JPH11111166A - 転写シート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電極、誘電体等の高精細なパターン形成、お
よび、障壁等の高精度な厚膜パターン形成が可能な転写
シートを提供する。 【解決手段】 ガラスフリットを含む無機成分と焼成除
去可能な有機成分とを少なくとも含有し、かつ、残留溶
剤量が１００ｍｇ／ｍ² 以下である転写層をベースフィ
ルム上に剥離可能に設けて転写シートとする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルにおける電極パターン、誘電体層、障壁等を
高い精度で形成するための転写シートに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、プラズマディスプレイパネル（Ｐ
ＤＰ）における電極、誘電体等の微細なパターン形成、
あるいは、障壁の形成は、より高い精度で、かつ、低い
製造コストで実施可能なことが要求されている。

【０００３】従来、ＰＤＰにおけるパターン形成は、所
望の特性を有するパターン形成用ペーストを用いてスク
リーン印刷やオフセット印刷等の印刷法により所定のパ
ターンを形成し、乾燥後に焼成してパターン形成する印
刷法等により行われていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記の印刷法は、工程
が簡略であり製造コストの低減が期待されるが、スクリ
ーン印刷法ではスクリーン印刷版を構成するメッシュ材
料の伸びによる印刷精度の限界があり、また、形成した
パターンにメッシュ目が生じたりパターンのにじみが発
生し、パターンのエッジ精度が低いという問題がある。
また、オフセット印刷法では、印刷回数が進むにつれて
パターン形成用ペーストが完全に基板に転写されずにブ
ランケットに残るようになりパターン精度が低下する。
したがって、パターン精度を維持するために随時ブラン
ケットの交換を行う必要があり、作業が煩雑であるとい
う問題があった。

【０００５】一方、ＰＤＰの障壁のような高アスペクト
比の厚膜パターン形成として、従来からスクリーン印刷
法により所定のパターンの障壁を形成することが行われ
ていた。スクリーン印刷法では１回の印刷で形成できる
膜厚の限界が数１０μｍであるため、印刷と乾燥を多数
回、一般には１０回以上繰り返すことが必要であった。
しかし、一般にスクリーン印刷法で形成される塗膜は周
辺部が低くなった凸形状であり、上記のような多数回の
重ね刷りを行った場合、パターン周辺部における塗液の
ダレが蓄積されて底面部が広がった断面形状を呈すると
いう問題があった。

【０００６】本発明は、上述のような事情に鑑みてなさ
れたものであり、電極、誘電体等の高精細なパターン形
成、および、障壁等の高精度な厚膜パターン形成が可能
な転写シートを提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は、ベースフィルムと、該ベースフィ
ルム上に剥離可能に設けられた転写層を少なくとも備
え、該転写層はガラスフリットを含む無機成分、焼成除
去可能な有機成分を少なくとも含有し、かつ、残留溶剤
量が１００ｍｇ／ｍ² 以下であるような構成とした。

【０００８】また、本発明の転写シートは、前記転写層
上に剥離可能に保護フィルムを備えるような構成とし
た。

【０００９】また、本発明の転写シートは、前記有機成
分が感光性を有するような構成とした。

【００１０】さらに、本発明の転写シートは、前記転写
層が無機成分として導電性粉体を含有するような構成と
した。

【００１１】上記のような本発明は、残留溶剤量が１０
０ｍｇ／ｍ² 以下である転写層が凝集破壊を起こすこと
がなく、保存安定性が向上するとともに、転写時のベー
スフィルムとの剥離性、および、保護フィルムを備える
場合には保護フィルムとの剥離性が良好となり、さら
に、有機成分が感光性を有する場合には、露光・現像に
よるパターニングの精度が向上する。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。

【００１３】図１は本発明の転写シートの一実施形態を
示す概略断面図である。図１において、転写シート１
は、ベースフィルム２と転写層３とを備える。転写層３
はベースフィルム２に対して剥離可能に設けられたもの
であり、ガラスフリットを含む無機成分と焼成除去可能
な有機成分を少なくとも含有するとともに、残留溶剤量
が１００ｍｇ／ｍ² 以下、好ましくは５０ｍｇ／ｍ² 以
下となるように設定されている。

【００１４】また、図２は本発明の転写シートの他の実
施形態を示す概略断面図である。図２において、転写シ
ート１１は、ベースフィルム１２と、このベースフィル
ム１２上に剥離可能に設けられた転写層１３と、さら
に、転写層１３上に剥離可能に設けられた保護フィルム
１４とを備える。転写層１３は、ガラスフリットを含む
無機成分と焼成除去可能な有機成分を少なくとも含有す
るとともに、残留溶剤量が１００ｍｇ／ｍ² 以下、好ま
しくは５０ｍｇ／ｍ² 以下となるように設定されてい
る。

【００１５】本発明において、転写層３，１３の残留溶
剤量が１００ｍｇ／ｍ² を超えると、転写層３，１３が
凝集破壊を生じやすく、ベースフィルム２，１２の剥離
時、保護フィルム１４の剥離時に転写層３，１３が凝集
破壊したり、また、転写層３，１３とベースフィルム
２，１２や保護フィルム１４との密着力が高くなりすぎ
て剥離性が低下し、さらに、転写シート１，１１の保存
安定性が低下するので好ましくない。また、後述するよ
うに、焼成除去可能な有機成分として感光性樹脂組成物
を使用する場合、露光・現像によるパターニングの精度
が低下するので好ましくない。

【００１６】このような転写シート１，１１は、シート
状、長尺状のいずれであってもよく、長尺状の場合はコ
アに巻き回したロール形状とすることができる。使用す
るコアは、ごみ発生、紙粉発生を防止するためにＡＢＳ
樹脂、塩化ビニル樹脂、ベークライト等で成形されたコ
ア、樹脂を含浸させた紙管等が好ましい。

【００１７】次に、上記の転写シート１，１１の構成に
ついて説明する。ベースフィルム 本発明の転写シート１，１１を構成するベースフィルム
２，１２は、転写層３，１３を形成するときのインキ組
成物に対して安定であり、また、柔軟性を有し、かつ、
張力もしくは圧力で著しい変形を生じない材料を使用す
る。

【００１８】用いる材料としては、まず、樹脂フィルム
を挙げることができる。樹脂フィルムの具体例として
は、ポリエチレンフィルム、エチレンー 酢酸ビニル共重
合体フィルム、エチレン- ビニルアルコール共重合体フ
ィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィル
ム、ポリメタクリル酸エステルフィルム、ポリ塩化ビニ
ルフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリビニ
ルブチラールフィルム、ナイロンフィルム、ポリエーテ
ルケトンフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィル
ム、ポリサルフォンフィルム、ポリエーテルサルフォン
フィルム、ポリテトラフルオロエチレン−パーフルオロ
アルキルビニルエーテルフィルム、ポリビニルフルオラ
イドフィルム、テトラフルオロエチレン−エチレンフィ
ルム、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピ
レンフィルム、ポリクロロトリフルオロエチレンフィル
ム、ポリビニリデンフルオライドフィルム、ポリエチレ
ンテレフタレートフィルム、１，４−ポリシクロヘキシ
レンジメチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレン
ナフタレートフィルム、ポリエステルフィルム、トリ酢
酸セルロースフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポ
リウレタンフィルム、ポリイミドフィルム、ポリエーテ
ルイミドフィルム、これらの樹脂材料にフィラーを配合
したフィルム、これらの樹脂材料を用いたフィルムを１
軸延伸もしくは２軸延伸したもの、これらの樹脂材料を
用いて流れ方向より幅方向の延伸倍率を高めた２軸延伸
フィルム、これらの樹脂材料を用いて幅方向より流れ方
向の延伸倍率を高めた２軸延伸フィルム、これらのフィ
ルムのうちの同種または異種のフィルムを貼り合わせた
もの、および、これらのフィルムに用いられる原料樹脂
から選ばれる同種または異種の樹脂を共押し出しするこ
とによって作成される複合フィルム等を挙げることがで
きる。また、上記の樹脂フィルムに処理を施したもの、
例えば、シリコン処理ポリエチレンテレフタレート、コ
ロナ処理ポリエチレンテレフタレート、シリコン処理ポ
リプロピレン、コロナ処理ポリプロピレン等を使用する
こともできる。

【００１９】また、ベースフィルム２，１２として金属
箔や金属鋼帯を用いることもできる。このような金属箔
や金属鋼帯の具体例として、銅箔、銅鋼帯、アルミニウ
ム箔、アルミニウム鋼帯、ＳＵＳ４３０、ＳＵＳ３０
１、ＳＵＳ３０４、ＳＵＳ４２０Ｊ２およびＳＵＳ６３
１等のステンレス鋼帯、ベリリウム鋼帯等を挙げること
ができる。さらに、上述の金属箔あるいは金属鋼帯を上
述の樹脂フィルムに貼り合わせたものを使用することも
できる。

【００２０】上記のようなベースフィルム２，１２の厚
みは、４〜４００μｍ、好ましくは１０〜１５０μｍの
範囲で設定することができる。転写層 転写層３，１３は、ガラスフリットを含む無機成分と焼
成除去可能な有機成分を少なくとも含有するインキ組成
物を、ベースフィルム２，１２上にダイレクトグラビア
コーティング法、グラビアリバースコーティング法、リ
バースロールコーティング法、スライドダイコーティン
グ法、スリットダイコーティング法、コンマコーティン
グ法、スリットリバースコーティング法等の公知の塗布
手段により塗布、乾燥して形成することができる。尚、
転写層１３は、保護フィルム１４上に塗布形成した後、
これにベースフィルム１２を重ねて圧着して形成しても
よい。 （１）無機成分 上記のガラスフリットとしては、例えば、軟化温度が３
５０〜６５０℃であり、熱膨張係数α₃₀₀ が６０×１０
^-7〜１００×１０^-7／℃であるガラスフリットを使用す
ることができる。ガラスフリットの軟化温度が６５０℃
を超えると焼成温度を高くする必要があり、例えば、被
パターン形成体の耐熱性が低い場合には焼成段階で熱変
形を生じることになり好ましくない。また、ガラスフリ
ットの軟化温度が３５０℃未満では、焼成により有機成
分が完全に分解、揮発して除去される前にガラスフリッ
トが融着するため、空隙を生じやすく好ましくない。さ
らに、ガラスフリットの熱膨張係数α₃₀₀ が６０×１０
^-7／℃未満、あるいは、１００×１０^-7／℃を超える
と、被パターン形成体の熱膨張係数との差が大きくなり
すぎる場合があり、歪み等を生じることになり好ましく
ない。このようなガラスフリットの平均粒径は０．１〜
１０μｍの範囲が好ましい。これらのガラスフリットと
しては、例えばＢｉ₂ Ｏ₃ またはＰｂＯを主成分とする
ガラスフリットを使用することができる。

【００２１】尚、焼成除去可能な有機成分として、後述
するような感光性樹脂組成物を使用する場合、ポリマー
に対する耐性等からビスマス系のガラスフリットを使用
することが好ましい。

【００２２】また、転写層３，１３は、無機粉体として
酸化アルミニウム、酸化硼素、シリカ、酸化チタン、酸
化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウ
ム、酸化バリウム、炭酸カルシウム等の無機粉体をガラ
スフリット１００重量部に対して３０重量部以下の範囲
で含有することができる。このような無機粉体は、平均
粒径が０．１〜２０μｍの範囲が好ましく、骨材として
焼成時のパターン流延防止の作用をなし、また、反射率
や誘電率を制御する作用をなすものである。

【００２３】無機成分として上記のようなガラスフリッ
トを少なくとも含有する転写層３，１３を備えた転写シ
ート１，１１は、プラズマディスプレイパネルの誘電体
層形成用として使用することができる。

【００２４】また、本発明の転写シート１，１１を障壁
形成用として使用する場合、形成した障壁パターンの外
光反射を低減し、実用上のコントラストを向上させるた
めに、無機粉体として耐火性の黒色顔料あるいは白色顔
料を転写層３，１３に含有させることができる。耐火性
の黒色顔料としては、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｆｅ，Ｃｏ−Ｍｎ−
Ｆｅ，Ｃｏ−Ｆｅ−Ｍｎ−Ａｌ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆ
ｅ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｍｎ−Ｃｒ−Ｆｅ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ａｌ
−Ｃｒ−Ｆｅ，Ｃｏ−Ｍｎ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ−Ｓｉ等
を挙げることができる。また、耐火性の白色顔料として
は、酸化チタン、酸化アルミニウム、シリカ、炭酸カル
シウム等が挙げられる。

【００２５】さらに、本発明の転写シート１，１１を電
極パターン形成用として使用する場合、無機粉体として
導電性粉体を転写層３，１３に含有させる。

【００２６】上記の導電性粉体としては、Ａｕ粉体、Ａ
ｇ粉体、Ｃｕ粉体、Ｎｉ粉体、Ａｌ粉体、Ａｇ−Ｐｄ粉
体等の１種または２種以上を使用することができる。こ
の導電性粉体の形状は、球状、板状、塊状、円錐状、棒
状等の種々の形状であってよいが、凝集性がなく分散性
が良好な球状の導電性粉体が好ましく、その平均粒径は
０．０５〜１０μｍの範囲が好ましい。転写層３，１３
における導電性粉体と上記のガラスフリットとの含有割
合は、導電性粉末１００重量部に対してガラスフリット
が２〜２０重量部、好ましくは２〜１０重量部の範囲と
することができる。 （２）有機成分 転写層３，１３に含有される焼成除去可能な有機成分と
して、熱可塑性樹脂を使用することができる。

【００２７】熱可塑性樹脂は、上述の無機成分のバイン
ダとして、また、転写性の向上を目的として含有させる
ものであり、例えば、メチルアクリレート、メチルメタ
クリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレー
ト、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピルメタクリ
レート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタ
クリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルメタ
クリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタ
クリレート、tert−ブチルアクリレート、tert−ブチル
メタクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、ｎ−ペン
チルメタクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、ｎ−
ヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレ
ート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチ
ルアクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ｎ−デ
シルアクリレート、ｎ−デシルメタクリレート、２−ヒ
ドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメ
タクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、
２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、スチレン、α
−メチルスチレン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン等の１
種以上からなるポリマーまたはコポリマー、エチルセル
ロース等のセルロース誘導体等が挙げられる。

【００２８】特に、上記のなかでメチルアクリレート、
メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメ
タクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピ
ルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプ
ロピルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−
ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソ
ブチルメタクリレート、tert−ブチルアクリレート、te
rt−ブチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアク
リレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−
ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロ
ピルメタクリレートの１種以上からなるポリマーまたは
コポリマー、エチルセルロースが好ましい。

【００２９】上記の熱可塑性樹脂の分子量は１０，００
０〜５００，０００の範囲が好ましい。

【００３０】また、転写層３，１３に含有される焼成除
去可能な有機成分として、感光性樹脂組成物を使用する
ことができる。

【００３１】感光性樹脂組成物は、少なくともポリマ
ー、モノマーおよび開始剤を含有するものであり、焼成
によって揮発、分解して、焼成後の膜中に炭化物を残存
させることのないものである。

【００３２】ポリマーとしては、メチルアクリレート、
メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメ
タクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピ
ルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプ
ロピルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−
ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソ
ブチルメタクリレート、tert−ブチルアクリレート、te
rt−ブチルメタクリレート、ｎ−ペンチルアクリレー
ト、ｎ−ペンチルメタクリレート、ｎ−ヘキシルアクリ
レート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキ
シルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレー
ト、ｎ−オクチルアクリレート、ｎ−オクチルメタクリ
レート、ｎ−デシルアクリレート、ｎ−デシルメタクリ
レート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒド
ロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピル
アクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、スチレン、α−メチルスチレン、Ｎ−ビニル−２−
ピロリドンの１種類以上と、アクリル酸、メタクリル
酸、アクリル酸の二量体（例えば、東亜合成（株）製Ｍ
−５６００）、コハク酸２−メタクリロイルオキシエチ
ル、コハク酸２−アクリロイルオキシエチル、フタル酸
２−メタクリロイルオキシエチル、フタル酸２−アクリ
ロイルオキシエチル、ヘキサヒドロフタル酸２−メタク
リロイルオキシエチル、ヘキサヒドロフタル酸２−アク
リロイルオキシエチル、イタコン酸、クロトン酸、マレ
イン酸、フマル酸、ビニル酢酸、これらの酸無水物等の
１種以上からなるポリマーまたはコポリマー、カルボキ
シル基を有するセルロース誘導体等が挙げられる。

【００３３】また、上記のコポリマーにグリシジル基ま
たは水酸基を有するエチレン性不飽和化合物を付加させ
たポリマー等が挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。

【００３４】上記のポリマーの分子量は５，０００〜３
００，０００、好ましくは３０，０００〜１５０，００
０の範囲が好ましい。また、他のポリマー、例えば、メ
タクリル酸エステルポリマー、アクリル酸エステルポリ
マー、セルロース誘導体、Ｎ−ビニルピロリドンポリマ
ー、ポリビニルアルコール等を混合してもよい。

【００３５】感光性樹脂組成物を構成する反応性モノマ
ーとしては、少なくとも１つの重合可能な炭素−炭素不
飽和結合を有する化合物を用いることができる。具体的
には、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブ
トキシエチルアクリレート、ブトキシエチレングリコー
ルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシク
ロペンタニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリ
レート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリ
レート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒド
ロキシプロピルアクリレート、イソボニルアクリレー
ト、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレ
ート、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアク
リレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、
フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレー
ト、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレング
リコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジア
クリレート、１，５−ペンタンジオールジアクリレー
ト、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，３
−プロパンジオールアクリレート、１，４−シクロヘキ
サンジオールジアクリレート、２，２−ジメチロールプ
ロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、
トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロー
ルトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパン
トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エチ
レンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテ
トラアクリレート、プロピレンオキサイド変性ペンタエ
リスリトールトリアクリレート、プロピレンオキサイド
変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエ
チレングリコールジアクリレート、ポリオキシプロピル
トリメチロールプロパントリアクリレート、ブチレング
リコールジアクリレート、１，２，４−ブタントリオー
ルトリアクリレート、２，２，４−トリメチル−１，３
−ペンタンジオールジアクリレート、ジアリルフマレー
ト、１，１０−デカンジオールジメチルアクリレート、
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、および、上
記のアクリレートをメタクリレートに変えたもの、γ−
メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニ
ル−２−ピロリドン等が挙げられる。本発明では、上記
の反応性モノマーを１種または２種以上の混合物とし
て、あるいは、その他の化合物との混合物として使用す
ることができる。

【００３６】感光性樹脂組成物を構成する光重合開始剤
としては、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メ
チル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノ
ン、４，４−ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン、
α−アミノ・アセトフェノン、４，４−ジクロロベンゾ
フェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケト
ン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエト
キシアセトフォノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニ
ルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピ
オフェノン、ｐ−tert−ブチルジクロロアセトフェノ
ン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−
クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサント
ン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケター
ル、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキ
ノン、２−tert−ブチルアントラキノン、２−アミルア
ントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロ
ン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンア
ントロン、４−アジドベンジルアセトフェノン、２，６
−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、
２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチル
シクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン
−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェ
ニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニ
ル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン
−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェ
ニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベ
ンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−
［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−
１−プロパン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１
−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、ナフ
タレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロ
ライド、ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビ
スイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベン
ズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、
カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェニル
スルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブル
ー等の光還元性の色素とアスコルビン酸、トリエタノー
ルアミン等の還元剤の組み合わせ等が挙げられる。本発
明では、これらの光重合開始剤を１種または２種以上使
用することができる。

【００３７】このような熱可塑性樹脂あるいは感光性樹
脂組成物の転写層３，１３における含有量は、上述の無
機成分１００重量部に対して３〜５０重量部、好ましく
は５〜３０重量部の範囲で設定することができる。熱可
塑性樹脂や感光性樹脂組成物の含有量が３重量部未満で
あると、転写層３，１３の形状保持性が低く、特に、ロ
ール状態での保存性、取扱性に問題を生じ、また、転写
シート１，１１を所望の形状に切断（スリット）する場
合に無機成分がごみとして発生し、プラズマディスプレ
イパネル作製に支障を来すことがある。一方、熱可塑性
樹脂や感光性樹脂組成物の含有量が５０重量部を超える
と、焼成により有機成分を完全に除去することができ
ず、焼成後の膜中に炭化物が残り品質が低下するので好
ましくない。

【００３８】さらに、上述の熱可塑性樹脂、感光性樹脂
組成物には、添加剤として、増感剤、重合停止剤、連鎖
移動剤、レベリング剤、分散剤、転写性付与剤、安定
剤、消泡剤、増粘剤、沈殿防止剤、剥離剤等を必要に応
じて含有することができる。

【００３９】転写性付与剤は、転写性、インキ組成物の
流動性を向上させることを目的として添加され、例え
ば、ジメチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−ｎ
−オクチルフタレート等のノルマルアルキルフタレート
類、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジイソデシル
フタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソノニル
フタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、ブチ
ルフタリルブチルグリコレート等のフタル酸エステル
類、トリ−２−エチルヘキシルトリメリテート、トリ−
ｎ−アルキルトリメリテート、トリイソノニルトリメリ
テート、トリイソデシルトリメリテート等のトリメリッ
ト酸エステル、ジメチルアジペート、ジブチルアジペー
ト、ジ−２−エチルヘキシルアジペート、ジイソデシル
アジペート、ジブチルジグリコールアジペート、ジ−２
−エチルヘキシルアゼテート、ジメチルセバケート、ジ
ブチルセバケート、ジ−２−エチルヘキシルセバケー
ト、ジ−２−エチルヘキシルマレート、アセチル−トリ
−（２−エチルヘキシル）シトレート、アセチル−トリ
−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリブチルシトレー
ト等の脂肪族二塩基酸エステル類、ポリエチレングリコ
ールベンゾエート、トリエチレングリコール−ジ−（２
−エチルヘキソエート）、ポリグリコールエーテル等の
グリコール誘導体、グリセロールトリアセテート、グリ
セロールジアセチルモノラウレート等のグリセリン誘導
体、セバシン酸、アジピン酸、アゼライン酸、フタル酸
等からなるポリエステル系、分子量３００〜３０００の
低分子量ポリエーテル、同低分子量ポリ−α−スチレ
ン、同低分子量ポリスチレン、トリメチルホスフェー
ト、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェー
ト、トリ−２−エチルヘキシルホスフェート、トリブト
キシエチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、
トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェー
ト、クレジルジフェニルホスフェート、キシレニルジフ
ェニルホスフェート、２−エチルヘキシルジフェニルホ
スフェート等の正リン酸エステル類、メチルアセチルリ
シノレート等のリシノール酸エステル類、ポリ−１，３
−ブタンジオールアジペート、エポキシ化大豆油等のポ
リエステル・エポキシ化エステル類、グリセリントリア
セテート、２−エチルヘキシルアセテート等の酢酸エス
テル類を挙げることができる。

【００４０】また、分散剤、沈降防止剤は、上記の無機
粉体の分散性、沈降防止性の向上を目的とするものであ
り、例えば、リン酸エステル系、シリコーン系、ひまし
油エステル系、各種界面活性剤等が挙げられ、消泡剤と
しては、例えば、シリコーン系、アクリル系、各種界面
活性剤等が挙げられ、剥離剤としては、例えば、シリコ
ーン系、フッ素油系、パラフィン系、脂肪酸系、脂肪酸
エステル系、ひまし油系、ワックス系、コンパウンドタ
イプ等が挙げられ、レベリング剤としては、例えば、フ
ッ素系、シリコーン系、各種界面活性剤等が挙げられ、
それぞれ適量添加することができる。

【００４１】また、転写層３，１３形成のために熱可塑
性樹脂あるいは感光性樹脂組成物とともに用いる溶剤と
しては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパ
ノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロ
ピレングリコール等のアルコール類、α−もしくはβ−
テルピネオール等のテルペン類等、アセトン、メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノン、Ｎ−メチル−２−ピロ
リドン、ジエチルケトン、２−ヘプタノン、４−ヘプタ
ノン等のケトン類、トルエン、キシレン、テトラメチル
ベンゼン等の芳香族炭化水素類、セロソルブ、メチルセ
ロソルブ、エチルセロソルブ、カルビトール、メチルカ
ルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトー
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモ
ノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチル
エーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル
等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、
セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、
ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテー
ト、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトー
ルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、２−メトキシエチルアセテート、シクロ
ヘキシルアセテート、２−エトキシエチルアセテート、
３−メトキシブチルアセテート等の酢酸エステル類、ジ
エチレングリコールジアルキルエーテル、ジプロピレン
グリコールジアルキルエーテル、３−エトキシプロピオ
ン酸エチル、安息香酸メチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセト
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げられ
る。また、これらを２種以上混合してもよい。保護フィルム 本発明の転写シート１１を構成する保護フィルム１４
は、柔軟性を有し、かつ、張力もしくは圧力で著しい変
形を生じない材料を使用することができる。具体的に
は、ポリエチレンフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重
合体フィルム、エチレン−ビニルアルコール共重合体フ
ィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィル
ム、ポリメタクリル酸フィルム、ポリ塩化ビニルフィル
ム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルブチラ
ールフィルム、ナイロンフィルム、ポリエーテルエーテ
ルケトンフィルム、ポリサルフォンフィルム、ポリエー
テルサルフォンフィルム、ポリテトラフルオロエチレン
−パーフルオロアルキルビニルエーテルフィルム、ポリ
ビニルフルオライドフィルム、テトラフルオロエチレン
−エチレンフィルム、テトラフルオロエチレン−ヘキサ
フルオロプロピレンフィルム、ポリクロロトリフルオロ
エチレンフィルム、ポリビニリデンフルオライドフィル
ム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレ
ンナフタレートフィルム、ポリエステルフィルム、トリ
酢酸セルロースフィルム、ポリカーボネートフィルム、
ポリウレタンフィルム、ポリイミドフィルム、ポリエー
テルイミドフィルム、これらの樹脂材料にフィラーを配
合したフィルム、これらの樹脂材料を用いたフィルムを
１軸延伸もしくは２軸延伸したもの、これらの樹脂材料
を用いて流れ方向より幅方向の延伸倍率を高めた２軸延
伸フィルム、これらの樹脂材料を用いて幅方向より流れ
方向の延伸倍率を高めた２軸延伸フィルム、これらのフ
ィルムのうちの同種または異種のフィルムを貼り合わせ
たもの、および、これらのフィルムに用いられる原料樹
脂から選ばれる同種または異種の樹脂を共押し出しする
ことによって作成される複合フィルム等を挙げることが
できる。これらのフィルムのうちで、特に２軸延伸ポリ
エステルフィルムを使用することが好ましい。また、上
記の樹脂フィルムに処理を施したもの、例えば、シリコ
ン処理ポリエチレンテレフタレート、コロナ処理ポリエ
チレンテレフタレート、メラミン処理ポリエチレンテレ
フタレート、コロナ処理ポリエチレン、コロナ処理ポリ
プロピレン、シリコン処理ポリプロピレン等を使用する
こともできる。

【００４２】上記のような保護フィルム１４の厚みは、
４〜４００μｍ、好ましくは６〜１５０μｍの範囲で設
定することができる。

【００４３】次に、上述のような本発明の転写シートを
用いたプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の電極パ
ターン形成の例を説明する。

【００４４】ここで、電極パターン形成、誘電体層形成
を説明する前に、ＡＣ型のＰＤＰについて説明する。

【００４５】図３はＡＣ型ＰＤＰを示す概略構成図であ
り、前面板と背面板を離した状態を示したものである。
図３において、ＰＤＰ５１は前面板６１と背面板７１と
が互いに平行に、かつ対向して配設されており、背面板
７１の前面側には、立設するように障壁７６が形成さ
れ、この障壁７６によって前面板６１と背面板７１とが
一定間隔で保持される。前面板６１は、前面ガラス基板
６２を有し、この前面ガラス基板６２の背面側に透明電
極である維持電極６３と金属電極であるバス電極６４と
からなる複合電極が互いに平行に形成され、これを覆っ
て誘電体層６５が形成されており、さらにその上にＭｇ
Ｏ層６６が形成されている。また、背面板７１は、背面
ガラス基板７２を有し、この背面ガラス基板７２の前面
側には下地層７３を介して上記複合電極と直交するよう
に障壁７６の間に位置してアドレス電極７４が互いに平
行に形成され、また、これを覆って誘電体層７５が形成
されており、さらに障壁７６の壁面とセルの底面を覆う
ようにして蛍光体層７７が設けられている。このＡＣ型
ＰＤＰでは、前面ガラス基板６２上の複合電極間に交流
電源から所定の電圧を印加して電場を形成することによ
り、前面ガラス基板６２と背面ガラス基板７２と障壁７
６とで区画される表示要素としての各セル内で放電が行
われる。そして、この放電により生じる紫外線により蛍
光体層７７が発光させられ、前面ガラス基板６２を透過
してくるこの光を観察者が視認するようになっている。

【００４６】次に、上述のＰＤＰの背面板７１における
アドレス電極７４の形成を説明する。

【００４７】図４は本発明の転写シート１を用いたアド
レス電極７４のパターン形成を説明するための工程図で
ある。尚、この場合の転写シート１の転写層３は、焼成
除去可能な有機成分としてネガ型の感光性樹脂組成物を
含有するものとする。

【００４８】図４において、まず、下地層７３が設けら
れた背面ガラス基板７２に転写シート１の転写層側を圧
着し、その後、ベースフィルム２を剥離して転写層３を
転写する（図４（Ａ））。尚、転写層３の転写において
加熱が必要な場合、背面ガラス基板７２の加熱、圧着ロ
ール等により加熱を行ってもよい。

【００４９】次に、フォトマスクＭを介して転写層３を
露光する（図４（Ｂ））。尚、ベースフィルム２として
光透過性を有するフィルムを使用する場合、ベースフィ
ルム２を剥離する前に露光をおこなってもよい。

【００５０】次いで、転写層３を現像することにより、
導電性の感光性樹脂層からなるパターン３´を下地層７
３上に形成し（図４（Ｃ））、その後、焼成してパター
ン３´の有機成分を除去することにより、アドレス電極
パターン７４を形成する（図４（Ｄ））。

【００５１】上述の例では、図１に示されるような本発
明の転写シートが使用されているが、図２に示されるよ
うな保護フィルムを備えた転写シートを使用する場合、
保護フィルムを剥離除去した後に図４と同様の操作によ
りパターン形成を行うことが可能である。また、誘電体
層７５のように全ベタで形成する場合は、転写層を転写
した後、直ちに有機成分を焼成除去することができる。

【００５２】

【実施例】次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説
明する。 （実施例１）まず、インキ組成物として下記組成の導電
性の感光性樹脂組成物を調製した。

【００５３】 感光性樹脂組成物の組成 ・銀粉（球形状、平均粒径１μｍ） … ９６重量部 ・ガラスフリット … ４重量部 （主成分：Ｂｉ₂ Ｏ₃ ，ＳｉＯ₂ ，Ｂ₂ Ｏ₃ （無アルカリ） 軟化点＝５００℃、熱膨張係数α₃₀₀ ＝８０×１０^-7／℃） ・ｎ−ブチルメタクリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート ／メタクリル酸共重合体 … １３重量部 （分子量＝７０，０００、酸価＝１４０ｍｇＫＯＨ／ｇ） ・ペンタエリスリトールトリアクリレート … １１重量部 （東亜合成（株）製Ｍ−３０５） ・光重合開始剤（チバガイギ社製イルガキュア３６９）… １重量部 ・３−メトキシブチルアセテート … ２０重量部 次に、ベースフィルムとして厚み５０μｍのポリエチレ
ンテレフタレートフィルム（東レ（株）製Ｔ−６０）を
準備し、このベースフィルム上に上記のインキ組成物を
ブレードコート法により塗布し乾燥（１００℃、２分
間）して厚み１７μｍの転写層を形成した。形成した転
写層の残留溶剤量は３０ｍｇ／ｍ² であった。

【００５４】次に、この転写層に保護フィルムとしてポ
リエチレンフィルム（タマポリ（株）製ＧＦ−３（厚み
９０μｍ））をラミネートして、図２に示されるような
転写シート（試料１）を形成した。

【００５５】また、乾燥条件を変えて転写層の残留溶剤
量を５ｍｇ／ｍ² 、５０ｍｇ／ｍ²、１００ｍｇ／ｍ
² 、１５０ｍｇ／ｍ² 、３００ｍｇ／ｍ² とした他は、
上記の試料１と同様にして、転写シート（試料２〜６）
を作製した。

【００５６】次いで、上記の各転写シート（試料１〜
６）を所定の幅にスリットし、ＡＢＳ樹脂製のコアに巻
き回し、ロール状態で２５℃の条件で７日間保存した。
その後、保護フィルムを剥離し、８０℃に加温したガラ
ス基板上にオートカットラミネータを用いて４０℃の熱
ロールで圧着した。次に、室温まで冷却した後、ベース
フィルムを剥離して転写層をガラス基板に転写した。

【００５７】次に、プラズマディスプレイパネルの電極
のネガパターンマスク（開口部線幅７０μｍ）を介して
紫外線（光源：超高圧水銀ランプ）を照射（７００ｍＪ
／ｃｍ² ）して転写層を露光した。その後、０．５％炭
酸ナトリウム水溶液を用いて現像し、所定のパターンを
得た。次いで、ガラス基板を６００℃で焼成して、電極
パターンを形成した。

【００５８】このように形成された電極パターンの厚
み、線幅を測定して、下記の表１に示した。

【００５９】

【表１】 表１に示されるように、本発明の転写シート（試料１〜
４）を用いて形成した電極パターンは、厚み、線幅が均
一であり、高い精度で形成されていることが確認され
た。また、転写シートの保存安定性が高いことも確認さ
れた。

【００６０】これに対して、残留溶剤量の高い転写シー
ト（試料５〜６）を用いて形成した電極パターンは、現
像時のパターンの流れ、欠け、断線が多発した。また、
これらの転写シートの保存安定性は、側面からの転写層
のしみ出し、転写層の亀裂が発生したり、保護フィルム
剥離が生じたり、転写時のベースフィルム剥離において
転写層の凝集破壊等がみられ、不十分なものであった。
（実施例２）まず、下記組成の誘電体形成用のインキ組
成物を調製した。

【００６１】 インキ組成物の組成 ・ガラスフリット … ７０重量部 （主成分：Ｂｉ₂ Ｏ₃ ，ＺｎＯ，Ｂ₂ Ｏ₃ （無アルカリ） 平均粒径＝３μｍ） ・ＴｉＯ₂ … ７重量部 ・Ａｌ₂ Ｏ₃ … ５重量部 （上記の無機成分混合体の軟化点＝５７０℃、Ｔｇ＝４８５℃ 熱膨張係数α₃₀₀ ＝８０×１０^-7／℃） ・ｎ−ブチルメタクリレート／２−ヒドロキシエチル メタクリレート共重合体（８／２（モル比）） … ２０重量部 （分子量＝３００，０００） ・アジピン酸エステル系の転写性付与剤 … １２重量部 （旭電化工業（株）製アデカカイザーＲＳ１０７） ・プロピレングリコールモノメチルエーテル … ５０重量部 次に、ベースフィルムとして厚み２５μｍのポリエチレ
ンテレフタレートフィルム（東レ（株）製Ｔ−６０）を
準備し、このベースフィルム上に上記のインキ組成物を
ブレードコート法により塗布し乾燥（１００℃、２分
間）して厚み２５μｍの転写層を形成した。形成した転
写層の残留溶剤量は２０ｍｇ／ｍ² であった。

【００６２】次に、この転写層に保護フィルムとしてシ
リコン処理ポリエチレンテレフタレートフィルム（東セ
ロ（株）製ＳＰ−ＰＥＴ−Ｏ３−２５−Ｃ（厚み２５μ
ｍ））をラミネートして、図２に示されるような転写シ
ート（試料１）を形成した。

【００６３】また、乾燥条件を変えて転写層の残留溶剤
量を４０ｍｇ／ｍ² 、８０ｍｇ／ｍ² 、１５０ｍｇ／ｍ
² とした他は、上記の試料１と同様にして、転写シート
（試料２〜４）を作製した。

【００６４】次いで、上記の各転写シート（試料１〜
４）を所定の幅にスリットし、ＡＢＳ樹脂製のコアに巻
き回してロール形状とし、これを２５℃の条件で７日間
保存した。その後、保護フィルムを剥離し、１００℃に
加温したガラス基板（電極パターンが既に形成されたも
の）上にオートカットラミネータを用いて１００℃の熱
ロールで圧着した。次に、室温まで冷却した後、ベース
フィルムを剥離して転写層をガラス基板に転写した。

【００６５】次に、ガラス基板を５７０℃で焼成して誘
電体層を形成した。

【００６６】このように形成された誘電体層の厚み、表
面状態を下記の表２に示した。

【００６７】

【表２】 表２に示されるように、本発明の転写シート（試料１〜
３）を用いて形成した誘電体層は、厚みが均一で表面の
平坦性も良好であることが確認された。また、転写シー
トの保存安定性が高いことも確認された。

【００６８】これに対して、残留溶剤量の高い転写シー
ト（試料４）を用いて形成した誘電体層は、ピンホール
が多発し、膜厚分布が悪かった。また、この転写シート
の保存安定性は、側面からの転写層のしみ出し、転写時
のベースフィルム剥離において転写層の凝集破壊等がみ
られ、不十分なものであった。

【００６９】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によればベ
ースフィルム上に、ガラスフリットを含む無機成分と、
焼成除去可能な有機成分とを少なくとも含有し、かつ、
残留溶剤量が１００ｍｇ／ｍ² 以下である転写層を剥離
可能に設けて転写シートとするので、転写層は、凝集破
壊を生じにくく、保存安定性に優れるとともに、転写時
のベースフィルムとの剥離性、および、保護フィルムを
備える場合には保護フィルムとの剥離性が良好であり、
また、有機成分が感光性を有する場合には、露光・現像
によるパターニングの精度が高く、これにより、電極、
誘電体等の高精細なパターン形成、および、障壁等の高
精度な厚膜パターン形成が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の転写シートの一実施形態を示す概略断
面図である。

【図２】本発明の転写シートの他の実施形態を示す概略
断面図である。

【図３】プラズマディスプレイパネルの一例を示す概略
構成図である。

【図４】本発明の転写シートを用いた電極パターン形成
の一例を説明するための工程図である。

【符号の説明】

１，１１…転写シート ２，１２…ベースフィルム ３，１３…転写層 １４…保護フィルム Ｍ…フォトマスク

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 浩之介 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 木村 晋朗 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 武田 利彦 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ベースフィルムと、該ベースフィルム上
   に剥離可能に設けられた転写層を少なくとも備え、該転
   写層はガラスフリットを含む無機成分、焼成除去可能な
   有機成分を少なくとも含有し、かつ、残留溶剤量が１０
   ０ｍｇ／ｍ²以下であることを特徴とする転写シート。
2. 【請求項２】 前記転写層上に剥離可能に保護フィルム
   を備えることを特徴とする請求項１に記載の転写シー
   ト。
3. 【請求項３】 前記有機成分は感光性を有することを特
   徴とする請求項１または請求項２に記載の転写シート。
4. 【請求項４】 前記転写層は無機成分として導電性粉体
   を含有することを特徴とする請求項１乃至請求項３のい
   ずれかに記載の転写シート。