JP2000299629A - 電源供給制御装置及び半導体装置 - Google Patents

電源供給制御装置及び半導体装置

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JP2000299629A
JP2000299629A JP2000035822A JP2000035822A JP2000299629A JP 2000299629 A JP2000299629 A JP 2000299629A JP 2000035822 A JP2000035822 A JP 2000035822A JP 2000035822 A JP2000035822 A JP 2000035822A JP 2000299629 A JP2000299629 A JP 2000299629A
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semiconductor element
circuit
main electrode
main
switching circuit
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JP2000035822A
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Shunzo Oshima
俊藏 大島
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Yazaki Corp
Original Assignee
Yazaki Corp
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  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Emergency Protection Circuit Devices (AREA)
  • Protection Of Static Devices (AREA)
  • Electronic Switches (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 シャント抵抗が不要で、不完全短絡発生時の
異常電流に対し高速応答が可能なC接点対応の半導体装
置を提供する。 【解決手段】 第1スイッチング回路801及び第2ス
イッチング回路802と基準半導体素子QBと、基準半
導体素子QBの電位と第1スイッチング回路801及び
第2スイッチング回路802のいずれか一方の電位を比
較する比較器CMP1と、第1及び第2のマルチプレク
サMUX1/MUX2及び基準半導体素子QBの制御電
極に制御電圧を供給する制御電圧供給手段111とから
構成される。第1及び第2のマルチプレクサMUX1/
MUX2の入力をインバータIで逆相とすることによ
り、第1スイッチング回路801及び第2スイッチング
回路802のいずれか一方が導通するC接点対応の動作
が可能となる。第1及び第2の負荷102/103に流
れる異常電流を検知して、異常時にはそのいずれか一方
の導通状態を選択的に遮断する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電源供給制御装置
及びこれに用いる半導体装置に係り、特にC接点対応の
電源供給制御装置に好適な半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の電源供給制御装置に用いる半導体
装置(電力用半導体装置)としては、例えば図10に示
すようなものがある。図10に示す電源供給制御装置
は、自動車においてバッテリからの電源を選択的に各負
荷に供給して、負荷への電力供給を温度センサ内蔵トラ
ンジスタQFにより制御する装置である。図10に示す
電源供給制御装置は、出力電圧VBを供給する電源10
1にシャント抵抗RSの一端が接続され、その他端に温
度センサ内蔵トランジスタQFのドレイン端子Dが接続
されている。更に、温度センサ内蔵トランジスタQFの
ソース端子Sには、負荷102が接続されている。ここ
で、負荷102としては、自動車のヘッドライトやパワ
ーウィンドウの駆動モータ等々該当する。図10に示す
電源供給制御装置は、更に、シャント抵抗RSを流れる
電流を検出してハードウェア回路により温度センサ内蔵
トランジスタQFの駆動を制御するドライバ901と、
ドライバ901でモニタした電流値に基づいて温度セン
サ内蔵トランジスタQFの駆動信号をオン/オフ制御す
るA/D変換器902及びマイコン(CPU)903と
を備えている。温度センサ内蔵トランジスタQFは、半
導体チップの接合温度が規定以上の温度まで上昇した場
合には、内蔵するゲート遮断回路によって導通状態を強
制的にオフ制御する過熱遮断機能を備えている。
【0003】図10において、ZD1は温度センサ内蔵
トランジスタQFのゲート端子Gとソース端子S間を1
2Vに保って、パワーデバイスQMの真のゲートTGに
過電圧が印加されようとした場合にこれをバイパスさせ
るツェナーダイオードである。ドライバ901は、電流
モニタ回路としての差動増幅器911,913と、電流
制限回路としての差動増幅器912と、チャージポンプ
回路915と、マイコン903からのオン/オフ制御信
号及び電流制限回路からの過電流判定結果に基づき、内
部抵抗RGを介して温度センサ内蔵トランジスタQFの
真のゲートGを駆動する駆動回路914を備えて構成さ
れている。シャント抵抗RSの電圧降下に基づき差動増
幅器912を介して、電流が判定値(上限)を超えたと
して過電流が検出された場合には、駆動回路914によ
って温度センサ内蔵トランジスタQFをオフ動作とし、
その後電流が低下して判定値(下限)を下回ったら温度
センサ内蔵トランジスタQFをオン動作させる。一方、
マイコン903は、電流モニタ回路(差動増幅器91
1,913)を介して電流を常時モニタしており、正常
値を上回る異常電流が流れていれば、温度センサ内蔵ト
ランジスタQFの駆動信号をオフすることにより温度セ
ンサ内蔵トランジスタQFをオフ動作させる。なお、マ
イコン903からオフ制御の駆動信号が出力される前
に、温度センサ内蔵トランジスタQFの温度が規定値を
超えていれば、過熱遮断機能によって温度センサ内蔵ト
ランジスタQFはオフ動作となる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の電源供給制御装置にあっては、電流検出を行うため
に電力の供給経路に直列接続されるシャント抵抗RSを
必要とした構成であり、近年の負荷の大電流化により、
シャント抵抗の熱損失が無視出来ないという問題点があ
る。
【0005】又、上述の過熱遮断機能や過電流制御回路
は、負荷102や配線にほぼ完全な短絡状態が発生して
大電流が流れる場合には機能するが、ある程度の短絡抵
抗を持つ不完全短絡などのレアショートを発生して小さ
い短絡電流が流れた場合には機能せず、電流のモニタ回
路を介してマイコン903により異常電流を検出して温
度センサ内蔵トランジスタQFをオフ制御するしかな
く、このような異常電流に対するマイコン制御による応
答性が悪いという事情もあった。
【0006】又、シャント抵抗RSやA/D変換器90
2、マイコン903等が必要であるため、大きな実装ス
ペースが必要であり、又これらの比較的高価な物品によ
り装置コストが高くなってしまうという問題点もある。
【0007】本発明の目的は、上記従来の問題点や事情
を解決することにあり、シャント抵抗を不要として、あ
る程度の短絡抵抗を持つ不完全短絡などのレアショート
が発生した場合の異常電流に対しても高速応答を可能と
し、集積化が容易なC接点対応の電源供給制御装置を提
供することにある。
【0008】本発明の他の目的は、過小電流検出、ラン
プ断線検出、オープン検出等の種々の測定とその制御が
可能なC接点対応の電源供給制御装置を提供することで
ある。
【0009】本発明の更に他の目的は、電流検出を行う
ために電力の供給経路に直接接続されるシャント抵抗を
不要として装置の熱損失を抑え、ある程度の短絡抵抗を
持つ不完全短絡などのレアショートが発生した場合の異
常電流に対しても高速応答を可能とし、集積化が容易で
安価なC接点対応の半導体装置を提供することである。
【0010】本発明の更に他の目的は、過小電流検出、
ランプ断線検出、オープン検出等の種々の測定とその制
御が可能なC接点対応の半導体装置を提供することであ
る。
【課題を解決するための手段】本発明の第1の特徴は、
第1、第2の主電極端子及び制御電極端子とを有する第
1スイッチング回路と、第1、第2の主電極端子及び制
御電極端子とを有する第2スイッチング回路と、第1及
び第2スイッチング回路の第1の主電極端子にそれぞれ
接続した第1の主電極と、制御電極及び第2の主電極と
を有する基準半導体素子と、第1及び第2スイッチング
回路の第2の主電極端子にそれぞれアノードを接続した
第1及び第2の分離ダイオードと、第1及び第2の分離
ダイオードのカソードに第1の入力端子を接続し、基準
半導体素子の第2の主電極に第2の入力端子を接続した
比較器と、第1及び第2スイッチング回路の制御電極端
子にそれぞれ接続した第1及び第2のマルチプレクサ
と、比較器の出力に応じて、第1及び第2のマルチプレ
クサ及び基準半導体素子の制御電極にそれぞれ制御電圧
を供給する制御電圧供給手段とから少なくともなり、第
1及び第2スイッチング回路に流れる異常電流を検知し
て、異常電流発生時には第1及び第2スイッチング回路
のいずれか一方をオン/オフ制御して電流振動を生成
し、この電流振動により、第1及び第2スイッチング回
路のいずれか一方の導通状態を選択的に遮断する電源供
給制御装置であることである。
【0011】ここで、第1スイッチング回路は、第1の
主電極端子に接続された第1の主電極、第2の主電極端
子に接続された第2の主電極及び制御電極端子に接続さ
れた制御電極とを有する第1の主半導体素子を少なくと
も内蔵している。又、第2スイッチング回路は、第1の
主電極端子に接続された第1の主電極、第2の主電極端
子に接続された第2の主電極及び制御電極端子に接続さ
れた制御電極とを有する第2の主半導体素子を少なくと
も内蔵している。そして、第1及び第2の主半導体素子
及び基準半導体素子としては、MOSFET、MOSS
IT等のMOSトランジスタ、或いは種々のMOS複合
型デバイスやIGBT等の他の絶縁ゲート型パワーデバ
イスが使用可能である。これらの半導体素子はnチャネ
ル型でもpチャネル型でもかまわない。又「第1主電
極」とは、IGBTにおいてはエミッタ電極又はコレク
タ電極のいずれか一方、MOSトランジスタ等の絶縁ゲ
ート型トランジスタにおいてはソース電極又はドレイン
電極のいずれか一方を意味する。「第2主電極」とは、
IGBTにおいては上記第1主電極とはならないエミッ
タ電極又はコレクタ電極のいずれか一方、絶縁ゲート型
トランジスタにおいては上記第1主電極とはならないソ
ース電極又はドレイン電極のいずれか一方を意味する。
即ち、第1主電極が、エミッタ電極であれば、第2主電
極はコレクタ電極であり、第1主電極がソース電極であ
れば、第2主電極はドレイン電極である。又、「制御電
極」とはIGBT及び絶縁ゲート型トランジスタのゲー
ト電極を意味することは勿論である。
【0012】本発明の第1の特徴においては、第1及び
第2のマルチプレクサのそれぞれの入力をインバータで
逆相とすることにより、第1及び第2スイッチング回路
のいずれか一方が導通するC接点対応の動作が可能とな
る。この第1及び第2の主半導体素子として例えばパワ
ーMOSトランジスタを使用した場合、電力供給経路の
一部を成すパワーMOSトランジスタの端子間電圧(ド
レイン−ソース間電圧)は、オフ状態からオン状態へ遷
移する際の(例えば、nチャネル型FETの場合の立ち
下がり)電圧特性において、電力供給経路及び負荷の状
態、即ち、経路が持つ配線インダクタンス及び配線抵抗
及び短絡抵抗に基づく時定数に応じて変化する。例え
ば、短絡が発生していない通常動作では所定電圧以下に
速やかに収れんするが、完全短絡が発生している場合に
は所定電圧以下にならない。又、ある程度の短絡抵抗を
持つ不完全短絡が発生している場合には、所定電圧に収
れんするものの収れんするまでに長い時間を要する。
【0013】本発明の第1の特徴は、このような半導体
素子におけるオフ状態からオン状態に遷移する際の過渡
的な半導体素子の電圧特性を利用している。つまり、第
1及び第2スイッチング回路の端子間電圧と基準半導体
素子の端子間電圧(基準電圧)との差を検出することに
よって、電力供給経路の一部を成す第1及び第2スイッ
チング回路の端子間電圧(即ち、電力供給経路の電流)
が正常状態から逸脱している程度を判定するものであ
る。
【0014】従って、電流検出を行うために電力の供給
経路に直列接続される従来のようなシャント抵抗を不要
とすることが出来、又、完全短絡による過電流のみなら
ず、ある程度の短絡抵抗を持つ不完全短絡などのレアシ
ョートが発生した場合の異常電流をも簡単に検出するこ
とが可能である本発明の第1の特徴において、第1及び
第2スイッチング回路の第2の主電極端子のそれぞれに
接続した第1及び第2の負荷、基準半導体素子の第2の
主電極に接続した基準抵抗を更に具備することが好まし
い。このようにして、C接点対応の電源供給制御装置が
実現出来る。
【0015】本発明の第2の特徴は、外部入力端子に接
続した第1の主電極端子、第1の外部出力端子に接続し
た第2の主電極端子及び制御電極端子とを有する第1ス
イッチング回路と、外部入力端子に接続した第1の主電
極端子、第2の外部出力端子に接続した第2の主電極端
子及び制御電極端子とを有する第2スイッチング回路
と、第1及び第2スイッチング回路の第1の主電極端子
にそれぞれ接続した第1の主電極と、制御電極及び第2
の主電極とを有する基準半導体素子と、第1及び第2ス
イッチング回路の第2の主電極端子にそれぞれアノード
を接続した第1及び第2の分離ダイオードと、第1及び
第2の分離ダイオードのカソードに第1の入力端子を接
続し、基準半導体素子の第2の主電極に第2の入力端子
を接続した比較器と、第1及び第2スイッチング回路の
制御電極端子にそれぞれ接続した第1及び第2のマルチ
プレクサと、比較器の出力に応じて、第1及び第2のマ
ルチプレクサ及び基準半導体素子の制御電極にそれぞれ
制御電圧を供給する制御電圧供給手段とから少なくとも
なり、第1及び第2の外部出力端子にそれぞれ接続され
る第1及び第2の負荷に流れる異常電流を検知して、異
常電流発生時には第1及び第2スイッチング回路のいず
れか一方をオン/オフ制御して電流振動を生成し、この
電流振動により、外部入力端子と第1及び第2の外部出
力端子間のいずれか一方の導通状態を選択的に遮断する
ことを特徴とする半導体装置であることである。ここ
で、第1スイッチング回路は、第1の主電極端子に接続
された第1の主電極、第2の主電極端子に接続された第
2の主電極及び制御電極端子に接続された制御電極とを
有する第1の主半導体素子を少なくとも内蔵している。
又、第2スイッチング回路は、第1の主電極端子に接続
された第1の主電極、第2の主電極端子に接続された第
2の主電極及び制御電極端子に接続された制御電極とを
有する第2の主半導体素子を少なくとも内蔵している。
【0016】本発明の第2の特徴に係る半導体装置にお
いては、第1及び第2のマルチプレクサのそれぞれの入
力をインバータで逆相とすることにより、第1及び第2
スイッチング回路のいずれか一方が導通するC接点対応
の動作が可能となる。
【0017】本発明の第2の特徴において、第1及び第
2スイッチング回路、基準半導体素子、第1及び第2の
分離ダイオード、比較器、第1及び第2のマルチプレク
サ及び制御電圧供給手段が同一半導体基板上に集積化す
ることが好ましい。
【0018】同一半導体基板上に集積化した場合には、
外部入力端子と第1及び第2の外部出力端子は、例え
ば、半導体チップの素子形成面に形成された1×10
18cm −3〜1×1021cm−3程度のドナー若し
くはアクセプタがドープされた複数の高不純物密度領域
(ソース領域/ドレイン領域、若しくはエミッタ領域/
コレクタ領域等)等にアルミニウム(Al)、若しくは
アルミニウム合金(Al−Si,Al−Cu−Si)等
の金属配線によりそれぞれ接続される。これらの金属配
線は、高不純物密度領域にオーミック接触している。そ
して金属配線の上部には、酸化膜(SiO)、PSG
膜、BPSG膜、窒化膜(Si)、或いはポリイ
ミド膜等から成るパッシベーション膜が形成されてい
る。そして、パッシベーション膜の一部に複数の電極層
を露出するように複数の開口部(窓部)を設け、外部入
力端子と第1及び第2の外部出力端子として必要なボン
ディングパッドを構成している。ボンディングパッドに
は、直径50μm乃至200μmの金(Au)線若しく
はアルミニウム(Al)線からなるボンディングワイヤ
が接続される。又、半導体素子を集積回路が配設された
表面部を下側に向けたフェイスダウン(フリップチッ
プ)方式で配線基板の表面上に取り付ける場合は、これ
らの、外部入力端子と第1及び第2の外部出力端子等
は、必ずしも、半導体素子(半導体チップ)の周辺部に
配置されている必要はない。
【0019】半導体装置を構成する第1及び第2スイッ
チング回路として例えばパワーMOSトランジスタを使
用した場合、電力供給経路の一部を成すパワーMOSト
ランジスタの端子間電圧(ドレイン−ソース間電圧)
は、オフ状態からオン状態へ遷移する際の(例えば、n
チャネル型FETの場合の立ち下がり)電圧特性におい
て、電力供給経路及び負荷の状態、即ち、経路が持つ配
線インダクタンス並びに配線抵抗及び短絡抵抗に基づく
時定数に応じて変化する。例えば、短絡が発生していな
い通常動作では所定電圧以下に速やかに収れんするが、
完全短絡が発生している場合には所定電圧以下にならな
い。又、ある程度の短絡抵抗を持つ不完全短絡が発生し
ている場合には、所定電圧に収れんするものの、収れん
するまでに長い時間を要する。
【0020】本発明の第2の特徴は、このような半導体
素子におけるオフ状態からオン状態に遷移する際の過渡
的な半導体素子の電圧特性を利用している。つまり、第
1及び第2スイッチング回路の端子間電圧と第1及び第
2スイッチング回路の端子間電圧(基準電圧)との差を
検出することによって、電力供給経路の一部を成す第1
及び第2スイッチング回路の端子間電圧(即ち、電力供
給経路の電流)が正常状態から逸脱している程度を判定
することが出来る。
【0021】従って、電流検出を行うために電力の供給
経路に直列接続される従来のようなシャント抵抗を不要
としてC接点対応の各種装置の熱損失を抑えることが出
来、又、完全短絡による過電流のみならず、ある程度の
短絡抵抗を持つ不完全短絡などのレアショートが発生し
た場合の異常電流をも簡単に検出可能である。更に、シ
ャント抵抗を用いずに過電流の検出が可能であり、特に
半導体装置のオン/オフ制御をハードウェア回路で構成
した場合はマイコンも不要であるため、専有面積を縮小
出来るとともに、製造単価を削減可能である。
【0022】又特に、基準半導体素子の電流容量が第1
及び第2スイッチング回路の電流容量よりも小さくなる
ように、それぞれの半導体素子を構成するユニットセル
数の比を決定すれば良い。このようなユニットセル数の
選択を行って、パワーICの平面パターンのレイアウト
を設定することにより、基準半導体素子の回路構成を小
型化出来、更に半導体チップの面積を縮小出来るととも
に、C接点対応の装置コストを大幅に削減出来る。
【0023】
【発明の実施の形態】先ず、本発明の半導体装置の代表
的な構造及びその基本的な動作について説明し、その後
C接点に用いる場合の本発明の実施の形態の説明をす
る。
【0024】(半導体装置の構造及び動作)本発明の基
礎となる電流振動型遮断機能を有する半導体装置は、図
6に示すように、主半導体素子(パワーデバイス)QA
からなるスイッチング回路803と、この主半導体素子
QAの異常電流を検知して、異常電流発生時には主半導
体素子QAをオン/オフ制御して電流振動を生成し、こ
の電流振動により、主半導体素子QAを遮断する制御回
路とを同一基板上に集積化した半導体集積回路(パワー
IC)である。
【0025】通常、このパワーICは、出力電圧VBを
供給する電源101に入力端子Tを接続し、出力端子
を負荷102に接続して動作する。パワーICを構
成しているスイッチング回路803は、入力端子T
第1主電極端子DAを、出力端子Tに第2主電極端子
SAを接続している。そして、このスイッチング回路8
03の第1主電極端子DAは、主半導体素子(パワーデ
バイス)QAの第1主電極(ドレイン電極)に接続さ
れ、第2主電極端子SAは、主半導体素子QAの第2主
電極(ソース電極)Sに接続されている。ここで、スイ
ッチング回路803は、図11に示すように、主半導体
素子QAの制御電極TGと第2主電極(ソース電極)S
との間に、過熱遮断回路120を接続している。な
お、電流振動の振動の回数を計測する方式を採用すれ
ば、過熱遮断回路120は必須ではない。 ここでは、
同一半導体基板上にモノリシックに集積化されたnチャ
ネル型半導体装置について説明する。図6に示すよう
に、本発明の半導体装置の制御回路はnチャネル型の主
半導体素子QAを有するスイッチング回路803と、こ
のスイッチング回路803に並列接続された基準半導体
素子としてのnチャネルFETQBと、主半導体素子Q
Aの主電極間電圧と基準半導体素子QBの主電極間電圧
とを比較する比較器CMP1と、この比較器CMP1の
出力に応じて、主半導体素子QA及び基準半導体素子Q
Bの制御電極に制御電圧を供給する制御電圧供給手段1
11とを少なくとも具備している。
【0026】図11に示すように、スイッチング回路8
03を構成する過熱遮断回路120は、主半導体素子Q
Aのゲート電極に接続された過熱遮断用MOSトランジ
スタQSと、この過熱遮断用MOSトランジスタQSの
ゲート電極に信号を入力するラッチ回路122と、ラッ
チ回路122の状態を制御する温度センサ121等から
構成されている。つまり、半導体チップ110の表面温
度が規定以上の温度まで上昇したことが温度センサ12
1によって検出された場合には、温度センサ121から
の検出情報により、ラッチ回路122の状態が遷移し、
この状態がラッチ回路122に保持される。この結果、
過熱遮断用MOSトランジスタQSがオン動作となり、
主半導体素子QAのゲート電極TGとソース電極S
を短絡し、主半導体素子QAを強制的にオフ制御する。
【0027】ここで、温度センサ121はポリシリコン
等で構成した4個のダイオードが直列接続されてなり、
温度センサ121は主半導体素子QAの近傍に集積化さ
れている。主半導体素子QAの接合温度が上昇するにつ
れて、半導体チップの表面温度が上昇し、温度センサ1
21の4個のダイオードの順方向降下電圧が次第に低下
する。そして、4個のダイオードの順方向降下電圧の総
和が、nMOSトランジスタQ51のゲート電位が
“L”レベルとされる電位まで下がると、nMOSトラ
ンジスタQ51がオン状態からターンオフする。これに
より、nMOSトランジスタQ54のゲート電位が、主
半導体素子QAのゲート制御端子Gの電位にプルアップ
され、nMOSトランジスタQ54がターンオンする。
このため、nMOSトランジスタQ53がターンオフ
し、nMOSトランジスタQ52がオフ状態からターン
オンして、ラッチ回路122に“1”がラッチされるこ
ととなる。このとき、ラッチ回路122の出力が“H”
レベルとなって、過熱遮断用素子QSがオフ状態からタ
ーンオンする。この結果、主半導体素子QAの真のゲー
トTGと第2主電極(ソース電極)S間が短絡され
て、主半導体素子QAがオン状態からターンオフして、
過熱遮断されることとなる。
【0028】図6に戻るが、本発明の半導体装置は、基
準半導体素子としてのMOSトランジスタQB、抵抗R
1、R2,R5,R8,RG,基準抵抗Rr、ツェナー
ダイオードZD1、ダイオードD1、比較器CMP1、
制御電圧供給手段としての駆動回路111を、主半導体
素子QAと共に同一半導体基板(半導体チップ)110
上にモノリシックに搭載している。更に本発明の半導体
装置を構成する半導体チップ110の外部には、制御端
子Tに接続された抵抗R10及びスイッチSW1を備
えている。そして、本発明の半導体装置は、ユーザ等が
スイッチSW1をオンさせることにより機能する。
【0029】制御電圧供給手段としての駆動回路111
には、コレクタ側が電位VPに接続されたソーストラン
ジスタQ5と、エミッタ側が接地電位(GND)に接続
されたシンクトランジスタQ6とを直列接続して備え、
スイッチSW1のオン/オフ切換えによる切換え信号に
基づき、ソーストランジスタQ5及びシンクトランジス
タQ6をオン・オフ制御して、主半導体素子QA及び基
準半導体素子QBの制御電極にこれらを駆動制御する信
号を出力する。図6に示すバイポーラトランジスタ(B
JT)の代わりにMOSトランジスタで駆動回路111
を構成しても良い。例えば、CMOSで、駆動回路11
1を構成することも可能である。MOSトランジスタで
駆動回路111を構成すれば、簡単なMOSトランジス
タの製造プロセスで本発明のパワーIC(半導体装置)
を製造することが可能となる。又、BJTで駆動回路1
11を構成すれば、BIMOS製造プロセスで本発明の
パワーICを製造することが出来る。電源101の出力
電圧VBは、例えば12Vで、チャージポンプの出力電
圧VPは、例えばVB+10Vである。
【0030】スイッチング回路803を構成している主
半導体素子QAの第1主電極(ドレイン電極)と基準半
導体素子QBの第1主電極(ドレイン電極)とは互いに
接続され共通電位に維持されている。更に、基準半導体
素子QBの第2主電極(ソース電極)には基準抵抗Rr
が接続されている。なお、基準抵抗Rrは必ずしもモノ
リシックに集積化されている必要はなく、本発明の半導
体装置の外部抵抗として、外部端子を介して接続しても
良い。基準抵抗Rrの抵抗値は、MOSトランジスタQ
Bと主半導体素子QAのチャネル幅Wの比に応じて選定
すれば良い。例えば、上述したように、MOSトランジ
スタQBと主半導体素子QAのチャネル幅Wの比を1:
1000とした場合は、過負荷状態の抵抗値の1000
倍の値となるように設定すればよい。この基準抵抗Rr
の設定により、主半導体素子QAに異常動作の過負荷電
流が流れたときと同じドレイン−ソース間電圧VDS
基準半導体素子QBに発生させることが出来る。
【0031】スイッチング回路803の第1主電極端子
DAと第2主電極端子SA間には抵抗R1と抵抗R2と
の直列回路が接続されている。この抵抗R1と抵抗R2
との接続点と第2主電極端子SA間には、端子Tを介
して、外部抵抗として可変抵抗RVが外部端子を介して
接続されている。可変抵抗RVの抵抗値を変えることに
より基準抵抗Rrの抵抗値を等価的に可変設定出来る。
これにより、1種類のチップ110で複数の仕様をカバ
ーすることが可能となる。
【0032】図6に示す比較器CMP1の“+”入力端
子には、主半導体素子QAの主電極間電圧(ドレインD
−ソースS間電圧)VDSを抵抗R1と抵抗R2及び可
変抵抗RVの並列抵抗(R2‖RV)とで分圧した電圧
が抵抗R5を介して供給されている。又、比較器CMP
1の“−”入力端子には、基準半導体素子QBのソース
電圧VSBが供給されている。“+”入力端子の信号レ
ベルV>“−”入力端子の信号レベルVのとき、比
較器CMP1の出力は“H”レベルとなり、駆動回路1
11は、ゲート電極に電圧を供給する。逆の場合は、比
較器CMP1の出力は“L”レベルとなり、駆動回路1
11は、スイッチング回路803のゲート駆動をオフす
る。なお、後述のように、比較器CMP1は一定のヒス
テリシス特性を持っている。
【0033】図8は、本発明のパワーICに用いる主半
導体素子QAに着目した、概念的な等価回路である。主
半導体素子QAの等価回路を、等価電流源g・v
ドレイン抵抗rd、ゲート・ソース間容量CGS、ゲー
ト・ドレイン間容量CGD及びドレイン・ソース間容量
CDを用いて簡略化して示している。ここで、g
は、主半導体素子QAの伝達コンダクタンスである。
この主半導体素子QAの等価回路を使用した場合、電源
101から負荷102への電力供給経路は、図8に示す
ような回路として表される。負荷102には電力供給経
路の配線インダクタンスL0と配線抵抗R0とが含まれ
る。
【0034】図7には、このような電力供給経路の一部
を成す主半導体素子QAのドレイン−ソース間電圧V
DSのオフ状態からオン状態へ遷移する際の立ち下がり
電圧特性を、負荷102若しくは主半導体素子QAと負
荷102間の配線が短絡の場合、基準負荷(通常動作)
の場合、負荷102が抵抗1kΩの場合について示す過
渡応答カーブである。立ち下がり特性は、本発明の実施
の形態に係る電力供給経路全体のインピーダンス、例え
ば、負荷回路や電力供給系が持つ配線インダクタンス、
配線抵抗に応じた過渡応答をする。
【0035】先ず、図7の負荷102の抵抗が1kΩの
ときのドレイン−ソース間電圧V の変化について、
次のように考察出来る。つまり、この測定で用いた主半
導体素子QAの特性により、例えば、ドレイン電流I
=12mA(電源電圧12V、負荷抵抗1kΩのとき)
において、真のゲート−ソース間電圧VTGSは、ほぼ
しきい値電圧Vth=1.6Vと仮定する。そして、図6
の駆動回路111による主半導体素子QAの真のゲート
TGへの充電は継続されるから、このまま行くと真のゲ
ート−ソース間電圧VTGSは上昇して行ってしまう。
しかし、ドレイン−ソース間電圧VDSが低下して、真
のゲート−ドレイン間の容量値CGDを増大させるの
で、真のゲート−ソース間電圧VTGSに達する電荷を
吸収する。即ち、ドレイン−ソース間電圧VDSは真の
ゲート−ソース間電圧VTGSに達した電荷が電位上昇
を生じさせないだけの容量を発生させ、真のゲート−ソ
ース間電圧VTGSは約1.6V(=Vth)に維持され
る。つまり、主半導体素子QAがオン状態に遷移した後
の各経過時点で、駆動回路111によってゲートGに送
られる充電電荷を吸収し、真のゲートTGの電圧V
TGSを一定に保つようなドレイン−ソース間電圧V
DSとなる。
【0036】ここで、負荷抵抗が1kΩより小さい負荷
Rに対応するドレイン−ソース間電圧VDSの図7の負
荷抵抗=1kΩの時の曲線からの差をΔVDSとする。
そして、その時点tにおける負荷Rに対応した真のゲー
ト−ソース間電圧をVTGS とする。即ち、 QGD=ΔVDS×CGD+(VTGSR−Vth)×CGS ・・・・・(1) 分の電荷に相当する電圧を、真のゲート−ソース間電圧
TGSRから引き去れば、真のゲート−ソース間電圧
TGSRは、ほぼしきい値電圧Vth=1.6Vになる
ことを意味する。換言すれば、真のゲート−ソース間電
圧VTGSRは、しきい値電圧Vth=1.6Vからこの
電荷QGD分に相当した電圧だけ電位が上昇しているこ
とを意味する。このことを式で示せば、次式となる。
【0037】 (VTGSR−Vth)×CGS+((VTGSR−Vth)−ΔVDS)×CGD =(ΔVDS−(VTGSR−Vth))×CGD ・・・・・(2) VTGSR−Vth=ΔVDS×2CGD/(CGS+2CGD) ・・・・・(3) ∴ΔVDS=(VTGSR−Vth)・((CGS/2CGD)+1)・・・・・(4) 即ち、ΔVDSは(VTGSR−Vth)に比例する。な
お、ドレイン電流Iがゼロの時は真のゲートを充電す
る回路及びミラー容量だけでドレイン−ソース間電圧V
DSの曲線は決まるが、ドレイン電流Iが流れると、
回路全体のインダクタンスLにより逆起電力が発生
し、負荷抵抗が増大したのと同じ効果を与える。従っ
て、ドレイン電流Iが変化しているときは、インダク
タンス等価抵抗が発生し、デッドショートのように、負
荷の純抵抗値が非常に小さくなっても、負荷の等価イン
ピーダンスは、回路全体のインダクタンスLで決まる
一定値以下には下がらない。このため、ドレイン電流I
の立ち上り勾配は一定値に収れんし、真のゲート−ソ
ース間電圧VTGSの曲線も収れんすることとなる。
【0038】本発明の半導体装置(パワーIC)の基準
半導体素子QBと主半導体素子QAのチャネル幅Wの比
をN2:N1(n=N1/N2=1000)としてカレ
ントミラー回路を構成する場合は、主半導体素子QAの
ソース電圧VSAと基準半導体素子QBのソース電圧V
SBが一致するとき、(主半導体素子のドレイン電流I
DQA)=1000×(基準半導体素子のドレイン電流
DQB)となる。従って、主半導体素子QAのドレイ
ン電流としてIDQA=5A、基準半導体素子QBのド
レイン電流としてIDQB=5mAがそれぞれ流れてい
るときは、主半導体素子QA及び基準半導体素子QBの
それぞれのドレイン−ソース間電圧V は一致し、従
って、真のゲート−ソース間電圧VTGSも一致する。
即ち、V DSA=VDSB、VTGSA=VTGSB
なる。ここで、VDSA,VDS はそれぞれ主半導体
素子QA,基準半導体素子QBのドレイン−ソース間電
圧であり、VTGSA,VTGSBはそれぞれ主半導体
素子QA,基準半導体素子QBの真のゲート−ソース間
電圧である。
【0039】従って、基準半導体素子QBが完全にオン
状態に遷移しているときは、基準抵抗Rrの両端にほぼ
電源電圧VBが印加されると近似出来る。このため、主
半導体素子QAに接続する5Aの負荷に等価な基準半導
体素子QBの負荷として、基準抵抗Rrの抵抗値は、R
r=12V/5mA=2.4kΩとして決定される。
【0040】次に、MOSトランジスタの5極管特性
(ドレイン飽和特性)領域における本発明の半導体装置
(パワーIC)の動作について説明する。主半導体素子
QAがオン状態に遷移すると、ドレイン電流IDQA
回路抵抗で決まる最終負荷電流値を目指して立ち上がっ
て行く。又、主半導体素子QAの真のゲート−ソース間
電圧VTGSAは、ドレイン電流IDQAで決まる値を
取り、ドレイン−ソース間電圧VDSAの低下によるコ
ンデンサ容量CGDのミラー効果でブレーキをかけられ
ながら、これも立ち上がって行く。更に、基準半導体素
子QBは、主半導体素子QAの決めるゲート電圧に従っ
て、基準抵抗Rrを負荷抵抗とするソースフォロアとし
て動作する。
【0041】又、主半導体素子QAの真のゲート−ソー
ス間電圧VTGSAは、ドレイン電流IDQAの増加に
応じて大きくなって行く。
【0042】 VDSA=VTGSA+VTGD ・・・・・(5) VDSB=VTGSB+VTGD ・・・・・(6) の関係があるから、 VDSA−VDSB=VTGSA−VTGSB =(IDQA−n×IDQB)/gm ・・・・・(7) となる。但し、gは主半導体素子QAの伝達コンダク
タンス、n=N1/N2は主半導体素子QAと基準半導
体素子QBとのチャネル幅の比である。従って、ドレイ
ン−ソース間電圧の差VDSA−VDSBを検出するこ
とにより、ドレイン電流の差(IDQA−n×
DQB)を得ることが出来る。
【0043】基準半導体素子QBのドレイン−ソース間
電圧VDSBは、比較器CMP1の“−”入力端子に入
力される。又、主半導体素子QAのドレイン−ソース間
電圧VDSAはR1と抵抗R2で分圧した値Vが、抵
抗R5を介して、比較器CMP1の“+”入力端子に入
力される。即ち、 V+=VDSA×R1/(R1+R2) ・・・・・(8) が比較器CMP1の“+”入力端子に入力されることに
なる。負荷側が正常状態の場合は、(Rr/n)<Rと
なって、V<VDSBとなり、主半導体素子QAは、
オン状態を維持する。ここで、Rは負荷抵抗の値であ
る。負荷側が過負荷になると、(Rr/n)>Rとな
り、更に、V>VDSBとなると、3極管特性領域
で、主半導体素子QAがターン・オフする。主半導体素
子QA及び基準半導体素子QBのそれぞれのソース電位
をVSA、VSBとすると、主半導体素子QAがオフ
後、ソース電位VSA、VSBは、GNDに向かって低
下して行くので、VDSA,VDSBとも増加する。ソ
ース電位VSA、VSBが、GND電位に至る前に、V
<VDSBの条件が成立して、再び主半導体素子QA
がターン・オンする。主半導体素子QAは、オン状態に
遷移した直後は、5極管特性領域にあり、その後3極管
特性(線型特性)領域に向かってオン状態を続けて行
き、V>VDSBになるとターンオフする。これが、
オン/オフ動作の1サイクルである。一旦ターンオフす
ると、オフ状態を維持し、逆に、一旦ターンオンする
と、オン状態を維持するのは、負荷回路のインダクタン
スによる。負荷回路のインダクタンスは、電流が変化す
るときは、抵抗と等価な働きをする。電流が減少してい
るときは、インダクタンス等価抵抗の符号はマイナスと
なって、負荷側抵抗を減少させる。一方、電流が増加す
るときは、インダクタンス等価抵抗の符号がプラスとな
って、負荷側抵抗を増大させる。このために、主半導体
素子QAが、一旦ターンオフすると、オフ状態を維持
し、ターンオンすると、オン状態を維持することにな
る。基準半導体素子QB側は、基準抵抗Rrが負荷抵抗
Rよりn=N1/N2倍大きいので、インダクタンス効
果は無視出来るほど小さい。このため、基準半導体素子
QB側は、純抵抗回路として動作すると考えて良い。
【0044】なお、比較器CMP1では、ダイオードD
1と抵抗R5でヒステリシスが形成されている。スイッ
チング回路803を構成する主半導体素子QAがオフ状
態に遷移したとき、駆動回路111のシンクトランジス
タによりゲート電位は接地され、ダイオードD1のカソ
ード側電位は、VSA−0.7V(ツェナーダイオード
ZD1の順方向電圧)になるので、ダイオードD1が導
通する。この結果、抵抗R1→抵抗R5→ダイオードD
1の経路で電流が流れ、比較器CMP1の“+”入力端
子の信号レベルVは、駆動回路111がオン制御して
いるときの上述の(8)式の値より大きくなる。従っ
て、オフ状態に遷移する直前より小さい、特定のドレイ
ン−ソース間電圧の差VDSA−VDSBまで主半導体
素子QAはオフ状態を維持するが、その後、更にV
DSAが大きくなることにより、比較器CMP1の
“+”入力端子の信号レベルVが、VDSBより小さ
くなり、比較器CMP1の出力は“L”レベルから
“H”レベルに変化する。従って、主半導体素子QAは
再びオン状態に遷移させられることとなる。なお、ヒス
テリシス特性の付け方にはいろいろな方法があるが、こ
れはその一例である。
【0045】主半導体素子QAがオフ状態に遷移すると
きのドレイン−ソース間電圧VDS をしきい値V
DSAthとすると、次式が成立する。つまり、 VDSAth−VDSB=R2/R1×VDSB ・・・・・(9) となる。(9)式は、過電流判定値を示し、3極管特性
領域(オーミック特性領域)及び5極管特性領域(ドレ
イン飽和領域)において成立する。
【0046】次に、3極管特性領域における動作につい
て説明する。負荷回路や電力供給系が正常な状態で、ス
イッチング回路803を構成する主半導体素子QAがオ
ン状態に遷移すると、主半導体素子QAは連続的にオン
状態を維持することとなる。このため、真のゲート−ソ
ース間電圧VTGSA、VTGSBがピンチオフ電圧に
達した後は、主半導体素子QA及び基準半導体素子QB
は、ともに3極管特性領域で動作する。本発明の半導体
装置においては、基準半導体素子QBと主半導体素子Q
Aのチャネル幅Wの比を1:nとしてカレントミラー回
路を構成しているので、基準半導体素子QBのオン抵抗
DS(ON)Bは、主半導体素子QAのオン抵抗R
DS(ON)Aのn倍である(RDS(ON)B=n・
DS(O N)A)。一方、基準半導体素子QBのソー
ス電位と主半導体素子QAのソース電位とが等しけれ
ば、基準半導体素子QBのドレイン電流IDQBは、主
半導体素子QAのドレイン電流IDQAの1/n倍であ
る(IDQB=(1/n)・I DQA)。5Aクラスの
半導体素子の代表的なオン抵抗RDS(ON)を参考に
すれば、例えば、主半導体素子QAのオン抵抗R
DS(ON)Aを、ゲート−ソース間電圧VGS=10
Vのとき、RDS(ON)A=30mΩであると仮定出
来る。n=N1/N2=1000とし、電源電圧VB=
12V、基準抵抗Rr=2.4kΩとすれば、 VDSB=IDQB×(n・RDS(ON)A)=5[mA]×30[Ω] =0.15[V]・・・・・(10) VDSA=IDQA×30[mΩ] ・・・・・(11) VDSA−VDSB=30[mΩ]×(IDQA−5[A]) ・・・・・(12) となる。
【0047】又、負荷に異常が発生して、ドレイン電流
DQAが増加すると(12)式の値が大きくなり、過
電流判定値を超えるとスイッチング回路803を構成す
る主半導体素子QAをオフ状態に遷移させる。この場
合、ピンチオフ点を経由して、上記の5極管特性領域で
の動作状態を経て、オフ状態へ遷移する。そして、図6
に示したダイオードD1と抵抗R5とによるヒステリシ
スにより、一定時間経過後に、比較器CMP1の“+”
入力端子の信号レベルVがVDSBより小さくなり、
比較器CMP1の出力は“L”レベルから“H”レベル
に変化して、主半導体素子QAを再びオン状態に遷移さ
せることとなる。こうして、主半導体素子QAはオン状
態及びオフ状態への遷移を繰り返して、最終的に、過熱
遮断回路120が動作し、過熱遮断に至る。なお、過熱
遮断に至る前に、負荷回路や電力供給系が正常に復帰す
れば(間欠的短絡故障の例)、主半導体素子QAは連続
的にオン状態を維持するようになる。
【0048】図9(a)は本発明の半導体装置(パワー
IC)のドレイン電流Iを、図9(b)は、対応する
ドレイン−ソース間電圧VDSをそれぞれ示す。図中、
は過負荷の場合、は通常動作の場合である。過負荷
状態が発生している場合(図中)には、上述のように
主半導体素子QAのオン/オフ制御を繰り返しを行っ
て、ドレイン電流Iを大きく変動させ、スイッチング
回路803を構成する主半導体素子QAの周期的な発熱
作用によって、主半導体素子QAの過熱遮断を速めてい
る。
【0049】次に、以上の電流振動型遮断機能を有する
半導体装置の説明をふまえて、図面を参照して、本発明
の実施の形態としてのC接点にこの半導体装置を用いる
場合を説明する。以下の図面の記載において、同一又は
類似の部分には同一又は類似の符号を付している。
【0050】(第1の実施の形態)C接点に用いる場合
の本発明の実施の形態に係る半導体装置は、図1に示す
ように、外部入力端子Tに接続された第1の主電極端
子DA1、第1の外部出力端子Tに接続された第2の
主電極端子SA1及び制御電極端子GA1とを有するn
チャネル型の第1スイッチング回路801と、外部入力
端子Tに接続された第1の主電極端子DA2、第2の
外部出力端子T33に接続された第2の主電極端子SA
2及び制御電極端子GA2とを有するnチャネル型の第
2スイッチング回路802とを有する。第1スイッチン
グ回路801は、図11に示すように、第1の主電極端
子DA1に接続された第1の主電極、第2の主電極端子
SA1に接続された第2の主電極及び制御電極端子GA
1に接続された制御電極とを有するnチャネル型の第1
の主半導体素子QA1と、過熱遮断回路120とから構
成されている。又、第2スイッチング回路802は、第
1の主電極端子DA2に接続された第1の主電極、第2
の主電極端子SA2に接続された第2の主電極及び制御
電極端子GA2に接続された制御電極とを有するnチャ
ネル型の第2の主半導体素子QA2と、過熱遮断回路1
20とから構成されている。
【0051】本発明の実施の形態に係る半導体装置は、
更に、第1の主電極と、制御電極及び第2の主電極とを
有するnチャネル型の基準半導体素子QBを備えてい
る。この基準半導体素子QBの第1の主電極は、第1ス
イッチング回路801の第1の主電極端子DA1及び第
2スイッチング回路802の第1の主電極端子DA2に
それぞれ接続されている。この結果、基準半導体素子Q
Bの第1の主電極は、第1の主半導体素子QA1及び第
2の主半導体素子QA2の第1の主電極にそれぞれ接続
されている。そして、本発明の実施の形態に係る半導体
装置は、更に、第1スイッチング回路801及び第2ス
イッチング回路802の第2の主電極端子SA1,SA
2にそれぞれアノードを接続した第1の分離ダイオード
D33及び第2の分離ダイオードD34と、第1の分離
ダイオードD33及び第2の分離ダイオードD34のカ
ソードに第1の入力端子を接続し、基準半導体素子QB
の第2の主電極に第2の入力端子を接続した比較器CM
P1と、第1スイッチング回路801及び第2スイッチ
ング回路802の制御電極端子GA1,GA2にそれぞ
れ接続された第1のマルチプレクサMUX1及び第2の
マルチプレクサMUX2と、比較器CMP1の出力に応
じて、第1のマルチプレクサMUX1、第2のマルチプ
レクサMUX2及び基準半導体素子QBの制御電極にそ
れぞれ制御電圧を供給する制御電圧供給手段111とか
ら少なくとも構成されている。
【0052】第1のマルチプレクサMUX1及び第2の
マルチプレクサMUX2のそれぞれの入力をインバータ
Iで逆相とすることにより、第1スイッチング回路80
1及び第2スイッチング回路802のいずれか一方が導
通するC接点対応の動作が可能となる。第1の外部出力
端子T及び第2の外部出力端子T33にそれぞれ接続
される第1の負荷102及び第2の負荷103に流れる
異常電流を検知して、異常電流発生時には第1スイッチ
ング回路801及び第2スイッチング回路802のいず
れか一方をオン/オフ制御して電流振動を生成し、この
電流振動により、外部入力端子Tと第1の外部出力端
子T及び第2の外部出力端子T33の間のいずれか一
方の導通状態を選択的に遮断する。
【0053】本発明のC接点に用いる半導体装置は、図
1に示すように、第1スイッチング回路801及び第2
スイッチング回路802と、この第1スイッチング回路
801及び第2スイッチング回路802のそれぞれの制
御回路とを同一基板上に集積化した半導体集積回路(パ
ワーIC)である。制御回路は、第1スイッチング回路
801及び第2スイッチング回路802のいずれか一方
の異常電流を検知して、異常電流発生時には、少なくと
も一方の第1スイッチング回路801及び第2スイッチ
ング回路802とをオン/オフ制御して電流振動を生成
し、この電流振動により、第1スイッチング回路801
及び/又は第2スイッチング回路802とを遮断する。
【0054】この半導体集積回路基板としては、セラミ
ック、ガラスエポキシ等の絶縁性基板や絶縁金属基板等
が使用可能である。更に、このような、ハイブリッドI
C以外にも、同一半導体基板(同一チップ)上にモノリ
シックに集積化したパワーICの構造も可能である。モ
ノリシックに集積化したパワーICの構造が、小型化の
点ではより好ましい。
【0055】第1スイッチング回路801及び第2スイ
ッチング回路802を構成する第1の主半導体素子QA
1及び第2の主半導体素子QA2としては、例えば、D
MOS構造、VMOS構造、或いはUMOS構造のパワ
ーMOSトランジスタやこれらと類似な構造のMOSS
ITが使用可能である。又、EST、MCT等のMOS
複合型デバイスやIGBT等の他の絶縁ゲート型パワー
デバイスが使用可能である。更に、常にゲートを逆バイ
アスで使うのであれば、接合型MOSトランジスタ、接
合型SITやSIサイリスタ等も使用可能である。この
パワーICに用いる第1スイッチング回路801及び第
2スイッチング回路802はnチャネル型でもpチャネ
ル型でもかまわない。即ち、本発明の半導体装置は、n
チャネル型及びpチャネル型の両方が存在するが、本発
明の実施の形態においては、nチャネル型について説明
する。
【0056】通常、このパワーICは、出力電圧VBを
供給する電源101に外部入力端子Tを接続し、更に
第1の負荷102に外部出力端子T、第2の負荷10
3に外部出力端子T33を接続し、2系統の負荷(より
一般的には複数系統の負荷)で動作する。図11に示す
第1スイッチング回路801及び第2スイッチング回路
802を構成する第1の主半導体素子QA1及び第2の
主半導体素子QA2は、それぞれ、例えば、複数個のユ
ニットセル(単位セル)が並列接続されたマルチ・チャ
ネル構造のパワーデバイスを採用すれば良い。そして、
この第1スイッチング回路801及び第2スイッチング
回路802を構成する第1及び第2の主半導体素子QA
1,QA2に並列接続されるように、基準半導体素子Q
Bが、第1及び第2の主半導体素子QA1,QA2に隣
接する位置に配置されている。
【0057】基準半導体素子QBが、主半導体素子QA
1,QA2と同一プロセスで、隣接位置に配置されてい
るので、温度ドリフトやロット間の不均一性の影響によ
る互いの電気的特性のバラツキを除去(削減)できる。
基準半導体素子QBの電流容量が主MOSトランジスタ
の電流容量よりも小さくなるように、基準半導体素子Q
Bを構成する並列接続のユニットセル数を調整してい
る。例えば、基準半導体素子QBのユニットセル数1に
対して、主半導体素子QA1,QA2のユニットセル数
を1000となるように構成することにより、基準半導
体素子QBと第1及び第2の主半導体素子QA1,QA
2のチャネル幅Wの比を1:1000としている。又、
温度センサ121は、基準半導体素子QB及び第1及び
第2の主半導体素子QA1,QA2の上部に形成された
層間絶縁膜の上部に堆積されたポリシリコン薄膜等で構
成した複数個のダイオードが直列接続により構成され、
温度センサ121をパワーデバイスQMのチャネル領域
の近傍の位置に集積化している。
【0058】図1において、ツェナーダイオードZD1
は第1スイッチング回路801及び第2スイッチング回
路802のゲート端子GA1,GA2とソース端子SA
1,SA2間を12Vに保って、主半導体素子QA1,
QA2の真のゲートTGに過電圧が印加されようとした
場合にこれをバイパスさせる機能を有する。
【0059】更に半導体チップ110の外部には、外部
端子T17に接続された基準抵抗Rr1が設けられてい
る。基準抵抗Rr1の抵抗値は、基準半導体素子QBと
第1及び第2の主半導体素子QA1,QA2のチャネル
幅Wの比を考慮して、選定すれば良い。例えば、上述し
たように、基準半導体素子QBと主半導体素子QA1,
QA2のチャネル幅Wの比を1:1000とした場合
は、第1及び第2の負荷102/103の抵抗値の1/
1000の値となるように設定すれば良い。
【0060】一方、外部制御電極端子Tには、スイッ
チSW1及び抵抗R10が接続されている。そして、本
発明の実施の形態に係る半導体装置は、ユーザ等がスイ
ッチSW1をオンさせることにより機能する。電源10
1の出力電圧VBは、例えば12Vで、チャージポンプ
の出力電圧VPは、例えばVB+10Vである。
【0061】第1及び第2の主半導体素子QA1,QA
2の第1主電極(ドレイン電極)と基準半導体素子QB
の第1主電極(ドレイン電極)は、すべて外部入力端子
に接続され、共通電位に維持されている。第1スイ
ッチング回路801及び第2スイッチング回路802の
第2の主電極端子SA1,SA2にそれぞれアノードを
接続した第1の分離ダイオードD33及び第2の分離ダ
イオードD34が接続され、第1の分離ダイオードD3
3及び第2の分離ダイオードD34のカソードに、抵抗
R1と抵抗R2との直列回路が接続されている。即ち、
第1の分離ダイオードD33及び第2の分離ダイオード
D34で互いに分離されて、第1スイッチング回路80
1及び第2スイッチング回路802の第2の主電極端子
に抵抗R1と抵抗R2との直列回路が接続されている。
この結果、第1及び第2の主半導体素子QA1,QA2
の第1主電極(ドレイン電極)と第2主電極(ソース電
極)間には抵抗R1と抵抗R2との直列回路が接続され
ている。図1に示す比較器CMP1の“+”入力端子に
は、第1スイッチング回路801及び第2スイッチング
回路802の主電極端子間電圧(即ち、第1及び第2の
主半導体素子QA1,QA2の、それぞれのドレインD
−ソースS間電圧)VDSを抵抗R1と抵抗R2とで分
圧した電圧が抵抗R5を介して供給されている。又、比
較器CMP1の“−”入力端子には、MOSトランジス
タ(基準半導体素子)QBのソース電圧VSが供給され
ている。つまり、“+”入力端子の信号レベルV
“−”入力端子の信号レベルVのとき、比較器CMP
1の出力は“H”レベルとなり、駆動回路111は、ゲ
ート電極に電圧を供給する。逆の場合は、比較器CMP
1の出力は“L”レベルとなり、駆動回路111は、ス
イッチング回路801又は802のゲート駆動をオフす
る。MOSトランジスタ(基準半導体素子)QBのドレ
イン−ソース間電圧VDSBは比較器CMP1に直接入
力され、第1及び第2の主半導体素子QA1,QA2の
ドレイン−ソース間電圧VDSAを、R1と抵抗R2で
分圧した値が比較器CMP1に入力される。即ち、可変
抵抗RVについて考慮に入れないものとすれば、(8)
式で与えられるVが比較器CMP1の“+”入力端子
に入力されることになる。第1スイッチング回路801
及び第2スイッチング回路802がオン状態に遷移した
直後は、(8)式により比較器CMP1の“+”入力端
子の電位Vが決定されるので、MOSトランジスタQ
Bのドレイン−ソース間電圧VDSB>Vである。し
かし、第1スイッチング回路801及び第2スイッチン
グ回路802を構成している第1又は第2の主半導体素
子QA1,QA2のドレイン電流IDQAが増加するに
つれて(8)式により与えられるVは増加し、ついに
はMOSトランジスタQBのドレイン−ソース間電圧V
DSBより大きくなり、この時、比較器CMP1の出力
は“H”レベルから“L”レベルに変化して、いずれか
一方の第1スイッチング回路801及び第2スイッチン
グ回路802をオフ状態に遷移させる。そして、図1に
示したダイオードD1と抵抗R5とによるヒステリシス
特性により、一定時間経過後に、比較器CMP1の
“+”入力端子の電位Vが低下するので、比較器CM
P1の出力は“L”レベルから“H”レベルに変化し
て、第1又は第2の主半導体素子QA1,QA2を再び
オン状態に遷移させることとなる。こうして、第1スイ
ッチング回路801及び第2スイッチング回路802は
オン状態及びオフ状態への遷移を繰り返して、最終的に
いずれか一方の第1スイッチング回路801及び第2ス
イッチング回路802が過熱遮断に至る。
【0062】(実施の形態の変形例)上記の実施の形態
による開示の一部を成す論述及び図面はこの発明を限定
するものであると理解すべきではない。この開示から当
業者には様々な代替実施の形態、実施例及び運用技術が
明らかとなろう。
【0063】例えば、図5に示すように、第2の基準抵
抗Rr2に接続される第2の基準半導体素子QCを付加
し、過小電流測定、ランプ断線検出、オープン検出が可
能な、より高機能な半導体装置とすることが可能であ
る。又、半導体チップ110内に、過電流検出部301
以外に、電流イネイブル(Enable)部302,突入電流
マスク回路303,オン/オフ回数積算回路(回数制御
手段)304、遮断ラッチ回路306等を加え、更に機
能を高めることが可能である。
【0064】又、図1及び図5では、負荷が2つの場合
を示したが、2以上の負荷の場合もマルチプレクサの数
を対応して増やせば同様に処理出来る。
【0065】以下に本発明の変形例について述べる。
【0066】<第1変形例>例えば上記の実施の形態に
おいて、図2に示すようなオン/オフ回数積算回路30
4を図1のノードN52,N53及び図11のノードN
51に接続して、不完全短絡の場合の第1スイッチング
回路801及び第2スイッチング回路802の遮断を速
めることが出来る。即ち、第1スイッチング回路801
及び第2スイッチング回路802を構成する第1及び第
2の主半導体素子QA1,QA2のオン/オフ制御回数
が所定回数に達したときに、オン/オフ回数積算回路
(回数制御手段)304により第1及び第2の主半導体
素子QA1,QA2をオフ制御させる動作が可能とな
る。
【0067】図2に示すように、このオン/オフ回数積
算回路304は、図1のノードN53に接続された抵抗
R131,R132、図1のノードN52に接続された
コンデンサC131、図11のノードN51に接続され
たダイオードD132、MOSトランジスタQ131、
逆流阻止用ダイオードD131及び抵抗R133を備え
ている。
【0068】過電流制御に入り、第1及び第2の主半導
体素子QA1,QA2のゲート電位が周期的に“H”レ
ベルになる度にコンデンサC131は抵抗R132及び
逆流阻止用ダイオードD131を介して充電される。M
OSトランジスタQ131のゲート電位は最初はしきい
値以下なのでオフ状態にあるが、コンデンサC131の
充電に伴ってゲート電位が上昇するとMOSトランジス
タQ131はオン状態に遷移する。MOSトランジスタ
Q131がオン状態に遷移すると、図11に示した温度
センサ121のアノード側のノードN51が引き下げら
れるので、高温状態と同じ条件となって過熱遮断用MO
SトランジスタQSがオン状態に遷移して、第1及び第
2の主半導体素子QA1,QA2を遮断する。
【0069】<第2変形例>又、図1のノードN53,
N62に図3に示す過熱遮断促進回路106を接続し
て、第1スイッチング回路801及び第2スイッチング
回路802を構成する第1及び第2の主半導体素子QA
1,QA2の遮断を速めるようにしても良い。即ち、過
不完全短絡の場合には、第1及び第2の主半導体素子Q
A1,QA2のオン/オフ制御を繰り返し行って、第1
及び第2の主半導体素子QA1,QA2の周期的な発熱
作用によって過熱遮断を機能させた場合には、過熱遮断
までの時間が相対的に長くなることが考えられる。この
ような場合は過熱遮断促進回路(過熱遮断促進手段)1
06によって第1及び第2の主半導体素子QA1,QA
2の遮断を速めるようにすれば良い。
【0070】図3に示すように過熱遮断促進回路106
は、MOSトランジスタQ221、ダイオードD22
1、抵抗R221〜R223及びコンデンサC221を
備えて構成されている。過電流制御に入り、第1及び第
2の主半導体素子QA1,QA2のゲート電位が周期的
に“H”レベルになる度にコンデンサC221は抵抗R
222及び逆流阻止用ダイオードD221を介して充電
される。MOSトランジスタQ221のゲート電位は最
初はしきい値以下なのでオフ状態にあるが、コンデンサ
C221の充電に伴ってゲート電位が上昇するとMOS
トランジスタQ221はオン状態に遷移する。抵抗R2
21を介してノードN62に位置する端子TG(第1及
び第2の主半導体素子QA1,QA2の真のゲート)か
ら接地電位(GND)に電流が流れ、端子TG(ノード
N62)に蓄積される電荷量が減少する。このため、同
じドレイン電流Iに対してもドレイン−ソース間電圧
SAが大きくなり、第1及び第2の主半導体素子Q
A1,QA2の電力消費が増大して過熱遮断が早まるこ
ととなる。なお、抵抗R221が小さいほど過熱遮断は
早まる。又、抵抗R223はコンデンサC221の放電
抵抗であり、R222≪R223となるように設定する
のが望ましい。
【0071】<第3変形例>図4に示す突入電流マスク
回路303をノードN52,53,71に接続しても良
い。この突入電流マスク回路303は、ノードN71に
接続されたMOSトランジスタQ311,Q312、ノ
ードN53に接続されたダイオードD311、ノードN
52に接続された抵抗R313、コンデンサC311及
び抵抗R311、R312を備えて構成されている。こ
の突入電流マスク回路303において、第1スイッチン
グ回路801及び第2スイッチング回路802がオン状
態に遷移すると、ゲート−ソース間電圧VGSAがダイ
オードD311及び抵抗R312を介してMOSトラン
ジスタQ312のゲートに供給され、又同じくゲート−
ソース間電圧VGSAがダイオードD311及び抵抗R
311を介してMOSトランジスタQ311のゲートに
供給される。MOSトランジスタQ312のゲートはコ
ンデンサC311を介して第1及び第2の主半導体素子
QA1,QA2のソース(ノードN52)に接続されて
おり、第1及び第2の主半導体素子QA1,QA2がオ
ン状態に遷移した直後はコンデンサC311が未充電で
あるため、MOSトランジスタQ312のゲート電位が
十分に上がらずMOSトランジスタQ312はオン状態
に遷移出来ない。又、MOSトランジスタQ311はM
OSトランジスタQ312がオフ状態にある間はオン状
態にあり、比較器CMP1の+端子(ノードN71)に
供給される分圧点を第1スイッチング回路801及び第
2スイッチング回路802の第2の主電極端子SA1,
SA2(ノードN52)に結合させる。そのため、比較
器CMP1の出力は“H”レベルに保たれて、大きな突
入電流が流れても第1及び第2の主半導体素子QA1,
QA2はオフ状態に遷移しないことになる。
【0072】時間の経過により、コンデンサC311は
抵抗R312を介して充電されて行き、ついにはMOS
トランジスタQ312がオン状態に遷移する。これに伴
ってMOSトランジスタQ311がオフ状態に遷移した
上記マスク状態が終了して、過電流検出制御が機能する
こととなる。なお抵抗R313は第1及び第2の主半導
体素子QA1,QA2がオフ状態に遷移した後、コンデ
ンサC311をリセットするための放電抵抗である。R
312≪R313となるように設定してマスク時間に影
響しないようにするのが望ましい。又、マスク時間はR
312×C311の時定数で決定されるので、1チップ
化する場合には外付けのコンデンサC311の容量値を
任意に変更することにより、マスク時間の調整が可能と
なる。
【0073】本発明の実施の形態に係る半導体装置の負
荷102をオンさせると、安定状態の数倍から数十倍の
突入電流が流れる。その突入電流が流れる期間は負荷1
02の種類や容量(大きさ)によって異なり、だいたい
3msecから20msecである。この突入電流が流れる期間
に、実施の形態で説明したような過電流制御が行われる
と、負荷102が定常状態に至るまでに時間を要してし
まい、ライトの点灯が遅れるなどの負荷自身の応答が悪
くなる場合がある。図4に示す突入電流マスク回路30
3を図1の構成に付加することによってこのような問題
を解消することが出来る。
【0074】このように、本発明はここでは記載してい
ない様々な実施の形態等を含むことは勿論である。従っ
て、本発明の技術的範囲は上記の説明から妥当な特許請
求の範囲に係る発明特定事項によってのみ定められるも
のである。
【0075】
【発明の効果】本発明の電源供給制御装置によれば、C
接点に用いる場合においても、従来のシャント抵抗を不
要として、完全短絡による過電流のみならず、ある程度
の短絡抵抗を持つ不完全短絡などのレアショートが発生
した場合の異常電流をも簡単、且つ正確に検出出来る。
【0076】更に、本発明の半導体装置によれば、従来
のシャント抵抗を不要として装置の熱損失を抑え、又、
完全短絡による過電流のみならず、ある程度の短絡抵抗
を持つ不完全短絡などのレアショートが発生した場合の
異常電流をも簡単、且つ正確に検出出来る。
【0077】又、マイコンが不要であるため、特に、主
半導体素子となる半導体スイッチの制御回路部を同一半
導体基板上にモノリシックに集積化した場合は、チップ
面積を縮小出来るとともに、C接点対応の装置のコスト
を大幅に削減することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係る電流振動型遮断機能
を有する半導体装置の回路構成図である。
【図2】本発明の変形例1に係る電流振動型遮断機能を
有する半導体装置に用いるオン/オフ回数積算回路の回
路構成図である。
【図3】本発明の変形例2に係る電流振動型遮断機能を
有する半導体装置に用いる過熱遮断促進回路の回路構成
図である。
【図4】本発明の変形例3に係る電流振動型遮断機能を
有する半導体装置に用いる突入電流マスク回路の回路構
成図である。
【図5】本発明の他の電流振動型遮断機能を有する電源
供給制御装置の回路構成図である(その1)。
【図6】本発明の基礎となる単線の場合に用いる電流振
動型遮断機能を有する電源供給制御装置の回路構成図で
ある。
【図7】本発明の実施の形態に係る半導体装置が利用す
る原理を説明する説明図であり、オフ状態からオン状態
への遷移時のドレイン−ソース間電圧の立ち下がり特性
の説明図である。
【図8】本発明の実施の形態に係る半導体装置の主半導
体素子に着目した概念的等価回路図である。
【図9】図9(a)は、本発明の実施の形態に係る半導
体装置における、主半導体素子のドレイン電流の過渡応
答特性を、図9(b)は、対応するドレイン−ソース間
電圧の過渡応答特性を示す説明図である。
【図10】従来の半導体スイッチの回路構成図である。
【図11】本発明のスイッチング回路の回路構成図であ
る。
【符号の説明】
101 電源 102、103 負荷 106 過熱遮断促進回路(過熱遮断促進手段) 110 半導体チップ 111 駆動回路(制御手段) 301 過電流検出部 302 電流Enable部 303 突入電流マスク回路(禁止手段) 304 オン/オフ回数積算回路(回数制御手段9 305 チャージポンプ部 306 遮断ラッチ回路 801 第1スイッチング回路 802 第2スイッチング回路 803 スイッチング回路 C131,C221,C311 コンデンサ CMP1,CMP411 比較器 D1,D131,D132,D221,D311 ダイ
オード D33,D34 分離ダイオード QA1 第1の主半導体素子 QA2 第2の主半導体素子 QF 温度センサ内蔵トランジスタ QB MOSトランジスタ(基準半導体素子) QC MOSトランジスタ(第2の基準半導体素子) Q131,Q221,Q311,Q312 MOSトラ
ンジスタ RG 内部抵抗 R1,R2,R5,R131〜R133,R221〜R
223,R311〜R313,R331,R412,R
413 抵抗 Rr1 基準抵抗(第1の基準抵抗) Rr2 第2の基準抵抗 T,T,T,T11〜T18 入出力端子 ZD1 ツェナーダイオード
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H02H 7/20 H03K 17/687 A H03K 17/687

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1、第2の主電極端子及び制御電極端
    子とを有する第1スイッチング回路と、 第1、第2の主電極端子及び制御電極端子とを有する第
    2スイッチング回路と、 前記第1及び第2スイッチング回路の第1の主電極端子
    にそれぞれ接続した第1の主電極と、制御電極及び第2
    の主電極とを有する基準半導体素子と、 前記第1及び第2スイッチング回路の第2の主電極端子
    にそれぞれアノードを接続した第1及び第2の分離ダイ
    オードと、 前記第1及び第2の分離ダイオードのカソードに第1の
    入力端子を接続し、前記基準半導体素子の第2の主電極
    に第2の入力端子を接続した比較器と、 前記第1及び第2スイッチング回路の制御電極端子にそ
    れぞれ接続した第1及び第2のマルチプレクサと、 前記比較器の出力に応じて、前記第1及び第2のマルチ
    プレクサ及び前記基準半導体素子の制御電極にそれぞれ
    制御電圧を供給する制御電圧供給手段とから少なくとも
    なり、前記第1及び第2スイッチング回路に流れる異常
    電流を検知して、異常電流発生時には前記第1及び第2
    スイッチング回路のいずれか一方をオン/オフ制御して
    電流振動を生成し、この電流振動により、前記第1及び
    第2スイッチング回路のいずれか一方の導通状態を選択
    的に遮断することを特徴とする電源供給制御装置。
  2. 【請求項2】 前記第1及び第2スイッチング回路の第
    2の主電極端子のそれぞれに接続した第1及び第2の負
    荷、前記基準半導体素子の第2の主電極に接続した基準
    抵抗を更に具備することを特徴とする請求項1記載の電
    源供給制御装置。
  3. 【請求項3】外部入力端子に接続した第1の主電極端
    子、第1の外部出力端子に接続した第2の主電極端子及
    び制御電極端子とを有する第1スイッチング回路と、 前記外部入力端子に接続した第1の主電極端子、第2の
    外部出力端子に接続した第2の主電極端子及び制御電極
    端子とを有する第2スイッチング回路と、 前記第1及び第2スイッチング回路の第1の主電極端子
    にそれぞれ接続した第1の主電極と、制御電極及び第2
    の主電極とを有する基準半導体素子と、 前記第1及び第2スイッチング回路の第2の主電極端子
    にそれぞれアノードを接続した第1及び第2の分離ダイ
    オードと、 前記第1及び第2の分離ダイオードのカソードに第1の
    入力端子を接続し、前記基準半導体素子の第2の主電極
    に第2の入力端子を接続した比較器と、 前記第1及び第2スイッチング回路の制御電極端子にそ
    れぞれ接続した第1及び第2のマルチプレクサと、 前記比較器の出力に応じて、前記第1及び第2のマルチ
    プレクサ及び前記基準半導体素子の制御電極にそれぞれ
    制御電圧を供給する制御電圧供給手段とから少なくとも
    なり、前記第1及び第2の外部出力端子にそれぞれ接続
    される第1及び第2の負荷に流れる異常電流を検知し
    て、異常電流発生時には前記第1及び第2スイッチング
    回路のいずれか一方をオン/オフ制御して電流振動を生
    成し、この電流振動により、前記外部入力端子と前記第
    1及び第2の外部出力端子間のいずれか一方の導通状態
    を選択的に遮断することを特徴とする半導体装置。
  4. 【請求項4】前記第1及び第2スイッチング回路、前記
    基準半導体素子、前記第1及び第2の分離ダイオード、
    前記比較器、前記第1及び第2のマルチプレクサ及び前
    記制御電圧供給手段が同一半導体基板上に集積化されて
    いることを特徴とする請求項3記載の半導体装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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