La presente invención se refiere también de manera general a un método para metalizar sustratos no conductores, comprendiendo el método las etapas de:
1) Preparación de una rejilla de electrodeposición revestida con plastisol tal como se ha descrito;
2) Montaje de las partes que se van a metalizar sobre la rejilla;
3) Grabado de los componentes de plástico montados sobre las rejillas tratadas en soluciones de grabado que no contienen ácido crómico (incluyendo por ejemplo soluciones de grabado a base de permanganato o manganeso (III);
4) Activación de la superficie del plástico por inmersión de las rejillas de metalizado en una solución que comprende paladio;
5) Inmersión de la rejilla en un proceso de aceleración para eliminar los óxidos de estaño protectores de la superficie (en el caso de paladio coloidal/activación de estaño) o inmersión de la rejilla en un proceso de reducción para formar metal paladio sobre la superficie (en el caso de paladio iónico);
6) Inmersión de las rejillas que contienen las partes grabadas y activadas en un baño de metalización para depositar químicamente o bien níquel o bien cobre sobre la superficie de la parte activada; y
7) Electrodeposición de las partes, normalmente por metalizado con cobre, níquel y/o cromo.
La invención quedará ilustrada a continuación haciendo referencia a los siguientes ejemplos no exhaustivos:
Ejemplo comparativo 1:
Se sometió a la siguiente secuencia de proceso una pieza de ensayo de rejilla de metalizado revestida en un revestimiento de plastisol de PVC (Ohmax, que es una marca comercial de MacDermid, Inc.) y un panel de ensayo de ABS:
1) Inmersión en un detergente alcalino (ND7, que es un producto de MacDermid, Inc.) a una temperatura de 50 °C durante 2 minutos, seguido de aclarado en agua;
2) Inmersión en una mezcla de disolventes que comprende carbonato de propileno (10 %) y butirolactona (5 %) a una temperatura de 35 °C durante 3 minutos seguido de aclarado en agua;
3) Inmersión en una solución de ácido sulfúrico al 40 % en peso durante 1 minuto;
4) Inmersión en una solución de grabado de plástico con contenido en iones manganeso (III) y ácido sulfúrico de acuerdo con las directrices expuestas en la publicación de patente estadounidense No. 2013/186774 para Pearson et., cuya materia objeto se incorpora en el presente documento como referencia en su totalidad, a una temperatura de 65 °C durante 10 minutos;
5) Aclarado en agua;
6) Neutralización en una solución ácida que contiene ácido ascórbico;
7) Aclarado en agua;
8) Inmersión en una solución que consiste en 30 % en peso de ácido clorhídrico a temperatura ambiente durante 1 minuto;
9) Inmersión en una solución de activación que comprende un coloide de paladio (Mactivate D34c, distribuida por MacDermid, Inc.) a una temperatura de 30 °C durante 3 minutos, seguido de aclarado con agua;
10) Inmersión en un acelerador (Ultracel 9369, distribuido por MacDermid, Inc.) a una temperatura de 50 °C durante 2 minutos, seguido de aclarado con agua;
11) Inmersión en una solución de metalizado con níquel no electrolítica (Macuplex J64, di MacDermid, Inc.) a una temperatura de 30 °C durante un período de 7 minutos seguido de aclarado con agua;
12) Secado de la rejilla para su examen.
Tras este tratamiento, se examinaron las piezas de ensayo y se observó que aproximadamente un 95% del revestimiento de la rejilla estaba cubierto en níquel. A continuación, se separó el depósito de níquel de la rejilla utilizando un 50 % en volumen de solución de ácido nítrico y se repitieron las etapas 1-12 varias veces utilizando un panel de ABS nuevo para cada ciclo. El ensayo tuvo como resultado siempre un cubrimiento de más del 85 % del revestimiento de rejilla y el cubrimiento completo del panel de ABS.
Ejemplo comparativo 2:
Se preparó un recubrimiento de plastisol incorporando 5 % en peso de monosulfuro de tetrametil tiuram en plastisol Ohmax utilizando una mezcladora de vacío para evitar la inclusión de burbujas de aire en el plastisol. Este plastisol
modificado queda abarcado en las directrices de la patente japonesa JP 58-104-197. Se utilizó el plastisol para revestir una pieza de ensayo de rejilla de metalizado que se sometió después a la misma secuencia de procesamiento que la utilizada en el Ejemplo comparativo 1.
En este caso, no hubo evidencia alguna de metalizado con níquel sobre la rejilla de metalizado y el panel de ABS procesado al mismo tiempo presentó un cubrimiento con níquel completo. Se repitió la secuencia del proceso cinco veces utilizando un panel de ABS nuevo para cada ciclo. Al cabo de tres ciclos, el panel de ensayo de ABS empezó a presentar un cubrimiento con níquel incompleto y tras cinco ciclos, el panel de ensayo de ABS presentó un cubrimiento de níquel mínimo como consecuencia de la contaminación de los tanques de proceso con el monosulfuro de tetrametil tiuram.
Ejemplo 1:
Se preparó un revestimiento de plastisol incorporando un 15% en peso de dibutilditiocarbamato de níquel en plastisol de Ohmax utilizando una mezcladora de vacío para evitar la inclusión de burbujas de aire en el plastisol. Se utilizó este plastisol modificado para revestir una rejilla de metalizado que fue sometida después a la misma secuencia de procesamiento que la utilizada en el Ejemplo comparativo 1. En este caso, no hubo evidencia alguna de metalización con níquel sobre la rejilla de metalizado.
Se repitió la secuencia del proceso 30 veces con el mismo resultado. Para cada ciclo, se procesó un panel de ABS al mismo tiempo y dicho panel presentó un cubrimiento completo en el metalizado con níquel en cada ciclo.
Ejemplo 2: (no de acuerdo con la presente invención)
Se preparó un revestimiento de plastisol incorporando 5 % en peso de disulfuro de tetrabencil tiuram en plastisol de Ohmax utilizando una mezcladora de vacío para evitar la inclusión de burbujas de aire en el plastisol. Se utilizó este plastisol modificado para revestir una rejilla de metalizado que fue sometida después a la misma secuencia de procesamiento que la utilizada en el Ejemplo comparativo 1. En este caso, no hubo evidencia alguna de metalización con níquel sobre la rejilla de metalizado.
Se repitió la secuencia del proceso 30 veces con el mismo resultado. Para cada ciclo, se procesó un panel de ABS al mismo tiempo y dicho panel presentó un cubrimiento completo en el metalizado con níquel en cada ciclo.
Claims (11)
1. Un método de revestimiento de una rejilla de electrodeposición utilizada para soportar sustratos no conductores durante un proceso de metalizado, comprendiendo el método las etapas de:
a) contacto de al menos una porción de la rejilla de electrodeposición con una composición, teniendo dispersada la composición en ella un aditivo, donde el aditivo está presente en la composición a una concentración en el intervalo de 1 % a 20 % en peso; y
b) curado de la composición de plastisol sobre la rejilla de electrodeposición
caracterizado por que la composición es una composición de plastisol y el aditivo tiene la estructura
donde R, R’, R" y R’" son iguales o se seleccionan independientemente entre alquilo de C1-C10 (de cadena lineal o ramificada), bencilo, bencilo sustituido, fenilo o fenilo sustituido y M es un catión de metal divalente, seleccionado del grupo que consiste en níquel, cobre y zinc.
2. El método de acuerdo con la reivindicación 1, donde la composición de plastisol es un plastisol de PVC.
3. El método de acuerdo con la reivindicación 1, donde el aditivo se selecciona del grupo que consiste en dimetilditiocarbamato de zinc, dietilditiocarbamato de zinc, dibutilditiocarbamato de zinc, etilfenilditiocarbamato de zinc, dibencilditiocarbamato de zinc, pentametilenditiocarbamato de zinc, dibutil ditiocarbamato de níquel, dimetilditiocarbamato de níquel, diisononilditiocarbamato de zinc y combinaciones de uno o más de los mencionados, opcionalmente, dimetilditiocarbamato de níquel.
4. El método de acuerdo con la reivindicación 1, donde el aditivo está presente en la composición de plastisol a una concentración en el intervalo de aproximadamente 5 % a aproximadamente 15 % en peso.
5. El método de acuerdo con la reivindicación 1, donde se repiten varias veces las etapas a) y b).
6. Un método de metalización de sustratos no conductores, comprendiendo el método las etapas de:
a) montar partes que se van a metalizar sobre una o más rejillas de electrodeposición, donde las rejillas de electrodeposición se revisten con una composición de plastisol curada para formar un revestimiento de aislamiento sólido sobre al menos una porción de la rejilla de electrodeposición, teniendo la composición dispersado en ella un aditivo presente en la composición a una concentración en el intervalo de 1 % a 20 % en peso, teniendo el aditivo la estructura:
donde R, R’, R" y R’" son iguales o se seleccionan independientemente entre alquilo de C1-C10 (de cadena lineal o ramificada), bencilo, bencilo sustituido, fenilo o fenilo sustituido y M es un catión de metal divalente, seleccionado del grupo que consiste en níquel, cobre y zinc;
b) grabado de los sustratos no conductores montados sobre la rejilla de electrodeposición tratada con un reactivo para el grabado que no contiene ácido crómico;
c) activación de la superficie de los sustratos no conductores por inmersión de la rejilla de electrodeposición con los sustratos no conductores montados encima en una solución que comprende paladio;
d) inmersión de la rejilla de electrodeposición que contiene los sustratos no conductores grabados y activados montados encima en un baño de metalización no electrolítico para depositar el metal encima no electrolíticamente; y
e) electrodeposición de los sustratos no conductores para colocar en placa metal encima,
donde el revestimiento de plastisol modificado sobre la rejilla de electrodeposición permanece desprovisto de metal depositado no electrolíticamente.
7. El método de acuerdo con la reivindicación 6, donde la composición de plastisol es un plastisol de PVC.
8. El método de acuerdo con la reivindicación 6, donde el aditivo se selecciona del grupo que consiste en dimetilditiocarbamato de zinc, dietilditiocarbamato de zinc, dibutilditiocarbamato de zinc, etilfenilditiocarbamato de zinc, dibencilditiocarbamato de zinc, pentametilenditiocarbamato de zinc, dibutil ditiocarbamato de níquel, dimetilditiocarbamato de níquel, diisononilditiocarbamato de zinc y combinaciones de uno o más de los mencionados.
9. El método de acuerdo con la reivindicación 8, donde el aditivo comprende dimetilditiocarbamato de níquel.
10. El método de acuerdo con la reivindicación 6, donde el aditivo está presente en la composición de plastisol a una concentración en el intervalo de aproximadamente 5 % a aproximadamente 15 % en peso.
11. Una rejilla de electrodeposición utilizada para soportar sustratos no conductores durante un proceso de metalizado, comprendiendo la rejilla de electrodeposición:
a) elementos de metal revestidos con una composición curada, teniendo la composición dispersada en ella un aditivo, donde el aditivo está presente en la composición a una concentración en el intervalo de aproximadamente 1 % a aproximadamente 20 % en peso,
caracterizada porque la composición es una composición de plastisol y el aditivo tiene la estructura:
donde R, R', R" y R'" son iguales o se seleccionan independientemente entre alquilo de C1-C10 (de cadena lineal o ramificada), bencilo, bencilo sustituido, fenilo o fenilo sustituido y M es un catión de metal divalente, seleccionado del grupo que consiste en níquel, cobre y zinc.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US14/454,131 US9809899B2 (en) | 2014-08-07 | 2014-08-07 | Treatment for electroplating racks to avoid rack metallization |
| PCT/US2015/043570 WO2016022535A1 (en) | 2014-08-07 | 2015-08-04 | Treatment for electroplating racks to avoid rack metallization |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ES2724562T3 true ES2724562T3 (es) | 2019-09-12 |
Family
ID=55264418
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| ES15830311T Active ES2724562T3 (es) | 2014-08-07 | 2015-08-04 | Tratamiento para rejillas de electrodeposición para evitar metalización de las rejillas |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9809899B2 (es) |
| EP (1) | EP3186416B1 (es) |
| JP (1) | JP6405448B2 (es) |
| KR (1) | KR101923915B1 (es) |
| CN (1) | CN107075709B (es) |
| BR (1) | BR112017002502B1 (es) |
| CA (1) | CA2957301C (es) |
| ES (1) | ES2724562T3 (es) |
| MX (1) | MX388821B (es) |
| TR (1) | TR201906834T4 (es) |
| TW (1) | TWI586772B (es) |
| WO (1) | WO2016022535A1 (es) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10640881B2 (en) * | 2015-08-05 | 2020-05-05 | Saporito Finishing Company | Electroplating rack |
| EP3228729A1 (en) | 2016-04-04 | 2017-10-11 | COVENTYA S.p.A. | Process for metallization of an article having a plastic surface avoiding the metallization of the rack which fixes the article within the plating bath |
| KR101864757B1 (ko) * | 2016-11-11 | 2018-06-05 | 한국생산기술연구원 | 도금용 랙의 절연코팅 조성물 및 그 제조방법 |
| KR101982709B1 (ko) * | 2016-11-30 | 2019-05-27 | 한국생산기술연구원 | 도금용 랙의 점착성 절연코팅 조성물 및 이의 제조방법 |
| FR3074808B1 (fr) | 2017-12-13 | 2020-05-29 | Maxence RENAUD | Outillage de galvanoplastie |
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| CN110791790A (zh) * | 2019-10-13 | 2020-02-14 | 湖州师范学院 | 一种挂具胶组合物 |
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| US9765437B2 (en) | 2009-03-24 | 2017-09-19 | Roderick D. Herdman | Chromium alloy coating with enhanced resistance to corrosion in calcium chloride environments |
| JP5942429B2 (ja) | 2010-06-10 | 2016-06-29 | 三菱レイヨン株式会社 | アクリル系重合体の製造方法、及びプラスチゾル組成物の製造方法 |
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| US20150233011A1 (en) * | 2014-02-19 | 2015-08-20 | Macdermid Acumen, Inc. | Treatment for Electroplating Racks to Avoid Rack Metallization |
-
2014
- 2014-08-07 US US14/454,131 patent/US9809899B2/en active Active
-
2015
- 2015-07-20 TW TW104123359A patent/TWI586772B/zh active
- 2015-08-04 CN CN201580042233.0A patent/CN107075709B/zh active Active
- 2015-08-04 MX MX2017001750A patent/MX388821B/es unknown
- 2015-08-04 WO PCT/US2015/043570 patent/WO2016022535A1/en not_active Ceased
- 2015-08-04 BR BR112017002502-7A patent/BR112017002502B1/pt active IP Right Grant
- 2015-08-04 TR TR2019/06834T patent/TR201906834T4/tr unknown
- 2015-08-04 CA CA2957301A patent/CA2957301C/en active Active
- 2015-08-04 EP EP15830311.5A patent/EP3186416B1/en active Active
- 2015-08-04 ES ES15830311T patent/ES2724562T3/es active Active
- 2015-08-04 KR KR1020177006215A patent/KR101923915B1/ko active Active
- 2015-08-04 JP JP2017506664A patent/JP6405448B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2016022535A1 (en) | 2016-02-11 |
| US9809899B2 (en) | 2017-11-07 |
| KR20170041813A (ko) | 2017-04-17 |
| EP3186416A4 (en) | 2018-04-11 |
| CN107075709A (zh) | 2017-08-18 |
| JP6405448B2 (ja) | 2018-10-17 |
| TWI586772B (zh) | 2017-06-11 |
| BR112017002502B1 (pt) | 2021-10-19 |
| MX2017001750A (es) | 2017-05-30 |
| CA2957301C (en) | 2018-10-23 |
| CN107075709B (zh) | 2019-03-08 |
| CA2957301A1 (en) | 2016-02-11 |
| EP3186416B1 (en) | 2019-04-17 |
| US20160040315A1 (en) | 2016-02-11 |
| JP2017525850A (ja) | 2017-09-07 |
| BR112017002502A2 (pt) | 2017-12-05 |
| MX388821B (es) | 2025-03-20 |
| TW201610040A (zh) | 2016-03-16 |
| KR101923915B1 (ko) | 2018-11-30 |
| EP3186416A1 (en) | 2017-07-05 |
| TR201906834T4 (tr) | 2019-05-21 |
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