JP2000221704A - 感光体用基体の再生方法 - Google Patents
感光体用基体の再生方法Info
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- JP2000221704A JP2000221704A JP2332899A JP2332899A JP2000221704A JP 2000221704 A JP2000221704 A JP 2000221704A JP 2332899 A JP2332899 A JP 2332899A JP 2332899 A JP2332899 A JP 2332899A JP 2000221704 A JP2000221704 A JP 2000221704A
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Abstract
古、製造不良品等の複写機、プリンター等の電子写真画
像形成装置用の有機感光体から、再利用可能な導電性基
体を、容易な処理で、低廉なコストで、回収できる感光
体用基体の再生方法を提供することである。 【解決手段】 基体上に少なくとも下引き層及び感光層
を積層させてなる感光体から、前記感光体上の積層物を
除去させて前記基体を再利用するに際して、前記積層物
を剥離液で一度に膨潤・剥離させるか又は上層の前記感
光層を溶解除去させた後、下引き層を前記剥離液で膨潤
・剥離させるかして、基体表面を露出させた後、洗浄液
を含浸する部材で摺擦処理する感光体用基体の再生方
法。
Description
生方法に関し、更に詳しくは、使い古して廃棄された感
光体又は性能低下した中古の感光体或いは製造時に発生
する不良品の感光体等から、その基体上の積層物を剥離
・除去し、再利用可能な基体を回収するための感光体基
体の再生方法に関するものである。
業廃棄物の処分が、大きな社会問題になっている。ま
た、このように廃棄される産業廃棄物は多岐にわたり、
その業種にもよるが、その多くは、使い古した中古品と
して廃棄されるか、また、生産工場から不良品として排
出される使用不可能なものである。このようは状況下
に、近年は、その処分地を確保することが困難になって
おり、また、その廃棄物がもたらす各種の環境破壊等が
深刻な社会問題になっていることから、従来のように、
単に廃棄処分するだけでは済まされなくなっており、そ
れぞれの業界で、廃棄処分をやめて可能な限り、回収・
再利用をすることが進められている。
プリンター、LEDプリンター、リーダプリンター、レ
ーザーファクシミリ、画像表示装置等の電子写真式画像
形成装置等には、ドラム型又はベルト型等の感光体が使
用され、その感光体には金属又は金属合金製の導電性基
体が用いられており、このような基体は、回収して再利
用するべきである。また、通常、その多くの感光体は、
有機感光体と言われ各種の有機感光剤や各種の樹脂が使
われていることから、廃棄することにより、環境ホルモ
ン等の生態系への懸念もあることから、回収リサイクル
することは極めて重要なことである。
特開平3−055556号公報には、ウオータージェッ
トの衝撃水や水中超音波処理等による衝撃外力で剥離す
る方法が記載されている。しかし、このような提案で
は、基体上の積層膜を破砕させ、部分的に剥離させるこ
とができるものの、完全剥離は困難であり、衝撃エネル
ギー及びその水量の割には非効率的な方法で、しかも、
基体自体に損傷を与える傾向がある。
平9−211875号公報には、感光層を溶解すること
による再生方法が記載されている。しかしながら、処理
中の溶解液に樹脂や添加剤粒子等の不溶物の混入量が多
くなり易く、そのため溶解液の多回使用ができなくなっ
たり、また、基体面にこれらの不溶物が付着する傾向か
ら、その後の摺擦処理中において、この付着不溶物が摺
擦部材に付着して、この摺擦部材の処理能力を極端に低
下させる等の支障が避けられない。そのため、これらの
溶解液や、摺擦部材を再生させる処理を必要とする他、
下引き層が溶剤に不溶の場合には、他の処理を組み合わ
せなければならず、処理コスト的に満足される方法では
ない。
は、酸化性の酸を用いて酸化膨潤させて剥離する方法が
記載されている。この方法では下引き層を膨潤・剥離さ
せるには効果的であるものの、感光層に対しては他の処
理法を組み合わせなければならず、作業性を低下させる
ばかりでなく、コスト的にも不利な方法である。
5−181289号、特開平8−6264号、特開平8
−220779号、特開平8−286394号及び特開
平10−39520号公報には、積層されている各層の
樹脂分を膨潤させた後、剥離する方法が種々記載されて
いる。これらの方法は、基体自体への損傷もなく、剥離
液の多回使用にも優れているが、その各積層が樹脂分の
みで構成されている場合には有効であるが、通常、各層
には樹脂分以外に異質の各種の添加剤粒子が含有されて
いることから、これらとの相容性が無視される傾向か
ら、処理後においても部分的に残留する傾向から、十分
に満足される方法ではない。
は、感光層除去後の基体面を、沸点150℃以上のパラ
フィン系化合物を併用しながら摺擦処理をする方法が記
載されている。しかしながら、新たに基体面に付着する
前記パラフィン系化合物の除去する脱脂処理を要するこ
とから、処理コストがかさみ、満足されるものではな
い。
する公報には種々の再生方法が提案されているが、これ
らの提案からも明らかなように、積層膜を剥離・除去さ
せて再利用可能な基体を回収する方法としては、何れに
も未解決の問題を有しており、未だ十分に満足される再
生方法が得られていないのが実状である。
記問題を解消すべく、使い古して機能低下した中古感光
体及び製造時の不良品の感光体から、単純な処理操作
で、その処理が容易であり、基体自体に対する損傷がな
く、処理コストも低廉であり、しかも、従来法では除去
されずに残留しがちであった微量異物をも効果的に完全
に除去されて、再利用にあたって、品質面からも塗膜欠
陥、画像欠陥、静電特性異状等がなく、新規基体と同等
の基体表面を有する感光体基体の再生方法を提供するこ
とにある。
鑑みて、実用に供せられない感光体から、その積層物を
除去させて、再度、再利用できる基体を回収すべく、鋭
意検討した結果、効果的にこの積層物が剥離され、且つ
洗浄される方法、または、それに用いる処理液を見出
し、本発明を完成させるに至った。
下引き層及び感光層を積層させてなる感光体から、前記
基体上の積層物を除去させて前記基体を再利用するに際
して、前記積層物を剥離液で一度に膨潤・剥離させるか
又は上層の前記感光層を溶解除去させた後、下引き層を
前記剥離液で膨潤・剥離さるかして、基体表面を露出さ
せた後、洗浄液を含侵する部材で摺擦処理することを特
徴とする感光体用基体の再生方法を提供する。
法で剥離処理又は溶解処理させて、且つ露出した基体面
(通常、金属面である)に残留する異物を洗浄液を含浸
させた部材で、その面を摺擦処理することにより、後述
する実施例から明らかなように、回収される基体面は、
新規基体と同等の外観を有しており、この基体に再度、
機能性樹脂層を積層させて得られる感光体は、再生感光
体として実用に供せられる特性を発揮することができる
ものである。
れば、感光体の基体として再生利用可能な基体を回収す
るに際して、基体面上の積層物を浸漬法による剥離又は
溶解処理させた後、露出基体金属面に残留する異物を洗
浄液を含浸させた部材で摺擦処理することを特徴とす
る。
用基体の再生方法の実施の形態について、更に、詳細に
説明する。
基体としては、その形状が円筒状でも、ベルト状でも、
特に限定されない。また、その表面も特に導電性でなく
とも対処することができるが、好ましくは、その形状が
円筒状(又は、ドラム型)であって、その表面が、導電
性であって、例えば、金属、その金属を主成分とする合
金や、或いはアルミナ基板等の絶縁性支持体面に金属又
は導電性樹脂膜を設けた基体であれば、適宜に本発明の
再生方法が使用されるものである。
に汎用されて低廉である、アルミニウム、ニッケル、
鉄、ステンレス及び銅等を挙げることができる。特に、
加工性、耐蝕性の点から、アルミニウムがより好適に使
用されている。また、絶縁性基体に導電性樹脂層を塗膜
形成させたものとしては、例えば、アルミニウム、金、
銀、銅等の金属粉体、また、酸化錫、酸化インジウム等
の導電性金属酸化物粉体等を分散させてなる樹脂塗料を
塗工形成させたものが挙げられ、これらを導電性基体と
する感光体に対しても適宜に本発明の再生方法を使用す
ることができる。ここで、これらの樹脂塗料に使用され
ている結着樹脂として、例えば、ポリエステル、ポリプ
ロピレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアク
リルアミド、ポリイミド、ポリウレタン、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂、ポリ塩化ビニル等を挙げることがで
きる。
記した結着樹脂そのものを塗布させて下引き層としても
よく、また、下引き層として、例えば、アルキッド、メ
ラミン、フェノール、ポリウレタン、エポキシ、ポリア
ミド、ベンゾグアナミン、カゼイン等の結着樹脂中に、
酸化チタン、酸化亜鉛、シリカ、チタン酸塩、カオリ
ン、スメクタイト粘土鉱物等の無機体質顔料粉体を分散
させた樹脂塗料からなる膜を塗工形成させてなる下引き
層を有する感光体に対しても、適宜に本発明の再生方法
を使用することができる。また、これらの結着樹脂又は
これらの体質顔料の単独又は2種類以上を組み合わせて
形成された、下引き層である感光体であっても、適宜に
対処することができる。なお、この下引き層は、従来か
ら、通常、0.1〜10μm厚、より一般的には、1〜
6μm厚で形成されている。
る感光体は、上記する下引き層上に感光層が積層されて
おり、また、この感光層は、通常、電荷発生層と電荷輸
送層とが積層形成されているものである。
荷発生層には、光照射により電荷を発生する電荷発生材
料を主成分として、必要に応じて可塑剤、増感剤等を含
有している。その電荷発生材料としては、例えば、ペリ
レン系、アゾキシベンゼン系、ベンズイミダゾール系、
多環キノン系、インジゴイド系、キナクリドン系、フタ
ロシアニン系、メチン系等の有機顔料、カルバゾール骨
格、スチリルスチルベンゼン骨格、トリフェニルアミン
骨格、フルオロノン骨格及びジスチルカルバゾール骨格
等を有するアゾ系顔料、アズレニウム色素、スクエアリ
ウム色素、チアピリリウム色素等を挙げることができ
る。
ブチラール、ポリスチレン、シリコン樹脂及びポリエス
テル等が挙げられ、本発明において、これらの樹脂の単
独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
また、その分散溶媒には、シクロヘキサン、THF、ア
セトン、トルエン及びアルコール類等が使用される。そ
こで、これらの三者のそれぞれ所定量を、ボールミル、
ビーズミル、アトライター、グレルミル及びサンドミル
等に入れて分散・混合させることにより、電荷発生層を
形成させる樹脂塗料が調製される。なお、この電荷発生
層は、従来から、通常、0.1〜2μm厚で感光層に積
層形成されている。
に、既に上述したように、さらに、通常、電荷輸送層を
形成させたものが、従来から、一般的に用いられている
有機感光体と言われているものである。この電荷輸送層
には、電荷発生層で発生した電荷を受けて輸送能力を有
する電荷輸送材料が用いられ、必要に応じて公知のレベ
リング剤、可塑剤、増感剤等を含有している。その電荷
輸送剤として、例えば、ポリ−N−ビニルカルバゾール
及びその誘導体、ピレンーホルムアルデヒド縮合物及び
その誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニルフェナトレ
ンオキサゾール誘導体、オキソジアゾール誘導体、イミ
ダゾール誘導体、スチリルアントラセン、スチリルピラ
ゾリン、ヒェニルヒドラゾン類及びヒドラゾン誘導体等
の電子供与物質、フルオレノン誘導体、ジベンゾチオフ
ェン誘導体、フェナンストレンキノン誘導体、インデノ
ピリジン誘導体、チオキサトン誘導体、フェナジンオキ
サイド誘導体、テトラシアノエチテン、テトラシアノキ
ノジメタン、クロラニル及びベンゾキノン等の電子受容
物質等を挙げることができる。
ブチラール、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリエス
テル、ポリケトン、ポリウレタン、ポリアクリルアミ
ド、ポリスチレン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、フ
ェノール樹脂及びエポキシ樹脂等を挙げることができ、
本発明において、これらの樹脂の単独又は2種以上を組
み合わせて使用され、また、その分散溶媒には、ジクロ
ロメタン、ジクロロエタン、THF、トルエン等が使用
される。これらの三者のそれぞれ所定量を、上記する電
荷発生層を形成させる樹脂塗料と同様にして、電荷輸送
層を形成させる樹脂塗料が調製される。なお、この電荷
輸送層は、従来から、通常、15〜40μm厚で積層形
成されている。
で回収された基体上に、再度、これらの下引き層、電荷
発生層及び電荷輸送層を積層形成させることにより、感
光体として再生される。そこで、感光体に再生するに
は、従来から公知の方法である浸漬塗工法、スプレー塗
工法、ブレードコーテイング法、ローラーコーテイング
法及びリング塗工法等を適宜使用することができる。な
お、回収された基体面は、既にサンドペーパー等で傷擦
されている場合が一般的であることから、通常、回収基
体の表面に、この傷擦・研磨処理をすることなく、下引
き層を塗工形成させることができる。
感光体には、基体面に上記したように、少なくとも下引
き層、電荷発生層及び電荷輸送層からなる積層物が形成
され、これらの積層物には、各種の有機化合物のみなら
ず、体質顔料や導電材としての金属又はその無機化合物
等を含有している。本発明においては、このような感光
体であって、中古として機能を低下したものとか、また
は、生産時の不良品として使用できない感光体等から、
後述する実施例から明らかなように、既に上述した方法
によって、効果的にこれらの積層物を、剥離又は溶解除
去させられる。しかも、従来法とは異なり、回収され、
金属面を露出した基体面に残留しがちであった微細な異
物を、特定の洗浄液を用いる摺擦処理を組み合わせるこ
とにより、比較的に容易に、完全除去され、その表面は
感光体として再利用可能な基体として回収されるのであ
る。
体と呼ばれている上記感光体を特定の剥離液又は特定の
溶解液に浸漬させて、この積層物を剥離又は溶解除去さ
せるに、好ましくは、剥離液として、有機化合物の水溶
液及び/又は無機酸の水溶液を、単独又はこれらを組み
合わせることにより、効果的に積層物を除去することが
できるものである。この剥離液は、積層物の樹脂分を膨
潤させて剥離を容易にするか、または、溶解させる水溶
性の有機化合物であれば、好適に使用することができ
る。このような水溶性有機物として、例えば、メチルセ
ルソルブ、ブチルセルソルブ、THF、MEK、メチル
イソブチルケトン、アセトン、シクロヘキサン、メタノ
ール、ジエチルグリコール、塩化メチル、N,N' −ジ
メチルアセトアミド、N,N'−ジメチルホルムアミ
ド、酢酸エチル、アジピン酸ジメチル、グルタミン酸ジ
メチル、コハク酸ジメチル、2エチルヘキサン、オレイ
ン酸等が挙げられ、本発明において、これらの単独又は
2以上を組み合わせて使用してもよい。また、必要に応
じて、これらの剥離液に、少量の界面活性剤(カチオン
性、アニオン性及びノニオン性の何れであってもよい)
を添加するこができる。
る、無機酸としては、硝酸、塩酸及び硫酸の単独又は組
み合わせ更には混酸等が用いられ、その種類にもよる
が、通常、20〜80%濃度の水溶液として適宜使用す
ることができる。なかでも、特に、硝酸は上記積層物の
剥離性の点から、好適に用いられる(後述する表3を参
照)。
分〜数時間浸漬させるに、静置下でも攪拌下でもよい
が、好ましくは、後者の攪拌下の方が、これらの溶液を
積層面及び積層物により効率よく浸透させられるので、
樹脂分又は積層物の分解・溶解をさせるこができる。ま
た、この浸漬処理後、取り出された感光体を、従来から
公知である、例えば、水道水のような水流、ウオーター
ジェット、超音波振動等による衝撃力をこの処理面に当
てる方法とか、或いは、ヘラ、ブラシ、スポンジ、不織
布等で擦り取る方法により、比較的に容易に剥離除去さ
れて金属面を露出させた基体を回収することができる。
りも、前者の衝撃力で処理した方が、残留率が小さく、
且つ再付着等が見られないことから、好ましくは、前者
の方法がより好適である。また、上記する浸漬は、室温
よりも、溶液の蒸発又は臭気を発しない程度の加温下
で、例えば、50〜90℃範囲で浸漬させた方が、より
効果的に膨潤・溶解・剥離がなされる。
による摺擦処理に使用される洗浄液(又は摺擦洗浄液)
としては、好ましくは、沸点が100℃以下の有機溶
剤、例えば、アセトン、MEK、THF、メタノール及
び塩化メチル等を挙げることができる。これらの溶剤
は、単独でも又は2以上を組み合わせて使用するか或い
は2種以上の混合溶媒として、適宜好適に使用される。
当たり、好ましくは、これらの上記する有機溶剤である
洗浄液に、硝酸、塩酸、硫酸等の無機酸水溶液の単独又
は2種以上を組み合わせるか或いはこれらの混酸等を組
み合わせて、摺擦洗浄液として好適に使用される(後述
する表3を参照)。
を含浸させる部材として、これらの洗浄液に溶解しない
ものであれば、適宜に使用され、例えば、ナイロン、ポ
リエーテル、ポリエステル及びポリウレタン系のスポン
ジ、絹、綿等の天然繊維や、ナイロン、ポリエステル、
ポリエチレン等の合成繊維の不織布又は織布、更には、
ナイロン、ポリエステル製のブラシ等を挙げることがで
きる。
たもので、手作業でまんべんなく回収された基体の金属
面を摺擦させるか、または、洗浄液をたえず供給させな
がら摺擦させるか、より好ましくは、この基体を機械的
に回転支持させる面にこの摺擦部材を接触させて、より
好適に摺擦させることができる。
理に用いる洗浄液は、既に上述した、下引き層や、感光
層(電荷発生層及び電荷輸送層)の結着樹脂を膨潤又は
溶解させる水溶性有機化合物を含有する水溶液を、剥離
液として、好ましく、使用され、また、同様に硝酸、塩
酸、硫酸等も単独又は上記の水溶性有機化合物を含有す
る水溶液洗浄液(又は摺擦洗浄液)と組み合わせて、剥
離液として好適に使用されるものである。
く説明するが、本発明は、これらに限定されるものでは
ない。
体であって、導電性アルミニウム基体面に下引き層、電
荷発生層及び電荷輸送層を積層形成させてなる有機感光
体を作製した。外径30mm、長さ350mmの円筒状
支持体の表面が、1mm厚の円筒状アルミニウムである
導電性基体面に切削油を塗布後、その面に荒目のサンド
ペーパがけをした後、中性洗剤で十分に脱脂洗浄した。
次いで、このドラム型基体面に下記の組成からなる樹脂
塗料を浸漬法で塗布し、次いで150℃(×15分間乾
燥)で熱硬化させて、基体面に約5μm厚の下引き層を
形成させた。 酸化チタン 20重量部 アルキッド樹脂 10重量部 メラミン樹脂 10重量部 メチルエチルケトン 60重量部
積層形成するために下記の組成からなる樹脂塗料(塗工
樹脂液)を調製し、上記基体に同じく浸漬法でこの樹脂
塗料を塗布し、100℃(×10分間乾燥)で熱硬化さ
せて下引き層上に電荷発生層を積層形成させた。 ブチラール樹脂(UCC 社製XYHL) 1重量部 ジスアゾ顔料[下記(1)式] 9重量部 シクロヘキサノン 30重量部 テトラヒドロフラン(THF) 30重量部
積層形成するために下記の組成からなる樹脂塗料(塗工
樹脂液)を調製し、上記基体に同じく浸漬法でこの樹脂
塗料を塗布し、塗布後120℃(×15分間乾燥)で熱
硬化させて電荷発生層上に電荷輸送層を積層形成させ
た。 ポリカーボネート樹脂 10重量部 電荷移動剤[下記(2)式] 10重量部 ジクロロメタン 80重量部 なお、ポリカーボネート樹脂は帝人社製のパンライトK
−1300を使用した。
ウム基体面に下引き層と感光層(電荷発生層及び電荷輸
送層)とを積層形成させた感光体から、これらの積層物
を剥離・除去するために剥離液としてケントス社製のQ
クリーンP−101の有機エステル水溶液を用いた。約
70℃に加温したこの剥離液中に感光体を浸漬させ1時
間後に取り出して、いきよいよく水道水をかけて基体面
から積層物を除去させた。次いで、アルミニウム面を露
出した基体をよく乾燥させた後、基体面を摺擦処理する
ために洗浄液としてメチルエチルケトン(MEK)、テ
トラヒドロフラン(THF)及びメタノールのそれぞれ
を、含浸部材としてスポンジ、綿製不織布及びポリエス
テル製ブラシにそれぞれ含浸させた部材で基体面をまん
べんな摺擦処理して、試料A−1〜A−3、B−1〜B
−3及びC−1〜C−3なる回収基体を得た。次いで、
摺擦処理した各基体面を目視観察をして、残留積層物
(下引き層、感光層)の有無を調べ、新品の基体と比較
して、それぞれの面を下記する評価法で調べて、その結
果を表1に示した。 評価基準 ◎印:新品と同等の面である。 ○印:多少劣るが実用に供せられる。 ×印:実用に供せられるない。
1と同様にして、回収した基体に再度、下引き層、感光
層(電荷発生層及び電荷輸送層)を積層形成させて、有
機感光体を再生させ、それぞれ静電特性を測定して、そ
の結果を表1に示した。静電特性には、有機感光体作製
直後の初期評価と、強制的に電荷を乗せながら光を照射
させて実装時(複写機に装着したもの)疲労状態を加速
試験する疲労評価があり、これらの両評価をそれぞれの
感光体について、新品の感光体と比較して、下記する評
価法で調べて、その結果を表1に示した。 評価基準 ◎印:新品と同等の感光体である。 ○印:多少劣るが実用に供せられる感光体である。 ×印:実用に供せられるない感光体である。
光体を、同様の剥離液を用いて実施例1と同様にして、
基体面から積層物を剥離・除去させた。次いで、得られ
た基体を乾燥させることなく、基体面を摺擦処理するた
めに洗浄液として、剥離液に用いたQクリーンP−10
1の有機エステル水溶液を洗浄液としたものと、また、
メタノール水(重量比でメタノール:水=1:1)を用いた
もの以外は、実施例1と同様に、含浸部材としてスポン
ジ、綿製不織布及びポリエステル製ブラシにそれぞれ含
浸させた部材で基体面をまんべんな摺擦処理して、試料
D−1〜D−3及びE−1〜E−3なる回収基体を得
た。
価した後、これらの基体を用いて、実施例1と同様にし
て、有機感光体に再生させて、同様にして静電特性を評
価して、その結果を、表2に示した。
体から、積層物を剥離・除去するに当たり、まず、TH
Fを含浸させたスポンジで、THFを供給しながら摺擦
処理して、上部の感光層を溶解除去させた。次いで、下
引き層を除去するために、この処理基体を60%濃度の
硝酸に浸漬させ、15分後に取り出して、水を張った容
器に入れ、5分間超音波を照射させて基体から下引き層
を剥離・除去させた。次いで、この基体面を20%濃度
の硝酸を含浸させたスポンジ、綿製不織布及びポリエス
テル製ブラシにそれぞれ含浸させた部材で基体面をまん
べんな摺擦処理して、試料F−1〜F−3なる回収基体
を得た。
価した後、これらの基体を用いて、実施例1と同様にし
て、有機感光体に再生させて、同様にして静電特性を評
価して、その結果を、表3に示した。
液として、QクリーンP−101の有機エステル水溶液
を用いて積層物を剥離・除去させて、次いで、この基体
を実施例のように摺擦処理することなく、そのまま乾燥
させて、基体(試料G)を回収した。また、実施例3と
同様にして、THFを含浸させたスポンジで、THFを
供給しながら摺擦処理して、上部の感光層を溶解除去さ
せた後、次いで、下引き層を除去するために、この処理
基体を60%濃度の硝酸に浸漬させ、15分後に取り出
して、水を張った容器に入れ、5分間超音波を照射させ
て基体から下引き層を剥離・除去させ、この基体を実施
例のように摺擦処理することなく、そのまま乾燥させ
て、基体(試料H)を回収した。
価した後、これらの基体を用いて、実施例1と同様にし
て、有機感光体に再生させて、同様にして静電特性を評
価して、その結果を、表4に示した。
潤・剥離及び溶解除去処理と特定の洗浄液含浸部材によ
る摺擦処理を組み合わせた感光体用基体の再生処理によ
り、使い古して機能低下した中古感光体又は製造時の不
良品の感光体から、単純・容易な処理操作で、基体自体
に損傷を与えず、処理コストも低廉であり、しかも、従
来法では除去されずに残留しがちであった微量異物をも
効果的に完全除去されて、その外観(基体表面)も新規
基体と同等の外観を有する基体を回収することができ
る。また、このように回収された基体に、電荷発生層及
び電荷輸送層を積層形成させた有機感光体の品質も、塗
膜欠陥、画像欠陥、静電特性異状等がなく、新品と同等
の品質を有した実用に供せられる感光体として再生する
ことができる。
Claims (7)
- 【請求項1】 基体上に少なくとも下引き層及び感光層
を積層させてなる感光体から、前記基体上の積層物を除
去させて前記基体を再利用するに際して、前記積層物を
剥離液で一度に膨潤・剥離させるか又は上層の前記感光
層を溶解除去させた後、下引き層を前記剥離液で膨潤・
剥離さるかして、基体表面を露出させた後、洗浄液を含
侵する部材で摺擦処理することを特徴とする感光体用基
体の再生方法。 - 【請求項2】 前記感光層が有機感光体層であり、且つ
前記基体が導電性である請求項1に記載する感光体用基
体の再生方法。 - 【請求項3】 前記剥離液が有機化合物の水溶液及び/
又は無機酸の水溶液であり、且つこれらを単独又は組み
合わせて用いる請求項1に記載する感光体用基体の再生
方法。 - 【請求項4】 摺擦処理に用いる前記洗浄液が、100
℃以下の沸点を有する有機溶剤である請求項1に記載す
る感光体用基体の再生方法。 - 【請求項5】 摺擦処理に用いる前記洗浄液が、前記下
引き層と前記感光層とを結着させている樹脂を膨潤又は
溶解させる水溶性有機化合物を含有する水溶液である請
求項1に記載する感光体用基体の再生方法。 - 【請求項6】 摺擦処理に用いる前記洗浄液が、無機酸
水溶液である請求項1に記載する感光体用基体の再生方
法。 - 【請求項7】 前記摺擦処理をするに当たり、前記洗浄
液として前記有機溶剤、前記水溶性有機化合物及び前記
無機酸水溶液群から選ばれた少なくとも2種を組み合わ
せて行う請求項1に記載する感光体用基体の再生方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2332899A JP2000221704A (ja) | 1999-02-01 | 1999-02-01 | 感光体用基体の再生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2332899A JP2000221704A (ja) | 1999-02-01 | 1999-02-01 | 感光体用基体の再生方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000221704A true JP2000221704A (ja) | 2000-08-11 |
Family
ID=12107526
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2332899A Pending JP2000221704A (ja) | 1999-02-01 | 1999-02-01 | 感光体用基体の再生方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000221704A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100816465B1 (ko) * | 2006-10-11 | 2008-03-27 | (주)삼텍 | 오피씨 드럼 폐관의 재활용 방법 |
| US7842443B2 (en) | 2005-11-28 | 2010-11-30 | Ricoh Company, Ltd. | Method for evaluating electrophotographic photoconductor and the evaluation device, and method for reusing electrophotographic photoconductor |
| EP2264537A3 (en) * | 2009-06-17 | 2011-05-25 | Xerox Corporation | Process for the removal of photoreceptor coatings using a stripping solution |
| EP4528379A1 (en) * | 2023-09-22 | 2025-03-26 | FUJIFILM Business Innovation Corp. | Electrophotographic photoreceptor, method of producing electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
-
1999
- 1999-02-01 JP JP2332899A patent/JP2000221704A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7842443B2 (en) | 2005-11-28 | 2010-11-30 | Ricoh Company, Ltd. | Method for evaluating electrophotographic photoconductor and the evaluation device, and method for reusing electrophotographic photoconductor |
| KR100816465B1 (ko) * | 2006-10-11 | 2008-03-27 | (주)삼텍 | 오피씨 드럼 폐관의 재활용 방법 |
| EP2264537A3 (en) * | 2009-06-17 | 2011-05-25 | Xerox Corporation | Process for the removal of photoreceptor coatings using a stripping solution |
| EP4528379A1 (en) * | 2023-09-22 | 2025-03-26 | FUJIFILM Business Innovation Corp. | Electrophotographic photoreceptor, method of producing electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
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