JP2000307131A - 光透過型半導体装置 - Google Patents
光透過型半導体装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 透明モールド樹脂中に存在する異物による光
透過性能の低下を軽減することが可能な光透過型半導体
装置を得る。 【解決手段】 半導体素子１の光感応素子部２上に、ビ
スフェノールＡ型エポキシ樹脂と酸無水物を主成分とす
る透明モールド樹脂６に対して、屈折率がほぼ同一（２
５℃、５８９ｎｍにおいて１. ４８〜１. ６４）である
膜厚１００μｍ以上の透明膜７を設けた。また、透明膜
７は直径５μｍ以上の異物の含有量が１０個／ｇ以下、
光を遮蔽しない直径５μｍ以下の透明異物の含有量が１
００個／ｇ以下である。これにより、光感応素子部２の
少なくとも１００μｍ以内の領域に光を遮る異物が存在
しないため、異物による光の遮蔽を軽減することがで
き、所望の受光特性を得ることが可能である。
透過性能の低下を軽減することが可能な光透過型半導体
装置を得る。 【解決手段】 半導体素子１の光感応素子部２上に、ビ
スフェノールＡ型エポキシ樹脂と酸無水物を主成分とす
る透明モールド樹脂６に対して、屈折率がほぼ同一（２
５℃、５８９ｎｍにおいて１. ４８〜１. ６４）である
膜厚１００μｍ以上の透明膜７を設けた。また、透明膜
７は直径５μｍ以上の異物の含有量が１０個／ｇ以下、
光を遮蔽しない直径５μｍ以下の透明異物の含有量が１
００個／ｇ以下である。これにより、光感応素子部２の
少なくとも１００μｍ以内の領域に光を遮る異物が存在
しないため、異物による光の遮蔽を軽減することがで
き、所望の受光特性を得ることが可能である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光透過型半導体装
置に関し、特に透明モールド樹脂中に存在する異物によ
る光透過性能の低下を防止する遮蔽防止構造に関するも
のである。
置に関し、特に透明モールド樹脂中に存在する異物によ
る光透過性能の低下を防止する遮蔽防止構造に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】図４は、従来の光透過型半導体装置の構
成を示す断面図である。図において、１は表面に光感応
素子部２を有する半導体素子、３は半導体素子１が接合
されたダイパット、４は半導体素子１とインナーリード
５を接続する金線、６は半導体素子１、ダイパット３及
び金線４等を封止する透明モールド樹脂を示している。
このように、光透過型半導体装置は、表面に光感応素子
部２を有する半導体素子１を透明モールド樹脂６で封止
する構成であり、例えば、半導体素子１が受光素子の場
合には、外部からの光を透明モールド樹脂６を介して光
感応素子部２で受光し、これを電気信号に変換して所定
の動作を行うものである。
成を示す断面図である。図において、１は表面に光感応
素子部２を有する半導体素子、３は半導体素子１が接合
されたダイパット、４は半導体素子１とインナーリード
５を接続する金線、６は半導体素子１、ダイパット３及
び金線４等を封止する透明モールド樹脂を示している。
このように、光透過型半導体装置は、表面に光感応素子
部２を有する半導体素子１を透明モールド樹脂６で封止
する構成であり、例えば、半導体素子１が受光素子の場
合には、外部からの光を透明モールド樹脂６を介して光
感応素子部２で受光し、これを電気信号に変換して所定
の動作を行うものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、透明モ
ールド樹脂６には、その製造過程や半導体素子１の封止
過程において異物が混入することがあり、この異物が光
感応素子部２上に存在する場合には、光の一部または全
部が遮蔽されてしまい、正常に伝達されないという問題
があった。特に、異物の位置が半導体素子１の直上ある
いは近傍の場合には光特性への影響が大きい。その結
果、例えば半導体素子１が受光素子の場合には、所定の
受光特性が得られず、半導体素子１が正しく動作しない
という問題が生じる。また、光感応素子部２が複数個形
成されている場合には、光感応素子部２の総面積が大き
くなるため、異物の存在による大幅な歩留まり低下が懸
念される。
ールド樹脂６には、その製造過程や半導体素子１の封止
過程において異物が混入することがあり、この異物が光
感応素子部２上に存在する場合には、光の一部または全
部が遮蔽されてしまい、正常に伝達されないという問題
があった。特に、異物の位置が半導体素子１の直上ある
いは近傍の場合には光特性への影響が大きい。その結
果、例えば半導体素子１が受光素子の場合には、所定の
受光特性が得られず、半導体素子１が正しく動作しない
という問題が生じる。また、光感応素子部２が複数個形
成されている場合には、光感応素子部２の総面積が大き
くなるため、異物の存在による大幅な歩留まり低下が懸
念される。
【０００４】本発明は、上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、透明モールド樹脂中に存在する
異物による光透過性能の低下を軽減することが可能な光
透過型半導体装置を得ることを目的とする。
ためになされたもので、透明モールド樹脂中に存在する
異物による光透過性能の低下を軽減することが可能な光
透過型半導体装置を得ることを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明に係わる光透過型
半導体装置は、表面に光感応素子部を有する半導体素子
を透明モールド樹脂で封止してなる光透過型半導体装置
において、半導体素子表面の少なくとも光感応素子部上
に、屈折率が透明モールド樹脂とほぼ同一であり、直径
５μｍ以上の異物の含有量が１０個／ｇ以下である膜厚
１００μｍ以上の透明膜を設けたものである。また、透
明膜は、温度、波長依存特性を含めた屈折率が、透明モ
ールド樹脂の同特性に対して±５％の範囲内のものであ
る。また、透明モールド樹脂は、ビスフェノールＡ型エ
ポキシ樹脂と酸無水物を主成分とするものである。さら
に、透明膜は、シリコーンを主成分とするものである。
また、透明膜は、２５℃、５８９ｎｍにおける屈折率が
１. ４８〜１. ６４のものである。また、透明膜は、光
を遮蔽しない直径５μｍ以下の透明異物の含有量が１０
０個／ｇ以下のものである。
半導体装置は、表面に光感応素子部を有する半導体素子
を透明モールド樹脂で封止してなる光透過型半導体装置
において、半導体素子表面の少なくとも光感応素子部上
に、屈折率が透明モールド樹脂とほぼ同一であり、直径
５μｍ以上の異物の含有量が１０個／ｇ以下である膜厚
１００μｍ以上の透明膜を設けたものである。また、透
明膜は、温度、波長依存特性を含めた屈折率が、透明モ
ールド樹脂の同特性に対して±５％の範囲内のものであ
る。また、透明モールド樹脂は、ビスフェノールＡ型エ
ポキシ樹脂と酸無水物を主成分とするものである。さら
に、透明膜は、シリコーンを主成分とするものである。
また、透明膜は、２５℃、５８９ｎｍにおける屈折率が
１. ４８〜１. ６４のものである。また、透明膜は、光
を遮蔽しない直径５μｍ以下の透明異物の含有量が１０
０個／ｇ以下のものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】実施の形態１．以下に、本発明の
実施の形態を図面に基づいて説明する。図１は、本発明
の実施の形態１における光透過型半導体装置の構造を示
す断面図である。図において、１は表面に光感応素子部
２を有する半導体素子、３は半導体素子１が接合された
ダイパット、４は半導体素子１とインナーリード５を接
続する金線、６は半導体素子１、ダイパット３及び金線
４等を覆う透明モールド樹脂であり、本実施の形態では
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂と酸無水物を主成分と
するものである。また、７は半導体素子１の光感応素子
部２上に設けられた膜厚１００μｍ以上の透明膜で、屈
折率が透明モールド樹脂６とほぼ同一で、直径５μｍ以
上の異物の含有量が１０個／ｇ以下であり、本実施の形
態ではシリコーンを主成分とするものである。
実施の形態を図面に基づいて説明する。図１は、本発明
の実施の形態１における光透過型半導体装置の構造を示
す断面図である。図において、１は表面に光感応素子部
２を有する半導体素子、３は半導体素子１が接合された
ダイパット、４は半導体素子１とインナーリード５を接
続する金線、６は半導体素子１、ダイパット３及び金線
４等を覆う透明モールド樹脂であり、本実施の形態では
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂と酸無水物を主成分と
するものである。また、７は半導体素子１の光感応素子
部２上に設けられた膜厚１００μｍ以上の透明膜で、屈
折率が透明モールド樹脂６とほぼ同一で、直径５μｍ以
上の異物の含有量が１０個／ｇ以下であり、本実施の形
態ではシリコーンを主成分とするものである。
【０００７】本実施の形態における光透過型半導体装置
は、半導体素子１の光感応素子部２上に、ビスフェノー
ルＡ型エポキシ樹脂と酸無水物を主成分とする透明モー
ルド樹脂６に対して屈折率がほぼ同一である膜厚１００
μｍ以上の透明膜７を設けたものである。さらに詳しく
は、温度、波長依存特性を含めた屈折率が、透明モール
ド樹脂の同特性に対して±５％の範囲内であり、本実施
の形態では、透明膜７は２５℃、５８９ｎｍにおける屈
折率が１. ４８〜１. ６４である。さらに、透明膜７
は、光を遮蔽しない直径５μｍ以下の透明異物の含有量
が１００個／ｇ以下のものである。
は、半導体素子１の光感応素子部２上に、ビスフェノー
ルＡ型エポキシ樹脂と酸無水物を主成分とする透明モー
ルド樹脂６に対して屈折率がほぼ同一である膜厚１００
μｍ以上の透明膜７を設けたものである。さらに詳しく
は、温度、波長依存特性を含めた屈折率が、透明モール
ド樹脂の同特性に対して±５％の範囲内であり、本実施
の形態では、透明膜７は２５℃、５８９ｎｍにおける屈
折率が１. ４８〜１. ６４である。さらに、透明膜７
は、光を遮蔽しない直径５μｍ以下の透明異物の含有量
が１００個／ｇ以下のものである。
【０００８】本実施の形態によれば、上記のような特性
を有する透明膜７を半導体素子１の少なくとも光感応素
子部２上に設けることにより、透明モールド樹脂６中に
異物が存在する場合であっても、光感応素子部２の少な
くとも１００μｍ以内の領域には光を遮る異物が存在し
ないため、光特性への影響は小さく、異物による光の遮
蔽を軽減することができる。例えば半導体素子１が受光
状態の場合、入射光は透明モールド樹脂６中の半導体素
子１から１００μｍ以上離れた位置に存在する異物に遮
られるが、半導体素子１の光感応素子部２には回折して
きた光がほぼ正しく到達し、所定の受光特性を得ること
が可能である。また、本実施の形態における透明膜７
は、半導体素子１の光感応素子部２周辺における光の反
射を防止する反射防止膜の機能も有し、光感応素子部２
への入射光が増加し、感度特性が向上する効果も得られ
る。
を有する透明膜７を半導体素子１の少なくとも光感応素
子部２上に設けることにより、透明モールド樹脂６中に
異物が存在する場合であっても、光感応素子部２の少な
くとも１００μｍ以内の領域には光を遮る異物が存在し
ないため、光特性への影響は小さく、異物による光の遮
蔽を軽減することができる。例えば半導体素子１が受光
状態の場合、入射光は透明モールド樹脂６中の半導体素
子１から１００μｍ以上離れた位置に存在する異物に遮
られるが、半導体素子１の光感応素子部２には回折して
きた光がほぼ正しく到達し、所定の受光特性を得ること
が可能である。また、本実施の形態における透明膜７
は、半導体素子１の光感応素子部２周辺における光の反
射を防止する反射防止膜の機能も有し、光感応素子部２
への入射光が増加し、感度特性が向上する効果も得られ
る。
【０００９】実施の形態２．図２は、本発明の実施の形
態２における光透過型半導体装置の構造を示す断面図で
ある。図において、７ａは半導体素子１表面全面に設け
られた膜厚１００μｍ以上のシリコーンを主成分とする
透明膜である。この透明膜７ａの特性は上記実施の形態
１と同様であり、屈折率が透明モールド樹脂６とほぼ同
一であり（２５℃、５８９ｎｍにおいて１. ４８〜１.
６４）、直径５μｍ以上の異物の含有量が１０個／ｇ以
下のものである。なお、図中、同一、相当部分には同一
符号を付し、説明を省略する。上記実施の形態１では、
半導体素子１の光感応素子部２上にのみ透明膜７を設け
たが、本実施の形態では、光感応素子部２を含む半導体
素子１の表面全面を覆うように透明膜７ａを設けた。本
実施の形態によれば、透明膜７ａをワイヤボンド後に形
成することができるため製造が簡易であり、上記実施の
形態１と同様の効果が得られる。
態２における光透過型半導体装置の構造を示す断面図で
ある。図において、７ａは半導体素子１表面全面に設け
られた膜厚１００μｍ以上のシリコーンを主成分とする
透明膜である。この透明膜７ａの特性は上記実施の形態
１と同様であり、屈折率が透明モールド樹脂６とほぼ同
一であり（２５℃、５８９ｎｍにおいて１. ４８〜１.
６４）、直径５μｍ以上の異物の含有量が１０個／ｇ以
下のものである。なお、図中、同一、相当部分には同一
符号を付し、説明を省略する。上記実施の形態１では、
半導体素子１の光感応素子部２上にのみ透明膜７を設け
たが、本実施の形態では、光感応素子部２を含む半導体
素子１の表面全面を覆うように透明膜７ａを設けた。本
実施の形態によれば、透明膜７ａをワイヤボンド後に形
成することができるため製造が簡易であり、上記実施の
形態１と同様の効果が得られる。
【００１０】実施の形態３．図３は、本発明の実施の形
態３における光透過型半導体装置の構造を示す断面図で
ある。図において、８はパッケージ９の開口部に取り付
けられたガラス窓である。なお、図中、同一、相当部分
には同一符号を付し、説明を省略する。本実施の形態で
は、ガラス窓８を有する光透過型半導体装置において、
上記実施の形態１と同様に、半導体素子１の光感応素子
部２上に透明膜７を形成した。なお、透明膜７の特性
は、上記実施の形態１と同様である。このようなタイプ
の光透過型半導体装置においても、光感応素子部２上に
異物が存在した場合は入射光阻害となるため、透明膜７
を設けることにより上記実施の形態１と同様の効果が得
られる。また、ガラス窓８を有するタイプの光透過型半
導体装置の場合においても、上記実施の形態２と同様に
半導体素子１の表面全面に透明膜を設けても良く、同様
の効果が得られる。
態３における光透過型半導体装置の構造を示す断面図で
ある。図において、８はパッケージ９の開口部に取り付
けられたガラス窓である。なお、図中、同一、相当部分
には同一符号を付し、説明を省略する。本実施の形態で
は、ガラス窓８を有する光透過型半導体装置において、
上記実施の形態１と同様に、半導体素子１の光感応素子
部２上に透明膜７を形成した。なお、透明膜７の特性
は、上記実施の形態１と同様である。このようなタイプ
の光透過型半導体装置においても、光感応素子部２上に
異物が存在した場合は入射光阻害となるため、透明膜７
を設けることにより上記実施の形態１と同様の効果が得
られる。また、ガラス窓８を有するタイプの光透過型半
導体装置の場合においても、上記実施の形態２と同様に
半導体素子１の表面全面に透明膜を設けても良く、同様
の効果が得られる。
【００１１】なお、上記実施の形態１〜３において、光
感応素子部２は１個であっても複数個であっても良い。
特に、複数の場合は光感応素子部２の総面積が大きくな
るため、異物の存在による大幅な歩留まり低下を防止す
ることができ、実施効果が大きい。この場合、複数の光
感応素子部２に対してそれぞれに透明膜７を設けても良
いし、１つの透明膜７で複数の光感応素子部２を被覆し
ても良い。
感応素子部２は１個であっても複数個であっても良い。
特に、複数の場合は光感応素子部２の総面積が大きくな
るため、異物の存在による大幅な歩留まり低下を防止す
ることができ、実施効果が大きい。この場合、複数の光
感応素子部２に対してそれぞれに透明膜７を設けても良
いし、１つの透明膜７で複数の光感応素子部２を被覆し
ても良い。
【００１２】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、半導体
素子表面の少なくとも光感応素子部上に、屈折率が透明
モールド樹脂とほぼ同一で、直径５μｍ以上の異物の含
有量が１０個／ｇ以下である膜厚１００μｍ以上の透明
膜を設けることにより、光感応素子部から１００μｍ以
内の領域に光を遮る異物が存在しないようにしたので、
透明モールド樹脂中に存在する異物による光の遮蔽を軽
減することができ、所望の光透過性能を得ることが可能
な光透過型半導体装置を得ることができる。
素子表面の少なくとも光感応素子部上に、屈折率が透明
モールド樹脂とほぼ同一で、直径５μｍ以上の異物の含
有量が１０個／ｇ以下である膜厚１００μｍ以上の透明
膜を設けることにより、光感応素子部から１００μｍ以
内の領域に光を遮る異物が存在しないようにしたので、
透明モールド樹脂中に存在する異物による光の遮蔽を軽
減することができ、所望の光透過性能を得ることが可能
な光透過型半導体装置を得ることができる。
【図１】 本発明の実施の形態１における光透過型半導
体装置の構造を示す断面図である。
体装置の構造を示す断面図である。
【図２】 本発明の実施の形態２における光透過型半導
体装置の構造を示す断面図である。
体装置の構造を示す断面図である。
【図３】 本発明の実施の形態３における光透過型半導
体装置の構造を示す断面図である。
体装置の構造を示す断面図である。
【図４】 従来の光透過型半導体装置の構成を示す断面
図である
図である
１ 半導体素子、２ 光感応素子部、３ ダイパット、
４ 金線、５ インナーリード、６ 透明モールド樹
脂、７、７ａ 透明膜、８ ガラス窓、９ パッケー
ジ。
４ 金線、５ インナーリード、６ 透明モールド樹
脂、７、７ａ 透明膜、８ ガラス窓、９ パッケー
ジ。
Claims (6)
- 【請求項１】 表面に光感応素子部を有する半導体素子
を透明モールド樹脂で封止してなる光透過型半導体装置
において、上記半導体素子表面の少なくとも上記光感応
素子部上に、屈折率が上記透明モールド樹脂とほぼ同一
であり、直径５μｍ以上の異物の含有量が１０個／ｇ以
下である膜厚１００μｍ以上の透明膜を設けたことを特
徴とする光透過型半導体装置。 - 【請求項２】 透明膜は、温度、波長依存特性を含めた
屈折率が、透明モールド樹脂の同特性に対して±５％の
範囲内であることを特徴とする請求項１記載の光透過型
半導体装置。 - 【請求項３】 透明モールド樹脂は、ビスフェノールＡ
型エポキシ樹脂と酸無水物を主成分とすることを特徴と
する請求項１または請求項２記載の光透過型半導体装
置。 - 【請求項４】 透明膜は、シリコーンを主成分とするこ
とを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか一項記載
の光透過型半導体装置。 - 【請求項５】 透明膜は、２５℃、５８９ｎｍにおける
屈折率が１. ４８〜１. ６４であることを特徴とする請
求項１〜請求項４のいずれか一項記載の光透過型半導体
装置。 - 【請求項６】 透明膜は、光を遮蔽しない直径５μｍ以
下の透明異物の含有量が１００個／ｇ以下であることを
特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか一項記載の光
透過型半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11110325A JP2000307131A (ja) | 1999-04-19 | 1999-04-19 | 光透過型半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11110325A JP2000307131A (ja) | 1999-04-19 | 1999-04-19 | 光透過型半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000307131A true JP2000307131A (ja) | 2000-11-02 |
Family
ID=14532877
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11110325A Pending JP2000307131A (ja) | 1999-04-19 | 1999-04-19 | 光透過型半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000307131A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002324916A (ja) * | 2001-04-24 | 2002-11-08 | Rohm Co Ltd | 赤外線データ通信モジュールおよびその製造方法 |
| JP2014502040A (ja) * | 2010-10-26 | 2014-01-23 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー．ブイ． | リソグラフィシステム、変調装置およびファイバ固定基板を製造する方法 |
| JP2021170018A (ja) * | 2017-06-15 | 2021-10-28 | 株式会社ミツトヨ | 受光装置およびこれを備えた光電式エンコーダ |
-
1999
- 1999-04-19 JP JP11110325A patent/JP2000307131A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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