JP7199410B2 - 改善されたイメテルスタットの調製方法 - Google Patents
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Description
化合物(1F)としてイメテルスタットを調製するためにWO2005/023994において使用される合成スキームは、スキーム1およびスキーム2に記載されている。このオリゴヌクレオチドの合成は、固相ホスホルアミダイト法を使用して達成され、すべての反応は固相支持体上で行われる。イメテルスタットの合成は、3-パルミトイルアミド-1-O-(4,4´-ジメトキシトリチル)-2-O-スクシニルプロパンジオールを充填した細孔制御ガラス(LCAA-CPG)で行われる。オリゴヌクレオチドは、保護されたヌクレオシド5´-ホスホル-アミダイトを活性化剤の助けを借りて付加することにより、5´末端から3´末端へと組み立てられる。各伸長サイクルは、4つの異なる高度に制御された工程:脱保護、アミダイトカップリング、硫化およびキャッピング工程からなる。
スキーム1:イメテルスタット合成スキームサイクル1
スキーム2:イメテルスタット合成スキームサイクル2-13
Herbert BSらは、GRN163の脂質修飾について議論している(Oncogene(2005)24,5262-5268)。
Makiko Horieらは、ヒトテロメラーゼRNAサブユニットを標的とする2´-O、4´-c-エチレン架橋核酸オリゴヌクレオチドの合成および特性について議論している(Nucleic Acids Symposium Series(2005)49,171-172)。
a)式(A)(式中、PGは酸不安定性保護基である)の固相支持体に付着した最初の3´-アミノ保護ヌクレオチドを提供することと、
e)連続した順序で11回、脱保護工程b)と、式(B´n)の保護された3´-アミノヌクレオシド-5´-O-シアノエチル-N,N-ジイソプロピルアミノ-ホスホルアミダイトモノマーを用いたカップリング工程c)であって、モノマー(B´n)中の保護されたヌクレオシド塩基B´が、それぞれ11回のカップリング工程で順次保護された核酸塩基B3~B13である、カップリング工程c)と、硫化工程d)とを繰り返すことと、
f)酸不安定性保護基PGを除去することと、
g)固相支持体からイメテルスタットを脱保護および切断することと、を含み、
付加的なキャッピング工程が、反応工程a)~e)のいずれにおいても実施されないことを特徴とする。
a)式(A)(式中、PGは酸不安定性保護基である)の固相支持体に付着した最初の3´-アミノ保護ヌクレオチドを提供することと、
e)連続した順序で11回、脱保護工程b)と、式(B´n)の保護された3´-アミノヌクレオシド-5´-O-シアノエチル-N,N-ジイソプロピルアミノ-ホスホルアミダイトモノマーを用いたカップリング工程c)であって、モノマー(B´n)のヌクレオシド塩基B´が、Bがチミンである場合を除いて保護されたBであり、Bnが、それぞれ11回のカップリング工程で順次核酸塩基B3~B13である、カップリング工程c)と、硫化工程d)とを繰り返すことと、
f)酸不安定性保護基PGを除去することと、
g)固相支持体からイメテルスタットを脱保護および切断することと、を含み、
付加的なキャッピング工程が、反応工程a)~e)のいずれにおいても実施されないことを特徴とする。
a)式(A)(式中、PGは酸不安定性保護基である)の固相支持体に付着した最初の3´-アミノ保護ヌクレオチドを提供することと、
e)連続した順序で11回、
脱保護工程b)と、
式(B´n)の保護された3´-アミノヌクレオシド-5´-O-シアノエチル-N,N-ジイソプロピルアミノ-ホスホルアミダイトモノマーを用いたカップリング工程c)であって、モノマー(B´n)のヌクレオシド塩基B´が、Bがチミンである場合をいて保護されたBであり、Bnは、それぞれ11回のカップリング工程で順次、核酸塩基B3~B13である、カップリング工程c)と、
硫化工程d)と、を繰り返して、
固相支持体に付着した保護されたN3´→P5´チオホスホルアミデートオリゴヌクレオチドイメテルスタットを生成することと、
f)保護されたN3´→P5´チオホスホルアミデートオリゴヌクレオチドイメテルスタットから、3´末端酸不安定性保護基PGを除去することと、
g)固相支持体から、保護されたN3´→P5´チオホスホルアミデートオリゴヌクレオチドイメテルスタットを脱保護して切断し、イメテルスタットを生成することと、を含み、
付加的なキャッピング工程が、反応工程a)~e)のいずれにおいても実施されないことを特徴とする。
「室温」または「周囲温度」は、通常21~25℃である。
トルエン中の3%ジクロロ酢酸(DCA)、アセトニトリル中の0.5Mの5-(エチルチオ)-1H-テトラゾール、アセトニトリル中の式(B´n)の0.15Mのすべての4ヌクレオチドモノマー、アセトニトリルと2,6-ルチジンの1:1混合物中の0.2Mフェニルアセチルジスルフィド(PADS)およびアセトニトリル中の20%DEA(ジエチルアミン)を含む、すべての試薬および出発物質溶液を調製した。
トルエン中の3%ジクロロ酢酸(DCA)、アセトニトリル中の0.5Mの5-(エチルチオ)-1H-テトラゾール、アセトニトリル中の0.15Mの式(B´n)のすべての4ヌクレオチドモノマー、アセトニトリルと2,6-ルチジン混合物の1:1混合物中の0.2Mフェニルアセチルジスルフィド(PADS)、キャッピング剤Aとしてのアセトニトリル中の20%N-メチルイミダゾール(NMI)、アセトニトリルとキャッピング剤Bとしての2,6-ルチジン混合物の1:1混合物中の無水イソ酪酸およびアセトニトリル中の20%DEAを含む、すべての試薬および出発物質溶液を調製した。
実験1および実験2で得られたイメテルスタットを、HPLCで分析した。13個のヌクレオチドを有する所望の完全長オリゴヌクレオチドの量を決定し、実験1および実験2について、以下の表にリストした。また、ショートマーの総量を、具体的には12マーを、実験1および実験2について、以下の表に測定し、列挙した。
HPLC分析法:
カラムタイプ:Kromasil C18、粒子サイズ3.5μm、4.6×150mm
溶離液:
A:14.4mM TEA/386mM HFIP(ヘキサフルオロイソプロパノール)/100ppm(w/v)水中のNa2EDTA
B:5%IPAを含む50%MeOH、50%EtOH
勾配:
メインピーク%には、完全長オリゴヌクレオチド+PO不純物+脱プリン不純物が含まれる。
PO不純物は、チオホスホルアミデートヌクレオシド間結合の代わりに、1つ以上のオキソホスホルアミデートヌクレオシド間結合を含む不純物である。
アセトニトリル0.45L/mmolを使用して、試薬の調製中のアセトニトリル使用全体の約25%に相当するキャッピング剤Aおよびキャッピング剤Bの試薬を調製した。各化学反応工程の後に溶媒洗浄が続くため、各キャッピング工程の後も、溶媒の約40カラム容量に相当する溶媒洗浄が行われる。所定の合成実行で約212カラム容量の溶媒洗浄が行われることを考慮すると、キャッピング工程には洗浄溶媒の約19%が使用される。各キャッピング工程には3~6分かかる。これは、13サイクルとDEA処理とを含む全体の合成時間の約8%に相当する。
脱トリチル化温度は、n-1および脱プリン不純物の制御に関して影響を及ぼす。シンセサイザーの入口のデブロッキング溶液の温度は17.5~27℃(3.5mmolスケール)の間で選択され、選択された温度はすべての脱トリチル化工程で同等に保たれた。アセトニトリル洗浄も、脱ブロッキング溶液と同じ温度に保たれた。脱プリンされた不純物の割合は、温度とともに直線的に増加し、n-1はより低温でより高くなった。
以下の実験では、硫化反応に使用されるPADS溶液の温度(RTは室温を意味する)を、PO不純物(硫化の代わりにリン酸化が発生した不純物)の割合についてテストした。温度が低いと、PO%が低くなる。
5´-R-TAGGGTTAGACAA-NH2-3´
式中、Rはパルミトイル[(CH2)14CH3]アミドを表し、アミノグリセロールリンカーを介してN3´→P5´チオホスホルアミデート(NPS)結合オリゴヌクレオチドの5´-チオリン酸基に結合する。
本発明の好ましい実施形態によれば、例えば、以下が提供される。
(項1)
次式のN3´→P5´チオホスホルアミデートオリゴヌクレオチドイメテルスタットの合成方法であって、
前記方法は、
a)式(A)(式中、PGは酸不安定性保護基である)の固相支持体に付着した最初の3´-アミノ保護ヌクレオチドを提供することと、
b)前記保護された3´-アミノ基を脱保護して、遊離3´-アミノ基を形成することと、
c)前記遊離3´-アミノ基を、式(B´ n )の保護された3´-アミノヌクレオシド-5´-O-シアノエチル-N,N-ジイソプロピルアミノホスホルアミダイトモノマー(n=2のB´ n は、保護されたAである)と反応させて、ヌクレオシド間N3´→P5´-ホスホルアミダイト結合を形成することと、
e)連続した順序で11回、前記脱保護工程b)と、式(B´ n )の保護された3´-アミノヌクレオシド-5´-O-シアノエチル-N,N-ジイソプロピルアミノ-ホスホルアミダイトモノマーを用いたカップリング工程c)であって、モノマー(B´ n )のヌクレオシド塩基B´が、Bがチミンである場合を除いて保護されたBであり、B n が、それぞれ11回のカップリング工程で順次核酸塩基B 3 ~B 13 である、カップリング工程c)と、前記硫化工程d)とを繰り返すことと、
f)前記酸不安定性保護基PGを除去することと、
g)前記固相支持体からイメテルスタットを脱保護および切断することと、を含み、
付加的なキャッピング工程が、反応工程a)~e)のいずれにおいても実施されないことを特徴とする、方法。
(項2)
イメテルスタットが、そのナトリウム塩にさらに変換される、上記項1に記載の方法。
(項3)
前記アシルジスルフィドが、ジベンゾイルジスルフィド、ビス(フェニルアセチル)ジスルフィド(PADS)、ビス(4-メトキシベンゾイル)ジスルフィド、ビス(4-メチルベンゾイル)ジスルフィド、ビス(4-ニトロベンゾイル)ジスルフィドおよびビス(4-クロロベンゾイル)ジスルフィドから選択される、上記項1または2に記載の方法。
(項4)
前記アシルジスルフィドがPADSである、上記項3に記載の方法。
(項5)
PADSが、3-ピコリンまたは2,6-ルチジンと、アセトニトリル、トルエン、1-メチルピロリジノンおよびテトラヒドロフランから選択される共溶媒との混合物中に溶解される、上記項4に記載の方法。
(項6)
PADSが、2,6-ルチジンとアセトニトリルとの混合物に溶解される、上記項5に記載の方法。
(項7)
前記PADS溶液が使用の4時間~14時間前に熟成される、上記項6に記載の方法。
(項8)
前記酸不安定性基PGが、トリフェニルメチル、p-アニシルジフェニルメチル、およびジ-p-アニシルフェニルメチルから選択される、上記項1~7のいずれか一項に記載の方法。
(項9)
前記酸不安定性保護基PGが、酸性溶液での処理により除去される、上記項1~8のいずれか一項に記載の方法。
(項10)
前記式(B´ n )のモノマー中のアデニン、シトシンおよびグアニン塩基上の塩基不安定性保護基が、アセチル、ベンゾイル、イソブチリル、ジメチルホルムアミジニル、およびジベンジルホルムアミジニルから選択される、上記項1~9のいずれか一項に記載の方法。
(項11)
前記カップリング工程c)が、テトラゾール、5-(エチルチオ)-1H-テトラゾール、5-(4-ニトロ-フェニル)テトラゾール、5-(2-チエニル)-1H-テトラゾール、トリアゾール、およびピリジニウムクロリドから選択される活性化剤を用いて実施される、上記項1~10のいずれか一項に記載の方法。
(項12)
工程g)が塩基性溶液での処理により実施される、上記項1~11のいずれか一項に記載の方法。
(項13)
前記塩基性溶液が、アセトニトリルに溶解したジエチルアミンまたはアルコールに溶解したアンモニア水、または両方の組み合わせである、上記項12に記載の方法。
Claims (13)
- 次式のN3´→P5´チオホスホルアミデートオリゴヌクレオチドイメテルスタットの合成方法であって、
前記方法は、
a)式(A)(式中、PGは酸不安定性保護基である)の固相支持体に付着した最初の3´-アミノ保護ヌクレオチドを提供することと、
b)保護された3´-アミノ基を脱保護して、遊離3´-アミノ基を形成することと、
c)前記遊離3´-アミノ基を、式(B´n)の保護された3´-アミノヌクレオシド-5´-O-シアノエチル-N,N-ジイソプロピルアミノホスホルアミダイトモノマー(n=2のB´nは、保護されたAである)と反応させて、ヌクレオシド間N3´→P5´-ホスホルアミダイト結合を形成することと、
d)アシルジスルフィドを用いて前記ヌクレオシド間ホスホルアミダイト基を硫化して、N3´→P5´チオホスホルアミデートを形成することと、
e)連続した順序で11回、前記脱保護工程b)と、式(B´n)の保護された3´-アミノヌクレオシド-5´-O-シアノエチル-N,N-ジイソプロピルアミノ-ホスホルアミダイトモノマーを用いたカップリング工程c)であって、モノマー(B´n)のヌクレオシド塩基B´が、Bがチミンである場合を除いて保護されたBであり、Bnが、それぞれ11回のカップリング工程で順次核酸塩基B3~B13である、カップリング工程c)と、前記硫化工程d)とを繰り返すことと、
f)前記酸不安定性保護基PGを除去することと、
g)前記固相支持体からイメテルスタットを脱保護および切断することと、を含み、
付加的なキャッピング工程が、反応工程a)~e)のいずれにおいても実施されないことを特徴とする、方法。 - イメテルスタットが、そのナトリウム塩にさらに変換される、請求項1に記載の方法。
- 前記アシルジスルフィドが、ジベンゾイルジスルフィド、ビス(フェニルアセチル)ジスルフィド(PADS)、ビス(4-メトキシベンゾイル)ジスルフィド、ビス(4-メチルベンゾイル)ジスルフィド、ビス(4-ニトロベンゾイル)ジスルフィドおよびビス(4-クロロベンゾイル)ジスルフィドから選択される、請求項1または2に記載の方法。
- 前記アシルジスルフィドがPADSである、請求項3に記載の方法。
- PADSが、3-ピコリンまたは2,6-ルチジンと、アセトニトリル、トルエン、1-メチルピロリジノンおよびテトラヒドロフランから選択される共溶媒との混合物中に溶解される、請求項4に記載の方法。
- PADSが、2,6-ルチジンとアセトニトリルとの混合物に溶解される、請求項5に記載の方法。
- 前記PADS溶液が使用の4時間~14時間前に熟成される、請求項6に記載の方法。
- 前記酸不安定性基PGが、トリフェニルメチル、p-アニシルジフェニルメチル、およびジ-p-アニシルフェニルメチルから選択される、請求項1~7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記酸不安定性保護基PGが、酸性溶液での処理により除去される、請求項1~8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記式(B´n)の保護された3´-アミノヌクレオシド-5´-O-シアノエチル-N,N-ジイソプロピルアミノホスホルアミダイトモノマー中のアデニン、シトシンおよびグアニン塩基上の塩基不安定性保護基が、アセチル、ベンゾイル、イソブチリル、ジメチルホルムアミジニル、およびジベンジルホルムアミジニルから選択される、請求項1~9のいずれか一項に記載の方法。
- 前記カップリング工程c)が、テトラゾール、5-(エチルチオ)-1H-テトラゾール、5-(4-ニトロ-フェニル)テトラゾール、5-(2-チエニル)-1H-テトラゾール、トリアゾール、およびピリジニウムクロリドから選択される活性化剤を用いて実施される、請求項1~10のいずれか一項に記載の方法。
- 工程g)が塩基性溶液での処理により実施される、請求項1~11のいずれか一項に記載の方法。
- 前記塩基性溶液が、アセトニトリルに溶解したジエチルアミンまたはアルコールに溶解したアンモニア水、または両方の組み合わせである、請求項12に記載の方法。
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