JPH01100084A - 溶射タイルの製造方法 - Google Patents
溶射タイルの製造方法Info
- Publication number
- JPH01100084A JPH01100084A JP25898087A JP25898087A JPH01100084A JP H01100084 A JPH01100084 A JP H01100084A JP 25898087 A JP25898087 A JP 25898087A JP 25898087 A JP25898087 A JP 25898087A JP H01100084 A JPH01100084 A JP H01100084A
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- Japan
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- glaze
- inorganic particles
- glaze layer
- tile
- layer
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- Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)
- Finishing Walls (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、無機質の粒子を釉薬層に分散させたタイルを
溶射によって製造する方法に関する。
溶射によって製造する方法に関する。
従来のタイルは、基材に釉薬を塗布し、炉内で長時間焼
成することによって製造していた。この炉内での加熱・
冷却によって基材に熱応力が発生し、反りや変形等の欠
陥が製品に生じ易いものであった。また、焼成のために
炉を使用するので、設備的な制約もあり、たとえば現場
で簡単に釉薬を施工することが困難であった。
成することによって製造していた。この炉内での加熱・
冷却によって基材に熱応力が発生し、反りや変形等の欠
陥が製品に生じ易いものであった。また、焼成のために
炉を使用するので、設備的な制約もあり、たとえば現場
で簡単に釉薬を施工することが困難であった。
このような欠点を解消するものとして、本発明者等は、
溶射によってタイル基材の表面に釉薬層を焼き付ける方
法を開発し、これを特願昭６１−１４５０９０号として
山軸した。この方法によるとき、釉薬を焼き付けるタイ
ル基材はすでに焼成されたものである。そして、タイル
基材の焼成温度は釉薬の焼付は温度より高いため、釉薬
の焼付は時にタイル基材が加熱されても、基材に反りや
変形等の欠陥が生じ難い。
溶射によってタイル基材の表面に釉薬層を焼き付ける方
法を開発し、これを特願昭６１−１４５０９０号として
山軸した。この方法によるとき、釉薬を焼き付けるタイ
ル基材はすでに焼成されたものである。そして、タイル
基材の焼成温度は釉薬の焼付は温度より高いため、釉薬
の焼付は時にタイル基材が加熱されても、基材に反りや
変形等の欠陥が生じ難い。
また、表面にガラスピーズを付着させたタイルは、特開
昭４８−２２５１１号公報で開示されている。しかし、
この方法は、すでに出来上がったタイル表面に主として
樹脂系接着でガラスピーズを接着する方法であり、独立
した工程によって行われるため生産性に劣り、タイル基
材と施釉層とが一体化されていないため耐用性も劣る。
昭４８−２２５１１号公報で開示されている。しかし、
この方法は、すでに出来上がったタイル表面に主として
樹脂系接着でガラスピーズを接着する方法であり、独立
した工程によって行われるため生産性に劣り、タイル基
材と施釉層とが一体化されていないため耐用性も劣る。
このように釉薬層に対するガラスピーズの付着が独立し
た工程で行われるのは、釉薬層の形成が炉内での焼成を
前提としたことに起因する。そこで、炉内焼成を必要と
しない溶射による釉薬層の形成を、釉薬層に対するガラ
スピーズ等の付着と組み合わせるとき、工程の簡略化が
図られる。
た工程で行われるのは、釉薬層の形成が炉内での焼成を
前提としたことに起因する。そこで、炉内焼成を必要と
しない溶射による釉薬層の形成を、釉薬層に対するガラ
スピーズ等の付着と組み合わせるとき、工程の簡略化が
図られる。
そこで、本発明は、溶射直後の高粘性状態にある釉薬層
の性質を利用して無機質の粒子を釉薬層に付着させるこ
とにより、無機質の粒子が釉薬層に分散された溶射タイ
ルを能率的に製造すると共にタイルと施釉層とを一体化
させることを目的とする。
の性質を利用して無機質の粒子を釉薬層に付着させるこ
とにより、無機質の粒子が釉薬層に分散された溶射タイ
ルを能率的に製造すると共にタイルと施釉層とを一体化
させることを目的とする。
本発明の溶射クイルの製造方法は、その目的を達成する
ため、タイル基材に溶射した釉薬の表面が高温の粘性状
態にあるときに、該釉薬の表面に無機質の粒子を付着さ
せることを特徴とする。
ため、タイル基材に溶射した釉薬の表面が高温の粘性状
態にあるときに、該釉薬の表面に無機質の粒子を付着さ
せることを特徴とする。
釉薬の表面に無機質の粒子を吹き付けたり、無機質の粒
子を貼り付けた樹脂テープを釉薬の表面に押し当てるこ
と等によって、釉薬の表面に無機質の粒子を付着させる
ことができる。また、この無機質の粒子を付着した釉薬
の表面に対して、更に透明又は半透明の釉薬を溶射させ
る手段を付加しても良い。
子を貼り付けた樹脂テープを釉薬の表面に押し当てるこ
と等によって、釉薬の表面に無機質の粒子を付着させる
ことができる。また、この無機質の粒子を付着した釉薬
の表面に対して、更に透明又は半透明の釉薬を溶射させ
る手段を付加しても良い。
以下、図面を参照しながら、実施例により本発明の特徴
を具体的に説明する。
を具体的に説明する。
一第１実施例−
第１図は、無機質の粒子を釉薬の表面に吹き伺ける本発
明の第１実施例を、工程順に示す。
明の第１実施例を、工程順に示す。
タイル基材１は、予め焼成されたものである。
タイル基材１の材料としては、コープイライト。
シャモット、ロー石、アルミナ、珪石等の単体又は混合
した原料からなる焼結体が使用される。このタイル基材
１に対し、第１図（ａ）に示すように、溶射バーナ２に
より釉薬３を溶射する。釉薬３としては、通常用いられ
ているものであり、５ｉｎ２−Ｒ２０−Ｒ２０３系フリ
ットに種々の顔料が入ったものが使用される。この釉薬
３は、溶射フレームによって加熱され、溶融状態となっ
てタイル基材ｌの表面に付着する。このようにして、タ
イル基材１の表面に、０．２〜２ｍｍの厚みをもつ釉薬
層４が形成される。この釉薬層４の厚みは、吹き付けら
れる無機質の粒子の粒径や色彩等に応じて変えることが
できる。
した原料からなる焼結体が使用される。このタイル基材
１に対し、第１図（ａ）に示すように、溶射バーナ２に
より釉薬３を溶射する。釉薬３としては、通常用いられ
ているものであり、５ｉｎ２−Ｒ２０−Ｒ２０３系フリ
ットに種々の顔料が入ったものが使用される。この釉薬
３は、溶射フレームによって加熱され、溶融状態となっ
てタイル基材ｌの表面に付着する。このようにして、タ
イル基材１の表面に、０．２〜２ｍｍの厚みをもつ釉薬
層４が形成される。この釉薬層４の厚みは、吹き付けら
れる無機質の粒子の粒径や色彩等に応じて変えることが
できる。
形成直後の釉薬層４は、高温で粘性の高い状態にある。
そこで、この状態の釉薬層４に対して、第１図（ｂ）に
示すように、無機質の粒子５をスプレーノズル６から吹
き付ける。吹き付けられた無機質の粒子５は、釉薬層４
に付着し、その一部が釉薬層４内に埋め込まれる。この
とき、所定形状に開口された型板（図示せず）をスプレ
ーノズル６と釉薬層４との間に介在させ、その型板の開
口部を介して無機質の粒子５を釉薬層４の表面に飛散さ
せると、釉薬層４０表面における無機質の粒子５の分散
形態を規制することが確実に行われる。
示すように、無機質の粒子５をスプレーノズル６から吹
き付ける。吹き付けられた無機質の粒子５は、釉薬層４
に付着し、その一部が釉薬層４内に埋め込まれる。この
とき、所定形状に開口された型板（図示せず）をスプレ
ーノズル６と釉薬層４との間に介在させ、その型板の開
口部を介して無機質の粒子５を釉薬層４の表面に飛散さ
せると、釉薬層４０表面における無機質の粒子５の分散
形態を規制することが確実に行われる。
無機質の粒子５としては、珪砂、ガラスピーズ。
種々の金属粉末等が使用される。この無機質の粒子５は
、製品の用途にもよるが、その表面の凹凸が問題となる
ときには粒度の小さなものを使用することが好ましい。
、製品の用途にもよるが、その表面の凹凸が問題となる
ときには粒度の小さなものを使用することが好ましい。
たとえば、粒度が２００−以下の微粒状の無機質の粒子
５は、当溶射装置を用いて溶融状態に加熱した原料を液
体又は気体中に噴霧することによって成形することがで
きる。
５は、当溶射装置を用いて溶融状態に加熱した原料を液
体又は気体中に噴霧することによって成形することがで
きる。
この方法は、釉薬層４が溶融又は半溶融状態にあるとき
、無機質の粒子５を吹き付けるために、釉薬４の融液中
に無機質の粒子５が混入され、両者が一体化される。更
に、無機質の粒子５に、ガラスピーズのように融点が釉
薬と同等又はそれ以下の物質を使用する際には、釉薬層
４の温度を無機質の粒子５の軟化開始温度以上にするこ
とができるため、無機質の粒子５と釉薬層４との一体化
がより強固に行われる。このようにして、第１図（Ｃ）
に示すように、無機質の粒子５が分散した釉薬層４を持
つ溶射タイルが製造される。
、無機質の粒子５を吹き付けるために、釉薬４の融液中
に無機質の粒子５が混入され、両者が一体化される。更
に、無機質の粒子５に、ガラスピーズのように融点が釉
薬と同等又はそれ以下の物質を使用する際には、釉薬層
４の温度を無機質の粒子５の軟化開始温度以上にするこ
とができるため、無機質の粒子５と釉薬層４との一体化
がより強固に行われる。このようにして、第１図（Ｃ）
に示すように、無機質の粒子５が分散した釉薬層４を持
つ溶射タイルが製造される。
なお、実施例では、釉薬層４を溶射した後で無機質の粒
子５を吹き付けているが、両者を同時に行うことも可能
である。
子５を吹き付けているが、両者を同時に行うことも可能
である。
この溶射タイルを装飾用に使用するときには、無機質の
粒子５の色調、その分散形態等を工夫すると良い。また
、釉薬層４に分散された無機質の粒子５は、釉薬層４の
表面に多少の凹凸を付けるので、その凹凸面を滑り止め
に利用することもできる。更には、反射率の高い材料或
いは発光性。
粒子５の色調、その分散形態等を工夫すると良い。また
、釉薬層４に分散された無機質の粒子５は、釉薬層４の
表面に多少の凹凸を付けるので、その凹凸面を滑り止め
に利用することもできる。更には、反射率の高い材料或
いは発光性。
螢光性等の性質を備えた材料を無機質の粒子５として使
用するとき、得られた溶射タイルを道路等に設置される
反射板１表示板等として用いることができる。
用するとき、得られた溶射タイルを道路等に設置される
反射板１表示板等として用いることができる。
一第２実施例−
第２図は、樹脂テープを使用して無機質の粒子を釉薬層
に付着させる本発明の第２実施例を示す図である。
に付着させる本発明の第２実施例を示す図である。
第２図（ａ）に示すように、タイル基材１の表面には、
第１実施例と同様にして釉薬層４が形成される。この釉
薬層４が依然として高温で高粘性状態にあるとき、無機
質の粒子５を付着させるのも第１実施例と同様である。
第１実施例と同様にして釉薬層４が形成される。この釉
薬層４が依然として高温で高粘性状態にあるとき、無機
質の粒子５を付着させるのも第１実施例と同様である。
ただし、本例における無機質の粒子５は、樹脂テープ７
に貼り付けられている。そして、鋼板等の耐熱性材料で
できた押し型８によって、この無機質の粒子５を樹脂テ
ープ７と共に、釉薬層４の表面に押圧する。このように
して付着した無機質の粒子５は、第２図（ｂ）に示すよ
うに所定の配列状態をもって釉薬層４に分散される。他
方、樹脂テープ７は、釉薬層４の保有熱によって燃焼１
分解酸いは気化して、釉薬層４の表面から消失する。
に貼り付けられている。そして、鋼板等の耐熱性材料で
できた押し型８によって、この無機質の粒子５を樹脂テ
ープ７と共に、釉薬層４の表面に押圧する。このように
して付着した無機質の粒子５は、第２図（ｂ）に示すよ
うに所定の配列状態をもって釉薬層４に分散される。他
方、樹脂テープ７は、釉薬層４の保有熱によって燃焼１
分解酸いは気化して、釉薬層４の表面から消失する。
この無機質の粒子５を貼り付けた樹脂テープ７を使用す
るとき、釉薬層４表面における無機質の粒子５の配置を
より正確に制御することが可能となる。樹脂テープ７と
しては、一般文具用として用いられている塩化ビニール
フィルムと粘着剤からなる両面テープや有機質接着剤（
液体）等が使用される。
るとき、釉薬層４表面における無機質の粒子５の配置を
より正確に制御することが可能となる。樹脂テープ７と
しては、一般文具用として用いられている塩化ビニール
フィルムと粘着剤からなる両面テープや有機質接着剤（
液体）等が使用される。
第１実施例の方法は、施工が簡単であるが、複雑多彩な
模様の製造が困難である。そこで、このような場合には
、第２実施例を採用することが好ましい。
模様の製造が困難である。そこで、このような場合には
、第２実施例を採用することが好ましい。
一第３実施例−
第３図は、無機質の粒子が付着した釉薬層に対して更に
透明又は半透明の釉薬を形成する本発明の第３実施例を
示した図である。
透明又は半透明の釉薬を形成する本発明の第３実施例を
示した図である。
すなわち、第３図（ａ）に示すように、溶射バーナ９か
ら透明又は半透明の釉薬１０を釉薬層４に溶射する。こ
の溶射は、高温又は常温のいずれの状態にある釉薬層４
に対して行うこともできる。透明又は半透明の釉薬１０
としては、通常用いられている釉薬でＳ ＩＯ２Ｒ２０
Ｒ２０３系フリット等が使用される。
ら透明又は半透明の釉薬１０を釉薬層４に溶射する。こ
の溶射は、高温又は常温のいずれの状態にある釉薬層４
に対して行うこともできる。透明又は半透明の釉薬１０
としては、通常用いられている釉薬でＳ ＩＯ２Ｒ２０
Ｒ２０３系フリット等が使用される。
このようにして、第３図（ｂ）に示すように、釉薬層４
の表面に透明又は半透明の保護層１１が形成される。こ
の保護層１１は、釉薬層４に分散された無機質の粒子５
が直接表面に露出することを防ぎ、表面の触感を柔らか
いものとする。また、この保護層１１によって、釉薬層
４から無機質の粒子５が脱落することも防止される。更
には、釉薬層４と無機質の粒子５との間に生じがちな隙
間を釉薬１０によって埋めるので、緻密な表面層をもつ
溶射タイルとなる。その結果、使用時に汚れた表面を清
浄にする洗浄作業が容易なものとなる。
の表面に透明又は半透明の保護層１１が形成される。こ
の保護層１１は、釉薬層４に分散された無機質の粒子５
が直接表面に露出することを防ぎ、表面の触感を柔らか
いものとする。また、この保護層１１によって、釉薬層
４から無機質の粒子５が脱落することも防止される。更
には、釉薬層４と無機質の粒子５との間に生じがちな隙
間を釉薬１０によって埋めるので、緻密な表面層をもつ
溶射タイルとなる。その結果、使用時に汚れた表面を清
浄にする洗浄作業が容易なものとなる。
以上に説明したように、本発明においては、溶射によっ
て形成された釉薬層が未だ高温の高粘性状態にあるとき
に、無機質の粒子を付着させているので、熱の有効利用
及び工程の簡略化が図られると共に、釉薬層に対する無
機質の粒子の付着性は優れたものとなる。このようして
得られた溶射タイルは、タイル基材、釉薬層及び無機質
の粒子の組合せを調整して、建造物の内外壁や床１種々
の標識、看板等の各種用途に使用することができる。
て形成された釉薬層が未だ高温の高粘性状態にあるとき
に、無機質の粒子を付着させているので、熱の有効利用
及び工程の簡略化が図られると共に、釉薬層に対する無
機質の粒子の付着性は優れたものとなる。このようして
得られた溶射タイルは、タイル基材、釉薬層及び無機質
の粒子の組合せを調整して、建造物の内外壁や床１種々
の標識、看板等の各種用途に使用することができる。
第１図は本発明の第１実施例における溶射タイルの製造
方法を順を追って説明する図であり、第２図及び第３図
はそれぞれ本発明の第２実施例及び第３実施例を説明す
る図である。
方法を順を追って説明する図であり、第２図及び第３図
はそれぞれ本発明の第２実施例及び第３実施例を説明す
る図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、タイル基材に溶射した釉薬の表面が高温の粘性状態
にあるときに、該釉薬の表面に無機質の粒子を付着させ
ることを特徴とする溶射タイルの製造方法。 ２、特許請求の範囲第１項記載の無機質の粒子が、吹付
けによって釉薬の表面に塗布されることを特徴とする溶
射タイルの製造方法。 ３、特許請求の範囲第１項記載の無機質の粒子を貼り付
けた樹脂テープを釉薬の表面に押し当てることにより、
該釉薬の表面に無機質の粒子を付着させることを特徴と
する溶射タイルの製造方法。 ４、タイル基材に溶射した釉薬の表面が高温の粘性状態
にあるときに、該釉薬の表面に無機質の粒子を付着させ
、更に透明又は半透明の釉薬を溶射することを特徴とす
る溶射タイルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25898087A JPH01100084A (ja) | 1987-10-13 | 1987-10-13 | 溶射タイルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25898087A JPH01100084A (ja) | 1987-10-13 | 1987-10-13 | 溶射タイルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01100084A true JPH01100084A (ja) | 1989-04-18 |
Family
ID=17327686
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25898087A Pending JPH01100084A (ja) | 1987-10-13 | 1987-10-13 | 溶射タイルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01100084A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000302579A (ja) * | 1999-04-19 | 2000-10-31 | Toto Ltd | 衛生陶器の製造方法 |
| JP2000319082A (ja) * | 1999-05-10 | 2000-11-21 | Toto Ltd | 衛生陶器 |
| JP2007192016A (ja) * | 2005-12-19 | 2007-08-02 | Nagoya Institute Of Technology | 太陽光反射土木建築資材、遮光資材及びヒートアイランド現象の抑制方法 |
| EP1842641A1 (en) * | 2006-04-03 | 2007-10-10 | Fabio Valle | Process for making tiles with refracting and reflecting surface and product obtained with it |
| US20110030318A1 (en) * | 2009-05-14 | 2011-02-10 | CapStone Technologies LLC | Robotic mail tray sleever method and apparatus |
-
1987
- 1987-10-13 JP JP25898087A patent/JPH01100084A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000302579A (ja) * | 1999-04-19 | 2000-10-31 | Toto Ltd | 衛生陶器の製造方法 |
| JP2000319082A (ja) * | 1999-05-10 | 2000-11-21 | Toto Ltd | 衛生陶器 |
| JP2007192016A (ja) * | 2005-12-19 | 2007-08-02 | Nagoya Institute Of Technology | 太陽光反射土木建築資材、遮光資材及びヒートアイランド現象の抑制方法 |
| EP1842641A1 (en) * | 2006-04-03 | 2007-10-10 | Fabio Valle | Process for making tiles with refracting and reflecting surface and product obtained with it |
| US20110030318A1 (en) * | 2009-05-14 | 2011-02-10 | CapStone Technologies LLC | Robotic mail tray sleever method and apparatus |
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