JPH01110564A - ビスアジド化合物及びそれを含有する感光性重合体組成物 - Google Patents
ビスアジド化合物及びそれを含有する感光性重合体組成物Info
- Publication number
- JPH01110564A JPH01110564A JP62267413A JP26741387A JPH01110564A JP H01110564 A JPH01110564 A JP H01110564A JP 62267413 A JP62267413 A JP 62267413A JP 26741387 A JP26741387 A JP 26741387A JP H01110564 A JPH01110564 A JP H01110564A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- azido
- naphthaldehyde
- bisazide compound
- bisazide
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/008—Azides
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ビスアジド化合物及びそれを含有する感光性
重合体組成物に関するもので、本発明のビスアジド化合
物は、ホトレジスト用の微細パターンの形成材料等とし
て好適なものである。
重合体組成物に関するもので、本発明のビスアジド化合
物は、ホトレジスト用の微細パターンの形成材料等とし
て好適なものである。
電子工業等における微細加工技術の分野において、ビス
アジド化合物が微細パターンの形成材料等として汎用さ
れている。これらのビスアジド化合物の例としては、２
，６−ビス（４−アジドベンジリデン）シクロヘキサノ
ン、２，６−ビス（４−アジドシンナミリデン）−４−
メチルシクロヘキサノン等が挙げられる（特開昭５７−
１６８９４２号公報参照）。そして、これらのビスアジ
ド化合物は、一般に、微細パターンの形成に使用する場
合、重合体に添加され、感光性重合体組成物として用い
られている。
アジド化合物が微細パターンの形成材料等として汎用さ
れている。これらのビスアジド化合物の例としては、２
，６−ビス（４−アジドベンジリデン）シクロヘキサノ
ン、２，６−ビス（４−アジドシンナミリデン）−４−
メチルシクロヘキサノン等が挙げられる（特開昭５７−
１６８９４２号公報参照）。そして、これらのビスアジ
ド化合物は、一般に、微細パターンの形成に使用する場
合、重合体に添加され、感光性重合体組成物として用い
られている。
尚、特開昭６０−１１４８５７号公報には、ベンゼン環
をナフタレン環及びアントラセン環に交換した芳香族ア
ジド化合物が例示されているが、これは単に可能性を示
しただけで、実際に上記化合物が単離された例はない。
をナフタレン環及びアントラセン環に交換した芳香族ア
ジド化合物が例示されているが、これは単に可能性を示
しただけで、実際に上記化合物が単離された例はない。
前記のビスアジド化合物を配合した感光性重合体組成物
は、水銀灯の４３６ｎｍのｇ線及び４０５ｎｍのｈ線に
対して感度が低い問題がある。
は、水銀灯の４３６ｎｍのｇ線及び４０５ｎｍのｈ線に
対して感度が低い問題がある。
従って、本発明の目的は、長波長領域に高い感度を有す
る新規なビスアジド化合物及びそれを含存する感光性重
合体組成物を提供することにある。
る新規なビスアジド化合物及びそれを含存する感光性重
合体組成物を提供することにある。
本発明者らは、種々検討した結果、ナフタリン環内にア
ジド基とホルミル基を含む新規な化合物と、ケトン類又
はジアミン類とを縮合反応させることにより、前記目的
を達成するビスアジド化合物が得られることを知見した
。
ジド基とホルミル基を含む新規な化合物と、ケトン類又
はジアミン類とを縮合反応させることにより、前記目的
を達成するビスアジド化合物が得られることを知見した
。
本発明は、上記知見に基づきなされたもので、４−アジ
ド−１−ナフトアルデヒドとケトン類又はジアミン類と
の縮合反応で得られる、ビスアジド化合物を提供するも
のである。
ド−１−ナフトアルデヒドとケトン類又はジアミン類と
の縮合反応で得られる、ビスアジド化合物を提供するも
のである。
また、本発明は、重合体に上記の本発明のビスアジド化
合物を添加してなる、感光性重合体組成物を提供するも
のである。
合物を添加してなる、感光性重合体組成物を提供するも
のである。
以下、まず、本発明のビスアジド化合物について詳述す
る。
る。
本発明のビスアジド化合物の代表例としては、下記のも
のが挙げられる。
のが挙げられる。
４−アジド−１−ナツトアルデヒドとケトン類との縮合
反応で得られるビスアジド化合物としては、例えば、 等が挙げられ、また、４−アジド−１−ナフトアルデヒ
ドとジアミン類との縮合反応で得られるビスアジド化合
物としては、例えば、 （レーＣＨ，ＣＨ，−１−〇′ 等が挙げられる。
反応で得られるビスアジド化合物としては、例えば、 等が挙げられ、また、４−アジド−１−ナフトアルデヒ
ドとジアミン類との縮合反応で得られるビスアジド化合
物としては、例えば、 （レーＣＨ，ＣＨ，−１−〇′ 等が挙げられる。
本発明のビスアジド化合物は、上記化合物に限定される
ものではなく、本発明のビスアジド化合物には、下記の
反応試薬（ケトン類及びジアミンＲ）を種々選択するこ
とによって得られる上記化合物以外の種々のビスアジド
化合物も包含される。
ものではなく、本発明のビスアジド化合物には、下記の
反応試薬（ケトン類及びジアミンＲ）を種々選択するこ
とによって得られる上記化合物以外の種々のビスアジド
化合物も包含される。
４−アジド−１−ナツトアルデヒドと縮合反応させる上
記ケトン類としては、例えば、４−メチルシクロヘキサ
ノン、４−ｎ−アミルシクロヘキサノン、４−アジドア
セトフェノン、１−メチル−４−ピペリドン等が挙げら
れ、また、上記ジアミン類としては、例えば、エチレン
ジアミンヒドラ−）、４．４° −ジアミノジフェニル
エニテル、３．５−ジアミノ安息香酸、パラフェニレン
ジアミン、２．５−ジアミノトルエン塩酸塩等が挙げら
れる。
記ケトン類としては、例えば、４−メチルシクロヘキサ
ノン、４−ｎ−アミルシクロヘキサノン、４−アジドア
セトフェノン、１−メチル−４−ピペリドン等が挙げら
れ、また、上記ジアミン類としては、例えば、エチレン
ジアミンヒドラ−）、４．４° −ジアミノジフェニル
エニテル、３．５−ジアミノ安息香酸、パラフェニレン
ジアミン、２．５−ジアミノトルエン塩酸塩等が挙げら
れる。
また、出発物質としての４−アジド−１−ナツトアルデ
ヒドは、下記式で示される構造を有する新規化合物であ
るので、以下、この４−アジド−１−ナフトアルデヒド
について詳述する。
ヒドは、下記式で示される構造を有する新規化合物であ
るので、以下、この４−アジド−１−ナフトアルデヒド
について詳述する。
上記の４−アジド−１−ナフトアルデヒドは、４−ブロ
モー１−ナフトアルデヒドをアジド化することにより得
ることができる。
モー１−ナフトアルデヒドをアジド化することにより得
ることができる。
原料としての４−ブロモ−１−ナツトアルデヒドは、例
えば、次の経路により合成できる。１−メチルナフタリ
ンを臭素と反応させて１−ブロモ−４−メチルナフタリ
ンとする（Ｊ、５ａｕｅｒ、 Ｒ，Ｉｌｕｉｓｇｅｎ＋
Ａ、Ｈａｕｓｅｒ、 Ｂｅｒ、９１１４６１ （１９
５Ｂ）参照）。次いで、これをＮ−ブロモサクシイミド
又は臭素／光により臭素化して１−ブロモメチル−４−
ブロモナフタリンを合成する（Ｎ、Ｂ、Ｃｈａｐｍａｎ
、 Ｊ、Ｆ、＾、Ｕｉ１１ｉａｍｓ、 Ｊ、Ｃｈｅｍ、
Ｓｏｃ、 ５０４４（１９５２）参照〕、然る後、これ
をヘキサメチレンテトラミンと反応させることにより、
４−ブロモ−１−ナフトアルデヒドに変換できる（Ｏｒ
ｇ、 Ｓｙｎ、 Ｃｏ１． ｖｏｌ、４．６９０参照）
。
えば、次の経路により合成できる。１−メチルナフタリ
ンを臭素と反応させて１−ブロモ−４−メチルナフタリ
ンとする（Ｊ、５ａｕｅｒ、 Ｒ，Ｉｌｕｉｓｇｅｎ＋
Ａ、Ｈａｕｓｅｒ、 Ｂｅｒ、９１１４６１ （１９
５Ｂ）参照）。次いで、これをＮ−ブロモサクシイミド
又は臭素／光により臭素化して１−ブロモメチル−４−
ブロモナフタリンを合成する（Ｎ、Ｂ、Ｃｈａｐｍａｎ
、 Ｊ、Ｆ、＾、Ｕｉ１１ｉａｍｓ、 Ｊ、Ｃｈｅｍ、
Ｓｏｃ、 ５０４４（１９５２）参照〕、然る後、これ
をヘキサメチレンテトラミンと反応させることにより、
４−ブロモ−１−ナフトアルデヒドに変換できる（Ｏｒ
ｇ、 Ｓｙｎ、 Ｃｏ１． ｖｏｌ、４．６９０参照）
。
この４−プロモーｌ−ナフトアルデヒドのアジド化は、
ナトリウムアジド又はリチウムアジドを用いて行うこと
ができる。その際の反応溶媒としては、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン
等のアプロチック溶媒が好適である。
ナトリウムアジド又はリチウムアジドを用いて行うこと
ができる。その際の反応溶媒としては、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン
等のアプロチック溶媒が好適である。
上記のナトリウムアジド又はリチウムアジドの使用量は
、４−ブロモ−１−ナフトアルデヒドに対して、通常１
〜４倍モルとすると良い、リチウムアジドはナトリウム
アジドに比して溶解性が高いので好適である。
、４−ブロモ−１−ナフトアルデヒドに対して、通常１
〜４倍モルとすると良い、リチウムアジドはナトリウム
アジドに比して溶解性が高いので好適である。
また、上記反応溶媒の使用量は、４−ブロモ−１−ナフ
トアルデヒドの濃度が通常１〜１０重量％となる量とす
ると良い。
トアルデヒドの濃度が通常１〜１０重量％となる量とす
ると良い。
また、上記アジド化の反応温度は室温〜１５０℃、好ま
しくは４０〜１００℃とすると良い、反応時間は１０分
〜１０時間、好ましくは１〜６時間とすると良い。
しくは４０〜１００℃とすると良い、反応時間は１０分
〜１０時間、好ましくは１〜６時間とすると良い。
反応液中からの生成物（４−アジド−１−ナフトアルデ
ヒド）の回収は、次のようにして行えば良い。
ヒド）の回収は、次のようにして行えば良い。
反応終了後、反応液を水中に混合すると生成物が析出す
る。これをメタノール、エタノール、ｎ−ヘキサン等で
再結晶すると、純品の目的物（４−アジド−１−ナフト
アルデヒド）が得られる。
る。これをメタノール、エタノール、ｎ−ヘキサン等で
再結晶すると、純品の目的物（４−アジド−１−ナフト
アルデヒド）が得られる。
上述の如くして得られる４−アジド−１−ナフトアルデ
ヒドは、感光性物質であるので、上記合成は黄色光下に
行うことが好ましい。
ヒドは、感光性物質であるので、上記合成は黄色光下に
行うことが好ましい。
また、本発明のビスアジド化合物を得るための前記４−
アジド−１−ナフトアルデヒドと前記ケトン類又は前記
ジアミン類との縮合反応は、下記の如くして行うことが
できる。
アジド−１−ナフトアルデヒドと前記ケトン類又は前記
ジアミン類との縮合反応は、下記の如くして行うことが
できる。
アルデヒドとケトン類との縮合反応はアルカリ触媒の存
在下に容易に進行することが公知であり、（Ｏｒｇ、
Ｓｙｎ、 ｃｏｌ、 ｖｏｌ、１＋７８＋ ＾
、 Ａｉｚｅｎｓｈｔａｔ＋ Ｍ。
在下に容易に進行することが公知であり、（Ｏｒｇ、
Ｓｙｎ、 ｃｏｌ、 ｖｏｌ、１＋７８＋ ＾
、 Ａｉｚｅｎｓｈｔａｔ＋ Ｍ。
Ｈａｕｓｍａｎｎ＋ Ｙ、 Ｐｉｃｋｈｏｌｔｚ、 ｏ
、 Ｔａｌ、 Ｊ、 Ｂｌｕ＠、 Ｊ。
、 Ｔａｌ、 Ｊ、 Ｂｌｕ＠、 Ｊ。
Ｏｒｇ、 Ｃｈｅｗ、 ４２．２３８６（１９７７））
、本発明のビスアジド化合物を得るための前記４−アジ
ド−１−ナフトアルデヒドと前記ケトン類との縮合反応
は、上記の公知の方法に従って行うことができる。
、本発明のビスアジド化合物を得るための前記４−アジ
ド−１−ナフトアルデヒドと前記ケトン類との縮合反応
は、上記の公知の方法に従って行うことができる。
前記４−アジド−１−ナフトアルデヒドと前記ケトン類
との好ましい使用割合は、４−アジド−１−ナフトアル
デヒド１モルに対して、ケトン類０．４〜０．６モルで
ある。
との好ましい使用割合は、４−アジド−１−ナフトアル
デヒド１モルに対して、ケトン類０．４〜０．６モルで
ある。
また、上記縮合反応で用いられるアルカリ触媒としては
、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が使用できる。
、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が使用できる。
、 また、上記縮合反応で用いられる反応溶媒として
は、水、メタノール、エタノール等が使用でき、その使
用量は、４−アジド−１−ナフトアルデヒドの濃度が通
常０．１〜１０重量％となる量とすると良い。
は、水、メタノール、エタノール等が使用でき、その使
用量は、４−アジド−１−ナフトアルデヒドの濃度が通
常０．１〜１０重量％となる量とすると良い。
また、上記縮合反応の反応温度は、反応が進行する温度
であれば特に制限はないが、生成物（ビスアジド化合物
）の安定性から１００℃以下が好ましい。
であれば特に制限はないが、生成物（ビスアジド化合物
）の安定性から１００℃以下が好ましい。
また、アルデヒドとアミン類との縮合反応はシッフ塩基
の生成として公知であり（Ｓ、 Ｐａｔａｉ＋ ”Ｔｈ
ｅ Ｃｈｅａ＋１ｓｔｒｙ ｏｆ ｔｈｅ ａａ＋ｉｎ
ｏ ｇｒｏｕｐ”、 Ｉｎｔｅｒｓｅｔｅｎｃｅ、 Ｌ
ｏｎｄｏｎ、 １９６８． ｐ、３６７） 、本発明の
ビスアジド化合物を得るための前記４−アジド−１−ナ
フトアルデヒドと前記ジアミン類との縮合反応は、上記
の公知の方法に従って行うことができる。
の生成として公知であり（Ｓ、 Ｐａｔａｉ＋ ”Ｔｈ
ｅ Ｃｈｅａ＋１ｓｔｒｙ ｏｆ ｔｈｅ ａａ＋ｉｎ
ｏ ｇｒｏｕｐ”、 Ｉｎｔｅｒｓｅｔｅｎｃｅ、 Ｌ
ｏｎｄｏｎ、 １９６８． ｐ、３６７） 、本発明の
ビスアジド化合物を得るための前記４−アジド−１−ナ
フトアルデヒドと前記ジアミン類との縮合反応は、上記
の公知の方法に従って行うことができる。
前記４−アジド−１−ナフトアルデヒドと前記ジアミン
類との好ましい使用割合は、４−アジド−１−ナフトア
ルデヒド１モルに対して、ジアミン類０．４〜０．６モ
ルである。
類との好ましい使用割合は、４−アジド−１−ナフトア
ルデヒド１モルに対して、ジアミン類０．４〜０．６モ
ルである。
また、上記縮合反応で用いられる反応溶媒としては、前
記のケトン類との縮合反応の場合と同様な反応溶媒が使
用でき、また反応温度も、前記のケトン類との縮合反応
の場合と同様な理由から１００℃以下が好ましい。
記のケトン類との縮合反応の場合と同様な反応溶媒が使
用でき、また反応温度も、前記のケトン類との縮合反応
の場合と同様な理由から１００℃以下が好ましい。
尚、出発物質（４−アジド−１−ナツトアルデヒド）及
び生成物（本発明のビスアジド化合物）ともに感光性物
質であるので、前記４−アジド−１−ナツトアルデヒド
と前記ケトン類又は前記ジアミン類との縮合反応は、黄
色光下で行うことが好ましい。
び生成物（本発明のビスアジド化合物）ともに感光性物
質であるので、前記４−アジド−１−ナツトアルデヒド
と前記ケトン類又は前記ジアミン類との縮合反応は、黄
色光下で行うことが好ましい。
上述の如くして得られる本発明のビスアジド化合物は、
新規化合物であり、ＵＶ測定の結果、長波長領域に強い
吸収を示すので、ホトレジスト用のパターンの形成材料
等として好適なものである。
新規化合物であり、ＵＶ測定の結果、長波長領域に強い
吸収を示すので、ホトレジスト用のパターンの形成材料
等として好適なものである。
次に、上述の本発明のビスアジド化合物を含有する本発
明の感光性重合体組成物について詳述する。
明の感光性重合体組成物について詳述する。
本発明の感光性重合体組成物の構成成分である重合体と
しては、感光性重合体組成物のベースポリマーとして通
常用いられているポリマーが使用でき、好ましくは、ビ
フェニルテトラカルボン酸成分と有機ジアミン成分との
重縮金物からなる有機溶媒可溶性の芳香族ポリイミド、
環化ゴム、特開昭６２−１６９１５５号公報等に記載の
マレイミド共重合体等を挙げることができる。
しては、感光性重合体組成物のベースポリマーとして通
常用いられているポリマーが使用でき、好ましくは、ビ
フェニルテトラカルボン酸成分と有機ジアミン成分との
重縮金物からなる有機溶媒可溶性の芳香族ポリイミド、
環化ゴム、特開昭６２−１６９１５５号公報等に記載の
マレイミド共重合体等を挙げることができる。
本発明のビスアジド′化合物と上記重合体との使用割合
は、上記重合体１００重量部に対し、本発明のビスアジ
ド化合物１〜４０重世部、特に２〜２０重量部とするの
が好ましい。
は、上記重合体１００重量部に対し、本発明のビスアジ
ド化合物１〜４０重世部、特に２〜２０重量部とするの
が好ましい。
本発明の感光性重合体組成物は、ホトレジスト用の微細
パターンの形成材料として使用する場合、一般に、Ｎ−
メチル−２−ピロリドン等の有機溶媒に好ましくは２〜
５０重量％の割合で溶解した溶液（レジスト溶液）とし
て用いられる。
パターンの形成材料として使用する場合、一般に、Ｎ−
メチル−２−ピロリドン等の有機溶媒に好ましくは２〜
５０重量％の割合で溶解した溶液（レジスト溶液）とし
て用いられる。
本発明の感光性重合体組成物によれば、上記の如くレジ
スト溶液を調製することにより、例えば次のようにして
微細パターンを形成することができる。
スト溶液を調製することにより、例えば次のようにして
微細パターンを形成することができる。
上記レジスト溶液を基板に塗布し、乾燥後、塗膜上に所
定のホトマスクを密着させ、該ホトマスクの上方から紫
外線等の光線を照射する。露光後、上記ホトマスクを除
去し、上記レジスト溶液の調製に用いた有機溶媒等によ
り塗膜を現像して未露光部分を除去し、微細パターンを
得る。
定のホトマスクを密着させ、該ホトマスクの上方から紫
外線等の光線を照射する。露光後、上記ホトマスクを除
去し、上記レジスト溶液の調製に用いた有機溶媒等によ
り塗膜を現像して未露光部分を除去し、微細パターンを
得る。
以下に本発明のビスアジド化合物の製造に用いられる４
−アジド−１−ナツトアルデヒドの合成を示す合成例、
本発明のビスアジド化合物の製造を示す実施例、本発明
の感光性重合体組成物をパターンの形成に用いた使用例
、及び比較例を挙げ、本発明を更に詳細に説明する。尚
１．４−アジドー１−ナフトアルデヒド及び本発明のビ
スアジド化合物は感光性物質であるので、合成例及び実
施例は黄色光下に実施した。
−アジド−１−ナツトアルデヒドの合成を示す合成例、
本発明のビスアジド化合物の製造を示す実施例、本発明
の感光性重合体組成物をパターンの形成に用いた使用例
、及び比較例を挙げ、本発明を更に詳細に説明する。尚
１．４−アジドー１−ナフトアルデヒド及び本発明のビ
スアジド化合物は感光性物質であるので、合成例及び実
施例は黄色光下に実施した。
合成例１ 〔４−ブロモ−１−ナフトアルデヒドの合成
〕 く１−ブロモ−４−メチルナフタリンの合成〉１−メチ
ルナフタリン５３．６ ｇ （０，３７７モル）を１０
０ｓ＋１の四塩化炭素に溶解させ、室温にて光を遮断し
て、臭素６０．３ｇ （０，３７７Ｍ）を滴下した。３
時間還流した後、溶媒を留去した。
〕 く１−ブロモ−４−メチルナフタリンの合成〉１−メチ
ルナフタリン５３．６ ｇ （０，３７７モル）を１０
０ｓ＋１の四塩化炭素に溶解させ、室温にて光を遮断し
て、臭素６０．３ｇ （０，３７７Ｍ）を滴下した。３
時間還流した後、溶媒を留去した。
次いで、減圧蒸留してＫｌ）１４１６０〜１７０℃の留
分６４ｇ（収率７７％）を得た。
分６４ｇ（収率７７％）を得た。
（１−ブロモメチル−４−ブロモナフタリンの合成）
上記で得た留分６４ｇ（１−メチルナフタリン／１−ブ
ロモー４−メチルナフタリン＝３／９７）を２００１１
１１の四塩化炭素に溶解させ、Ｎ−ブロモサクシイミド
５１．６ｇ及びヘンシイルベルオキシド０．５ｇと共に
７時間還流した。濾過及び熱四塩化炭素１５０ｍ１洗の
後、放置すると、結晶が析出した。これをエタノール２
００ｍ１で再結晶して３４．２ ｇの１−ブロモメチル
−４−ブロモナフタリンを得た。
ロモー４−メチルナフタリン＝３／９７）を２００１１
１１の四塩化炭素に溶解させ、Ｎ−ブロモサクシイミド
５１．６ｇ及びヘンシイルベルオキシド０．５ｇと共に
７時間還流した。濾過及び熱四塩化炭素１５０ｍ１洗の
後、放置すると、結晶が析出した。これをエタノール２
００ｍ１で再結晶して３４．２ ｇの１−ブロモメチル
−４−ブロモナフタリンを得た。
先の四塩化炭素母液から四塩化炭素を留去した後、エタ
ノールの再結晶母液と合わせ、再結晶を２回行って２２
．０ ［の結晶を得た。合計５６．２ ｇの生成物を得
たく収率６５％）。
ノールの再結晶母液と合わせ、再結晶を２回行って２２
．０ ［の結晶を得た。合計５６．２ ｇの生成物を得
たく収率６５％）。
く４−ブロモー１−ナフトアルデヒドの合成〉上記生成
物（１−ブロモメチル−４−ブロモナフタリン）３４ｇ
（０，２２７Ｍ）を酢酸５０ｍ１及び水５０ｍ１に溶
解させ、ヘキサメチレンテトラミン３１．８ ｇ （０
，２２７Ｍ）と共に２時間還流した。
物（１−ブロモメチル−４−ブロモナフタリン）３４ｇ
（０，２２７Ｍ）を酢酸５０ｍ１及び水５０ｍ１に溶
解させ、ヘキサメチレンテトラミン３１．８ ｇ （０
，２２７Ｍ）と共に２時間還流した。
濃塩酸４０ｎ＋ｌを加え、１５分還流後、冷却した。
エーテル７０ｍ１で４回抽出、水４０１１で３回洗浄、
１０％炭酸ナトリウム水溶液４０ｍ１で洗浄、水４Ｏｗ
＋で洗浄後、エーテル層を硫酸マグネシウムで乾燥した
。エーテルを留去後、メタノール１５０１で再結晶し１
６．１ ｇの生成物を得た０口液からさらに２．９ｇを
得、合計１９．０ｇ（収率７２％）の４−ブロモー１−
ナフトアルデヒドを得た。
１０％炭酸ナトリウム水溶液４０ｍ１で洗浄、水４Ｏｗ
＋で洗浄後、エーテル層を硫酸マグネシウムで乾燥した
。エーテルを留去後、メタノール１５０１で再結晶し１
６．１ ｇの生成物を得た０口液からさらに２．９ｇを
得、合計１９．０ｇ（収率７２％）の４−ブロモー１−
ナフトアルデヒドを得た。
合成例２〔リチウムアジドの合成〕
ツーベン ワイル（Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ″Ｍｅｔｈ
ｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｈｅｎ Ｃｈｅｍｉ
ｅ Ｘ３＋ Ｐ７８４ Ｇｅｏｒｇ Ｔｈ１ｅ＋＊ｅ
Ｖｅｒｌａｇ Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ （１９６５） ）
の方法に従い、ナトリウムアジド６．５ｇから、リチウ
ムアジドｓ、 ｉ ｏ ｇを得た。
ｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｈｅｎ Ｃｈｅｍｉ
ｅ Ｘ３＋ Ｐ７８４ Ｇｅｏｒｇ Ｔｈ１ｅ＋＊ｅ
Ｖｅｒｌａｇ Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ （１９６５） ）
の方法に従い、ナトリウムアジド６．５ｇから、リチウ
ムアジドｓ、 ｉ ｏ ｇを得た。
合成例３
合成例１で得られた４−ブロモ−１−ナフトアルデヒド
２．３５１ｇ（１０ミリモル）及び合成例２で得られた
リチウムアジド０．７３４ｇ（１５ミリモル）を６０ｍ
１のＮ−メチル−２−とロリドンに溶解させ、８０℃に
て４時間攪拌した０反応液は均一溶液であった０反応液
を４５０１の水の中へ投入すると固体が析出した。これ
を濾過、水５０ｍ１で洗浄、４０℃にて真空乾燥後、メ
タノール１４０ｍ１から再結晶した。熱時濾過し、放置
すると、黄金色の結晶が析出した。この結晶１．１３９
ｇ及び母液からさらに０．４１３ｇの結晶を得、合計１
．５５２ ｇの４−アジド−■−ナツトアルデヒドを得
た（収率７９％）。
２．３５１ｇ（１０ミリモル）及び合成例２で得られた
リチウムアジド０．７３４ｇ（１５ミリモル）を６０ｍ
１のＮ−メチル−２−とロリドンに溶解させ、８０℃に
て４時間攪拌した０反応液は均一溶液であった０反応液
を４５０１の水の中へ投入すると固体が析出した。これ
を濾過、水５０ｍ１で洗浄、４０℃にて真空乾燥後、メ
タノール１４０ｍ１から再結晶した。熱時濾過し、放置
すると、黄金色の結晶が析出した。この結晶１．１３９
ｇ及び母液からさらに０．４１３ｇの結晶を得、合計１
．５５２ ｇの４−アジド−■−ナツトアルデヒドを得
た（収率７９％）。
融点、元素分析、赤外吸収スペクトル及び質量スペクト
ルを測定し、生成物が４−アジド−１−ナフトアルデヒ
ドであることを確認した。測定結果は下記の通りである
。
ルを測定し、生成物が４−アジド−１−ナフトアルデヒ
ドであることを確認した。測定結果は下記の通りである
。
融点：９ｏ、ｓ〜９１．０℃
元素分析（％） ： Ｃ，、Ｈｌ ＮＳ Ｏ（１９７
，２０）Ｃ６６，９９８３，６６Ｎ ２１．２２（計
算値Ｆ Ｃ６７，０Ｏ１Ｈ３，５８、Ｎ２１．３１）
赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ） ： ２１００ｃ＋ｓ
−’ （Ｎｓ ）質量スペクトル：Ｍ／Ｚ＝１９７
（Ｍ” ）実施例１ 〔２，６−ビス（４−アジド−１−ナフチルメチレン）
−４−メチルシクロヘキサノン（ビスアジド化合物１１
ｈｌ）の製造〕 ０、４０ ｇのカセイソーダ、３＋＊１の水及び１５ｍ
１のエタノールからなる溶液に０．３６ ｇの４−メチ
ルシクロヘキサノンを加え、さらに合成例３で得られた
４−アジド−１−ナフトアルデヒド１．２６ｇ／エタノ
ール２０ａ＋１の溶液を混合し、室温にて３時間攪拌し
た。析出した結晶を濾過し、エタノールで洗浄後、ベン
ゼンから再結晶して０．３０ ｇの生成物（ビスアジド
化合物阻１）を得た（収率２０％）。
，２０）Ｃ６６，９９８３，６６Ｎ ２１．２２（計
算値Ｆ Ｃ６７，０Ｏ１Ｈ３，５８、Ｎ２１．３１）
赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ） ： ２１００ｃ＋ｓ
−’ （Ｎｓ ）質量スペクトル：Ｍ／Ｚ＝１９７
（Ｍ” ）実施例１ 〔２，６−ビス（４−アジド−１−ナフチルメチレン）
−４−メチルシクロヘキサノン（ビスアジド化合物１１
ｈｌ）の製造〕 ０、４０ ｇのカセイソーダ、３＋＊１の水及び１５ｍ
１のエタノールからなる溶液に０．３６ ｇの４−メチ
ルシクロヘキサノンを加え、さらに合成例３で得られた
４−アジド−１−ナフトアルデヒド１．２６ｇ／エタノ
ール２０ａ＋１の溶液を混合し、室温にて３時間攪拌し
た。析出した結晶を濾過し、エタノールで洗浄後、ベン
ゼンから再結晶して０．３０ ｇの生成物（ビスアジド
化合物阻１）を得た（収率２０％）。
元素分析、赤外吸収スペクトル及び電子衝撃質量スペク
トルを測定し、生成物が目的物であることを確認した。
トルを測定し、生成物が目的物であることを確認した。
測定結果は下記の通りである。
元素分析（％） ： Ｃｚ＊ＨｇｔＮ＊ Ｏ（４７０
，５４）Ｃ７３，８０Ｈ４，８０Ｎ １７．６２（計
算値： Ｃ７４，０３、Ｈ４，７１、Ｎ１７．８６）赤
外吸収スペクトル（ＫＢｒ） ： ２１１０ｃｍ−’
（Ｎ３）質量スペクトル：Ｍ／Ｚ−４７０（Ｍ”）実施
例２ 〔２，６−ビス（４−アジド−１−ナフチルメチレン）
−４−ｎ−アミルシクロヘキサノン（ビスアジド化合物
尚２）の製造〕 ０、３８ ｇのカセイソーダ、３Ｍ夏の水及び】５１の
エタノールからなる溶液に０．４３ ｇの４−ｎ−アミ
ルシクロヘキサノンを加え、さらに合成例３で得られた
４−アジド−１−ナフトアルデヒド１゜０１２ｇ／エタ
ノール１４０ｍ１の溶液を混合し、室温にて４時間攪拌
した。その後、実施例１と同様にして０．５０ ｇの生
成物（ビスアジド化合物−２）を得た（収率３７％）。
，５４）Ｃ７３，８０Ｈ４，８０Ｎ １７．６２（計
算値： Ｃ７４，０３、Ｈ４，７１、Ｎ１７．８６）赤
外吸収スペクトル（ＫＢｒ） ： ２１１０ｃｍ−’
（Ｎ３）質量スペクトル：Ｍ／Ｚ−４７０（Ｍ”）実施
例２ 〔２，６−ビス（４−アジド−１−ナフチルメチレン）
−４−ｎ−アミルシクロヘキサノン（ビスアジド化合物
尚２）の製造〕 ０、３８ ｇのカセイソーダ、３Ｍ夏の水及び】５１の
エタノールからなる溶液に０．４３ ｇの４−ｎ−アミ
ルシクロヘキサノンを加え、さらに合成例３で得られた
４−アジド−１−ナフトアルデヒド１゜０１２ｇ／エタ
ノール１４０ｍ１の溶液を混合し、室温にて４時間攪拌
した。その後、実施例１と同様にして０．５０ ｇの生
成物（ビスアジド化合物−２）を得た（収率３７％）。
元素分析、赤外吸収スペクトル及び電子衝撃質量スペク
トルを測定し、生成物が目的物であることを確認した。
トルを測定し、生成物が目的物であることを確認した。
測定結果は下記の通りである。
元素分析（％） ： Ｃｓ５ＨｓｏＮａ ｏ （５２
６，６５）Ｃ７４，２５Ｈ５，７５Ｎ １５．１３（
計算値：Ｃ１５，２６、Ｈ５，７４、Ｎ１５．９６）赤
外吸収スペクトル（ＫＢｒ） ： ２１００ｃ＋ｍ−
’（Ｎｓ）質量スペクトル： Ｍ／Ｚ −４９８（Ｍ”
−２８）実施例３ （３−（４−アジド−１−ナフチル） −１−（４〜ア
ジドフエニル）−プロパー２−エン−１−オン（ビスア
ジド化合物部３）の製造〕 ０、３８ ｇのカセイソーダ、３−１の水及び１５−１
のエタノールからなる溶液にｏ、 ｓ ｏ ｇの４−ア
ジドアセトフェノン（東洋合成工業■製）を加え、さら
に合成例３で得られた４−アジド−１−ナフトアルデヒ
ド０．９９ｇ／エタノール１４０ａＩｌの溶液を混合し
、室温にて１時間攪拌した。その後、実施例１と同様に
して１．１４３ ｇの生成物（ビスアジド化合物阻３）
を得た（収率７３％）。
６，６５）Ｃ７４，２５Ｈ５，７５Ｎ １５．１３（
計算値：Ｃ１５，２６、Ｈ５，７４、Ｎ１５．９６）赤
外吸収スペクトル（ＫＢｒ） ： ２１００ｃ＋ｍ−
’（Ｎｓ）質量スペクトル： Ｍ／Ｚ −４９８（Ｍ”
−２８）実施例３ （３−（４−アジド−１−ナフチル） −１−（４〜ア
ジドフエニル）−プロパー２−エン−１−オン（ビスア
ジド化合物部３）の製造〕 ０、３８ ｇのカセイソーダ、３−１の水及び１５−１
のエタノールからなる溶液にｏ、 ｓ ｏ ｇの４−ア
ジドアセトフェノン（東洋合成工業■製）を加え、さら
に合成例３で得られた４−アジド−１−ナフトアルデヒ
ド０．９９ｇ／エタノール１４０ａＩｌの溶液を混合し
、室温にて１時間攪拌した。その後、実施例１と同様に
して１．１４３ ｇの生成物（ビスアジド化合物阻３）
を得た（収率７３％）。
元素分析、赤外吸収スペクトル及び電子衝撃質量スペク
トルを測定し、生成物が目的物であることを確認した。
トルを測定し、生成物が目的物であることを確認した。
測定結果は下記の通りである。
元素分析（％）： Ｃ＋ｗＨｔｚＮ＆Ｏ（３４０，３５
）Ｃ６６，７７Ｈ３，４８Ｎ ２４．２０（計算値Ｆ
Ｃ６７，０５、Ｈ３，５６、Ｎ２４．６９）赤外吸収ス
ペクトル（ＫＢｒ） ： ２１００ｃａ−’（Ｎｓ）
質量スペクトル： Ｍ／Ｚ−３４０（Ｍ” ”）実施例
４ 〔３，５−ビス（４−アジド−１−ナフチルメチレン）
−１−メチル−４−ピペリドン（ビスアジド化合物隘４
）の製造〕 ０．３１ｇのカセイソーダ、３ｍｌの水、１５曙１のエ
タノールからなる溶液に０．２８ ｇの１−メチル−４
−とペリトンを加え、さらに合成例３で得られた４−ア
ジド−１−ナツトアルデヒド１．０１３ｇ／エタノール
１５０ｍ１の溶液を混合し、室温にて８時間攪拌した。
）Ｃ６６，７７Ｈ３，４８Ｎ ２４．２０（計算値Ｆ
Ｃ６７，０５、Ｈ３，５６、Ｎ２４．６９）赤外吸収ス
ペクトル（ＫＢｒ） ： ２１００ｃａ−’（Ｎｓ）
質量スペクトル： Ｍ／Ｚ−３４０（Ｍ” ”）実施例
４ 〔３，５−ビス（４−アジド−１−ナフチルメチレン）
−１−メチル−４−ピペリドン（ビスアジド化合物隘４
）の製造〕 ０．３１ｇのカセイソーダ、３ｍｌの水、１５曙１のエ
タノールからなる溶液に０．２８ ｇの１−メチル−４
−とペリトンを加え、さらに合成例３で得られた４−ア
ジド−１−ナツトアルデヒド１．０１３ｇ／エタノール
１５０ｍ１の溶液を混合し、室温にて８時間攪拌した。
その後、実施例１と同様にして０．３８ｇの生成物（ビ
スアジド化合物患４）を得た（収率３２％）。
スアジド化合物患４）を得た（収率３２％）。
元素分析、赤外吸収スペクトル及び電子衝撃質量スペク
トルを測定し、生成物が目的物であることを確認した。
トルを測定し、生成物が目的物であることを確認した。
測定結果は下記の通りである。
元素分析（％） ： ＣｔｓＨ２＋Ｎ−ｒ Ｏ（４７
１，５３）Ｃ７１，００Ｈ４，３８Ｎ ２０．２６（
計算値：Ｃ７１，３２、Ｈ４，４９、Ｎ２０．７９＞赤
外吸収スペクトル（ＫＢｒ） ： ２１００ｃｍ−’
（１１＋）質量スペクトル： Ｍ／Ｚ ＝ ４４３
ＣＭ” −２８）実施例５ 〔１，２−ビス（４−アジド−１−ナフチルメチレン−
イミノ）−エタン（ビスアジド化合物隘５）の製造〕 合成例３で得られた４−アジド−１−ナツトアルデヒド
０．３９４ｇ／エタノール１０翔１の溶液とエチレンジ
アミンヒドラ−）０．０７８ｇ／エタノール５ｍｌの溶
液とを混合し、５０℃にて５時間攪拌した。析出した結
晶を濾過し、熱エタノールで洗浄して、０．３８９ ｇ
の生成物（ビスアジド化合動磁５）を得た（収率９３％
）。
１，５３）Ｃ７１，００Ｈ４，３８Ｎ ２０．２６（
計算値：Ｃ７１，３２、Ｈ４，４９、Ｎ２０．７９＞赤
外吸収スペクトル（ＫＢｒ） ： ２１００ｃｍ−’
（１１＋）質量スペクトル： Ｍ／Ｚ ＝ ４４３
ＣＭ” −２８）実施例５ 〔１，２−ビス（４−アジド−１−ナフチルメチレン−
イミノ）−エタン（ビスアジド化合物隘５）の製造〕 合成例３で得られた４−アジド−１−ナツトアルデヒド
０．３９４ｇ／エタノール１０翔１の溶液とエチレンジ
アミンヒドラ−）０．０７８ｇ／エタノール５ｍｌの溶
液とを混合し、５０℃にて５時間攪拌した。析出した結
晶を濾過し、熱エタノールで洗浄して、０．３８９ ｇ
の生成物（ビスアジド化合動磁５）を得た（収率９３％
）。
元素分析、赤外吸収スペクトル及び電界脱着質量スペク
トルを測定し、生成物が目的物であることを確認した。
トルを測定し、生成物が目的物であることを確認した。
測定結果は下記の通りである。
元素分析（％） ： ＣｔａＨ＋ｓｌ’ｌｓ （４
１８，４６）Ｃ６９，０９Ｈ４，４３Ｎ ２６．４７
（計算値：Ｃ６８，８９、Ｈ４，３４、Ｎ２６．７８＞
赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ） ： ２１００ｃｍ−
’（Ｎｉ）質量スペクトル：Ｍ／Ｚ＝４１８’（Ｍ’）
実施例６ 〔４，４°−ビス（４−アジド−１−ナフチルメチレン
−イミノ）ジフヱニルエーテル（ビスアジド化合物Ｎ１
６）の製造〕 合成例３で得られた４−アジド−１−ナフトアルデヒド
０．３９４ｇ／エタノール１０ｍ１の溶液と４．４゛
−ジアミノジフェニルエーテル０．２００ｇ／エタノー
ル２０＋ｍｌの溶液とを混合し、５０℃にて８時間攪拌
した。析出した結晶を濾過し、熱エタノールで洗浄して
、０．５３３ｇの生成＄５（ビスアジド化合物Ｎ１６）
を得た（収率９５％）。
１８，４６）Ｃ６９，０９Ｈ４，４３Ｎ ２６．４７
（計算値：Ｃ６８，８９、Ｈ４，３４、Ｎ２６．７８＞
赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ） ： ２１００ｃｍ−
’（Ｎｉ）質量スペクトル：Ｍ／Ｚ＝４１８’（Ｍ’）
実施例６ 〔４，４°−ビス（４−アジド−１−ナフチルメチレン
−イミノ）ジフヱニルエーテル（ビスアジド化合物Ｎ１
６）の製造〕 合成例３で得られた４−アジド−１−ナフトアルデヒド
０．３９４ｇ／エタノール１０ｍ１の溶液と４．４゛
−ジアミノジフェニルエーテル０．２００ｇ／エタノー
ル２０＋ｍｌの溶液とを混合し、５０℃にて８時間攪拌
した。析出した結晶を濾過し、熱エタノールで洗浄して
、０．５３３ｇの生成＄５（ビスアジド化合物Ｎ１６）
を得た（収率９５％）。
元素分析、赤外吸収スペクトル及び電界脱着質量スペク
トルを測定し、生成物が目的物であることを確認した。
トルを測定し、生成物が目的物であることを確認した。
測定結果は下記の通りである。
元素分析（％）： Ｃ５ｎＨｚ□Ｎ、 Ｏ（５５８，６
１）Ｃ７２，８４Ｈ３，９４Ｎ １９．８２（計算値
：Ｃ７３，１１、Ｈ３，９７、Ｎ２０．０６）赤外吸収
スペクトル（ＫＢｒ） ： ２１００ｃ１１＋−’（
Ｎ＋）ｆｔ量スペクトルＦ Ｍ／Ｚ＝５５８ （Ｍ”
’）実施例７ 〔３，５−ビス（４−アジド−１−ナフチルメチレン−
イミノ）安息香酸くビスアジド化合物隘７）の製造〕 合成例３で得られた４−アジド−１−ナフトアルデヒド
０．３９４ｇ／メタノール１０ｍ１の？容液と３．５−
ジアミノ安息香酸０．１５２ｇ／メタノール１５１の溶
液とを混合し、７０℃にて１時間攪拌した。析出した結
晶を濾過し、熱エタノールで洗浄して、０．４４０ ｇ
の生成物（ビスアジド化合動磁７）を得た（収率８７％
）。
１）Ｃ７２，８４Ｈ３，９４Ｎ １９．８２（計算値
：Ｃ７３，１１、Ｈ３，９７、Ｎ２０．０６）赤外吸収
スペクトル（ＫＢｒ） ： ２１００ｃ１１＋−’（
Ｎ＋）ｆｔ量スペクトルＦ Ｍ／Ｚ＝５５８ （Ｍ”
’）実施例７ 〔３，５−ビス（４−アジド−１−ナフチルメチレン−
イミノ）安息香酸くビスアジド化合物隘７）の製造〕 合成例３で得られた４−アジド−１−ナフトアルデヒド
０．３９４ｇ／メタノール１０ｍ１の？容液と３．５−
ジアミノ安息香酸０．１５２ｇ／メタノール１５１の溶
液とを混合し、７０℃にて１時間攪拌した。析出した結
晶を濾過し、熱エタノールで洗浄して、０．４４０ ｇ
の生成物（ビスアジド化合動磁７）を得た（収率８７％
）。
元素分析、赤外吸収スペクトル及び電界脱着質量スペク
トルを測定し、生成物が目的物であることを確認した。
トルを測定し、生成物が目的物であることを確認した。
測定結果は下記の通りである。
元素分析（％） ： ＣｚｑＨ＋＋＋Ｏｔ Ｎｓ
（５１０，５２）Ｃ６７，１Ｌ Ｈ３，４８Ｎ
２１．４６（計算値： Ｃ６８，２３、Ｈ３，５５、Ｎ
２１．９５）赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ） ： ２
１００ｃｍ−’（Ｎｉ）質量スペクトル： Ｍ／Ｚ−５
１０（Ｍ”″）実施例８ 〔１，４−ビス（４−アジド−１−ナフチルメチレン−
イミノ）ベンゼン（ビスアジド化合動磁８）の製造〕 合成例３で得られた４−アジド−１−ナフトアルデヒド
０．３９４ｇ／エタノール１（１＋Ｉのｔ容液とパラフ
ェニレンジアミン０．１０８ｇ／エタノール５ｍｌの溶
液とを混合し、５０℃にて５時間撹拌した。析出した結
晶を濾過し、熱エタノールで洗浄して、０．４ ’３０
ｇの生成物（ビスアジド化合物阻８）を得た（収率９
２％）。
（５１０，５２）Ｃ６７，１Ｌ Ｈ３，４８Ｎ
２１．４６（計算値： Ｃ６８，２３、Ｈ３，５５、Ｎ
２１．９５）赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ） ： ２
１００ｃｍ−’（Ｎｉ）質量スペクトル： Ｍ／Ｚ−５
１０（Ｍ”″）実施例８ 〔１，４−ビス（４−アジド−１−ナフチルメチレン−
イミノ）ベンゼン（ビスアジド化合動磁８）の製造〕 合成例３で得られた４−アジド−１−ナフトアルデヒド
０．３９４ｇ／エタノール１（１＋Ｉのｔ容液とパラフ
ェニレンジアミン０．１０８ｇ／エタノール５ｍｌの溶
液とを混合し、５０℃にて５時間撹拌した。析出した結
晶を濾過し、熱エタノールで洗浄して、０．４ ’３０
ｇの生成物（ビスアジド化合物阻８）を得た（収率９
２％）。
元素分析、赤外吸収スペクトル及び電界脱着質量スペク
トルを測定し、生成物が目的物であることをｉ認した。
トルを測定し、生成物が目的物であることをｉ認した。
測定結果は下記の通りである。
元素分析（％）： Ｃｔ＊Ｈ＋ｍＮｗ （４６６，５
１）Ｃ７２，０３Ｈ３，８９Ｎ ２３．８５（計算値
：Ｃ７２，０９、Ｈ３，８９、Ｎ２４．０２）赤外吸収
スペクトル（ＫＢｒ） ： ２１００ｃｍ−’（Ｎｓ
）質量スペクトル二Ｍ／Ｚ−４６６（Ｍ” ）実施例９ 〔２，５ビス（４−アジド−１−ナフチルメチレン−イ
ミノ）トルエン（ビスアジド化合動磁９）の製造〕 合成例３で得られた４−アジド−１−ナフトア！レデヒ
ド１．０２０ｇ／エタノール３０懺ｌの溶液と２．５−
ジアミノトルエン塩酸塩０．５２６ｇ１０゜ＩＮ−ＫＣ
）Ｈ−エタノール５５ｇ＋１の溶液とを混合し、４５℃
にて３時間攪拌した。析出した結晶を濾過し、水洗、エ
タノールで洗浄して、１．１４０ｇの生成物（ビスアジ
ド化合動磁９）を得た（収率９７％）。
１）Ｃ７２，０３Ｈ３，８９Ｎ ２３．８５（計算値
：Ｃ７２，０９、Ｈ３，８９、Ｎ２４．０２）赤外吸収
スペクトル（ＫＢｒ） ： ２１００ｃｍ−’（Ｎｓ
）質量スペクトル二Ｍ／Ｚ−４６６（Ｍ” ）実施例９ 〔２，５ビス（４−アジド−１−ナフチルメチレン−イ
ミノ）トルエン（ビスアジド化合動磁９）の製造〕 合成例３で得られた４−アジド−１−ナフトア！レデヒ
ド１．０２０ｇ／エタノール３０懺ｌの溶液と２．５−
ジアミノトルエン塩酸塩０．５２６ｇ１０゜ＩＮ−ＫＣ
）Ｈ−エタノール５５ｇ＋１の溶液とを混合し、４５℃
にて３時間攪拌した。析出した結晶を濾過し、水洗、エ
タノールで洗浄して、１．１４０ｇの生成物（ビスアジ
ド化合動磁９）を得た（収率９７％）。
元素分析、赤外吸収スペクトル及び電界脱着質量スペク
トルを測定し、生成物が目的物であることを確認した。
トルを測定し、生成物が目的物であることを確認した。
測定結果は下記の通りである。
元素分析（％’）：Ｃ１ＱＨ１ＯＮ＠ （４８０，５
３）Ｃ７２，４５Ｈ４，１５Ｎ ２２．９５（計算（
ｆｉ ： Ｃ７２，４９、Ｈ４，２０、Ｎ２３．３２）
赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ） ： ２１０５Ｃ１１
−’（Ｎ３）質量スペクトル：Ｍ／Ｚ−４８０（Ｍ’）
次に、上記実施例１〜９で得られたビスアジド化合物阻
１〜９のＵＶ測定結果を下記表−１に示す（溶媒：Ｎ−
メチルピロリドン）。
３）Ｃ７２，４５Ｈ４，１５Ｎ ２２．９５（計算（
ｆｉ ： Ｃ７２，４９、Ｈ４，２０、Ｎ２３．３２）
赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ） ： ２１０５Ｃ１１
−’（Ｎ３）質量スペクトル：Ｍ／Ｚ−４８０（Ｍ’）
次に、上記実施例１〜９で得られたビスアジド化合物阻
１〜９のＵＶ測定結果を下記表−１に示す（溶媒：Ｎ−
メチルピロリドン）。
表−１
化合物 最大吸収 モル吸光係数（Ｘ １０”）阻
λｗａｘ ｇ ｗａｘ εｆｉｇｓ ｔ ４６
％ ε４１１ ３Ｂ２ ２Ｂ、３ ２５．２
２３．８ ７．９２ ３８２ ２６．０
２４．１ ２１．３ ７．１３ ３８５ ２３
．１ １９．４ １９．０ ３．４４ ３８８
２７．８ ２２．８ ２５．５ ９．３５
３３９ ３２．７ ７．９ ０．４９ ０．
４３６ ３７２ ４８．０ ４６．１ ２６．
１ １．９７ ３６２ ４０．４ ４０．３
１６．？ １．６８ ４０１ ４１．４
２６．５ ４１．１ ２２．９９ ４０３
３Ｂ、８ ２５．６ ３８．７ ２３．５市版品”
３５８ ４３．０ ４１．３ ５．８ ０．
５２＊東洋合成工業■製ＢＡＣ−Ｍ： Ｈ３ 使用例Ｉ Ｎ−メチル−２−ピロリドン３４．０ｍｌに２．３゜３
°、４° −ビフェニルテトラカルボン酸二無水物５．
６９ｇ、３．５−ジアミノベンジルメタアクリレート２
．６６ ｇ及び４，４゛ −ジアミノジフェニルエーテ
ル１．１６ｇを加え、２０℃で２４時間攪拌して反応さ
せ、ポリアミック酸を得た。このポリアミック酸にＮ−
メチル−２−ピロリドン１１９ｍ１を加え希釈した後、
無水酢酸３５ｇ及びピリジン１３．５ｇを加え、３０℃
で４時間反応させポリイミド化物を得た。このポリイミ
ド化物にメタノールを加えポリイミドを析出し、白色の
ポリイミド粉末（０，５ｇ／ｄ！ＮＭＰの３０℃での対
数粘度０．５２）を得た。
λｗａｘ ｇ ｗａｘ εｆｉｇｓ ｔ ４６
％ ε４１１ ３Ｂ２ ２Ｂ、３ ２５．２
２３．８ ７．９２ ３８２ ２６．０
２４．１ ２１．３ ７．１３ ３８５ ２３
．１ １９．４ １９．０ ３．４４ ３８８
２７．８ ２２．８ ２５．５ ９．３５
３３９ ３２．７ ７．９ ０．４９ ０．
４３６ ３７２ ４８．０ ４６．１ ２６．
１ １．９７ ３６２ ４０．４ ４０．３
１６．？ １．６８ ４０１ ４１．４
２６．５ ４１．１ ２２．９９ ４０３
３Ｂ、８ ２５．６ ３８．７ ２３．５市版品”
３５８ ４３．０ ４１．３ ５．８ ０．
５２＊東洋合成工業■製ＢＡＣ−Ｍ： Ｈ３ 使用例Ｉ Ｎ−メチル−２−ピロリドン３４．０ｍｌに２．３゜３
°、４° −ビフェニルテトラカルボン酸二無水物５．
６９ｇ、３．５−ジアミノベンジルメタアクリレート２
．６６ ｇ及び４，４゛ −ジアミノジフェニルエーテ
ル１．１６ｇを加え、２０℃で２４時間攪拌して反応さ
せ、ポリアミック酸を得た。このポリアミック酸にＮ−
メチル−２−ピロリドン１１９ｍ１を加え希釈した後、
無水酢酸３５ｇ及びピリジン１３．５ｇを加え、３０℃
で４時間反応させポリイミド化物を得た。このポリイミ
ド化物にメタノールを加えポリイミドを析出し、白色の
ポリイミド粉末（０，５ｇ／ｄ！ＮＭＰの３０℃での対
数粘度０．５２）を得た。
得られたポリイミド粉末２ｇｔ−Ｎ−メチル−２−ピロ
リドン１０ｍ１に溶解し、その溶液に実施例７で得られ
た３、５−ビス（４−アジド−１−ナフチルメチレンイ
ミノ）安息香酸（ビスアジド化合物患？）０．１．５ｇ
を加えて溶解させ、感光性重合体組成物の溶液を得た。
リドン１０ｍ１に溶解し、その溶液に実施例７で得られ
た３、５−ビス（４−アジド−１−ナフチルメチレンイ
ミノ）安息香酸（ビスアジド化合物患？）０．１．５ｇ
を加えて溶解させ、感光性重合体組成物の溶液を得た。
この溶液をスピンナーでガラス表面に塗布し、７０℃で
３０分間乾燥して厚さ３．５μｍの塗膜を得た。得られ
た塗膜を１０μｍのラインアンドスペースの縞模様のホ
トマスクで密着被覆し、５００Ｗ高圧水銀灯で２０秒間
紫外線照射した。露光後、Ｎ−メチル−２−ピロリドン
／エタノール（４／１容）からなる溶液で３分間現像し
、次いでエタノールでリンスし、パターンを得た。この
パターンを１６０℃で３０分間、続いて２３０℃で３０
分間熱処理し、鮮明なポリイミドのパターンを得た。
３０分間乾燥して厚さ３．５μｍの塗膜を得た。得られ
た塗膜を１０μｍのラインアンドスペースの縞模様のホ
トマスクで密着被覆し、５００Ｗ高圧水銀灯で２０秒間
紫外線照射した。露光後、Ｎ−メチル−２−ピロリドン
／エタノール（４／１容）からなる溶液で３分間現像し
、次いでエタノールでリンスし、パターンを得た。この
パターンを１６０℃で３０分間、続いて２３０℃で３０
分間熱処理し、鮮明なポリイミドのパターンを得た。
比較例１
３．５−ビス（４−アジド−１−ナフチルメチレンイミ
ノ）安息香酸の代わりに２，６−ビス（４−アジドベン
ジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン（東洋合成工
業■製）を使用した以外は使用例１と同様に実施したが
、鮮明なパターンを得ることはできなかった。
ノ）安息香酸の代わりに２，６−ビス（４−アジドベン
ジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン（東洋合成工
業■製）を使用した以外は使用例１と同様に実施したが
、鮮明なパターンを得ることはできなかった。
本発明のビスアジド化合物は、長波長領域に高い感度を
有する新規な化合物で、ホトレジスト用の微細パターン
の形成材料等として好適なものである。
有する新規な化合物で、ホトレジスト用の微細パターン
の形成材料等として好適なものである。
また、本発明の感光性重合体組成物によれば、ホトレジ
スト用の鮮明な微細パターンを形成することができる。
スト用の鮮明な微細パターンを形成することができる。
Claims (2)
- （１）４−アジド−１−ナフトアルデヒドとケトン類又
はジアミン類との縮合反応で得られる、ビスアジド化合
物。 - （２）重合体に、４−アジド−１−ナフトアルデヒドと
ケトン類又はジアミン類との縮合反応で得られるビスア
ジド化合物を添加してなる、感光性重合体組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62267413A JPH0774310B2 (ja) | 1987-10-23 | 1987-10-23 | ビスアジド化合物及びそれを含有する感光性重合体組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62267413A JPH0774310B2 (ja) | 1987-10-23 | 1987-10-23 | ビスアジド化合物及びそれを含有する感光性重合体組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01110564A true JPH01110564A (ja) | 1989-04-27 |
| JPH0774310B2 JPH0774310B2 (ja) | 1995-08-09 |
Family
ID=17444503
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62267413A Expired - Fee Related JPH0774310B2 (ja) | 1987-10-23 | 1987-10-23 | ビスアジド化合物及びそれを含有する感光性重合体組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0774310B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60114857A (ja) * | 1983-11-28 | 1985-06-21 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 乾式現像用感光性組成物 |
-
1987
- 1987-10-23 JP JP62267413A patent/JPH0774310B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60114857A (ja) * | 1983-11-28 | 1985-06-21 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 乾式現像用感光性組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0774310B2 (ja) | 1995-08-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI254833B (en) | Positive type photosensitive polyimide resin composition | |
| WO1992015045A1 (fr) | Composition polymere photosensible et formation de motifs en relief | |
| TW201009502A (en) | Positive photosensitive resin composition, method of forming pattern and semiconductor device | |
| TWI226353B (en) | Positive photosensitive resin precursor composition | |
| JP2878654B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JPH1039510A (ja) | ネガ型フォトレジスト組成物及びその利用 | |
| JPH01110564A (ja) | ビスアジド化合物及びそれを含有する感光性重合体組成物 | |
| JPS6042425A (ja) | 化学線感応性重合体組成物 | |
| JPH0526187B2 (ja) | ||
| JPH01110566A (ja) | ビスアジド化合物及びそれを含有する感光性重合体組成物 | |
| JPH11228534A (ja) | オキシカルボニルメチル基を有する新規なスルホニウム塩化合物 | |
| JP3093055B2 (ja) | 耐熱性ネガ型フォトレジスト組成物および感光性基材、ならびにネガ型パターン形成方法 | |
| JPH0531132B2 (ja) | ||
| JPS5867702A (ja) | 光不溶化性ポリビニルアルコ−ル誘導体の製造方法 | |
| KR101749874B1 (ko) | 감광성 수지 조성물, 그의 릴리프 패턴막, 릴리프 패턴막의 제조 방법, 릴리프 패턴막을 포함하는 전자 부품 또는 광학 제품, 및 감광성 수지 조성물을 포함하는 접착제 | |
| JPH0721629B2 (ja) | ホトレジスト用感光剤 | |
| JP2003201411A (ja) | スルホンアミド化合物およびその製造方法 | |
| JPH0518866B2 (ja) | ||
| JP2002501485A (ja) | 感光性キノロン化合物及び製造方法 | |
| JP2002167367A (ja) | アミノ基含有フェノール誘導体 | |
| SU613590A1 (ru) | Производные 4,4-диазидостильбен-2,2-дисульфокислоты в качестве фотосшивающих агентов | |
| JPH0151171B2 (ja) | ||
| EP0113314A1 (de) | In Gegenwart von Sensibilisatoren unter Lichteinwirkung vernetzbare Stoffgemische | |
| JPH01113354A (ja) | ４−アジド−１−ナフトアルデヒド | |
| JPS59212834A (ja) | 感光性耐熱材料 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |