JP3292333B2 - 二軸配向ポリエステルフイルム - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、特定のシリコーン粒子
を含有する二軸配向ポリエステルフイルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】二軸配向フイルム、例えば二軸配向ポリ
エステルフイルムとしては、ポリエステルに単分散有機
粒子を含有せしめたフイルムが知られている（例えば特
開昭５９−２１７７５５号公報）。

【０００３】しかし、上記従来の二軸配向ポリエステル
フイルムでは、例えば、磁気媒体用途における磁性層塗
布、カレンダー工程、あるいは、できたビデオテープ等
をダビングしてソフトテープ等を製造する工程等の工程
速度の増大に伴い、接触するロールやガイドでフイルム
表面に傷がつくという欠点があった。また、従来のもの
では、上記ダビング時の画質低下のために、ビデオテー
プにした時の画質、すなわち、Ｓ／Ｎ（シグナル／ノイ
ズ比）も不十分という欠点があった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる課題を
解決し、特に高速工程でフイルムに傷がつきにくく（以
下耐スクラッチ性に優れるという）、しかもダビング時
の画質低下の少ない（以下耐ダビング性に優れるとい
う）二軸配向ポリエステルフイルムを提供することを目
的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】この目的に沿う本発明の
二軸配向ポリエステルフイルムは、数３で定義される平
均粒径が０．０１〜２μｍであって、組成が実質的に式
（１）のポリシロキサンで表されるシリコーン粒子を含
有し、少なくとも片面の突起個数が２×１０³〜５×１
０⁵ 個／ｍｍ² であることを特徴とするものからなる。 （Ｒ１）_l （Ｒ２）_m （Ｒ３）_n ＳｉＯ_1.5 （１）

【０００６】ここで、Ｒ１は、メチル基、Ｒ２は、アミ
ノ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ
基、エポキシ基、メルカプト基、塩素原子またはそれら
の官能性基を少なくとも１つ有する一価の有機基よりな
る群の中から選ばれた基、Ｒ３は、炭素数２以上のアル
キル基、アルケニル基、フェニル基、ベンジル基、フェ
ネチル基、フロロアルキル基、またはそれらの有機基を
少なくとも１つ有する一価の有機基よりなる群の中から
選ばれた基であって、ｌ、ｍ、ｎは下記式（２）、
（３）および（４）を満足する。 ｌ＋ｍ＋ｎ＝１．０ （２） ０≦ｌ，ｍ，ｎ （３） ０．０１≦ｍ＋ｎ （４）

【０００７】

【数３】

【０００８】ここで、 Ｄave ： 平均粒径、 Ｄｉ ： 個々の粒子の円相当径（μｍ）、 ｎ ： 粒子の個数。

【０００９】本発明の二軸配向ポリエステルフイルムを
構成するポリマは、ポリエステルである。ポリエステル
としては特に限定されないが、エチレンテレフタレー
ト、エチレンα，β−ビス（２−クロルフェノキシ）エ
タン−４，４′−ジカルボキシレート、エチレン２，６
−ナフタレート単位から選ばれた少なくとも一種の構造
単位を主要構成成分とする場合に耐スクラッチ性、耐ダ
ビング性がより良好となるので好ましい。なかでも、エ
チレンテレフタレートを主要構成成分とするポリエステ
ルの場合に耐ダビング性、耐スクラッチ性がより一層良
好となるので特に好ましい。なお、本発明を阻害しない
範囲内で、２種以上のポリエステルを混合しても良い
し、共重合ポリマを用いても良い。

【００１０】本発明におけるシリコーン粒子はメチル基
以外の有機基を持つシロキサン成分を必ず有するポリシ
ロキサンからなる。また本発明の目的とする効果を損な
わない範囲で該シリコーン粒子にポリシロキサン以外に
少量の他の有機ポリマや無機成分を粒子内に含んでいて
も良い。例えばポリアミド、ポリエステル、ポリスチレ
ン、ポリアクリル酸、エポキシ樹脂、フェノール樹脂な
どの有機ポリマが少量共重合されていたり、物理的に混
合されていても構わない。また、シリカ、アルミナ、チ
タエア、炭酸カルシウム、カーボンなどの無機成分や顔
料、染料、酸化防止剤などの通常のポリマに添加される
成分が通常の範囲内で混合されていても構わない。

【００１１】前述の式（１）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ
３はいずれもＳｉ原子に結合している有機基であって、
ｌ、ｍ、ｎはそれぞれＳｉ原子１個あたりに結合する各
有機基の数を示している。Ｒ２およびＲ３はシリコーン
粒子に少なくともいずれか一方が必ず含有されるメチル
基以外の有機基を持つシロキサン成分を示し、Ｒ２はア
ミノ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ
基、エポキシ基、メルカプト基、塩素原子またはそれら
の官能性基を少なくとも１つ有する一価の有機基の中か
ら選ばれた基、Ｒ３は炭素数２以上のアルキル基、アル
ケニル基、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、フ
ロロアルキル基、またはそれらの基を少なくとも１つ有
する一価の有機基の中から選ばれた基である。そして、
前記式（４）に示すように、Ｓｉ原子１個に結合するＲ
２およびＲ３の有機基の総数は０．０１以上であること
が必要である。

【００１２】上記式（１）において、Ｒ２はさらに次の
ものが好ましい。すなわち、Ｒ２は、Ｚ（ＣＨ₂ ）ｐで
あり、Ｚは、化２から選ばれた基であり、

【００１３】

【化２】

【００１４】上記化２におけるＲ４は、−Ｈ、−ＣＨ₂
ＣＨ₂ ＮＨ₂ またはフェニル基から選ばれた基であり、
Ｒ５は、−Ｈ、−ＣＨ₂ から選ばれた基であり、ｐは、
２または３である。

【００１５】Ｒ２の具体的な例としては、化３等を挙げ
ることができる。

【００１６】

【化３】

【００１７】前記Ｒ３の具体的な例としては、化４を挙
げることができる。

【００１８】

【化４】

【００１９】Ｒ２およびＲ３においては、各々が同一種
の有機基だけで構成されていても異なる成分が複数種含
まれていてもよい。また、Ｒ２およびＲ３の全有機基、
すなわちＲ１、Ｒ２およびＲ３に対するモル比、すなわ
ち（ｍ＋ｎ）／（ｌ＋ｍ＋ｎ）は０．０５より大きい方
が好ましく、０．２０より大きい方が特に好ましい。

【００２０】本発明におけるシリコーン粒子の組成の具
体例を以下の化５に示すが、本発明のシリコーン粒子は
これらになんら限定されるものではない。

【００２１】

【化５】

【００２２】本発明においてシロキサン成分が複数の種
類含まれる場合、その成分は実質的に均一に分布してい
ることが好ましい。実質的に均一とは粒子全体にわたっ
て各シロキサン成分がほぼ等量に分布していることを意
味する。例えば、粒子の中心部が（Ｒ１ＳｉＯ_1.5 ）の
みで、外殻部が（Ｒ２ＳｉＯ_1.5 ）や（Ｒ３Ｓｉ
Ｏ_1.5 ）のみで構成された粒子などに比較して、実質的
に均一な方が本発明の目的とする効果をさらに一層発現
させることができる。ただし分子レベルで完全ランダム
共重合体であることは必要なく、ブロック共重合体に相
当するものであっても実質的に均一であることに相当す
る。実質的に均一であることを確認する方法としては次
の方法が挙げられる。すなわち粒子をアルカリ水溶液で
処理し、表面から徐々に溶解する。溶解時間を変えて溶
解量の異なる溶液を複数採取し、各々の組成分析を行え
ば、粒子の層ごとの有機基の分布状態を知ることができ
る。

【００２３】本発明におけるシリコーン粒子を得る方法
としては、特に限定されないが、例えば以下のような方
法が挙げられる。原料としては、式（１）に表した有機
基をもつシラン化合物を用いる。具体的な例としては、
Ｒ１に対応する化合物として、メチルトリメトキシシラ
ン、メチルジメトキシエトキシシラン、メチルトリエト
キシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリ
プトキシシラン、メチルメトキシジプトキシシランな
ど、Ｒ２に対応する化合物として、８−アミノプロピル
トリエトキシシラン、Ｎ−（２ーアミノエチル）３−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、３−アニリノプロピ
ルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエト
キシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、
３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アク
リロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシ
クロヘキシルエチル）トリメトキシシランなど、Ｒ３の
対応する化合物として、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラ
ン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、ビニルトリメ
トキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ベンジル
トリメトキシシラン、フェネチルトリメトキシシラン、
３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン
等を挙げることができる。

【００２４】前記のシラン化合物またはその部分加水分
解結合物を目的とする組成に合わせた量を用い、特定の
条件下で結合させることによって本発明の目的とするシ
リコーン微粒子を得ることができる。

【００２５】通常は、水または低級アルコールを溶媒と
して用い、シロキサン結合触媒の存在下に加熱する。溶
媒量は任意に選べるが、通常はシラン化合物に対して
０．５重量倍から１００重量倍用いる。シロキサン結合
触媒としては、酸、アルカリ、金属化合物などの各種の
ものから選ばれるが、通常は水酸化アルカリ金属塩など
の無機のアルカリ化合物が取扱い易さ、入手の容易性な
どから好ましく用いられる。加熱温度、加熱時間も広範
囲な条件から選べるが、通常３０℃から１００℃、数分
から１０時間程度が適当である。得られた粒子を含むス
ラリーは、濾過、デカンターなどによって固液分離した
後、必要に応じて洗浄、乾燥することによって目的とす
るシリコーン粒子を取り出すことができる。

【００２６】かくして得られた粒子は、粒子全体に均一
に分散したメチル基以外の有機基を含むシリコーン粒子
である。一般に各種の微粒子を用いるにあたっては、そ
の表面の特性、他物質との相互作用が非常に重要であ
る。

【００２７】このような方法によって得られる粒子は、
表面特性、他物質との相互作用性において常に安定した
ものが得られるとともに、他物質との反応や混合中、さ
らには使用中における微粒子の溶解、摩耗、破壊などに
よる表面更新に対しても常に一定の物性を有することか
ら、単に他の有機基を持つシラン化合物で表面処理した
ものに比し、より好ましい耐摩耗性を示す粒子が得られ
ると考えられる。

【００２８】本発明におけるシリコーン粒子の、前述の
数３で定義される平均粒径は０．０１〜２μｍであり、
好ましくは０．０５〜１μｍである。平均粒径が０．０
１μｍ未満ではフイルムに成形したときに易滑性が不十
分となり、一方、２μｍを越えると表面の平坦性が悪化
するため好ましくない。したがって、この範囲を外れる
と、結果的に耐スクラッチ性が悪化する。この範囲の平
均粒径とすることにより、良好な耐スクラッチ性、耐ダ
ビング性が得られる。

【００２９】本発明におけるシリコーン粒子のフイルム
を構成する樹脂、たとえばポリエステルに対する含有量
は、好ましくは０．０１〜５重量％、より好ましくは
０．０２〜１重量％である。含有量が０．０１重量％未
満では耐スクラッチ性、耐ダビング性が不十分となり、
一方、５重量％を越えると表面の平坦性が悪化したり、
脆くなったりし、耐スクラッチ性が悪化するため好まし
くない。

【００３０】さらに、本発明におけるシリコーン粒子
は、数４で定義される粒子径の相対標準偏差が０．５以
下であることが粒子中に粗大粒子が多く存在することが
ないためフイルムにしたときに粗大突起が形成されず脱
落が生じにくくなって、耐スクラッチ性が一層向上する
ため好ましい。相対標準偏差は０．３以下がより好まし
く、０．２以下がとくに好ましい。

【００３１】

【数４】

【００３２】シリコーン粒子をポリエステルへ含有せし
めるための添加方法、添加時期については、従来公知の
方法、例えば粉体やグリコールスラリーの形態でポリエ
ステルの反応系に添加する方法や、粉体やスラリーの形
態でポリエステルに練り混む方法をとることが可能であ
る。

【００３３】シリコーン粒子をスラリーとして反応系や
ポリマに添加する場合には、粒子のスラリー中およびポ
リマ中での分散性を向上させる目的で、スラリーにドデ
シルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナト
リウムなどのアニオン系界面活性剤、ポリオキシエチレ
ンノニルフェニルエーテル、ポリエチリレングリコール
モノステアレートなどのノニオン界面活性剤、あるいは
ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、カルボ
キシルメチルセルロースなどの水溶性高分子を添加して
もよい。

【００３４】本発明におけるシリコーン粒子の耐熱性に
関しては、熱天秤による不活性ガス気流中での熱分解温
度（１０％減量温度）が３５０℃以上の耐熱性を有する
粒子が、ポリエステル組成物製造時、溶融成形時あるい
は成形品の回収再利用時に凝集してフイルムの表面均一
性、耐摩耗性などを阻害するなどの問題がなく好まし
い。

【００３５】本発明の二軸配向ポリエステルフイルムに
は、耐スクラッチ性、耐ダビング性の点から、上記のシ
リコーン粒子の他に、さらに他の粒子を含有してもよ
い。他の粒子としては、特に限定されないが、結晶形が
δ型、θ型、η型、γ型のアルミナ、ジルコニア、シリ
カ等の凝集粒子、または、炭酸カルシウム粒子、コロイ
ダルシリカ粒子、チタン粒子等が好ましく例示される。
これらの粒子を複数併用して用いてもよい。

【００３６】本発明の二軸配向ポリエステルフイルム
は、上記のポリマとシリコーン粒子を主要成分とする
が、本発明の目的を阻害しない範囲内で他種ポリマをブ
レンドしてもよいし、また酸化防止剤、熱安定剤、滑
剤、紫外線吸収剤などの有機添加剤が通常添加される程
度添加されていてもよい。

【００３７】本発明の二軸配向ポリエステルフイルム
は、上記組成物を二軸配向せしめたフイルムである。一
軸あるいは無配向フイルムでは耐スクラッチ性が不良と
なるので好ましくない。この配向の程度は特に限定され
ないが、高分子の分子配向の程度の目安であるヤング率
が長手方向、幅方向ともに３５０ｋｇ／ｍｍ² 以上であ
る場合に耐スクラッチ性がより一層良好となるので特に
好ましい。分子配向の程度の目安であるヤング率は通
常、１５００ｋｇ／ｍｍ² 程度が製造上の限界である。

【００３８】また、本発明フイルムは、ヤング率が上記
範囲内であっても、フイルムの厚さ方向の一部分、例え
ば表層付近のポリマ分子の配向が無配向、あるいは一軸
配向になっていない、すなわち厚さ方向の全部分の分子
配向が二軸配向である場合に耐スクラッチ性、耐ダビン
グ性がより一層良好となる。特にアッベ屈折率計、レー
ザーを用いた屈折率計、全反射レーザーラマン法などに
よって測定される分子配向が、表面、裏面ともに二軸配
向である場合に耐スクラッチ性、耐ダビング性がより一
層良好となる。

【００３９】本発明の二軸配向ポリエステルフイルム
は、単層フイルムの状態であっても良いが、少なくとも
一層以上の本発明のフイルムと他のフイルムとを積層し
てなる、２層あるいは３層以上の積層フイルムの状態で
あっても良い。

【００４０】積層フイルムの場合には、耐スクラッチ
性、耐ダビング性の点から、前記の少なくとも有機粒子
を含有するフイルムが、少なくとも２層構造からなる積
層フイルムの１つの最外層であることが好ましい。

【００４１】また、３層以上の積層構造である場合は、
耐スクラッチ性、耐ダビング性の点から、前記の少なく
とも有機粒子を含有するフイルムが、少なくとも３層構
造からなる積層フイルムの１つの最外層であることが好
ましい。

【００４２】前記有機粒子を含有するフイルム層の厚さ
は、特に限定されないが、耐スクラッチ性、耐ダビング
性の点から、０．００５〜３μｍ、好ましくは０．０１
〜２μｍ、さらに好ましくは０．０２〜１μｍである。

【００４３】シリコーン粒子の粒径ｄと、シリコーン粒
子を含有するフイルム層の厚さｔの関係は、０．２ｄ≦
ｔ≦１０ｄ、好ましくは０．５ｄ≦ｔ≦５ｄ、さらに好
ましくは０．５ｄ≦ｔ≦３ｄの場合に、特に耐スクラッ
チ性、耐ダビング性が良好となるので望ましい。

【００４４】積層構成の、前記シリコーン粒子を含有す
るフイルム層以外の層を構成するポリマは、特に限定さ
れないがポリエステルが好ましい。ポリエステルとして
は特に限定されないが、エチレンテレフタレート、エチ
レンα，β−ビス（２−クロルフェノキシ）エタン−
４，４′−ジカルボキシレート、エチレン２，６−ナフ
タレート単位から選ばれた少なくとも一種の構造単位を
主要構成成分とする場合に耐スクラッチ性、耐ダビング
性がより良好となるので好ましい。なかでも、エチレン
テレフタレートを主要構成成分とするポリエステルの場
合に耐ダビング性、耐スクラッチ性がより一層良好とな
るので特に好ましい。

【００４５】積層構成の、前記シリコーン粒子を含有す
るフイルム層以外の層を構成するポリマ中に粒子を含有
していてもかまわない。この場合、炭酸カルシウム、ア
ルミナ、シリカ、チタン、カーボンブラック等が例示さ
れる。

【００４６】本発明の二軸配向ポリエステルフイルム
は、少なくとも片面の突起個数が２×１０³ 〜５×１０
⁵ 個／ｍｍ² であることが必要である。少なくとも片面
の突起個数が上記範囲より少なくても、また多くても耐
ダビング性、耐スクラッチ性が悪化する。少なくとも片
面の突起個数は、好ましくは３×１０³ 〜４×１０⁵ 個
／ｍｍ² 、より好ましくは５×１０³ 〜３×１０⁵ 個／
ｍｍ² である。

【００４７】次に本発明フイルムの製造方法を、積層ポ
リエステルフイルムの場合について説明する。

【００４８】まず、ポリエステルにシリコーン粒子を含
有せしめる方法としては、ジオール成分であるエチレン
グリコールにスラリーの形で分散せしめ、このエチレン
グリコールを所定のジカルボン酸成分と重合せしめるの
が好ましい。また粒子の水スラリーを直接所定のポリエ
ステルテルペレットと混合し、ベント式の２軸混練押出
機を用いてポリエステルに練り込む方法は、本発明の効
果をより一層良好とするのに非常に有効である。

【００４９】粒子の含有量を調節する方法としては、上
記方法で高濃度マスターを作っておき、それを製膜時に
粒子を実質的に含有しないポリエステルで希釈して粒子
の含有量を調節する方法が有効である。

【００５０】次に、粒子を所定量含有するペレットを必
要に応じて乾燥したのち、公知の溶融積層用押出機に供
給し、スリット状のダイからシート状に押出し、キャス
ティングロール上で冷却固化せしめて未延伸フイルムを
作る。すなわち、２または３台の押出し機、２または３
層のマニホールドまたは合流ブロックを用いて、溶融状
態のポリエステルを積層する。この場合、凝集粒子を含
有するポリマ流路に、スタティックミキサー、ギヤポン
プを設置する方法は本発明の効果をより一層良好とする
のに有効である。

【００５１】次にこの未延伸フイルムを二軸延伸し、二
軸配向せしめる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法ま
たは同時二軸延伸法を用いることができる。ただし、最
初に長手方向、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸
法を用いるのがよい。長手方向の延伸を３段階以上に分
けて、総縦延伸倍率は３．０〜６．５倍、温度は８０〜
１５０℃、延伸速度は５，０００〜５０，０００％／分
の範囲で行なう方法が有効である。幅方向の延伸方法と
しては例えばステンタを用いる方法があげられ、幅方向
延伸倍率は３．０〜５．０倍、延伸速度は１，０００〜
２０，０００％／分、温度は８０〜１６０℃の範囲が好
ましい。

【００５２】次にこの延伸フイルムを熱処理する。この
場合の熱処理温度は１７０〜２２０℃、特に１７０〜２
１０℃、時間は０．５〜６０秒の範囲が好適である。

【００５３】［物性の測定方法ならびに効果の評価方
法］本発明の特性値の測定方法並びに効果の評価方法は
次の通りである。

【００５４】（１）粒子の平均粒径 フイルムからポリマをプラズマ低温灰化処理法で除去
し、粒子を露出させる。処理条件はポリマは灰化される
が粒子は極力ダメージを受けない条件を選択する。その
粒子を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、粒子画像
をイメージアナライザで処理する。ＳＥＭの倍率はおよ
そ２０００〜１００００倍、また、１回の測定での視野
は１辺がおよそ１０〜５０μｍから適宜選択する。観察
箇所をかえて粒子数５０００個以上で下記数５により求
める。

【００５５】

【数５】

【００５６】ここで、 Ｄave ： 平均粒径、 Ｄｉ ： 個々の粒子の円相当径（μｍ）、 ｎ ： 粒子の個数。

【００５７】粒子がプラズマ低温灰化処理法で大幅にダ
メージを受ける場合には、以下の方法を用いても良い。
フイルム断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用い、３
０００〜１０００００倍で観察する。ＴＥＭの切片厚さ
は約１０００オングストロームとし、場所をかえて５０
０視野以上測定し、上記式から求める。

【００５８】（２）粒子の含有量 ポリエステルは溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択
し、粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子の全体重
量に対する比率（重量％）をもって粒子含有量とする。
場合によっては赤外分光法の併用も有効である。

【００５９】（３）フイルム積層厚み 表面からエッチングしながらＸＰＳ（Ｘ線光電子光
法）、ＩＲ（赤外分光法）あるいはコンフォーカル顕微
鏡などで、その粒子濃度のデプスプロファイルを測定す
る。片面に積層したフイルムにおける表層では、表面と
いう界面のために粒子濃度は低く、表面から遠ざかるに
つれて粒子濃度は高くなる。本発明の片面に積層したフ
イルムの場合は、深さ［Ｉ］で一旦極大値となった粒子
濃度がまた減少し始める。この濃度分布曲線をもとに極
大値の粒子濃度の１／２になる深さ［ＩＩ］（ここで、
ＩＩ＞Ｉ）を積層厚さとした。さらに、無機粒子などが
含有されている場合には、二次イオン質量分析装置（Ｓ
ＩＭＳ）を用いて、フイルム中の粒子のうち最も高濃度
の粒子の起因する元素とポリエステルの炭素元素の濃度
比（Ｍ⁺ ／Ｃ⁺ ）を粒子濃度とし、ポリエステルＡ層の
表面からの深さ（厚さ）方向の分析を行う。そして上記
同様の手法から積層厚さを得る。なお、フイルム断面観
察あるいは薄膜段差測定機などによって求めることもで
きる。

【００６０】（４）フイルム表面の分子配向 ナトリウムＤ線（５８９ｎｍ）を光源として、アッベ屈
折率計を用いて測定した。マウント液にはヨウ化メチレ
ンを用い、２５℃、６５％ＲＨにて測定した。ポリマの
二軸配向性は長手方向、幅方向、厚さ方向の屈折率をＮ
１、Ｎ２、Ｎ３とした時、（Ｎ１−Ｎ２）の絶対値が
０．０７以下、かつ、Ｎ３／［（Ｎ１＋Ｎ２）／２］が
０．９５以下であることをひとつの基準とできる。ま
た、レーザー型屈折率計を用いて屈折率を測定しても良
い。さらに、この方法では測定が難しい場合は、Jobin-
Yvon社製Ramanor Ｕ−１０００ラマンシステムにより、
全反射ラマンスペクトルを測定し、例えばＰＥＴの場合
では、１６１５ｃｍ^-1（ベンゼン環の骨格振動）と１７
３０ｃｍ^-1（カルボニル基の伸縮振動）のバンド強度比
の偏光測定比（ＹＸ／ＸＸ比など。ここでＹＹ：レーザ
ーの偏光方法をＹにしてＹに対して平行なラマン光検
出、ＸＸ：レーザーの偏光方向をＸにしてＸに対して平
行なラマン光検出）が分子配向と対応することを利用で
きる。ポリマの二軸配向性はラマン測定から得られたパ
ラメータを長手方向、幅方向の屈折率に換算して、その
絶対値、差などから判定できる。この場合の測定条件は
次のとおりである。 光源 アルゴンイオンレーザー（５１４５Ａ） 試料のセッティング フイルム表面を全反射プリズムに圧着させ、レーザのプ
リズムへの入射角（フイルム厚さ方向との角度）は６０
°とした。 検出器 ＰＭ：RCA31034/Photon Counting System(Hamamatsu C1
230) (supply 1600V) 測定条件 ＳＬＩＴ ： １０００μｍ ＬＡＳＥＲ ： １００ｍＷ ＧＡＴＥ ＴＩＭＥ ： １．０ｓｅｃ ＳＣＡＮ ＳＰＥＥＤ ： １２ｃｍ^-1／ｍｉｎ ＳＡＭＰＬＩＮＧ ＩＮＴＥＲＶＡＬ ： ０．２ｃｍ^-1 ＲＥＰＥＡＴ ＴＩＭＥ ： ６

【００６１】（５）ヤング率 ＪＩＳ−Ｚ−１７０２に規定された方法にしたがって、
インストロンタイプの引っ張り試験機を用いて、２５
℃、６５％ＲＨにて測定した。

【００６２】（６）フイルム表面の突起数 ２検出器方式の走査型電子顕微鏡［ＥＳＭ−３２００、
エリオニクス（株）製］と断面測定装置［ＰＭＳ−１、
エリオニクス（株）製］において、フイルム表面の平坦
部の高さを０とし走査したときの突起の高さ測定値を画
像解析装置［ＩＢＡＳ２０００、カールツアイス（株）
製］に送り、フイルム表面突起画像を再構築する。次
に、この表面突起画像で突起部分を２値化して得られて
個々の突起について、場所をかえて５００回繰り返し、
突起個数を求めた。走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）の倍率
は１０００〜８０００倍の間の値を選択する。なお、場
合によっては高精度光干渉式３次元表面解析装置（ＷＹ
ＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄ、対物レンズ：４０〜２００
倍、高解像度カメラ使用が有効）を用いて得られる高さ
常法を上記ＳＥＭの値に読み替えて用いても良い。

【００６３】（７）耐スクラッチ性 フイルムを幅１／２インチのテープ状にスリットしたも
のをテープ走行性試験機を使用して、ガイドピン（表面
粗度：Ｒａで１００ｎｍ）上を走行させる（走行速度２
５０ｍ／分、走行回数１パス、巻き付け角：６０°、走
行張力：９０ｇ）。この時、フイルムに入った傷を顕微
鏡で観察し、幅１μｍ以上の傷がテープ幅あたり２本未
満は優、２本以上１０本未満は良、１０本以上は不良と
判定した。優が望ましいが、良でも実用的には使用可能
である。

【００６４】（８）耐ダビング性 フイルムに下記組成の磁性塗料をガラビヤロールにより
塗布し、磁気配向させ、乾燥させる。さらに、小型テス
トカレンダー装置（スチールロール／ナイロンロール、
５段）で、温度：７０℃、線圧：２００ｋｇ／ｃｍでカ
レンダー処理した後、７０℃、４８時間キュアリングす
る。上記テープ原反を１／２インチにスリットし、パン
ケーキを作成した。このパンケーキから長さ２５０ｍの
長さをＶＴＲカセットに組み込みＶＴＲカセットテープ
とした。 （磁性塗料の組成） Ｃｏ含有酸化鉄 ： １００重量部 塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体 ： １０重量部 ポリウレタンエラストマ ： １０重量部 ポリイソシアネート ： ５重量部 レシチン ： １重量部 メチルエチルケトン ： ７５重量部 メチルイソブチルケトン ： ７５重量部 トルエン ： ７５重量部 カーボンブラック ： ２重量部 ラウリン酸 ： １．５重量部 このテープに家庭用ＶＴＲを用いてテレビ試験波形発生
器により１００％クロマ信号を記録し、その再生信号か
らカラービデオノイズ測定器でクロマＳ／Ｎを測定しＡ
とした。また上記と同じ信号を記録したマスターテープ
のパンケーキを磁界転写方式のビデオソフト高速プリン
トシステム（スプリンタ）を用いてＡを測定したのと同
じ試料テープ（未記録）のパンケーキへダビングした後
のテープのクロマＳ／Ｎを上記と同様にして測定し、Ｂ
とした。このダビングによるクロマＳ／Ｎの低下（Ａ−
Ｂ）が３ｄＢ未満の場合は耐ダビング性：優、３ｄＢ以
上５ｄＢ未満の場合は良、５ｄＢ以上は不良と判定し
た。優が望ましいが、良でも実用的には使用可能であ
る。

【００６５】

【実施例】次に実施例に基づき、本発明の実施態様を説
明する。 実施例１（表１） 表１に示した組成のシリコーン粒子（平均粒径：０．５
μｍ）の水スラリーを直接ポリエチレンテレフタレート
ペレットと混合し、ベント式の２軸混練押出機を用いて
練り込み、ポリエチレンテレフタレートのマスタペレッ
トを得た。さらに、粒子を含有しないポリエチレンテレ
フタレートのマスタペレットを得た。

【００６６】これらのポリマをシリコーン粒子含有量が
０．６重量％となるように混合し、１８０℃で８時間減
圧乾燥（３Ｔｏｒｒ）した後、それぞれ押出機１、押出
機２に供給し２９０℃、２８０℃で溶融した。これらの
ポリマを高精度濾過した後、矩形合流部にで３層積層と
した（Ａ／Ｂ／Ａ）。

【００６７】これを静電印加キャスト法を用いて表面温
度２５℃のキャスティング・ドラムに巻きつけて冷却固
化し、未延伸フイルムを作った。この時、口金スリット
間隙／未延伸フイルム厚さの比を１０とした。また、そ
れぞれの押出機の吐出量を調節し総厚さ、熱可塑性樹脂
Ａ層の厚さを調節した。

【００６８】この未延伸フイルムを温度８５℃にて長手
方向に３．５倍延伸した。この延伸は２組ずつのロール
の周速差で、４段階で行なった。この一軸延伸フイルム
をステンタを用いて延伸速度２，０００％／分で１００
℃で幅方向に４．０倍延伸し、定長下で、２００℃にて
５秒間熱処理し、総厚さ１４μｍ、積層部厚さ１．０μ
ｍの二軸配向積層フイルムを得た。このフイルムの特性
は表１に示したとおりであり、耐スクラッチ性、耐ダビ
ング性が良好であった。

【００６９】実施例２、３、比較例１、２（表１） 実施例１と同様にして、粒子の種類、粒径、ジリコーン
粒子組成、表面突起数等を変更したフイルムを得た。表
１に示すように本発明範囲のフイルムは耐スクラッチ
性、耐ダビング性が良好であるが、そうでないものは耐
スクラッチ性、耐ダビング性を両立することができな
い。

【００７０】

【表１】

【００７１】

【発明の効果】本発明の二軸配向ポリエステルフイルム
によれば、特定組成のシリコーン粒子を用い、フイルム
表面突起数を特定範囲としたので、フイルム表面が傷つ
きにくく、また、磁気媒体用とした時に、優れた画質、
ドロップアウト特性を得ることができる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｌ 83:04） Ｃ０８Ｌ 83:04） Ｂ２９Ｋ 9:00 Ｂ２９Ｋ 9:00 67:00 67:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｃ０８Ｌ 67:00 Ｃ０８Ｌ 67:00 (56)参考文献 特開 昭50−139896（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−207725（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C08J 5/18 B29C 55/12 - 55/16 B32B 27/36 C08L 67/00 - 67/08 C08L 83/04 - 83/08

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 数１で定義される平均粒径が０．０１〜
   ２μｍであって、組成が実質的に式（１）のポリシロキ
   サンで表されるシリコーン粒子を含有し、少なくとも片
   面の突起個数が２×１０³ 〜５×１０⁵ 個／ｍｍ² であ
   ることを特徴とする二軸配向ポリエステルフイルム。 （Ｒ１）_l （Ｒ２）_m （Ｒ３）_n ＳｉＯ_1.5 （１） （ここで、 Ｒ１は、メチル基、 Ｒ２は、アミノ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロ
   イルオキシ基、エポキシ基、メルカプト基、塩素原子ま
   たはそれらの官能性基を少なくとも１つ有する一価の有
   機基よりなる群の中から選ばれた基、 Ｒ３は、炭素数２以上のアルキル基、アルケニル基、フ
   ェニル基、ベンジル基、フェネチル基、フロロアルキル
   基、またはそれらの有機基を少なくとも１つ有する一価
   の有機基よりなる群の中から選ばれた基であって、ｌ、
   ｍ、ｎは下記式（２）、（３）および（４）を満足す
   る。 ｌ＋ｍ＋ｎ＝１．０ （２） ０≦ｌ，ｍ，ｎ （３） ０．０１≦ｍ＋ｎ （４）） 【数１】 ここで、 Ｄave ： 平均粒径、 Ｄｉ ： 個々の粒子の円相当径（μｍ）、 ｎ ： 粒子の個数。
2. 【請求項２】 前記式（１）において、 Ｒ２は、Ｚ（ＣＨ₂ ）p であり、 Ｚは、化１から選ばれた基であり、 【化１】 上記化１におけるＲ４は、−Ｈ、−ＣＨ₂ ＣＨ₂ ＮＨ₂
   またはフェニル基から選ばれた基であり、 Ｒ５は、−Ｈ、−ＣＨ₂ から選ばれた基であり、 ｐは、２または３である、 ことを特徴とする請求項１の二軸配向ポリエステルフイ
   ルム。
3. 【請求項３】 数２で定義される粒径の相対標準偏差が
   ０．５以下であるシリコーン粒子を含有することを特徴
   とする請求項１または２の二軸配向ポリエステルフイル
   ム。 【数２】
4. 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれかに記載の二
   軸配向ポリエステルフイルムが、少なくとも２層構造か
   らなる積層フイルムの１つの最外層として積層されてな
   ることを特徴とする二軸配向ポリエステルフイルム。
5. 【請求項５】 請求項１ないし３のいずれかに記載の二
   軸配向ポリエステルフイルムが、少なくとも３層構造か
   らなる積層フイルムの１つの最外層として積層されてな
   ることを特徴とする二軸配向ポリエステルフイルム。
6. 【請求項６】 前記シリコーン粒子の平均粒径ｄと該最
   外層の層厚さｔとの関係が ０．２ｄ≦ｔ≦１０ｄ である請求項４または５の二軸配向ポリエステルフイル
   ム。