JP2000516260A - 有害生物防除性 3―(置換フェニル)―5―(チエニルまたはフリル)―1,2,4―トリアゾール - Google Patents

有害生物防除性 3―(置換フェニル)―5―(チエニルまたはフリル)―1,2,4―トリアゾール

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Abstract

(57)【要約】 3-(置換フェニル)-5-(チエニルまたはフリル)-1,2,4-トリアゾール化合物は、殺虫剤および殺ダニ剤として有用である。この化合物を製造するための新規合成法および中間体、化合物を含む殺虫剤組成物、および化合物を使用して昆虫およびダニを防除する方法も提供される。

Description

【発明の詳細な説明】 有害生物防除性3-(置換フェニル)-5-(チエニルまたはフリル) -1,2,4-トリアゾール出願分野 本出願は、1997年4月24日に出願された米国特許出願番号第60/044,697号、お よび1997年11月19日に出願された同出願番号第60/066,135号の優先権を主張する 。発明の分野 本発明は、殺虫剤および殺ダニ剤として有用な新規化合物、化合物を製造する ための新規合成法および中間体、化合物を含有する有害生物防除剤組成物、なら びに化合物を使用して昆虫およびダニを防除する方法に関する。発明の背景 新規殺虫剤および殺ダニ剤に関する深刻な必要性が存在する。昆虫およびダニ は、現在使用されている殺虫剤および殺ダニ剤に対して耐性を現し始めている。 少なくとも400種の節足動物が、1種以上の殺虫剤に対して耐性である。DTT、カ ルバメートおよび有機リン系のような幾つかの古い殺虫剤に対する耐性の発現は 周知である。しかしより新しい幾つかのピレスロイド系殺虫剤および殺ダニ剤に 対する耐性もすでに発現した。したがって新しい殺虫剤および殺ダニ剤、そして 特に新しい、または典型的ではない作用様式を有する化合物に関する必要性が存 在する。 多数の3,5-ジフェニル-1H-1,2,4-トリアゾール誘導体が、殺ダニ活性を有する と技術文献に記載されている。米国特許第5,482,951号明細書、日本国特許第809 2224号明細書、欧州特許第572142号明細書、日本国特 許第08283261号明細書を参照。しかし出願人の知識よれば、これらの化合物で工 業製品になったものはない。ニトロフラニルトリアゾールは、L.E.Benjaminおよ びH.R.Snyderにより抗微生物剤として(J.Heterocyclic Chem.1976,13,1115)、そ して他者により抗バクテリア剤として記載されている(J.Med.Chem.1973,16(4),3 13-319;J.Med.Chem.1974,17(7),756-758)。本発明は、ダニおよび昆虫に対して 、市販品レベルの活性をもつ新規化合物を提供する。発明の要約 本発明は、特に昆虫およびダニを防除するために有用な新規の置換チエニルお よびフラニルトリアゾール誘導体を提供する。 より具体的には、式(1) 式中、 Arは、置換フェニルであり; YはOまたはSであり; R2は、低級アルキル、ハロアルキル、低級アルケニル、低級アルキニルまた はアルコキシアルキルであり; R3は、H、ハロ、低級アルキル、(C7−C21)直鎖もしくは分枝鎖アルキル 、ヒドロキシ、低級アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、アルコキシア ルキル、アルコキシアルコキシ、低級アルケニル、低級アルキニル、ハロアルケ ニル、CN、NO2、COR6、CO2R6、CON(R6)2、(C3−C6)シクロアルキル、S(O)mR6 、-OSO2R6、SCN、、-Si(R7)3ピリジル、置換ピリジル、イソキサゾリル、置換イソキサゾリル、ナ フチル、置換ナフチル、フェニル、置換フェニル、チエニル、置換チエニル、ピ リミジル、置換ピリミジル、ピラゾリルまたは置換ピラゾリルから選択され、 R4およびR5は、独立してH、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、ハロア ルキル、ハロアルコキシ、CN、CO2R6、CON(R6)2またはS(O)mアルキルであるか、 あるいは R4およびR5が隣接する炭素原子と結合する場合には、それらは一緒になって 、1もしくは2個のハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロアルキル 基により置換されてもよい5または6員の飽和もしくは不飽和炭素環を形成する ことができ; R6は、H、低級アルキル、ハロアルキル、低級アルケニル、低級アルキニル 、フェニルまたは置換フェニルであり; R7は、低級アルキルであり; mは、0、1または2であり; nは、1または2であり; pは、2〜6の整数であり;そして qは、0または1である、 の新規な殺虫的に活性な化合物、またはそれらの植物学的に許容できる酸付加塩 を提供する。 この化合物の好適な群は、式(1A) 式中、 R1およびR1'は、独立してH、Cl、F、メチル、ハロメチル、メトキシま たはハロメトキシであり; Yは、OまたはSであり; R2は、低級アルキル、ハロアルキル、低級アルケニル、低級アルキニルまた はアルコキシアルキルであり; R3は、H、ハロ、低級アルキル、(C7−C21)直鎖アルキル、ヒドロキシ、 低級アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、アルコキシアルキル、アルコ キシアルコキシ、低級アルケニル、ハロアルケニル、CN、NO2、CO2R6、CON(R6)2 、(C3−C6)シクロアルキル、S(O)mR6、SCN、ピリジル、置換ピリジル、イソキ サゾリル、置換イソキサゾリル、ナフチル、置換ナフチル、フェニル、置換フェ ニル、-(CH2)nR6、-CH=CHR6、-C≡CR6、-CH2OR6、-CH2SR6、-CH2NR6R6、-OCH2R6 、-SCH2R6、-NR6CH2qR6、 され; R4およびR5は、独立してH、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、ハロア ルキル、ハロアルコキシ、CN、CO2R6、CON(R6)2またはS(O)mアルキルであるか、 あるいは R4およびR5は、1もしくは2個のハロ、低級アルキル、低級アルコキシまた はハロアルキル基により置換されてもよい5または6員の飽和もしくは不飽和炭 素環を形成し; R6は、H、低級アルキル、ハロアルキル、低級アルケニル、低級アルキニル 、フェニルまたは置換フェニルであり; mは、0、1または2であり;そして nは、1または2であり; pは、2〜6の整数である、 の化合物、またはそれらの植物学的に許容できる酸付加塩である。 好適な式(1A)の化合物には、以下の種類を含む: a)R1'がFである式(1A)の化合物; b)Yが硫黄である式(1A)の化合物; c)式(1A)の化合物、そして特にR1およびR1'が独立してClまたはF である、前記分類a)およびb)の化合物; d)式(1A)の化合物、そして特にR1およびR1'が両方ともFである、前 記分類a)ないしc)の化合物; e)式(1A)の化合物、そして特にR1およびR1'が両方ともCl である、前記分類a)ないしc)の化合物; f)式(1A)の化合物、そして特にR1がClであり、そしてR1'がFであ る、前記分類a)ないしc)の化合物; g)式(1A)の化合物、そして特にR2がメチルである前記分類a)ないし f)の1つの化合物; h)式(1A)の化合物、そして特にR3、R4およびR5が独立して、H、ハ ロ、メチルおよびメトキシから選択される前記分類a)ないしg)の1つの化合 物; i)式(1A)の化合物、そして特にR3、R4およびR5が独立して、Hまた はハロである前記分類a)ないしg)の1つの化合物; j)式(1A)の化合物、そして特にR3、R4およびR5が独立して、H、Cl またはBrである前記分類a)ないしg)の1つの化合物; k)式(1A)の化合物、そして特にR3、R4およびR5がそれぞれ、ハロで ある前記分類a)ないしg)の1つの化合物; l)式(1A)の化合物、そして特にR3、R4およびR5がそれぞれ、クロロ である前記分類a)ないしg)の1つの化合物。 特に好適な化合物の種類は、式(1B) 式中、 R1およびR1'が、独立してFまたはClであり; R2が、低級アルキルであり、メチルが最も好ましく;そして R3、R4およびR5が独立して、H、ClまたはBrである、 の化合物を含む。 本発明はまた、式(1)の化合物を製造するための新規方法および中間体、な らびに新規組成物および使用法も提供し、それらをこれから詳細に記載する。発明の詳細な説明 本明細書を通じて、特に言及しないかぎり、すべての温度は摂氏で与え、そし てすべての割合は重量パーセントである。 用語「低級アルキル」は、(C1−C6)直鎖炭化水素鎖および(C3−C6)分 枝および環状炭化水素基を称する。 用語「低級アルケニル」および「低級アルキニル」は、少なくとも1つの二重 または三重結合をそれぞれ有する、(C2−C6)直鎖炭化水素鎖および(C3− C6)分枝炭化水素基を称する。 用語「低級アルコキシ」とは、-0-低級アルキルを称する。 用語「ハロメチル」および「ハロアルキル」とは、1個以上のハロ原子により 置換されたメトキシおよび低級アルキル基を称する。 用語「ハロメトキシ」および「ハロアルコキシ」とは、1個以上のハロ原子に より置換されたメチルおよび低級アルコキシ基を称する。 用語「アルコキシアルキル」とは、低級アルコキシ基により置換された低級ア ルキル基を称する。 用語「置換ナフチル」、「置換チエニル」、「置換ピリミジル」、「置換ピラ ゾリル」、「置換ピリジル」および「置換イソキサゾリル」とは、ハロ、ハロ( C1−C4)アルキル、CN、NO2、(C1−C4)アルキル、(C3−C4)分枝アル キル、フェニル、(C1−C4)アルコキシまたはハロ(C1−C4)アルコキシか ら独立して選択される1個以上の基で置 換された環系を称する。 用語「置換フェニル」とは、ハロ、(C1−C10)アルキル、分枝(C3−C6 )アルキル、ハロ(C1−C7)アルキル、ヒドロキシ(C1−C7)アルキル、( C1−C7)アルコキシ、ハロ(C1−C7)アルコキシ、フェノキシ、フェニル、 NO2、OH、CN、(C1−C4)アルカノイル、ベンゾイル、(C1−C4)アルカノ イルオキシ、(C1−C4)アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニルまたは ベンゾイルオキシから独立して選択される1個以上の基で置換されたフェニル基 を称する。 用語「置換ベンゼンスルホニル」とは、p-クロロベンゼンスルホニルおよびp- トルエンスルホニルを称する。 特に言及しないかぎり、基は確認した種類から選択される1つ以上の置換基に より置換されることができ、置換基は各種類から独立して選択されることができ る。 合成 式(1)の化合物は、米国特許第5,380,944号および同第5,284,860号明細書に 記載された方法により製造することができる(製造法1、2および3)。さらな る方法を、これから記載する。 例えば、R1'がFである式(1)の化合物は、以下の反応スキームIに従い製 造することができる: スキームI 式中、Ar、R2、R3、R4、R5およびYは式(1)で定義した通りであり、 そしてWは通例のアミノ保護基である。通例のアミノ保護基の例には、限定する わけではないが、カルボベンジルオキシ基、第四アルコキシカルボニル基、アミ ド、ホスフィニルおよびホスホリル基、ならびにスルフェニルおよびスルホニル 基を含む。スキームIに説明するように、N-保護アミドラゾン(2)を、触媒と して酸または塩基の存在中で式(3)の化合物と反応させる。式(2)および( 3)の中間体は、周知手法を適用することにより得られる。 式(3)の中間体の例は、3,4,5-トリクロロチオフェン-2-カルボン酸クロラ イドである。このカルボン酸は、J.Organometal.1968,13,419-430に記載されて いるように、テトラクロロチオフェンをn-ブチルリチウムで処理し、そして続い て二酸化炭素によりクエンチングすることにより得ることができる。カルボン酸 から酸クロライドへの変換は、これから実施例2に説明するような常法により行 う。 スキームIIは、保護されたベンズアミドラゾン出発材料(2)の製造を説明す る。 スキームII ZがOまたはSであり、そしてR10が低級アルキルであるベンズイミデート誘 導体(4)を、ヒドラジン誘導体(5)と反応させる(式中、Ar、WおよびR2 はスキームI関して上記に定義した通りである)。 式(5)の中間体の例は、N-メチル-N-t-ブチルカルボキシヒドラジンである 。これの位置特異的1-アルキル[1.2.4]トリアゾールの作成における使用は、Che m.Ber .1982,115,2807-2818に見いだされる。ベンズイミド化合物の製造は、周知 である。例がSynth.Commun.1983,13,753に開示されている。 本発明の別の観点は、スキームIIIに説明するような、R1およびR1'がFであ る式(1A)の化合物の新規製造法である: スキームIII スキームIIIにおいて、R11は低級アルキル、好ましくはメチルであり; R12は低級アルキル、好ましくはメチルであり;そして Hetは式(9) 式中、Y、R3、R4およびR5は式(1)で定義した通りである、 のチエニルまたはフリル基である。スキームIIIで説明する方法も、Hetが任意の 種々の他の複素環式基、例えばピリジルおよびピラゾリルの化 合物の製造に応用可能である。 別の観点では、上記のように、本発明は式(6)および(7)の新規中間体を 提供する。 スキームIIIの工程aで説明するように、2,6-ジフルオロベンゾニトリルをト リエチルアミン、硫化ナトリウム水和物および塩酸とピリジン中で室温にて反応 させて、2,6-ジフルオロベンゼンチオアミドを生成する。 スキームIIIの工程bでは、2,6-ジフルオロベンゼンチオアミドを低級アルキ ルヨージド(例えばヨードメタン)とセトンア中で反応させて、式(6)のS-(低 級アルキル)チオ-2,6-ジフルオロベンズイミジニウム ヨージドを提供する。ア セトンが好適な溶媒であるが、DMFまたはTHFのような他の極性の非プロトン性溶 媒も使用できる。 スキームIIIの工程cでは、S-(低級アルキル)チオ-2,6-ジフルオロベンズイミ ジニウム ヨージドを、N-t-ブトキシカルボニル-N-(低級アルキル)ヒドラジン反 応させて、式(7)のアミドラゾンを提供する。この反応は、メタノールまたはエ タノール、好ましくはメタノール中で、0℃から溶媒の沸点の温度で行われる。 スキームIIIの工程dでは、式(7)のアミドラゾンをチオフェンまたはフラン 酸クロライドと、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム、ジクロロメタ ンまたは1,2-ジクロロエタンのような非反応性有機溶媒中で、0℃から溶媒の沸 点の範囲の温度で反応させる。 スキームIIIの方法は、これまでに報告された方法よりも温和な条件を使用し 、したがって熱に感受性の複素環の使用を可能にする。より高い収量も提供され る。 スキームIIIの工程a〜cの詳細な説明を、これから実施例1に与える。 工程dの詳細な説明は、これから実施例2〜4に与える。 実施例1 以下の工程は、式(2a)のアミドラゾンの製造を説明する。 A.2,6- ジフルオロベンゼンチオアミド 機械的撹拌機、ドライアイス凝縮器、滴下漏斗およびブリーチ(bleach )を充填したトラップへの出口を具備した3リットルの三首丸底フラスコに、ピ リジン(550mL)、2,6-ジフルオロベンゾニトリル(208g、1.50モル)、トリエチ ルアミン(202g、279mL、2.0モル)および硫化ナトリウム水和物(521g、2.17モル 、フラスコ中に収まるように十分小さい片に破壊した)を加えた。撹拌混合物の 温度を約5℃に下げ、そしてこのスラリーに濃塩酸(143g、288mL、3.99モル)を 滴下した。発熱反応が認められ、そして塩酸の添加速度は、反応混合物の温度が 75分の全添加時間中に25℃を越えないようにした。冷却浴を取り外し、そしてス ラリーを室温に暖め、そして一晩撹拌した。混合物を水(2リットル)に注ぎ、 そしてエーテル(3×500mL)で抽出した。エーテル層を希釈した硫酸、水、塩水 で洗浄し、乾燥(MgSO4)し、そして溶媒を真空除去して232グラムの粗生成物を 得た。出発材料はクーゲルロール(kugelrohr)蒸留を介して生成物か ら除去し、197g(76%)の2,6-ジフルオロベンゼンチオアミドを得た。この材料は さらに精製せずに使用した。 B.S- メチルチオ-2,6-ジフルオロベンズアミジニウム ヨージド 機械的撹拌機および滴下漏斗を具備した3リットルの三首フラスコに、アセト ン(1150mL)および2,6-ジフルオロベンゼンチオアミド(197g、1.14モル)を加え た。撹拌溶液の温度を約5℃に下げ、そしてヨードメタン(161g、70.6mL、1.14 モル)を滴下した。氷浴を取り外し、そしてスラリーを一晩撹拌した。生成した 黄色い固体を濾過により取り出し、そしてエーテルで洗浄して223グラムを得た 。さらに一部は出発材料を濾液から溶媒を真空除去することにより得た。エーテ ルを残渣に加え、そして生成した固体を濾過により取り出してさらに57グラムの 材料を得た。合わせた固体は、全部で280g(77.9%収率)のS-メチルチオ-2,6-ジ フルオロ-ベンズイミジニウム ヨージドとなった:融点168−169℃; C.N-tert- ブトキシカルボニル-N-メチルヒドラジン 機械的撹拌機および滴下漏斗を具備した1リットルの三首丸底フラスコに、メ チルヒドラジン(42.2g、0.916モル)およびTHF(100mL)を加えた。混合物の温 度を約5℃に下げ、そしてTHF(100mL)に溶解したジ-tert-ブチルジカーボネ ート(100g、0.458モル)を滴下した。冷却浴を取り外し、そして混合物を室温で 一晩撹拌した。液体は粘着性の沈殿物からデカントし、そして溶媒を真空除去し て70グラムの透明液体を得た。この粘着性の沈殿は塩化メチレンと水との間で分 配した。塩化メチレンを塩水で洗浄し、乾燥(Na2SO4)し、そして溶媒を真空除 去した。生成した残渣を前の蒸発からのものと合わせて、約20mmHg(bp 77−78 ℃)で蒸留して、40.2g(60収率)のN-tert-ブトキシカルボニル-N-メチルヒドラ ジンを得た: D.式(2a)のアミドラゾン 機械的撹拌機、滴下漏斗およびブリーチを充填したトラップへの出口を具備し た1リットルの丸底フラスコに、S-メチル-2,6-ジフルオロベンズイミニウム ヨ ージド(63.8g、0.202モル)およびメタノール(180mL)加えた。この撹拌溶液に、N -tert-ブトキシカルボニル-N-メチルヒドラジン(29.6g、0.202モル)を滴下した 。溶液を一晩静置し、そしてメタノールを真空除去した。残渣をエーテルでトリ チュレートし、そして固体を濾過により取り出して66.3グラム(79.0%収率)の式 (2a)のアミドラゾンを得た:融点172−173℃(分解); 実施例23-(2,6- ジフルオロフェニル)-5-(3-n-ヘキシルチエン-2-イル)-1-メチル[1,2,4] トリアゾール(化合物35) 25mL中の乾燥1,2-ジクロロエタン中の3-n-ヘキシル-2-チオフェン カルボン酸 (0.5g、2.4ミリモル)混合物に、2.0mLの塩化チオニルおよび1滴のジメチルホル ムアミドを加えた。この混合物を4時間還流した。冷却した後、反応混合物を真 空で蒸発させ、そして残渣を25mLの乾燥トルエンおよび1.24g(3.0ミリモル)の式 (2a)のアミドラゾン(実施例1)と合わせた。混合物を一晩還流し、冷却し、そ して次に塩水とエーテルの間で分配した。有機相を乾燥し(MgSO4)、溶媒を蒸 発させ、そして残渣を酢酸エチル/ヘキサンを溶出液として使用してシリカゲル のクロマトグラフィーにかけた;5:95〜20:80。生成物画分を集め、そして 蒸発させて0.66g(76%収率)の表題生成物を油として得た。 実施例33-(2,6- ジフルオロフェニル)-5-(4-p-クロロベンゼンスルホニル-3-メチルチエ ン-2-イル)-1-メチル[1,2,4]トリアゾール(化合物12) 0.9g(2.2ミリモル)の式(2a)(実施例1)のアミドラゾンおよび0.75g(2.2ミ リモル)のチオフェン酸クロライド、4-(p-クロロベンゼンスルホニル)-3-メチル チオフェン-2-カルボニルクロライド溶液(100mLのトルエン中)に、1当量(0.4g 、2.2ミリモル)のp-トルエンスルホン酸1水和物を撹拌しながら加えた。混合物 はDean-Starkトラップを使用して一晩還流し、水を除去した。溶液を冷却し、そ して溶媒を真空除去した。残渣を100mLのジクロロメタンに溶解し、そして2N N aOH、そして次に水で洗浄した。有機相を乾燥(MgSO4)し、そして溶媒を蒸発さ せた。残渣を酢酸エチル/ヘキサンから結晶化して0.6gの生成物をオフ-ホワイ ト色の結晶として得た。融点183−185℃。59.4%収率。 実施例43-(2,6- ジフルオロフェニル)-5-(5-p-クロロフェニル)フラン-2-イル)- 1- メチル[1,2,4]トリアゾール(化合物13) 1.0g(2.4ミリモル)の式(2a)(実施例1)のアミドラゾンおよび0.61g(2.4ミ リモル)の5-[p-クロロフェニル]-フラン-2-カルボニルクロライド溶液(100mLの トルエン中)に、1当量(0.43g、2.4ミリモル)のp-トルエンスルホン酸1水和物 を撹拌しながら加えた。混合物はDean-Starkトラップを使用して一晩還流し、水 を除去した。溶液を冷却し、そして溶媒を真空で除去した。残渣を100mLのジク ロロメタンに溶解し、そして2N NaOH、そして次に水で洗浄した。有機相を乾燥 (MgSO4)し、そして溶媒を蒸発させた。残渣を酢酸エチル/ヘキサンから結晶 化して0.4gの生成物をオフーホワイト色の結晶として得た。融点171−173℃。44 .9%収率; また本発明は、スキームIVに説明するように、式(1A)の化合物を製造する ための新規方法も提供する:スキームIV 式中、R1、R1'、Y、R3、R4およびR5は、式(1)で定義した通りであり 、そしてR14はメタンスルホニル、ベンゼンスルホニルまたは置換ベンゼンスル ホニルである。 工程aでは、2,6-置換ベンゾイルクロライド(10)を、式(11)のヒドラジ ド(式中、R14はメタンスルホニル、ベンゼンスルホニルまたは置換ベンゼンス ルホニル、すなわちp-Clまたはp-CH3ベンゼンスルホニルである)およびトリエチ ルアミンと、THF中で反応させて式(12)の置換ベンズヒドラゾンを得る。 工程bでは、式(12)の置換ベンズヒドラゾンを、最初に水素化ナトリウム (N,N-ジメチルホルムアミド中)と反応させ、そして次にヨードメタンと反応させ て、式(13)の置換ヒドラジンを製造する。 工程cでは、式(13)の置換ヒドラジンを、例えばPCl5を使用して塩化して 、式(14)の置換ベンジルヒドラゾノイルクロライドを製造 する。この反応は、ジクロロエタンのような非−反応性有機溶媒中で行う。 工程dでは、式(14)の置換ベンジルヒドラゾノイルクロライドを、塩化ア ルミニウムおよび式(15)のシアノチオフェンまたはシアノフランと溶媒中、 例えばo-ジクロロベンゼン中で反応させて、式(16)の3-(2,6-置換フェニル) -5-(置換チエニル)-1-メチル[1.2.4]トリアゾールを製造する。 スキームIVの工程a〜cの詳細な説明を、以下の実施例5に与える。 工程dの詳細な説明を、これから実施例6〜9、11、13および15に与える 。 実施例5 以下の工程は、式(14a)のベンズヒラゾノイルクロライドの製造を示す A.1- ベンゼンスルホニル-2-(2,6-ジクロロ)ベンズヒドラゾン 凝縮器、機械的撹拌機、温度計を具備した1リットル三首丸底フラスコに、窒 素の雰囲気下で、THF(500mL)、ベンゼンスルホニルヒドラジド(41.1g、0.238 モル)、およびトリエチルアミン(24.1g、33.2mL、0.238モル)加えた。生成した 溶液を、−5℃に冷却し、そして2,6-ジクロロベンゾイルクロライド(50.0g、34 .2mL、0.238モル)を、55分間にわたって滴下し、そして温度は約0℃より上には ならなかった。反応混合物を 1時間撹拌し、そして次に冷却浴を取り外し、そして反応混合物を室温で21時間 、TLCおよびHPLCで監視しながら撹拌した。ほとんどの溶媒を真空除去し 、そして残渣を塩化メチレン(1000mL)と水(2×200mL)との間で分配した。有機 層を飽和塩水(250mL)で洗浄し、乾燥し(Na2SO4)、そして溶媒を真空除去して白 色固体を得た。この白色固体をエーテル中でスラリーとし、そして濾過により取 り出し、そして真空にて一晩乾燥して74.3g(90.5%収率)の1-ベンゼンスルホニ ル-2-(2,6-ジクロロベンズ)ヒドラゾンを得た:融点180−181℃;TICマス B.1-(2,6- ジクロロ)ベンゾイル-2-メチル-2-ベンゼンスルホニルヒドラジン 機械的撹拌機、温度計および滴下漏斗を具備した1リットル三首丸底フラスコ 中、窒素の雰囲気下で、水素化ナトリウム(8.49gの60%分散物、0.212モル)を、 ヘキサン(3部)を用いて洗浄し、そしてほとんどのヘキサンを、最後の洗浄液か ら吸引除去した。N,N-ジメチルホルムアミド(200mL)を加え、そしてスラリーの 温度を−5℃に下げた。N-ベンゼンスルホニル-2,6-ジクロロ-ベンズヒドラゾン (73.3g、0.212モル溶液)(300mLのN,N-ジメチルホルムアミド中)を120分間にわた って、温度が3℃を越えないような速度で滴下し、そして水素の発生速度を管理 できる程度に維持した。添加か進むと、混合物はレモンイエロー色に変わり、そ して濃縮されたが、添加が完了した時に、混合物は透明で容易に撹拌された。生 成した混合物を0℃で1時間撹拌し、そして冷却浴を取り外し、そしてさらに1 時間撹拌した(温度は15℃に上がった)。次に混合物を −5℃に冷却し、そしてヨードメタン(30.0g、13.2mL)を温度が0℃より上がら ない速度で滴下した。冷却浴を取り外し、そして反応混合物を室温とし、そして 2時間撹拌した。反応混合物を塩水(300mL)で希釈し、そして酢酸エチルで抽出 した。有機層を飽和塩水で洗浄し、乾燥(Na2SO4)し、そして溶媒を真空除去して 、真空ポンプを介して除去されるN,N-ジメチルホルムアミドが混入した粗材料を 得た。この粗混合物を、ヘキサン/酢酸エチル中で再結晶化し、固体を濾過を介 して取り出し、そして真空で乾燥して40.2gを得た。溶媒を濾液から取り除いて 、さらに21.4gの総(80.9%収率)1-(2,6-ジクロロベンゾイル)-2-メチル-2-ベン ゼンスルホニルヒドラジンを得た:融点177−178℃: C.N-( ベンゼンスルホニル)-N-メチル-(2,6-ジクロロベンズ)ヒドラゾニルクロ ライド 磁気撹拌機および凝縮器を具備した1リットル三首丸底フラスコに、窒素の雰 囲気下で、N-ベンゼンスルホニル-N-メチル-2,6-ジクロロベンゾイルヒドラジン (35.9g、0.10モル)、1,2-ジクロロエタン(500mL)、および五塩化リン(31.2g、0. 15モル)を加えた。混合物の温度を還流点まで上げ、そして30分間撹拌した。溶 媒を真空除去し、そして残渣を塩化メチレンに溶解し、そして水で慎重に希釈し た。有機相を水、塩水で洗浄し、乾燥(Na2SO4)し、そして溶媒を真空除去して油 を得、これは酢酸エチル/ヘキサン混合物を用いてトリチュレートした時、凝固 して36.1g(95.7%収率)のN-ベンゼンスルホニル-N-メチル-2,6-ジクロロベンズ ヒドラゾノィルクロライドを、白色結晶固体として得た:融点103−1 04℃: N-ベンゼンスルホニル-N-メチル-2-クロロ-6-フルオロベンズヒドラゾノイル クロライドも、同じ手法を使用して製造された。 実施例63-(2- クロロ-6-フルオロフェニル)-5-(3,4,5-トリクロロチエン-2-イル)-1-メチ ル[1.2.4]トリアゾール(化合物2) N-メチル-N-ベンゼンスルホニル-2-クロロ-6-フルオロベンズヒドラゾノイル クロライド(47.5g)0.131モル)および2-シアノ-3,4,5-トリクロロチオフェン(26. 5g、0.125モル)の混合物(18mLのo-ジクロロベンゼン中)に、塩化アルミニウム(1 1.1g、0.083モル)を加えた。混合物を、予め加熱した油浴に沈め、140−150℃に 維持した。混合物を熱い油浴に40分間維持し、そして次に浴を取り外し、そして 2時間撹拌して、次第に冷却した。反応混合物を2Nの水酸化ナトリウム(300mL −アルミニウム塩を溶解するために十分)に注ぎ、そして塩化メチレン(3×250 mL)で抽出した。有機相を合わせ、塩水で洗浄し、乾燥し(MgSO4)、そして溶 媒を真空除去して粗生成物を得た。残渣をシリカゲル(150g)に置き、そして次に 酢酸エチル/ヘキサンを溶出液として使用してカラムクロマトグラフィーにかけ 、39.7g(55.3%収率)の表題化合物を得た:GC分析による純度99.4%:融点129− 130℃; 実施例73-(2,6- ジクロロフェニル)-5-(3,4,5-トリクロロチエン-2-イル)-1-メチル[1.2. 4]トリアゾール(化合物45) 機械的撹拌機および凝縮器を具備した500mLの丸底フラスコに、窒素の雰囲気 下で、o-ジクロロベンゼン(150mL)、2-シアノ-3,4,5-トリクロロチオフェン(23. 6g、111ミリモル)、および塩化アルミニウム(14.8g、111ミリモル)を加えた。撹 拌した反応混合物を、145−150℃の油浴に沈めた。混合物の内部温度が133℃に 達した時、N-(ベンゼンスルホニル)-N-メチル-(2,6-ジクロロベンズ)ヒドラゾノ イルクロライド(35.0g、92.6ミリモル)を、5グラムづつ40分間にわたって加え た。温度が141℃に上昇した。反応混合物はHPLCおよびGCを介して監視し ながら、最初のN-(ベンゼンスルホニル)-N-メチル-(2,6-ジクロロベンズ)ヒドラ ゾノイルクロライドを添加してから1時間40分間撹拌した。油浴を反応槽から外 し、そして混合物を約90℃に冷却し、そして撹拌している2N苛性アルカリ(350m L)に加えた。5分間撹拌した混合物は、pHが塩基性であることを確認するために 検査し、そして塩化メチレン(800mL)で希釈した。塩化メチレン層を水(250mL)、 塩水(250mL)で洗浄し、乾燥し(Na2SO4)、溶媒を真空除去し、そしてo-ジクロ ロベンゼンおよびベンゼンスルホニルクロライドを、クーゲルロール蒸留を介し て除去した。淡黄色の固体を、酢酸エチルから再結晶して、31.3g(81.7%収率) の表題化合物を得た:融点146−147℃; 実施例83-(2,6- ジクロロフェニル)-5-(チエン-3-イル)-1-メチル[1.2.4]トリア ゾール(化合物48) N-(ベンゼンスルホニル)-N-メチル-(2,6-ジクロロベンズ)ヒドロゾノイルクロ ライド(1.13g、3ミリモル)、3-シアノチオフェン(0.327g、6ミリモル)、および 塩化アルミニウム(0.40g、3ミリモル)を合わせ、そして135−140℃で約14時間 加熱し、そして次に室温で約48時間撹拌した。次に混合物をジクロロメタンで希 釈し、水で洗浄し、塩水で洗浄し、そして硫酸マグネシウムで乾燥した。クロマ トグラフィーにより、290mgの表題生成物を透明な油として得た。 実施例93-(2,6- ジクロロフェニル)-5-(チエン-2-イル)-1-メチル[1.2.4]トリアゾール( 化合物50) N-ベンゼンスルホニル-N-メチル-2,6-ジクロロベンズヒドロゾノイルクロライ ド(0.42g、1.1ミリモル)、2-シアノチオフェン(0.24g、2.2ミリモル)、および塩 化アルミニウム(0.147g、1.1ミリモル)を合わせ、そして138℃で約8時間加熱し た。次に混合物を1M NaOHの氷浴に注ぎ、そして1時間撹拌し、ジクロロメタン に抽出し、塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、そして濃縮して230mgの 油を得た。クロマトグラフィ −(SiO2、10%EtOAc-Hex)により、生成物(100mg)を白色固体として得た。 融点161−163℃。 また本発明は、スキームVに示す式(16)の化合物の製造法も提供する: スキームV 式中、R15はメチル、フェニル、p-クロロフェニルまたはp-トリルであり、R14 はメタンスルホニル、ベンゼンスルホニルまたは置換ベンゼンスルホニルであ り、そしてR1、R1'、R3、R4およびR5は、式(1)について上記に定義した 通りである。 スキームVの工程aでは、式(17)のスルホニルクロライドを、THFのよ うな非反応性有機溶媒中、トリエチルアミンの存在中でメチルヒドラジンと反応 させる。反応は典型的には数時間で完了するけれども、室温で行うことができる 。 スキームVの工程bでは、式(19)のスルホニルヒドラジンを、式(10) の2,6-置換ベンゾイルクロライドと反応させて、式(13)の中間体を提供する 。 スキームVの工程cおよびdは、スキームIVの工程cおよびdと同じ である。 実施例10 この実施例は、式(14b)のベンズヒドラゾノイルクロライドの製造を示す : A.2- メチル-2-(4-メチルフェニル)スルホニル ヒドラジン 機械的撹拌機、温度計および滴下漏斗を具備した100mLの三首丸底フラスコに 、窒素の雰囲気下で、THF(25mL)、メチルヒドラジン(2.53g、2.92mL、55ミリ モル)およびトリエチルアミン(4.35g、5.99mL、55ミリモル)を加えた。混合物の 温度を約5℃に下げ、そして25mLのTHFに溶解した4-メチルベンゼンスルホニ ルクロライド(9.5g、50ミリモル)を、温度が10℃より上がらないような速度で滴 下した。冷却浴を取り外し、そして混合物を一晩、室温で撹拌した。エーテル(1 00mL)を反応混合物に加え、そして生成したスラリーを水(50mL)、塩水(50mL)で 洗浄し、乾燥し(Na2SO4)、そして溶媒を真空除去して9.5g(95%収率)の表題化 合物を得た。 B.1-(2- フルオロ-6-クロロベンゾイル)-2-メチル-2-(4-メチルフェニル)スル ホニル ヒドラジン 磁気撹拌機、温度計および凝縮器を具備した100mLの三首丸底フラス コに、窒素の雰囲気下で、2-メチル-2-[(4-メチルフェニル)スルホニル]ヒドラ ジン(9.5g、47.4ミリモル)、ピリジン(3.75g、3.83mL、47.4ミリモル)、4-ジメ チルアミノピリジン(0.30g、2.4ミリモル)およびアセトニトリル(50mL)を加えた 。生成した混合物を10℃に冷却し、そして2-フルオロ-6-クロロベンゾイルクロ ライド(8.99g、45.2ミリモル)を、温度が10℃より上がらないような速度で滴下 した。冷却浴を取り外し、そして混合物を一晩、室温で撹拌した。溶媒を反応混 合物から真空除去して、オフホワイト色の固体を得、この固体を塩化メチレンで 希釈し、そして1N HCl(20mL)、飽和塩化ナトリウム溶液(20mL)を用いて抽出し、 乾燥し(Na2SO4)、そして溶媒を真空除去してオフホワイト色の固体を得た。こ の物質を酢酸エチルから再結晶して、5.6g(34.7%収率)の1-(2-フルオロ-6-クロ ロベンゾイル)-2-メチル-2-[(4-メチルフェニル)スルホニル]ヒドラジンを結晶 固体として得た:融点135−136℃; C.N-(4 −メチルベンゼンスルホニル)-N-メチル-(2-フルオロ-6-クロロベンズ) ヒドラゾノイルクロライド 磁気撹拌機および凝縮器を具備した250mLの一首丸底フラスコに、窒素雰囲気 下で、1-(2-フルオロ-6-クロロベンゾイル)-2-メチル-2-[(4-メチルフェニル)ス ルホニル]ヒドラジン(5.0g、14.0ミリモル)、エチレンジクロライド(50mL)、 および五塩化リン(3.2g、21.6ミリモル)を 加えた。混合物を加熱還流し、そしてその温度に約30分間維持した。反応の進行 は、50/50の酢酸エチル/ヘキサンを使用してTLCにより監視した(出発材料のR f=0.55;生成物のRf=0.70)。溶媒を真空除去し、そして残渣を塩化メチレン(100 mL)に溶解し、そして水で慎重に希釈した。有機相を水、塩水で洗浄し、乾燥(Na2 SO4)し、そして溶媒を真空除去して、冷却すると凝固する黄色い油を得た。こ の固体を、ヘキサン/酢酸エチル(70/30)中でスラリーとし、そして濾過により 取り出して、4.5g(87%収率)のN-(4-メチルベンゼンスルホニル)-N-メチル-(2- フルォロ-6-クロロベンズ)ヒドラゾノイル クロライドを得た。融点98−99℃。 実施例113-(2- クロロ-6-フルオロフェニル)-5-(3,4,5-トリクロロチエン-2-イル)-1-メチ ル[1.2.4]トリアゾール(化合物2) 磁気撹拌機および温度計を具備した50mLの首付フラスコに、窒素の雰囲気下で 、N-(4-メチルベンゼンスルホニル)-N-メチル-(2-フルオロ-6-クロロベンズ)ヒ ドラゾノイルクロライド(実施例10)(1.4g、3.73ミリモル)、2-シアノ-3,4,5- トリクロロチオフェン(0.83g、3.92ミリモル)、塩化アルミニウム(0.53g、4.0ミ リモル)およびo-ジクロロベンゼン(10mL)を加えた。反応混合物を含むフラスコ を、120℃に維持した予備加熱した油浴に浸した。8分以内に、反応混合物の温 度は109℃に上昇し、 そして加熱をさらに30分間続けた。このフラスコを油浴から取り出した。撹拌し た時、反応混合物は約80℃に達し、そして急激に撹拌しながら溶液(10mLの氷を 含む10gの水酸化ナトリウム)に注ぎ、そして次に抽出のための塩化メチレン(50m L)に加えた。有機相を水(25mL)、塩水で洗浄し、そして乾燥し(Na2SO4)、そし て溶媒を真空除去した。o-ジクロロベンゼンが残渣からクーゲルロール蒸留を 介して除去され、残渣を得、これをエーテル(20mL)に溶解し、活性炭を用いて室 温で撹拌し、濾過し、そして溶媒を濾液から真空除去した。この固体を酢酸エチ ルから再結晶して、0.9g(60.8%収率)の3-(2-クロロ-6-フルオロフェニル)-5-(3 ,4,5-トリクロロチエン-2-イル)-1-メチル[1,2,4]トリアゾールを、結晶固体と して得た:>HPLC分析による純度97%; 実施例12 この実施例は、式(14c)のベンズヒドラゾノイルクロライドの製造を示す : A.2- メチル-2-[(4-クロロフェニル)スルホニル]ヒドラジン 機械的撹拌機、温度計および滴下漏斗を具備した100mLの三首丸底フラスコに 、窒素の雰囲気下で、THF(25mL)、メチルヒドラジン(2.53g、2.92mL、55ミリ モル)、およびトリエチルアミン(4.35g、43ミリモル) を加えた。混合物の温度を約5℃に下げ、そして25mLのTHFに溶解した粗4-ク ロロフェニルスルホニルクロライド(10.5g、50ミリモル、4-クロロフェニルスル ホン酸を含有)を、温度が10℃より上がらないような速度で滴下した。冷却浴を 取り外し、そして混合物を一晩、室温で撹拌した。エーテル(100mL)を反応混合 物に加え、そして生成したスラリーを水(50mL)、塩水(50mL)で洗浄し、乾燥し (Na2SO4)、そして溶媒を真空除去して5.4g(49%収率)の2-メチル-2-[(4-クロ ロフェニル)スルホニル]ヒドラジンを得た: B.1-(2- フルオロ-6-クロロベンゾイル)-2-メチル-2-[(4-クロロフェニル)スル ホニル]ヒドラジン 磁気撹拌機および凝縮器を具備した100mLの三首丸底フラスコに、窒素の雰囲 気下で、2-メチル-2-[(4-クロロフェニル)スルホニル]ヒドラジン(5.4g、24.5 ミリモル)、ピリジン(1.93g1、1.98mL、24.5ミリモル)、4-ジメチルアミノピ リジン(0.15g、1.2ミリモル)、およびアセトニトリル(50mL)を加えた。混合物を 10℃に冷却し、そして2-フルオロ-6-クロロベンゾイルクロライド(4.65g、23.4 ミリモル)を、温度が10℃より上がらないような速度で滴下した。混合物を一晩 、室温で撹拌した。溶媒を反応混合物から真空除去して白色固体を得、そしてこ の固体を塩化メチレンで希釈し、そして1N HCl(20mL)、飽和重炭酸ナトリウム( 20mL)で抽出し、乾燥し(Na2SO4)、そして溶媒を真空除去して1-(2-フルオロ- 6-クロロベンゾイル)-2-メチル-2-[(4-クロロフェニル)スルホニル]ヒドラジン を黄色い油として得、これを精製せずに使用した。 C.N-(4- クロロフェニルスルホニル)-N-メチル-(2-フルオロ-6-クロロベンズ) ヒドラゾノイルクロライド 磁気撹拌機および凝縮器を具備した250mLの一首丸底フラスコに、窒素の雰囲 気下で、1-(2-フルオロ-6-クロロベンゾイル)-2-メチル-2-(4-クロロフェニル) スルホニル]ヒドラジン(7.3g、16.8ミリモル、HPLCによる87%純度)、エチレン ジクロライド(50mL)および五塩化リン(6.03g、28.9ミリモル)を加えた。混合物 を加熱還流し、そしてその温度を約30分間維持した。溶媒を真空除去し、そして 残渣を塩化メチレン(100mL)に溶解し、そして慎重に水で希釈した。有機相を水 、塩水で洗浄し、、乾燥し(Na2SO4)、そして溶媒を真空除去して黄色い油を得 、これを熱酢酸エチルに溶解し、これにヘキサンを曇り点まで加え、そして冷却 すると引っ掻き固体(scratching solid)を形成した。この固体をヘキサン/酢酸 エチル(70/30)から再結晶し、そして種晶から生じた2.7g(40.9%収率)のN-(4- クロロフェニルスルホニル)-N-メチル-(2-フルオロ-6-クロロベンズ)ヒドラゾノ イルクロライドを得た。融点100−101℃; 実施例133-(2- クロロ-6-フルオロフェニル)-5-(3,4,5-トリクロロチエン-2-イル)-1-メチ ル[1.2.4]トリアゾール(化合物2) 磁気撹拌機および温度計を具備した50mLの首付フラスコに、窒素の雰囲気下で 、N-(4-クロロフェニルスルホニル)-N-メチル-(2-フルオロ-6- クロロベンズ)-ヒドラゾノイル クロライド(製造4)(2.7g、6.8ミリモル)、2-シ アノ-3,4,5-トリクロロチオフェン(1.44g、6.8ミリモル)、塩化アルミニウム(1. 18g、8.9ミリモル)およびo-ジクロロベンゼン(20mL)を加えた。反応混合物を含 むフラスコを、120℃に維持した予備加熱した油浴に浸した。8分以内に、反応 混合物の温度は109℃に上昇し、そして加熱をさらに50分間続けた。このフラス コを油浴から取り出した。撹拌した時、反応混合物は約80℃に達し、そして急激 に撹拌しながら20mLの氷を含む20gの水酸化ナトリウム溶液に注ぎ、そして次に 抽出するための塩化メチレン(100mL)に加えた。有機相を水、塩水で洗浄し、そ して乾燥し(Na2SO4)、そして溶媒を真空除去した。o-ジクロロベンゼンが残 渣からクーゲルロール蒸留を介して除去され、残渣を得、これをエーテル(50mL) に溶解し、活性炭を用いて室温で撹拌し、濾過し、そして溶媒を濾液から真空除 去した。この生成したオフホワィト色の固体を再結晶して、1.8g(26.6%収率)の 3-(2-クロロ-6-フルオロフェニル)-5-(3,4,5-トリクロロチエン-2-イル)-1-メチ ル[1,2,4]トリアゾールを、結晶固体として得た:>HPLC分析による純度98%。 実施例14 この実施例は、式(14d)のベンズヒドラゾノイルクロライドの製造を示す : A.2- メチル-2-メタンスルホニル ヒドラジン 機械的撹拌機、温度計および滴下漏斗を具備した250mLの三首丸底フ ラスコに、窒素雰囲気下で、THF(100mL)、メチルヒドラジン(5.07g、5.85mL 、110ミリモル)、およびトリエチルアミン(11.1g、15.3mL、110ミリモル)を加え た。混合物の温度を約5℃に下げ、そしてメタンスルホニルクロライド(11.4g、 7.73mL、100ミリモル)を温度が10℃より上がらないような速度で滴下した。冷却 浴を取り外し、そして混合物を一晩、室温で撹拌した。エーテル(100mL)を反応 混合物に加え、そして水(50mL)、塩水(50mL)で洗浄し、乾燥し(Na2SO4)、そ して溶媒を真空除去して2.4g(19.3%収率)の2-メチル-2-メタンスルホニルヒド ラジンを得た: B.1-(2- フルオロ-6-クロロベンゾイル)-2-メチル-2-メタンスルホニルヒドラ ジン 50-mLに、窒素雰囲気下で、2-メチル-2-メタンスルホニルヒドラジン(2.4g、1 9.3ミリモル)、ピリジン(1.5g、1.55mL、19.3ミリモル)、およびアセトニトリ ル(20mL)を加えた。混合物を約0℃に冷却し、そして2-クロロ-6-フルオロベン ゾイルクロライド(3.77g、19.3ミリモル)を滴下した。混合物を室温に暖め、そ して約3時間、50/50の酢酸エチル/ヘキサンを使用してTLCにより監視した(2 -クロロ-6-フルオロベンゾイルクロライドについてRf=0.7および生成物について Rf=0.44)。溶媒を反応混合物から真空除去し、そして残渣を塩化メチレンで希釈 し、そして1N塩酸(10mL)、飽和重炭酸ナトリウムで抽出し、乾燥(MgSO4)し、そ して溶媒を真空除去して、4.6gの半固体を得た。この物質を酢酸エチルから再結 晶して、1.8g(33.3%収率)の1-(2-フルオロ-6-クロロベンゾ イル)-2-メチル-2-メタンスルホニルヒドラジンを結晶固体として得た。融点135 −136℃。 C.N- メタンスルホニル-N-メチル-(2-フルオロ-6-クロロベンズ)ヒドラゾノイ ルクロライド 磁気撹拌機および凝縮器を具備した250mLの一首丸底フラスコに、窒素の雰囲 気下で、1-(2-フルオロ-6-クロロベンゾイル)-2-メチル-2-メタンスルホニルヒ ドラジン(1.6g、7.12ミリモル)、エチレンジクロライド(25mL)、および五塩化リ ン(2.2g、10.7ミリモル)を加えた。混合物を加熱還流し、そしてその温度を約3 0分間維持した。反応の進行は、50/50の酢酸エチル/ヘキサンを使用してTLCに より監視した(出発材料Rf=0.44;生成物Rf=0.60)。溶媒を真空除去し、そして 残渣を塩化メチレン(50mL)に溶解し、そして水で慎重に希釈した。有機相を水( 2×50mL)、塩水(50mL)で洗浄し、乾燥(Na2SO4)し、そして溶媒を真空除去して 、無色の油を得、これは冷却すると凝固した。この固体をヘキサン/酢酸エチル (70/30)から再結晶して、1.2g(56.6%収率)のN-メタンスルホニル-N-メチル-(2- フルオロ-6-クロロベンズ)ヒドラゾノイルクロライドを得た。融点83−85℃;HP LC分析による純度93%: 実施例153-(2- クロロ-6-フルオロフェニル)-5-(3,4,5-トリクロロチエン-2-イル)-1-メチ ル[1,2,4]トリアゾール(化合物2) 磁気撹拌機および温度計を具備した50mLの首付フラスコに、窒素の雰囲気下で 、N-メタンスルホニル-N-メチル-(2-フルオロ-6-クロロベンズ)ヒドラゾノイル クロライド(実施例14)(1.0g、3.3ミリモル)、2-シアノ-3,4,5-トリクロロチオフ ェン(0.78g、3.7ミリモル)、塩化アルミニウム(0.49g、3.7ミリモル)、およびo -ジクロロベンゼン(10mL)を加えた。反応混合物を含有するフラスコを、120℃に 維持した予備加熱した油浴に浸した。10分以内で、反応混合物の温度が111℃に 上昇し、そして加熱をさらに90分間続けた。GC分析では、反応の転換が約66%で あることを示した。このフラスコを油浴から取り外した。撹拌した時、反応混合 物は約90℃に達し、そして急激に撹拌しながら溶液(10mLの氷を含む10gの水酸化 ナトリウム)に注がれ、そして抽出のための塩化メチレン(50mL)に加えた。有機 相を水(25mL)、塩水で洗浄し、乾燥(Na2SO4)し、そして溶媒を真空除去した。o -ジクロロベンゼンは、クーゲルロール蒸留により残渣から除去して残渣を得、 これをエーテル(20mL)に溶解し、活性炭を用いて室温で撹拌し、濾過し、そして 溶媒を濾液から真空除去して、3,4,5-トリクロロ-2-シアノチオフェンを含む0.4 gの3-(2-クロロ-6-フルオロフェニル)-5-(3,4,5-6-トリクロロチエン-2-イル)-1 -メチル[1,2,4]トリアゾールを得た。 本発明の化合物は、常法を使用して修飾し、実施例16および17に説明する ような本発明の他の化合物を提供することができる。 実施例163-(2,6- ジクロロフェニル)-5-(5-ブロモ-3,4-ジクロロチエン-2-イル)-1-メチル [1,2,4]トリアゾール(化合物46) n-ブチルリチウム(2.5ミリモル)を、ゆっくりと3-(2,6-ジクロロフェニル)-5- (3,4,5-トリクロロチエン-2-イル)-1-メチル[1,2,4]トリアゾール(325mg、1.0ミ リモル)溶液(THF中)に−78℃で加え、そして混合物を1時間撹拌した。臭素( 3.0ミリモル)を加え、そして反応を2時間撹拌し、次に水で希釈し、エーテルで 抽出し、塩水で洗浄し、そして硫酸マグネシウムで乾燥した。生成物を濃縮して 620mgの暗色油を得た。これをクロマトグラフィー(SiO2、10% EtOAc-Hex)にか けて、79mgの表題生成物をピンク色の固体として得た。融点197−199℃。 実施例173-(2,6- ジクロロフェニル)-5-(5-ブロモチエン-2-イル)-1-メチル[1,2,4]トリア ゾール(化合物47) 3-(2,6-ジクロロフェニル)-5-(チエン-2-イル)-1-メチル[1,2,4]トリアゾール (75mg、0.242ミリモル)および臭素(39mg、0.242ミリモル)を氷酢酸(3mL)中で合 わせ、そして混合物を室温で一晩撹拌し、次に95℃ に5時間加熱した。反応混合物を飽和重炭酸ナトリウム溶液に注ぎ、エーテルで 抽出し、そして硫酸マグネシウムで乾燥した。クロマトグラフィー(SiO2、25% Hex−CH2Cl2)により表題生成物を蝋状の白色固体として得た。融点130−132℃。 式(1)の化合物の植物学的に許容できる酸付加塩も、本発明の範囲内にある 。例えば、四弗化ホウ素、塩化水素、臭素水素、ヨー化水素、硫酸水素または有 機酸塩を使用することができる。 以下の表1に掲げる化合物を製造し、そして試験した。 CA†は、ワタアブラムシに対する50ppmでの活性に関し、 TSSM‡は、ナミハダニに対する100ppmでの活性に関し、そして WF★は、コナジラミに対する800ppmでの活性に関する。試験手順は、以下に記 載する。 各々の場合で、評価スケールは以下の通りである 殺虫剤および殺ダニ剤の利用性 本発明の化合物は、昆虫、ダニおよびアブラムシを防除するためにも有用であ る。したがって本発明は、昆虫、ダニまたはアブラムシを抑制する方法を対象と し、その方法は、昆虫またはダニの部位に、昆虫−またはダニ−抑制量の式(1 )の化合物を施用することを含んで成る。 このような化合物は、昆虫およびダニの個体を減らすために有用であり、そし て昆虫またはダニの個体群の抑制法において有用であり、この方法は昆虫または ダニの部位に、効果的な昆虫−またはダニ−不活性化量の式(1)の化合物を施 用することを含んで成る。昆虫またはダニの「部位」とは、昆虫またはダニが住む か、またはそれらの卵が存在する環境を指すために本明細書では使用し、そのよ うな環境にはそれらを囲む 空気、それらが食べる食物、またはそれらが接触する物体を含む。例えば、植物 を摂食する昆虫またはダニは、活性化合物を昆虫またはダニが食する植物部、特 に茎葉に施用することにより防除することができる。化合物は、布、紙、貯蔵穀 物または種子に、活性化合物を施用することによりそのような物質を保護するた めにも有用であることを企図する。用語「昆虫またはダニを抑制する」とは、生 存している昆虫またはダニの数の減少、あるいは生存能力のある昆虫またはダニ の卵の数の減少を意味する。化合物により達成される減少の程度はもちろん、化 合物の施用率、使用する特定の化合物、および標的とする昆虫またはダニの種に 依存する。少なくとも不活性化量を使用するべきである。用語「昆虫−不活性化 量」および「ダニ−不活性化量」とは、処理した昆虫またはダニの集団(pop ulation)において、測定可能な減少を引き起こすために十分な量を記載 するために使用する。一般的に、約1〜約1000ppmの活性化合物の範囲の量が使 用される。 好適な態様では、本発明は、植物にダニ−またはアブラムシ−を不活性化する のに効果的な式(1)の化合物量を施用することを含んで成る、ダニまたはアブ ラムシの抑制法を対象とする。ワタアブラムシ(Aphids gossypii)に関する殺虫性試験 : 噴霧溶液を調製するために、2mgの各試験化合物を、2mLの90:10のアセトン :エタノール溶媒に溶解した。この2mLの化学薬品溶液を、0.05% Tween 20界 面活性剤を含有する38mLの水に加えて、50ppmの噴霧溶液を作成した。 カボチャの子葉に、噴霧溶液を施用する16−20時間前に、ワタアブラムシ(す べての生育段階)を侵襲させた。溶液を、侵襲させた各カボチャ の子葉の両側に(0.5mL×2両側)、全2mLの噴霧溶液を用いて吹き付けることに より噴霧した。植物を風乾し、そして26℃および40% RHの管理室に3日間維持 した後、試験を評価した。評価は、分割顕微鏡を使用して実際に計数し、そして 試験カウントを未処理検査に対して比較することにより行った。結果を、未処理 に基づく個体数の減少に関するパーセント防除として表1に示す。ナミハダニ(Tetranychus urticae)に関する殺虫試験 殺卵法: 成虫のメスのナミハダニを、ワタの葉の8枚の2.2cmの葉のディスク上に置き 、24時間産卵させ、そしてその後に取り出した。葉のディスクを100ppmの試験溶 液に3秒間浸し、次に乾燥させ、陰性対照としては、16枚の葉のディスクを処理 しなかった。ディスクを寒天支持体上に置き、そして24℃および90%の相対湿度 に6日間維持した。処理したディスクについて孵欝化した幼虫の数、および未処 理ディスクに関する数に基づくパーセント防除を、表1に報告する。サツマイモ コナジラミ(Bemisia tabacia)に関する研究室条件下での試験化合物 の評価 16mgの各試験化合物は、サンプル化合物を含むバイアルに5mlの90:10のア セトン:エタノール溶媒混合物を加えることにより溶解した。この溶液を、0.05 % Tween 20界面活性剤を含有する15mLの水に加えて、20mlの800ppmの噴霧溶液 を作成した。 温室中で5週間育てたワタ植物は、直径5cmより大きい2枚の最上部の本葉を 除いて、すべての茎葉を除去した。これらの植物は、コロニーのメスが産卵する ために、研究室のコナジラミコロニーに3日間置いた。 すべてのコナジラミを、風圧をかけることにより試験植物から除去した。次に噴 霧溶液を、中空円錐ノズルを具備した手で持つシリンジを使用して試験植物に施 用した。上および下の各々の葉に1mLの噴霧溶液を、植物あたり全4mLで施用し た。各試験化合物に関して、4つの複製で全16mLの試験溶液を使用した。植物を 風乾し、そして維持チャンバー(26℃および40% RH)に21日間置いた。化合物の 効力は分割顕微鏡下で、葉あたりのサナギが生存した数(spent pupal case)を計 数することにより評価した。サナギが生存した数とは、コナジラミの卵が完全に 発生して成虫状態に達したことを意味し、すなわち防除されていない。 溶液のみ(試験化合物無し)を噴霧した植物に対して、試験化合物でサナギが 生存した数の減少に基づく、パーセント防除を表1に報告する。カボチャに関する種子処理試験 対 ワタアブラムシ 4インチのポットを、ふるいにかけた土壌ミックス(70砂土/30粉砕土壌)で2 /3満たした。化合物は懸濁液として、中心に4mL容量施用した。カボチャ種子 を化学薬品を施用したゾーンに播き、そして土壌ミックスで1cmの深さに覆った 。ポットを潅水し、そして温室に10日間維持し、この時点で各植物は、侵襲させ ることができる完全に開いた葉を有した。次に植物をアブラムシで侵襲させた。 4日後、アブラムシを計数した。結果を以下の表にまとめる: 式(1)の化合物は、茎葉に施用した時にダニ、アブラムシおよび昆虫に対し て効果的であることに加えて、全身誘導性を現した。したがって本発明の別の観 点は、式(1)の化合物の有効量を用いて、植物種子を播く前に処理するか、植 物種子を播く土壌を処理するか、または植物を植えた後に植物の根で土壌を処理 することを含んで成る、植物を昆虫から保護する方法である。 組成物 本発明の化合物は、本発明の重要な態様であり、そして本発明の化合物および 植物学的に許容できる不活性キャリアーを含んで成る組成物の状態で施用される 。この組成物は、施用のために水中に分散される濃縮製剤、またはさらに処理す ることなく施用される粉剤もしくは粒剤のいずれかである。組成物は、農業化学 分野で通例の手順および処方に従い調製されるが、これは組成物中に本発明の化 合物が存在するので新規であり、そして重要である。しかし農業化学者が任意に 所望する組成物を確実に容易に調製することができるように、組成物の製剤の処 方に関する幾つかの記載を与える。 化合物を中に適用する分散物は、大部分が化合物の濃縮製剤から調製される水 性の懸濁液または乳液である。そのような水溶性の、水−懸濁性または乳化性の 製剤は、通常は水和剤として知られている固体であるか、または通常は乳剤また は水性懸濁剤(aqueous suspension)として知られている液体である。詰めて水− 分散性の顆粒を形成することができる水和剤は、活性化合物、不活性キャリアー および界面活性剤の完全な 混合物である。活性化合物濃度は通常、約10重量%〜約90%である。不活性キャ リアーは通常、アタパルジャイトクレー、モンモリロナイトクレー、珪藻土また は精製シリケートの中から選択される。水和剤の約0.5%〜約10%から成る効果 的な界面活性剤は、スルホン化リグニン、凝縮ナフタレンスルホネート、ナフタ レンスルホネート、アルキルベンゼンスルホネート、アルキルサルフェート、お よびアルキルフェノール類のエチレンオキシド付加生成物のような非イオン性界 面活性剤の中から見いだされる。 化合物の乳剤は、水混和性溶媒または水非混和性有機溶媒および乳化剤との混 合物である不活性キャリアー中に溶解された、約10%から約50%に等しい、1リ ットルの液体あたり約50グラムから500グラムのような都合のよい化合物濃度を 含んで成る。有用な有機溶媒は芳香族、特にキシレン、および石油溜分、特に重 質芳香族ナフサのような石油の高沸点ナフタレン系およびオレフィン系部分を含 む。他の有機溶媒、例えばロジン誘導体を含むテルペン系溶媒、シクロヘキサノ ンのような脂肪族ケトン、ならびに2-エトキシエタノールのようなコンプレック スアルコール(complex alcohol)も使用できる。乳剤用の適当 な乳化剤は、上記のような通例の非イオン性界面活性剤から選択される。 水性懸濁剤は、約5%−約50重量%の範囲の濃度で、水性賦形剤中に分散した 本発明の水−不溶性化合物の懸濁液を含んで成る。懸濁液は、化合物を細かく挽 き、そしてこれを水および上記の同種類から選択した界面活性剤から成る賦形剤 中に激しく混合することにより調製される。無機塩および合成または天然ガムの ような不活性材料も、水性賦形剤の密度および粘度を増すために加えることがで きる。水性混合物を調製し、 そしてそれをサンドミル、ボールミルまたはピストン型のホモジナイザーのよう な用具中で均質化することにより、同時に化合物を挽き、そして混合することが 最も効果的であることが多い。 化合物は、特に土壌に施用するために有用な顆粒状組成物として施用してもよ い。顆粒状組成物は通常、全部または大部分がクレーまたは同様の安価な物質か ら成る不活性キャリアー中に分散された、約0.5%−約10重量%の化合物を含む 。そのような組成物は通常、化合物を適当な溶媒に溶解し、そしてそれを約0.5 −3mmの範囲の予め適当な粒子サイズに形成された顆粒状キャリアーに適用する ことにより調製される。そのような組成物は、キャリアーおよび化合物のドウま たはペーストを作成し、そして粉砕し、そして乾燥させて所望の顆粒の粒子サイ ズを得ることにより製剤化することもできる。 化合物を含有する粉剤は、化合物とカオリンクレー、火山岩等のような適当な ダスト状の農業用キャリアーとを単に粉末状に完全に混合することにより調製さ れる。粉剤は適当には、約1%−約10%の化合物を含む。 いずれかの理由により、化合物を、適当な有機溶媒中、農業化学において広く 使用されているスプレーオイルのような通常の無刺激石油中の溶液の状態で施用 することが望まれる場合には、等しく実際的である。 殺虫剤および殺ダニ剤は、一般的に液体キャリアー中の有効成分の分散状態で 施用される。キャリアー中の有効成分の濃度に関しては、施用率を指すことが通 例である。最も広く使用されているキャリアーは水である。 本発明の化合物は、エアゾール組成物の状態で施用することもできる。 そのような組成物では、活性化合物は不活性キャリアー(これは高圧生成ガス混 合物である)中に溶解または分散されている。エアゾール組成物は、容器に詰め られ、これから混合物が噴霧バルブを通って分配される。高圧ガス混合物は、有 機溶媒と混合できる低沸点炭化水素、または不活性ガスもしくはガス状炭化水素 により加圧化された水性懸濁液のいずれかを含んで成る。 昆虫、ダニおよびアブラムシの部位に施用される化合物の実際の量は、重要で はなく、そして上記実施例から当業者は容易に決定することができる。一般的に 、10ppm−5000ppmの化合物濃度が、良好な防除を提供するものと予想される。多 くの化合物では、100−1500ppm濃度で十分である。ダイズおよびワタのような農 作物には、化合物の適当な施用率は約0.5−1.5 1b/Aであり、典型的には1200−3 600ppmの化合物を含む噴霧製剤を5−20 gal/Aで施用する。柑橘類には、適当な 施用率は、約100−1500 gal/Aの噴霧製剤であり、これは100−1000ppmの率であ る。 化合物を施用する部位は、昆虫または蛛形類が住む任意の部位、例えば野菜作 物、果物および堅果木、ブドウの木、および観葉植物である。多くのダニの種が 特定の宿主に特異的なので、前述のダニの種類のリストは、本発明の化合物を使 用できる広範な状況の例を提供している。 既知の殺ダニ剤にもあてはまるように、ダニの卵の、有毒作用に対して抵抗す る独特な能力から、新たに発生する幼虫を防除するために繰り返して施用するこ とが望ましい。 以下の本発明の化合物の剤型は、本発明の実施に有用な典型的な組成物である 。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C07C 327/58 C07C 327/58 C07D 409/04 C07D 409/04 409/14 409/14 413/14 413/14 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(GH,GM,KE,LS,M W,SD,SZ,UG,ZW),EA(AM,AZ,BY ,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM),AL,AM ,AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY, CA,CH,CN,CU,CZ,DE,DK,EE,E S,FI,GB,GE,GH,HU,IL,IS,JP ,KG,KR,KZ,LC,LK,LR,LS,LT, LU,LV,MD,MG,MK,MN,MW,MX,N O,NZ,PL,PT,RO,RU,SD,SE,SG ,SI,SK,SL,TJ,TM,TR,TT,UA, UG,UZ,YU (72)発明者 ド・ブリーズ,ドナルド・エイチ アメリカ合衆国インデイアナ州46038フイ シヤーズ・ウツドランズドライブ9878 (72)発明者 シユーア,ロバート・ジー アメリカ合衆国インデイアナ州46140グリ ーンフイールド・ブランナードライブ1522 (72)発明者 ジヨンソン,ピーター・エル アメリカ合衆国インデイアナ州46260イン デイアナポリス・ノースダートマスロード 8016 (72)発明者 ストツクデイル,ゲイリー・デイ アメリカ合衆国インデイアナ州46240イン デイアナポリス・ニツカーボツカーウエイ 8722・アパートメント4デイ (72)発明者 アシユ,メアリー・エル アメリカ合衆国インデイアナ州46077ザイ オンズビル・フランクリントレイス762 (72)発明者 ハミルトン,クリストフアー・テイ アメリカ合衆国インデイアナ州46234イン デイアナポリス・ダンデイクリークドライ ブ8918 (72)発明者 ハツトン,クリストフアー・ジエイ アメリカ合衆国インデイアナ州46074ウエ ストフイールド・ステイトロード38イース ト2525 (72)発明者 ジヨンソン,ジヨージ・ダブリユー アメリカ合衆国インデイアナ州46256イン デイアナポリス・ノルクリークドライブ 6715 (72)発明者 ヤプ,モーリス・チー・ホーング アメリカ合衆国インデイアナ州46077ザイ オンズビル・チエスナツトコート22

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.式(1) 式中、 Arは、置換フェニルであり; YはOまたはSであり; R2は、低級アルキル、ハロアルキル、低級アルケニル、低級アルキニルまた はアルコキシアルキルであり; R3は、H、ハロ、低級アルキル、(C7−C21)直鎖もしくは分枝鎖アルキル 、ヒドロキシ、低級アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、アルコキシア ルキル、アルコキシアルコキシ、低級アルケニル、低級アルキニル、ハロアルケ ニル、CN、NO2、COR6、CO2R6、CON(R6)2、(C3−C6)シクロアルキル、S(O)mR6 、-OSO2R6、SCN、-(CH2)nR6、-CH=CHR6、-C≡CR6、-(CH2)qOR6、-(CH2)qSR6、-( CH2)qNR6R6、-O(CH2)qR6、-S(CH2)qR6、-NR6(CH2)qR6、 -Si(R7)3、ピリジル、置換ピリジル、イソキサゾリル、置換イソキサ ゾリル、ナフチル、置換ナフチル、フェニル、置換フェニル、チエニル、置換チ エニル、ピリミジル、置換ピリミジル、ピラゾリルまたは置換ピラゾリルから選 択され; R4およびR5は、独立してH、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、ハロア ルキル、ハロアルコキシ、CN、CO2R6、CON(R6)2またはS(O)mアルキルであるか、 あるいは R4およびR5が隣接する炭素原子と結合する場合には、それらは一緒になって 、1もしくは2個のハロ、低級アルキル、低級アルコキシまたはハロアルキル基 により置換されてもよい5または6員の飽和もしくは不飽和炭素環を形成するこ とができ; R6は、H、低級アルキル、ハロアルキル、低級アルケニル、低級アルキニル 、フェニルまたは置換フェニルであり; R7は、低級アルキルであり; mは、0、1または2であり; nは、1または2であり; pは、2〜6の整数であり;そして qは、0または1である、 の化合物、またはそれらの植物学的に許容できる酸付加塩。 2.式(1A) 式中、 R1およびR1'は、独立してH、Cl、F、メチル、ハロメチル、メトキシま たはハロメトキシであり; Yは、OまたはSであり; R2は、低級アルキル、ハロアルキル、低級アルケニル、低級アルキニルまたは アルコキシアルキルであり; R3は、H、ハロ、低級アルキル、(C7−C21)直鎖アルキル、ヒドロキシ、低 級アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキ シアルコキシ、低級アルケニル、ハロアルケニル、CN、NO2、CO2R6、CON(R6)2、 (C3−C6)シクロアルキル、S(O)mR6、SCN、ピリジル、置換ピリジル、イソキサ ゾリル、置換イソキサゾリル、ナフチル、置換ナフチル、フェニル、置換フェニ ル、-(CH2)nR6、-CH=CHR6、-C≡CR6、-CH2OR6、-CH2SR6、-CH2NR6R6、-OCH2R6、 -SCH2R6、-NR6CH2R6、 から選択され; R4およびR5は、独立してH、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、ハロアル キル、ハロアルコキシ、CN、CO2R6、CON(R6)2またはS(O)mアルキルであるか、あ るいは R4およびR5は、1もしくは2個のハロ、低級アルキル、低級アルコキシまたは ハロアルキル基により置換されてもよい5または6員の飽 和もしくは不飽和炭素環を形成し; R6は、H、低級アルキル、ハロアルキル、低級アルケニル、低級アルキニル 、フェニルまたは置換フェニルであり; mは、0、1または2であり;そして nは、1または2であり; pは、2〜6の整数である、 の化合物、またはそれらの植物学的に許容できる酸付加塩。 3.Yが硫黄である請求の範囲第2項に記載の化合物。る請求の範囲第2項に記載の化合物。 5.R1がクロロであり、そしてR1'がクロロまたはフルオロである、請求の範 囲第2項に記載の化合物。 6.R2がメチルである請求の範囲第2項に記載の化合物。 7.R3、R4およびR5がそれぞれハロである、請求の範囲第2項に記載の化合 物; 8.式(1B) 式中、 R1およびR1'が、独立してFまたはClであり; R2が、低級アルキルであり、メチルが最も好ましく;そして R3、R4およびR5が独立して、H、ClまたはBrである、の化合物。 9.R1がFまたはClであり、そしてR1'がFである、請求の範囲第8項に記 載の化合物。 10.3-(2-クロロ-6-フルオロフェニル)-5-(3,4,5-トリクロロチエン-2-イル)- 1-メチル[1,2,4]トリアゾールである、請求の範囲第9項に記載の化合物。 11.R1およびR1'がClである、請求の範囲第8項に記載の化合物。 12.3-(2,6-ジクロロフェニル)-5-(3,4,5-トリクロロチエン-2-イル)-1-メチ ル[1,2,4]トリアゾールである、請求の範囲第12項に記載の化合物。 13.請求の範囲第1項に記載の化合物を植物学的に許容できるキャリアーと組 み合わせて含んで成る、昆虫またはダニの防除用組成物。 14.防除を望む部位に、昆虫−またはダニー不活性化量の請求の範囲第1項に 記載の化合物を施用することを含んで成る、昆虫またはダニの防除法。 15.防除を望む部位に、コナジラミ不活性化量の請求の範囲第1項に記載の化 合物を施用することを含んで成るコナジラミの防除法。 16.防除を望む部位に、ダニ不活性化量の請求の範囲第1項に記載の化合物を 施用することを含んで成るダニの防除法。 17.防除を望む部位に、アブラムシ不活性化量の請求の範囲第1項に記載の化 合物を施用することを含んで成るアブラムシの防除法。 18.請求の範囲第1項に記載の化合物の有効量を用いて、播種前の植物種子を 処理し、植物種子が播かれる土壌を処理し、または植物が植え られた後に根の位置の土壌を処理することを含んで成る、植物をアブラムシ、ダ ニまたは昆虫から保護する方法。 19.式(6) 式中、R11は低級アルキルである、 の化合物。 20.式(2b) 式中、R12は低級アルキルであり、そしてR13は通常のアミノ保護基である、 の化合物。 21.R1およびR1'がFである請求の範囲第1項に記載の化合物の製造法であ って、式(2b) 式中、R12は低級アルキルであり、そしてR13は通常のアミノ保護基 である、 の化合物を、式(3) 式中、 R3、R4およびR5は独立して、H,ハロおよび低級アルキルから選択される 、 の化合物と反応させることを含んで成る方法。 22.R1およびR1'がFである請求の範囲第1項に記載の化合物の製造法であ って、 (a)式(6) 式中、R11は低級アルキルである、 の化合物を、式 の化合物と反応させて式(2b) 式中、R12は低級アルキルであり、そしてR13は通常のアミノ保護基である、 の化合物を製造し、そして (b)式(2b)の化合物を式(3) 式中、R3、R4およびR5は独立して、H,ハロおよび低級アルキルから選択 される、 の化合物と反応させる工程を含んで成る方法。 23.R2がCH3である請求の範囲第1項に記載の化合物の製造法であって、式( 14) 式中、 R1およびR1'は、請求の範囲第1項に定義の通りであり、そして R14はメタンスルホニル、ベンゼンスルホニルまたは置換ベンゼンス ルホニルである、 の化合物を、式(15) 式中、 R3は、H、ハロ、低級アルキル、(C7−C21)直鎖アルキル、ヒドロキシ、 低級アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、アルコキシアルキル、アルコ キシアルコキシ、低級アルケニル、ハロアルケニル、CN、NO2、CO2R6、CON(R6)2 、(C3−C6)シクロアルキル、S(O)mR6、SCN、ピリジル、置換ピリジル、イソキ サゾリル、置換イソキサゾリル、ナフチル、置換ナフチル、フェニル、置換フェ ニル、-(CH2)nR6、-CH=CHR6、-C≡CR6、-CH2OR6、-CH2SR6、-CH2NR6R6、-OCH2R6 、-SCH2R6、-NR6CH2R6、 から選択され; R4およびR5は、独立してH、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、ハロア ルキル、ハロアルコキシ、CN、CO2R6、CON(R6)2またはS(O)mアルキルであるか、 あるいは R4およびR5が隣接する炭素原子と結合する場合には、それらは1も しくは2個のハロ、低級アルキル、低級アルコキシまたはハロアルキル基により 置換されてもよい5または6員の飽和もしくは不飽和炭素環を形成することがで き; R6は、H、低級アルキル、ハロアルキル、低級アルケニル、低級アルキニル 、フェニルまたは置換フェニルであり; mは、0、1または2であり;そして nは、1または2であり;そして pは、2〜6の整数である、 の化合物と反応させることを含んで成る方法。 24.R2がCH3である請求の範囲第1項に記載の化合物の製造法であって、 a)式(10) 式中、R1およびR1'は、独立して、H、Cl、F、メチル、ハロメチル、メ トキシまたはハロメトキシである、 の化合物を式(11) 式中、R14は、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニルまたは置換ベンゼンス ルホニルである、 の化合物と反応させて式(12) の化合物を生成し、 b)式(12)の化合物をメチル化して、式(13)の化合物を生成し、 c)式(13)の化合物を塩化して、式(14) の化合物を生成し、 d)式(14)の化合物を、式(15) の化合物と反応させる工程を含んで成り、式中、 R3は、H、ハロ、低級アルキル、(C7−C21)直鎖アルキル、ヒドロキシ、 低級アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、アルコキ シアルキル、アルコキシアルコキシ、低級アルケニル、ハロアルケニル、CN、NO2 、CO2R6、CONHR6、CON(R6)2、(C3−C6)シクロアルキル、S(O)mR6、SCN、ピリ ジル、置換ピリジル、イソキサゾリル、置換イソキサゾリル、ナフチル、置換ナ フチル、フェニル、置換フェニル、-(CH2)nR6、-CH=CHR6、-C≡CR6、-CH2OR6、- CH2SR6、-CH2NR6R6、-OCH2R6、-SCH2R6、-NR6CH2R6、 から選択され; R4およびR5は、独立してH、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、ハロア ルキル、ハロアルコキシ、CN、CO2R6、CONHR6、CON(R6)2またはS(O)mアルキルで あるか、あるいは R4およびR5は、1もしくは2個のハロ、低級アルキル、低級アルコキシまた はハロアルキル基により置換されてもよい5または6員の飽和もしくは不飽和炭 素環を形成し; R6は、H、低級アルキル、ハロアルキル、低級アルケニル、低級アルキニル 、フェニルまたは置換フェニルであり; mは、0、1または2であり;そして nは、1または2であり;そして pは、2〜6の整数である、 方法。 25.式(14) 式中、R1およびR1'は独立して、H、Cl、F、メチル、ハロメチル、メト キシまたはハロメトキシであり、 R14はメタンスルホニル、ベンゼンスルホニルまたは置換ベンゼンスルホニル である、 の化合物。
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