JPH01118833A - 光重合可能の記録材料ならびにこの記録材料を主体とするフォトレジスト層及び平版印刷版体 - Google Patents
光重合可能の記録材料ならびにこの記録材料を主体とするフォトレジスト層及び平版印刷版体Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
本発明は少なくとも１種類の光重合可能のオレフィン系
不飽和有機化合物、場合により重合体結合剤、光重合開
始剤、色形成剤と光酸化剤から成る色形成剤組成物、な
らびに増感剤を含有する光重合可能の記録材料に関する
ものである。このような記録材料はフォトレジスト層及
び平版印刷版体製造のために有用である。
不飽和有機化合物、場合により重合体結合剤、光重合開
始剤、色形成剤と光酸化剤から成る色形成剤組成物、な
らびに増感剤を含有する光重合可能の記録材料に関する
ものである。このような記録材料はフォトレジスト層及
び平版印刷版体製造のために有用である。
（従来技術）
上述の使用目的のための光重合性記録材料はそれ自体公
知である。これは一般に光重合可能のオレフィン系不飽
和有機化合物、重合体結合剤ならびに光重合開始剤のほ
かに、化学線照射により照射領域において変色をもたら
す色形成剤組成物を含有する。この変色は画像形成露光
後の記録材料の視覚判定及び調整のために極めて重要で
ある。
知である。これは一般に光重合可能のオレフィン系不飽
和有機化合物、重合体結合剤ならびに光重合開始剤のほ
かに、化学線照射により照射領域において変色をもたら
す色形成剤組成物を含有する。この変色は画像形成露光
後の記録材料の視覚判定及び調整のために極めて重要で
ある。
例えばフォトレジスト層によりプリント回路板乃至集積
回路を製造する場合に１画像形成露光後、フォトレジス
ト層非露光領域の除去、すなわち現像前に１ネガチプが
正しく転写されたか否かを判断することが必要である。
回路を製造する場合に１画像形成露光後、フォトレジス
ト層非露光領域の除去、すなわち現像前に１ネガチプが
正しく転写されたか否かを判断することが必要である。
また光重合性記録材料から成る層を画像形成露光する際
の変色は、露光層現像により得られた画像の調整を可能
ならしめ、これＫより現像による層上画像部分の、場合
によりもたらされる剥離が容易Ｋかつ確実ＦＣ確認され
得る。できるだけ良好な露光層の視覚的判断を可能なら
しめるために色形成剤組成物は露光に際してなるべく強
い色のコントラストをもたらし色形成により黄色光で観
察してなるべく暗い画像が得られるよう釦なされる。更
に色形成剤組成物は貯蔵安定性が良好でありて、光重合
性記録材料が製造と使用の間の時間経過により好ましく
ない濃色化をもたらさないようにする必要がある。
の変色は、露光層現像により得られた画像の調整を可能
ならしめ、これＫより現像による層上画像部分の、場合
によりもたらされる剥離が容易Ｋかつ確実ＦＣ確認され
得る。できるだけ良好な露光層の視覚的判断を可能なら
しめるために色形成剤組成物は露光に際してなるべく強
い色のコントラストをもたらし色形成により黄色光で観
察してなるべく暗い画像が得られるよう釦なされる。更
に色形成剤組成物は貯蔵安定性が良好でありて、光重合
性記録材料が製造と使用の間の時間経過により好ましく
ない濃色化をもたらさないようにする必要がある。
発色系（ないし光彩成剤組成物）は一般に無色の又は僅
かＫＭ色した色素前駆体（発色体）と化学線照射の際に
色素前駆体を着色した化合物に変化させる活性化剤とか
らなる。発色体としてはとくにロイコ色素、僅かに着色
した遊離塩基又は色素のラクトン形が問題になる。発色
体用活性化剤としては通常は光酸化剤が用いられ、この
ため釦は、化学線照射の際にハロゲン基を遊離させる有
機ハロゲン化合物がとくに記述されている。この関係に
おいてたとえばＤＥ−Ａ−２３０６３５３、ＤＢ−Ａ−
２７１８２００、ＥＰ −Ｂ −２８０５、Ｆｉｒ −
Ｂ −５３７９ならびにａ −Ａ −８０１０１８４６
を指摘しておく。またすでＫ（たとえばＤｏＳ−３４３
３０２６）アジド化合物、２−アジドベンズイミダゾー
ル、ベンゾイルアジドなど及び２−アジドベンズイミダ
ゾール（ＵＳ −Ａ −３２８２６９３）、トリアゾー
ル及び複素環式ケトイミド（ＧＢ １０３０８８７ ）
ならびにヘキサアリールビスイミダゾール（ＤＥ −Ａ
−１９２４３１７及びＥＰ −Ｂ−１９２１９参照）を
光酸化剤として用いることが提案されている。ｉ＆後に
列挙した型の光酸化剤をとくに含んでいろ公知の光重合
性記録材料のうち若干のものはそのほかＦＣ！ｆ！−変
向上及び光反応改良のためになお増感剤たとえば芳香族
カルボニル化合物たとえばミヒラー・ケトンなどの第三
アミンを含んでいる。
かＫＭ色した色素前駆体（発色体）と化学線照射の際に
色素前駆体を着色した化合物に変化させる活性化剤とか
らなる。発色体としてはとくにロイコ色素、僅かに着色
した遊離塩基又は色素のラクトン形が問題になる。発色
体用活性化剤としては通常は光酸化剤が用いられ、この
ため釦は、化学線照射の際にハロゲン基を遊離させる有
機ハロゲン化合物がとくに記述されている。この関係に
おいてたとえばＤＥ−Ａ−２３０６３５３、ＤＢ−Ａ−
２７１８２００、ＥＰ −Ｂ −２８０５、Ｆｉｒ −
Ｂ −５３７９ならびにａ −Ａ −８０１０１８４６
を指摘しておく。またすでＫ（たとえばＤｏＳ−３４３
３０２６）アジド化合物、２−アジドベンズイミダゾー
ル、ベンゾイルアジドなど及び２−アジドベンズイミダ
ゾール（ＵＳ −Ａ −３２８２６９３）、トリアゾー
ル及び複素環式ケトイミド（ＧＢ １０３０８８７ ）
ならびにヘキサアリールビスイミダゾール（ＤＥ −Ａ
−１９２４３１７及びＥＰ −Ｂ−１９２１９参照）を
光酸化剤として用いることが提案されている。ｉ＆後に
列挙した型の光酸化剤をとくに含んでいろ公知の光重合
性記録材料のうち若干のものはそのほかＦＣ！ｆ！−変
向上及び光反応改良のためになお増感剤たとえば芳香族
カルボニル化合物たとえばミヒラー・ケトンなどの第三
アミンを含んでいる。
公知の光重合性記録材料に用いられる発光系は画像に従
ってこの材料を化学線をもりて露光させる際しばしば僅
かな色転換のみを、また露光した及び露光してない範囲
の間で不満足なコントラストのみを示すにすぎない。ま
た従来光重合性記録材料に用いられている発色系の貯蔵
安定性もたびたび不満足であり暗所に貯蔵した場合でさ
え暗色化が観察できるほどである。発色体用の活性化剤
として有機ハ；ゲン化合物を含んでいる発色系はさらに
光重合性記録材料の加工範囲にマイナスに影響する。そ
れでこれら記録材料製の７オトレジス層はたとえば画像
に従っての露光及び現像の後に、たとえば印刷配線及び
プリント回路の製造の際に必要な金層製基層から完全釦
は取除きできないで、大なり小なり強く形成された残層
が基層上に残りこれが製品の以後の加工に妨げとなる。
ってこの材料を化学線をもりて露光させる際しばしば僅
かな色転換のみを、また露光した及び露光してない範囲
の間で不満足なコントラストのみを示すにすぎない。ま
た従来光重合性記録材料に用いられている発色系の貯蔵
安定性もたびたび不満足であり暗所に貯蔵した場合でさ
え暗色化が観察できるほどである。発色体用の活性化剤
として有機ハ；ゲン化合物を含んでいる発色系はさらに
光重合性記録材料の加工範囲にマイナスに影響する。そ
れでこれら記録材料製の７オトレジス層はたとえば画像
に従っての露光及び現像の後に、たとえば印刷配線及び
プリント回路の製造の際に必要な金層製基層から完全釦
は取除きできないで、大なり小なり強く形成された残層
が基層上に残りこれが製品の以後の加工に妨げとなる。
さらにまたハロゲン含有が金属製基層上の腐食現象へ導
くことがある。さら忙また用いられているヘキサアリー
ルビスイミダゾールが、光重合性記録材料の化学線照射
の際に光重合も光酸化も同様に開始させ、金のかかる方
法でのみ製造でき、長波長吸収最大の位置の理由から特
殊光源の使用のみを可能とする。そのほかここでは光重
合性記録材料中の光重合−及び光酸化挙動が、他の助剤
の使用なしには互いに独立に変更できない。それゆえ今
話厘となっている種類の光重合性記録材料中に用いるた
め、その他の改良された発色系の需要が存在している。
くことがある。さら忙また用いられているヘキサアリー
ルビスイミダゾールが、光重合性記録材料の化学線照射
の際に光重合も光酸化も同様に開始させ、金のかかる方
法でのみ製造でき、長波長吸収最大の位置の理由から特
殊光源の使用のみを可能とする。そのほかここでは光重
合性記録材料中の光重合−及び光酸化挙動が、他の助剤
の使用なしには互いに独立に変更できない。それゆえ今
話厘となっている種類の光重合性記録材料中に用いるた
め、その他の改良された発色系の需要が存在している。
層状担体上に塗布した発色系はＤＢ −Ａ −２０４６
０１８に記載しである。この光重合性ではない写真記録
材料は着色両像を作るのに役立つ。その発色系は酸化で
着色した形に変えられ得る無色の又は実質上無色の発色
体ならびに光酸化剤としてアシルオキシ−又はアルコキ
シ−残基による置換のある環内窒素原子のある複素環式
化合物からなる。発色体としてはロイコ色素及びその誘
導体が記述しである。光酸化剤としてはとくに、置換の
あるＮ−アルコキシ−乃至Ｎ−アシルオキシ−ピリジニ
ウム塩があげである。ピリジニウム残基中の置換基によ
り活性化剤の長波長吸収最大がその都度用いられる線源
Ｋａ合させられるすなわちロイコ色素用の光酸化剤（活
性化剤）として用いられるピリジニウム塩は４００ ｎ
ｍを超える波長の化学線を優先的Ｋｇ＆収する。ＤＯ８
３４３３０２６には発色体−系として同じく特殊なロイ
コ色素を含むアルコキシピリジニウム塩が記述しである
。Ｎ−アルコキシピリジニウム塩も光重合開始剤として
単独で（ＤＯ８−１９５０７４６、ＤＯ８−１９５０７
４９、ＵＳ −Ｒｅ −２７９２５又はＵＳ −Ｐ −
３５７４６２２参照）又は波長＞４００ ｎｍの化学線
用増感剤としてのナトクマリンと組合せて特許請求され
ている（ ＤＯ８３１３５３９９参照）。従りて技術の
水準上しては、Ｎ−アルコキシ−ピリジニウム塩が単独
で光酸化剤又は光重合開始剤として作用しかつケトクマ
リンによって増感され得ることが明かとなる。技術の水
準に従って要求される重合度の達成のために必要な露光
時間は上記の開始剤系の場合、工業的に用いられている
重合開始剤、ミヒラー・ケトン／ベンゾフェノンを用い
て達成される時間と本質的に変りがない。ＤＥ−Ａ −
２０４６０１８記載の写真記録材料は化学線照射の際に
比較的低い急転換を示すにすぎず乃至露光した及び露光
してない範囲の間のより強いコントラスト達成のためＫ
は、光重合性記録材料にとりて許容できるものより著し
く長い露光時間な必要とする。
０１８に記載しである。この光重合性ではない写真記録
材料は着色両像を作るのに役立つ。その発色系は酸化で
着色した形に変えられ得る無色の又は実質上無色の発色
体ならびに光酸化剤としてアシルオキシ−又はアルコキ
シ−残基による置換のある環内窒素原子のある複素環式
化合物からなる。発色体としてはロイコ色素及びその誘
導体が記述しである。光酸化剤としてはとくに、置換の
あるＮ−アルコキシ−乃至Ｎ−アシルオキシ−ピリジニ
ウム塩があげである。ピリジニウム残基中の置換基によ
り活性化剤の長波長吸収最大がその都度用いられる線源
Ｋａ合させられるすなわちロイコ色素用の光酸化剤（活
性化剤）として用いられるピリジニウム塩は４００ ｎ
ｍを超える波長の化学線を優先的Ｋｇ＆収する。ＤＯ８
３４３３０２６には発色体−系として同じく特殊なロイ
コ色素を含むアルコキシピリジニウム塩が記述しである
。Ｎ−アルコキシピリジニウム塩も光重合開始剤として
単独で（ＤＯ８−１９５０７４６、ＤＯ８−１９５０７
４９、ＵＳ −Ｒｅ −２７９２５又はＵＳ −Ｐ −
３５７４６２２参照）又は波長＞４００ ｎｍの化学線
用増感剤としてのナトクマリンと組合せて特許請求され
ている（ ＤＯ８３１３５３９９参照）。従りて技術の
水準上しては、Ｎ−アルコキシ−ピリジニウム塩が単独
で光酸化剤又は光重合開始剤として作用しかつケトクマ
リンによって増感され得ることが明かとなる。技術の水
準に従って要求される重合度の達成のために必要な露光
時間は上記の開始剤系の場合、工業的に用いられている
重合開始剤、ミヒラー・ケトン／ベンゾフェノンを用い
て達成される時間と本質的に変りがない。ＤＥ−Ａ −
２０４６０１８記載の写真記録材料は化学線照射の際に
比較的低い急転換を示すにすぎず乃至露光した及び露光
してない範囲の間のより強いコントラスト達成のためＫ
は、光重合性記録材料にとりて許容できるものより著し
く長い露光時間な必要とする。
従りて、この分野の技術的課題は、これまで公知の記録
材料の欠点を克服できる、すなわち、光重合性記録材料
に必要とされる比較的短い化合線露光時間で、露光領域
と非露光領域との間の尖鋭、強烈なコントラストをもた
らし、良好な貯蔵性を有し、金属基板に残留層を残さな
い。良好な色形成剤組成物を含有する光重合性記録材料
を簡単かつ容易に提供することである。
材料の欠点を克服できる、すなわち、光重合性記録材料
に必要とされる比較的短い化合線露光時間で、露光領域
と非露光領域との間の尖鋭、強烈なコントラストをもた
らし、良好な貯蔵性を有し、金属基板に残留層を残さな
い。良好な色形成剤組成物を含有する光重合性記録材料
を簡単かつ容易に提供することである。
（発明の要約）
意外なことに１この課題は特殊な光酸化剤を用いてより
良く解決されることが見出だされた。
良く解決されることが見出だされた。
本発明の対象は、少なくとも１種の光重合性オレフィン
系不飽和有機化合物、場合によつては１種のポリマー結
合剤、少なくとも１種の光重合開始剤、化学線照射の際
に記録材料の発色度増大を引き起こす色形成剤組成物、
１種の増感剤ならびに場合によつてはその他の添加物及
び助剤を含んでいる光重合性記録材料でありて色形成剤
組成物として （ａ）少なくとも１種の無色の又は実質上無色の、酸化
により着色化合物となり得る有機化合物及び （ｂ）無色又は実質上無色の有機化合物（ａ）のための
光酸化剤 を含んでいるものにおいて、光酸化剤（ｂ）として１種
の、場合によつては置換のある複素芳香族系を伴なう１
種の有機塩を含んでおり、その複素芳香族系には一般式
（１） ÷ ０几 （式中Ｒは場合によっては置換のあるアル中ルー、アル
キニル−、ヘタリール−、アルケニルカルボニル−、ア
ルキンカルボニル−、アルコキシカルボニル−、カルバ
モイル−、アルキルスルホニル−、アリールスルホニル
アミノスルフィニル−残基又は置換のあるシクロアルキ
ル残基ならびに場合によっては置換のあるヘタリールカ
チオンを表わす）の基少なくとも１個が組みこまれてお
り、この塩の長波長吸収帯の最大は４ＱＱ ｎｍより小
さいことを条件とすることを特徴とする光重合性記録材
料である。
系不飽和有機化合物、場合によつては１種のポリマー結
合剤、少なくとも１種の光重合開始剤、化学線照射の際
に記録材料の発色度増大を引き起こす色形成剤組成物、
１種の増感剤ならびに場合によつてはその他の添加物及
び助剤を含んでいる光重合性記録材料でありて色形成剤
組成物として （ａ）少なくとも１種の無色の又は実質上無色の、酸化
により着色化合物となり得る有機化合物及び （ｂ）無色又は実質上無色の有機化合物（ａ）のための
光酸化剤 を含んでいるものにおいて、光酸化剤（ｂ）として１種
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（１） ÷ ０几 （式中Ｒは場合によっては置換のあるアル中ルー、アル
キニル−、ヘタリール−、アルケニルカルボニル−、ア
ルキンカルボニル−、アルコキシカルボニル−、カルバ
モイル−、アルキルスルホニル−、アリールスルホニル
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ル残基ならびに場合によっては置換のあるヘタリールカ
チオンを表わす）の基少なくとも１個が組みこまれてお
り、この塩の長波長吸収帯の最大は４ＱＱ ｎｍより小
さいことを条件とすることを特徴とする光重合性記録材
料である。
更に、ことに一般式（ＩＩ）
九′
（式中Ｒ２及び几５は同じであり或は異なるものであっ
てよく、１乃至６個の炭素原子を持つ、場合によつては
置換されたアルキル基、フェニル基或はアルアルキル基
を意味し、合体して芳香族性を有しない環を成すことも
できる。Ｒ４は水素或はアルキル基を意味し、Ｘは場合
によつては置換されたベンゾイル基或は場合によつては
置換されたヘテロ芳香族環組成物を意味しｎは０，１或
は２である）ｋより表わされる化合物を増感剤として用
いる記録材料も不発明の対象をなす。本発明による、光
重合可能の記録材料の色形成剤組成物に含有される光酸
化剤（ｂ）として上述の方法で得られる有機塩が挙げら
れる。この１塩′は分子内塩を、部ち陰イオン及び陽イ
オン性原子団が互いに共有結合で結合しているイオン化
合物をも含む。この種の塩であって上述の一般式（１）
で表わされる原子団を一つ以上含有するヘテロ芳香族環
組成物として特に１．２或は３個の窒素原子を有する６
員環ヘテロ芳香族環、その核置換誘導体、アネラート代
表物が有利である。これらのへテロ芳香族性組成物の核
置換体を例示すれば以下の通りである。
てよく、１乃至６個の炭素原子を持つ、場合によつては
置換されたアルキル基、フェニル基或はアルアルキル基
を意味し、合体して芳香族性を有しない環を成すことも
できる。Ｒ４は水素或はアルキル基を意味し、Ｘは場合
によつては置換されたベンゾイル基或は場合によつては
置換されたヘテロ芳香族環組成物を意味しｎは０，１或
は２である）ｋより表わされる化合物を増感剤として用
いる記録材料も不発明の対象をなす。本発明による、光
重合可能の記録材料の色形成剤組成物に含有される光酸
化剤（ｂ）として上述の方法で得られる有機塩が挙げら
れる。この１塩′は分子内塩を、部ち陰イオン及び陽イ
オン性原子団が互いに共有結合で結合しているイオン化
合物をも含む。この種の塩であって上述の一般式（１）
で表わされる原子団を一つ以上含有するヘテロ芳香族環
組成物として特に１．２或は３個の窒素原子を有する６
員環ヘテロ芳香族環、その核置換誘導体、アネラート代
表物が有利である。これらのへテロ芳香族性組成物の核
置換体を例示すれば以下の通りである。
すなわち、メチル、エチル、プロピル及びｎ−ブチルの
ような、ことに１乃至６個の炭素原子を有する、アルキ
ル基、ハロゲンにより置換された１乃至６個の炭素原子
を有するアルキル残基、アルアルキル残基、特にベンジ
ル残基のような置換アルキル基、陰イオン性原子団によ
り置換されたアルキル残基、例えば、アルキリデンスル
ホナート残基、水酸基、アミド及びカルボキシル基、ビ
ニル及ヒスチリル基、フェニル、置換フェニル、ハロゲ
ン原子、好ましくは塩素、ニトロ基、好ましくは１乃至
６個の炭素原子を有する、例えばメトキシのようなアル
キリデン、ホルミル残基、ジアルキルアミノ−、ジアリ
ールアミノ−、アルキルチオ−ならびにアリールチオ残
基及びその他。
ような、ことに１乃至６個の炭素原子を有する、アルキ
ル基、ハロゲンにより置換された１乃至６個の炭素原子
を有するアルキル残基、アルアルキル残基、特にベンジ
ル残基のような置換アルキル基、陰イオン性原子団によ
り置換されたアルキル残基、例えば、アルキリデンスル
ホナート残基、水酸基、アミド及びカルボキシル基、ビ
ニル及ヒスチリル基、フェニル、置換フェニル、ハロゲ
ン原子、好ましくは塩素、ニトロ基、好ましくは１乃至
６個の炭素原子を有する、例えばメトキシのようなアル
キリデン、ホルミル残基、ジアルキルアミノ−、ジアリ
ールアミノ−、アルキルチオ−ならびにアリールチオ残
基及びその他。
上述の一般式（１）の原子団の残基Ｒを例示すれば、場
合によっては置換された、例えばシクロヘキシル及び２
−ヒドロキシシクロヘキシル残基のようなシクロアルキ
ル残基、アルアルキル残基、特にベンジル残基及び又陰
イオン性原子団を含有するアルキル残基、例えば、アル
キリデンスルホナート残基、フェニル−、アリール−及
びヘトアリール残基（一つのＮ−及び／或は一つのＳ−
を含有する５員或は６員で成す）複素環であり、更に一
般式（１）の残基Ｒを以下に例示する。すなわちアルコ
キシカルボニル−（弐Ｎ）、Ｎ−カルバモイル−（式ｖ
）、Ｎ−アルキルスルホニル−（弐■）、了り−ルスル
ホニルアミノスルフィニル−（式■）及び（式■）のよ
うなピリジニウムカチオン（式中、例えば ＵＳは好ましくは、ｌ乃至６個の炭素原子な有する、メ
チル、エチル、プロピルことにｉ−ブチ〃のような直鎖
状及び分校状アルキル基、ハロゲン置換されたアルキル
基、ことＶｃｌ、１．１−）リクロルエチルへ基のよう
な置換アルキル基、Ｒ４、ａ７は同じであり或いは異な
ってよく、メチル、エチル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル
のような直鎖状或は分枝状アルキル基であることができ
又ＦＬ４及びＲ′はＣＨ２基を介して互いに結合するこ
ともでき、ここでＣＨ，基に代って、置換された窒素或
は酸素のようなヘテロ原子で置き代えることも可能であ
る。ここで特に８６及びＲ７はＣ”Ｈｚ ）２−〇−（
ＣＨ２）ｚを意味する。
合によっては置換された、例えばシクロヘキシル及び２
−ヒドロキシシクロヘキシル残基のようなシクロアルキ
ル残基、アルアルキル残基、特にベンジル残基及び又陰
イオン性原子団を含有するアルキル残基、例えば、アル
キリデンスルホナート残基、フェニル−、アリール−及
びヘトアリール残基（一つのＮ−及び／或は一つのＳ−
を含有する５員或は６員で成す）複素環であり、更に一
般式（１）の残基Ｒを以下に例示する。すなわちアルコ
キシカルボニル−（弐Ｎ）、Ｎ−カルバモイル−（式ｖ
）、Ｎ−アルキルスルホニル−（弐■）、了り−ルスル
ホニルアミノスルフィニル−（式■）及び（式■）のよ
うなピリジニウムカチオン（式中、例えば ＵＳは好ましくは、ｌ乃至６個の炭素原子な有する、メ
チル、エチル、プロピルことにｉ−ブチ〃のような直鎖
状及び分校状アルキル基、ハロゲン置換されたアルキル
基、ことＶｃｌ、１．１−）リクロルエチルへ基のよう
な置換アルキル基、Ｒ４、ａ７は同じであり或いは異な
ってよく、メチル、エチル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル
のような直鎖状或は分枝状アルキル基であることができ
又ＦＬ４及びＲ′はＣＨ２基を介して互いに結合するこ
ともでき、ここでＣＨ，基に代って、置換された窒素或
は酸素のようなヘテロ原子で置き代えることも可能であ
る。ここで特に８６及びＲ７はＣ”Ｈｚ ）２−〇−（
ＣＨ２）ｚを意味する。
几８はトリフルオルメチル残基のようなアルキル基及び
ハロゲン置換アルキル残基、 几９はフェニル基及びアルキル基、ハロゲン置換のアリ
ール残基を意味する。） 複素芳香族系の核置換基乃至上記一般式（１）の幕内の
残基几を介して２個の一般式（１）の基を含んでいる複
素芳香族系を互いに結合することも可能である。本発明
に−より光酸化剤（ｂ）として使用できる塩は内部塩と
して存在することができ又はアニオンとして無機及び有
機の酸のアニオンたとえば塩化物、臭化物、ヨウ化物、
水素硫酸、フルオルスルホン酸、過塩素酸、テトラフル
オル硼酸、へ中サフルオル燐酸、ヘキサクロル・アンチ
モン酸、へ中サフルオル砒散、アルキルスルホン酸、ト
リフルオルメタンスルホン酸、メチル硫酸、メチル亜硫
酸、過塩素酸、置換のあるペンゾールスルホンｒＲ？、
： ト；ｊ＝ ハｐ −）ルオールスルホン酸などのア
ニオンを含んでいることができる。
ハロゲン置換アルキル残基、 几９はフェニル基及びアルキル基、ハロゲン置換のアリ
ール残基を意味する。） 複素芳香族系の核置換基乃至上記一般式（１）の幕内の
残基几を介して２個の一般式（１）の基を含んでいる複
素芳香族系を互いに結合することも可能である。本発明
に−より光酸化剤（ｂ）として使用できる塩は内部塩と
して存在することができ又はアニオンとして無機及び有
機の酸のアニオンたとえば塩化物、臭化物、ヨウ化物、
水素硫酸、フルオルスルホン酸、過塩素酸、テトラフル
オル硼酸、へ中サフルオル燐酸、ヘキサクロル・アンチ
モン酸、へ中サフルオル砒散、アルキルスルホン酸、ト
リフルオルメタンスルホン酸、メチル硫酸、メチル亜硫
酸、過塩素酸、置換のあるペンゾールスルホンｒＲ？、
： ト；ｊ＝ ハｐ −）ルオールスルホン酸などのア
ニオンを含んでいることができる。
複素芳香族系の佼置換基の及び／又は一般式（１）の基
の残基几の適切な選択により、化学線照射の際の活性な
らびに本発明により使用すべき光酸化剤（ｂ）の熱的及
び化学的安定性に影響を及ぼしこれらを変化させること
ができる。その５え本発明により使用すべき光酸化剤（
ｂ）中のアニオンも光重合性記録材料の緒特性に影響を
及ぼす。通常はまた有利に１光酸化剤（ｂ）は、波長範
囲３００乃至４２０ ｎｍとくに３２０乃至４００ ｆ
ｌｍ においてそのモル吸光係数ξが本発明による光重
合性記録材料中に併せ用いられる光酸化剤（ｂ）用なら
びに場合によっては光重合開始剤用の増感剤のものより
小さいように、選ばれる。
の残基几の適切な選択により、化学線照射の際の活性な
らびに本発明により使用すべき光酸化剤（ｂ）の熱的及
び化学的安定性に影響を及ぼしこれらを変化させること
ができる。その５え本発明により使用すべき光酸化剤（
ｂ）中のアニオンも光重合性記録材料の緒特性に影響を
及ぼす。通常はまた有利に１光酸化剤（ｂ）は、波長範
囲３００乃至４２０ ｎｍとくに３２０乃至４００ ｆ
ｌｍ においてそのモル吸光係数ξが本発明による光重
合性記録材料中に併せ用いられる光酸化剤（ｂ）用なら
びに場合によっては光重合開始剤用の増感剤のものより
小さいように、選ばれる。
本発明により光酸化剤（ｂ）として使用すべき塩には、
とくに上記一般式（１）の基が複素芳香ｍ （１）に組
みこまれ含まれているピラジニウムー、ピラジニウム−
及びピリミジラム塩、さらにこれらの塩の核置換のある
誘導体でありてＷ素芳香族琥内に上記の種類の核置換基
１個又は数個を含んでいるものならびにまたこれらの塩
のオルト位縮合のあるＨｚ体たとえばベンゼン棲−オル
ト位縮合の話題の種類のピリジニウム塩たとえば対応の
、場合によっては該置換のあるキノリニウム−、イソキ
ノリニウム−又はフェナントリジニウムー塩も属する。
とくに上記一般式（１）の基が複素芳香ｍ （１）に組
みこまれ含まれているピラジニウムー、ピラジニウム−
及びピリミジラム塩、さらにこれらの塩の核置換のある
誘導体でありてＷ素芳香族琥内に上記の種類の核置換基
１個又は数個を含んでいるものならびにまたこれらの塩
のオルト位縮合のあるＨｚ体たとえばベンゼン棲−オル
ト位縮合の話題の種類のピリジニウム塩たとえば対応の
、場合によっては該置換のあるキノリニウム−、イソキ
ノリニウム−又はフェナントリジニウムー塩も属する。
その場合一般式（１）の基の残基ＲＫとりて望ましいも
のはとくにアルケニルカルボニル−、アル中ニルカルボ
ニル−、アルフキジカルボニル−１・カルバモイル−、
アルキルスルホニル−及びアリールスルホニルアミノス
ルフィニル−残基テアル。
のはとくにアルケニルカルボニル−、アル中ニルカルボ
ニル−、アルフキジカルボニル−１・カルバモイル−、
アルキルスルホニル−及びアリールスルホニルアミノス
ルフィニル−残基テアル。
これらの塩にとりて望ましい核置換基にはとくに場合に
よつては置換のあるーアルキル残基が属する。これらの
塩にとりてのアニオンとしてはとりｂｋｆｔｌｉ化物−
１過塩素酸−、過塩素酸−、トシル酸−、アルキルスル
ホン酸−、トリフルオルメタンスルホン酸−、テトラフ
ルオル硼酸のアニオンが望ましい。
よつては置換のあるーアルキル残基が属する。これらの
塩にとりてのアニオンとしてはとりｂｋｆｔｌｉ化物−
１過塩素酸−、過塩素酸−、トシル酸−、アルキルスル
ホン酸−、トリフルオルメタンスルホン酸−、テトラフ
ルオル硼酸のアニオンが望ましい。
本発明により光酸化剤（ｂ）として使用すべき塩にはた
とえば下記の一般式（■）、（ト）乃至（Ｘ■）の化合
物が槁する◇ ０几 ６ル Ｒ１ ′ 式（ＩＩ） 、（財）乃至（ＸＷ）中において残
基孔はさらに上で一般式（１）の場合に示した意味のも
のであり、−般式（１）、（匈乃至（ＸＷ）の化合物中
にお−てＢは望ましくは置換のあるシクロへ中シル残基
たとえば２−ヒドロキシシクロヘキシル、式（Ｍのアル
コキシカルボニル残基であって望ましくはＲ６が１．ｌ
。
とえば下記の一般式（■）、（ト）乃至（Ｘ■）の化合
物が槁する◇ ０几 ６ル Ｒ１ ′ 式（ＩＩ） 、（財）乃至（ＸＷ）中において残
基孔はさらに上で一般式（１）の場合に示した意味のも
のであり、−般式（１）、（匈乃至（ＸＷ）の化合物中
にお−てＢは望ましくは置換のあるシクロへ中シル残基
たとえば２−ヒドロキシシクロヘキシル、式（Ｍのアル
コキシカルボニル残基であって望ましくはＲ６が１．ｌ
。
１−トリクロルエチルであるもの、式（■のカルバモイ
ル残基でありて凡６及びＲ２が同じものでメチル、エチ
ル、ｉ−プロピル−１又はｎ−ブチルであるものであり
、Ｒ’−Ｎ−凡７はモルホリノを表わすこともできる。
ル残基でありて凡６及びＲ２が同じものでメチル、エチ
ル、ｉ−プロピル−１又はｎ−ブチルであるものであり
、Ｒ’−Ｎ−凡７はモルホリノを表わすこともできる。
式（ＩＩ） 、（ト）乃至ｏｃｖｉ）においてＫはさら
に式（■のアルキルスルホニル残基でアってＲ８が望ま
しくはトリフルオルメチルであるものマタ式（ロ）のア
ルキルスルホニルアミノスルフィニル基でありてもよい
。
に式（■のアルキルスルホニル残基でアってＲ８が望ま
しくはトリフルオルメチルであるものマタ式（ロ）のア
ルキルスルホニルアミノスルフィニル基でありてもよい
。
残基Ｒ１はこれらの式において水Ｓ原子（置換中ルー、
アリール−、シアル中ルアミノ−、ジアリールアミノ−
、アルキルチオ−、アリールチオ−、アルコキシ−基又
は塩素原子を表わす。とくＫ Ｒ１は水素原子又は１個
又は数個のメチル基望ましくは２−メチル−１２，６−
シメチルー又は一般式（幻、（財）及び（Ｘ％り にお
いて３．５−ジメチルも表わす。式輸）においてはＲ１
”はアル中すデン残基とくに炭素原子２乃至６個のもの
又はキシリレン残基たとえばｐ−キシリレン残基な表わ
す。
アリール−、シアル中ルアミノ−、ジアリールアミノ−
、アルキルチオ−、アリールチオ−、アルコキシ−基又
は塩素原子を表わす。とくＫ Ｒ１は水素原子又は１個
又は数個のメチル基望ましくは２−メチル−１２，６−
シメチルー又は一般式（幻、（財）及び（Ｘ％り にお
いて３．５−ジメチルも表わす。式輸）においてはＲ１
”はアル中すデン残基とくに炭素原子２乃至６個のもの
又はキシリレン残基たとえばｐ−キシリレン残基な表わ
す。
式（至））ｋおいてばＲ”は望ましくは水素原子である
。さらに式（ＩＩ）及び（ト）乃至ＣＸ１ｌ） ＩＩＣ
おいて人は酸アニオンとくにさらに上に示した種類のも
のを表わす。一般式（ｆｆＪ及び（２）乃至備）の化合
物にと９て望ましい酸アニオンは過塩素酸−、 ベンゾールスルホン酸−、メチルスルホン酸−１ｎ−オ
クチルスルホン酸−、テトラフルオル硼酸−、ヘキサフ
ルオル燐酸−及びトリフルオルメタンスルホン敵−アニ
オンである。残基Ｒ又は凡１の一方がアニオン基たとえ
ばスルホン酸基を含んでいるときは当然一般式（ｆｆ）
及び國乃至（至））中のアニオンＡｅはなくなる。
。さらに式（ＩＩ）及び（ト）乃至ＣＸ１ｌ） ＩＩＣ
おいて人は酸アニオンとくにさらに上に示した種類のも
のを表わす。一般式（ｆｆＪ及び（２）乃至備）の化合
物にと９て望ましい酸アニオンは過塩素酸−、 ベンゾールスルホン酸−、メチルスルホン酸−１ｎ−オ
クチルスルホン酸−、テトラフルオル硼酸−、ヘキサフ
ルオル燐酸−及びトリフルオルメタンスルホン敵−アニ
オンである。残基Ｒ又は凡１の一方がアニオン基たとえ
ばスルホン酸基を含んでいるときは当然一般式（ｆｆ）
及び國乃至（至））中のアニオンＡｅはなくなる。
本発明により光酸化剤（１））として使用すべき塩のう
ちで、一般式（１）の化合物がとくに重要であり、ここ
でとくに残基Ｒ１が水素原子又は１個又は２個のメチル
基を表わす化合物がと（Ｋ有利と判明した。
ちで、一般式（１）の化合物がとくに重要であり、ここ
でとくに残基Ｒ１が水素原子又は１個又は２個のメチル
基を表わす化合物がと（Ｋ有利と判明した。
本発明により光重合可能記録゛材料において光酸化剤（
ｂ）として使用され得る化合物を具体的に例示すれば以
下の通りである。すなわち１−（アクリロイルオキシ）
−ピリジニウムクロライド、ｌ−（メタクリロイルオキ
シ）−ピリジニウムクロライド、１−（イソブトキシカ
ルボニルオキシ）−ピリジニウムクロライド、１−（イ
ソブトキシカルボニルオキシ）−２−ピコリニウムクロ
ライド、ｌ−（イソブトキシカルボニルオキシ）−３−
ピコリニウムクロライド、１−（イソブトキシカルボニ
ルオキシ）−４−ピコリニウムクロライド、１−（イソ
ブトキシカルボニルオキシ）−２，６−ジメチルピリジ
ニウムクロライド、１−（２゜２．２−トリクロルエト
中シカルボニルオ牟シ）−ピリジニウムクロライド、１
−（Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ）−ピリジニ
ウムクロライド、１−（Ｎ−モルホリノカルボニルオキ
シ）−ピリジニウムクロライド、１−（Ｎ−モルホリノ
カルボニルオキシ）−ピリジエウムテトラフルオルボ２
−ト、１−（Ｎ−モルホリノカルボニルオキシ）−ピリ
ジニウムへキサフルオルホス７アート、１−（Ｎ−モル
ホリノカルボニルオキシ）−２，６−ジメチルピリジニ
ウムクロライド、１−（Ｎ−モルホリノカルボニルオキ
シ）−３，５−ジメチルピリジニウムクロライド、１−
（）リフルメチルスルホニルオキシ）−ピリジニウムト
リフルオルメタンスルホナート、１−（ベンゾールスル
ホニルアミノスルフィニルオ牟シ）−ピリジニウムベメ
イン、１−（Ｎ−ビリジニクムオキシ）−ピリジニウム
ビストリフルオルメタンスルホナート。
ｂ）として使用され得る化合物を具体的に例示すれば以
下の通りである。すなわち１−（アクリロイルオキシ）
−ピリジニウムクロライド、ｌ−（メタクリロイルオキ
シ）−ピリジニウムクロライド、１−（イソブトキシカ
ルボニルオキシ）−ピリジニウムクロライド、１−（イ
ソブトキシカルボニルオキシ）−２−ピコリニウムクロ
ライド、ｌ−（イソブトキシカルボニルオキシ）−３−
ピコリニウムクロライド、１−（イソブトキシカルボニ
ルオキシ）−４−ピコリニウムクロライド、１−（イソ
ブトキシカルボニルオキシ）−２，６−ジメチルピリジ
ニウムクロライド、１−（２゜２．２−トリクロルエト
中シカルボニルオ牟シ）−ピリジニウムクロライド、１
−（Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ）−ピリジニ
ウムクロライド、１−（Ｎ−モルホリノカルボニルオキ
シ）−ピリジニウムクロライド、１−（Ｎ−モルホリノ
カルボニルオキシ）−ピリジエウムテトラフルオルボ２
−ト、１−（Ｎ−モルホリノカルボニルオキシ）−ピリ
ジニウムへキサフルオルホス７アート、１−（Ｎ−モル
ホリノカルボニルオキシ）−２，６−ジメチルピリジニ
ウムクロライド、１−（Ｎ−モルホリノカルボニルオキ
シ）−３，５−ジメチルピリジニウムクロライド、１−
（）リフルメチルスルホニルオキシ）−ピリジニウムト
リフルオルメタンスルホナート、１−（ベンゾールスル
ホニルアミノスルフィニルオ牟シ）−ピリジニウムベメ
イン、１−（Ｎ−ビリジニクムオキシ）−ピリジニウム
ビストリフルオルメタンスルホナート。
本発明により光酸化剤（ｂ）として使用すべき前記の種
類の塩は文献中で公知の、通常かつ通用の方法に従って
又はこれらと同様にして製造できる。
類の塩は文献中で公知の、通常かつ通用の方法に従って
又はこれらと同様にして製造できる。
この関係においてたとえばニエーヨーク市Ｊ、ＶＡｌｅ
ｙ社１９７４年刊行１ピリジン及びその誘導体’第ｔ４
巻補遺第２部中のＲ，Ａ、 Ａｂｒａｍｏｖｉｔｃｈ及
びＢ、Ｍ、Ｓｍ１ｔｈを指摘しておく。
ｙ社１９７４年刊行１ピリジン及びその誘導体’第ｔ４
巻補遺第２部中のＲ，Ａ、 Ａｂｒａｍｏｖｉｔｃｈ及
びＢ、Ｍ、Ｓｍ１ｔｈを指摘しておく。
光重合性記録材料に含まれる、化学、線露光により該材
料の色濃度を増大させる色形成剤組成物は、上述した光
酸化剤（ｂ）のほかに、無色の或は実質上無色の、酸化
により有色化合物となり得る化合物（ａ）を含有する。
料の色濃度を増大させる色形成剤組成物は、上述した光
酸化剤（ｂ）のほかに、無色の或は実質上無色の、酸化
により有色化合物となり得る化合物（ａ）を含有する。
この当初無色の乃至実質上無色の化合物（ａ）は有色化
し、色を形成する所から本明細書において色形成剤と称
する。色形成剤（ａ）としては、ことにロイコ染料（染
料の還元形態）が拳げられるが、これは一般に１乃至２
個の水系原子を有し、これの１乃至２個の電子との結合
除去により色素形成に至る。このロイコ染料は本来無色
であり或は極めて淡い色を有するに過ぎず実際の染料（
酸化形態）の色とは著しく異なる。ことに適当なロイ；
染料はトリアリールメタン基ｆａ！構造を有し、その２
個のアリール基がＮ、８或はＯ原子により互いに結合さ
れているロイコ形態のジアリールメタン染料及びトリア
リールメタン染料である。ことにロイコ形態のアミノア
クリジン染料、アミノキサンチン染料及びアミノチオキ
サンデン染料がこれに属する。また、例えば米国特許出
願公開４１５４６３号公報に記されているよう忙、ジア
ルキル−乃至アルキル−アリール−アミノフェニル基を
Ｎ−アルキル置換カルバゾリル基で置き換えたトリアリ
ールメタン染料ブのロイコ染料も同様に適当である。さ
らに色形成剤（ａＪとしてロイコメチンも使用され得る
。不発明による光重合性記録材料用の色形成剤（ａ）と
して適当なロイコ染料は、例えば米国特許３５５２９７
３号明細書に記載されている。ここで特に興味があるの
は例えばロイコクリスタルバイオレット、ロイコマラキ
ットグリーン、ロイコ塩基ブルー、ロイコバラロスアニ
リン、ロイコパテントブルーＡ乃至■である。
し、色を形成する所から本明細書において色形成剤と称
する。色形成剤（ａ）としては、ことにロイコ染料（染
料の還元形態）が拳げられるが、これは一般に１乃至２
個の水系原子を有し、これの１乃至２個の電子との結合
除去により色素形成に至る。このロイコ染料は本来無色
であり或は極めて淡い色を有するに過ぎず実際の染料（
酸化形態）の色とは著しく異なる。ことに適当なロイ；
染料はトリアリールメタン基ｆａ！構造を有し、その２
個のアリール基がＮ、８或はＯ原子により互いに結合さ
れているロイコ形態のジアリールメタン染料及びトリア
リールメタン染料である。ことにロイコ形態のアミノア
クリジン染料、アミノキサンチン染料及びアミノチオキ
サンデン染料がこれに属する。また、例えば米国特許出
願公開４１５４６３号公報に記されているよう忙、ジア
ルキル−乃至アルキル−アリール−アミノフェニル基を
Ｎ−アルキル置換カルバゾリル基で置き換えたトリアリ
ールメタン染料ブのロイコ染料も同様に適当である。さ
らに色形成剤（ａＪとしてロイコメチンも使用され得る
。不発明による光重合性記録材料用の色形成剤（ａ）と
して適当なロイコ染料は、例えば米国特許３５５２９７
３号明細書に記載されている。ここで特に興味があるの
は例えばロイコクリスタルバイオレット、ロイコマラキ
ットグリーン、ロイコ塩基ブルー、ロイコバラロスアニ
リン、ロイコパテントブルーＡ乃至■である。
色形成剤（ａ）及び光酸化剤（ｂ）の光重合性記録材料
中における量割合は、化学線露光により十分な変色をも
たらすように選択される。一般に光酸化剤（ｂ）を色形
成剤（ａＪ ＩＣ対して僅かに過剰！（重量に関し）使
用するのがＭ要であるとされている。なお、色形成剤（
ａ）及び光酸化剤（ｂ）の量及び量割合は、当業者に公
知公用の態様で、露光時間、色のコントラストなどに関
する設定条件を光重合性記録材料が充足し得るように選
択される。
中における量割合は、化学線露光により十分な変色をも
たらすように選択される。一般に光酸化剤（ｂ）を色形
成剤（ａＪ ＩＣ対して僅かに過剰！（重量に関し）使
用するのがＭ要であるとされている。なお、色形成剤（
ａ）及び光酸化剤（ｂ）の量及び量割合は、当業者に公
知公用の態様で、露光時間、色のコントラストなどに関
する設定条件を光重合性記録材料が充足し得るように選
択される。
本発明による光重合性記録材料は、上述したような色形
成剤のはかに１光重合可能のオレフィン系不飽和有機化
合物を含有し、さらＩＣ６合によりポリマー結合剤、少
なくとも１つの光重合開始剤、少なくとも１つの増感剤
ならびに場合によりその他の添加剤及び／或は助剤を含
有する。本発明による光重合性記録材料のこのような組
成分とし℃、コーティング剤乃至ｆｆｔＪｉｆ剤、印刷
版体、フォトレジスト材料の製造用に乃至これに類する
目的のために使用され、前述文献に記載されている化合
物が挙げられる。
成剤のはかに１光重合可能のオレフィン系不飽和有機化
合物を含有し、さらＩＣ６合によりポリマー結合剤、少
なくとも１つの光重合開始剤、少なくとも１つの増感剤
ならびに場合によりその他の添加剤及び／或は助剤を含
有する。本発明による光重合性記録材料のこのような組
成分とし℃、コーティング剤乃至ｆｆｔＪｉｆ剤、印刷
版体、フォトレジスト材料の製造用に乃至これに類する
目的のために使用され、前述文献に記載されている化合
物が挙げられる。
上記の光重合可能のオレフィン系不飽和有機化合物の例
とし℃は光重合可能のオレフィン二重結合を有する、オ
レフィン系不飽和モノマー、オレフィン系不飽和オリゴ
マー及び／或はポリマーが挙げられる。この光重合性オ
レフィン不飽和有機化合物はビニル二重結合、ことに共
役結合及び／或は０原子或はＮ原子に対する隣接結合に
より活性化されるビニル基を有する。ことにアクリロイ
ル、メタクリロイルのようなエステル或はアミド基に隣
接するビニル基が好ましい。この光重合性オレフィン不
飽和有機化合物は、単官能性乃至多官能性の、ずなわち
１個或は娘数個の光重合可能のオレフィン二重結合を有
する化合物であることができる。光重−合性記録材料に
は、２官能性或はそれ以上の多官能性のオレフィン本飽
和光重合性有機化合物が単独で含有され、或はこれと単
官能性のオレフィン不飽和光重合性有機化合物との混合
物金含有される。光重合性オレフィン不飽和モノマーは
、一般に約１０００までの分子量を有する。
とし℃は光重合可能のオレフィン二重結合を有する、オ
レフィン系不飽和モノマー、オレフィン系不飽和オリゴ
マー及び／或はポリマーが挙げられる。この光重合性オ
レフィン不飽和有機化合物はビニル二重結合、ことに共
役結合及び／或は０原子或はＮ原子に対する隣接結合に
より活性化されるビニル基を有する。ことにアクリロイ
ル、メタクリロイルのようなエステル或はアミド基に隣
接するビニル基が好ましい。この光重合性オレフィン不
飽和有機化合物は、単官能性乃至多官能性の、ずなわち
１個或は娘数個の光重合可能のオレフィン二重結合を有
する化合物であることができる。光重−合性記録材料に
は、２官能性或はそれ以上の多官能性のオレフィン本飽
和光重合性有機化合物が単独で含有され、或はこれと単
官能性のオレフィン不飽和光重合性有機化合物との混合
物金含有される。光重合性オレフィン不飽和モノマーは
、一般に約１０００までの分子量を有する。
光重合性オレフィン不飽和オリゴマーの平均分子量（数
平均）は、約１０００乃至１００００、ことＩＣ１５０
０乃至６０００の範囲に在る。また光重合性オレフィン
二重結合含有ポリマーの平均分子量（重量平均）は一般
に１５０００以上である。これらの光重合性オレフィン
不飽和有機化合物は１種類のみ単独で或は相互混合物で
使用され得る。使用される光重合性オレフィン不飽和有
機化合物の種類及び量は、光重合性記録材料の使用目的
ならびにこれと共に使用される組成分の種類により広い
範囲で変えられることができる。
平均）は、約１０００乃至１００００、ことＩＣ１５０
０乃至６０００の範囲に在る。また光重合性オレフィン
二重結合含有ポリマーの平均分子量（重量平均）は一般
に１５０００以上である。これらの光重合性オレフィン
不飽和有機化合物は１種類のみ単独で或は相互混合物で
使用され得る。使用される光重合性オレフィン不飽和有
機化合物の種類及び量は、光重合性記録材料の使用目的
ならびにこれと共に使用される組成分の種類により広い
範囲で変えられることができる。
光重合可能のこの七ツマ−の典型的なものとして（メタ
）アクリル酸誘導体、ことに好ましいものとして（メタ
）アクリル酸エステルが挙げられる。例えば約５００ま
での分子量を有するエチレングリコール、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール或はポリエチレング
リコールのジ（メタ）アクリラート及びトリ（メタ）ア
クリラート、約５００までの分子量を有する１、２−プ
ロパンジオール、！、３−プロパンジオール、ポリプロ
ピレングリコール、１．４−ブタンジオール、１ｅ６−
ヘキサンジオール、１，１．１−）リメチレンフ四ハン
、２，２−ジメチル−プロパンジオール、グリセリン或
はペンタエリトリット、ペンタエリトリットテトラ−（
メタ）アクリラート、グリコースドリー乃至テトラ−エ
チレングリコール−モノ−（メタ）アクリラート、さら
に上述のジオール、ポリオールのモノアクリラート及び
モノメタクリラート、例えばエチレングリコール−、ジ
ー、トリー或はテトラエチレングリコール−モノ−（メ
タ）アクリラート、プロパンジオールモノ−（メタ）ア
クリラート及びブタンジオール−モノ−（メタ）アクリ
ラート、ならびにモノアルカノール、ことに１乃至２０
個の炭素原子を有するモノアルカノールの（メタ）アク
リラートである。上述したようなアクリラート、メタア
クリラートのほかに、例えばＮ−ビニルピロリドン、Ｎ
−ビニルカプロ２クタム、ビニルアセタート、ビニルプ
ロピオナート、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロイ
ル−（メタ）アクリルアミド、エチレングリ−コール及
びＮ−メチレン−（メタ）アクＩＪＡ／７ミドのビスエ
ーテル、ビニルカルバマート、ビスアクリルアミド醋酸
、グリオキサールビスアミドのようなビニル化合物、ア
リル化合物も使用される。
）アクリル酸誘導体、ことに好ましいものとして（メタ
）アクリル酸エステルが挙げられる。例えば約５００ま
での分子量を有するエチレングリコール、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール或はポリエチレング
リコールのジ（メタ）アクリラート及びトリ（メタ）ア
クリラート、約５００までの分子量を有する１、２−プ
ロパンジオール、！、３−プロパンジオール、ポリプロ
ピレングリコール、１．４−ブタンジオール、１ｅ６−
ヘキサンジオール、１，１．１−）リメチレンフ四ハン
、２，２−ジメチル−プロパンジオール、グリセリン或
はペンタエリトリット、ペンタエリトリットテトラ−（
メタ）アクリラート、グリコースドリー乃至テトラ−エ
チレングリコール−モノ−（メタ）アクリラート、さら
に上述のジオール、ポリオールのモノアクリラート及び
モノメタクリラート、例えばエチレングリコール−、ジ
ー、トリー或はテトラエチレングリコール−モノ−（メ
タ）アクリラート、プロパンジオールモノ−（メタ）ア
クリラート及びブタンジオール−モノ−（メタ）アクリ
ラート、ならびにモノアルカノール、ことに１乃至２０
個の炭素原子を有するモノアルカノールの（メタ）アク
リラートである。上述したようなアクリラート、メタア
クリラートのほかに、例えばＮ−ビニルピロリドン、Ｎ
−ビニルカプロ２クタム、ビニルアセタート、ビニルプ
ロピオナート、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロイ
ル−（メタ）アクリルアミド、エチレングリ−コール及
びＮ−メチレン−（メタ）アクＩＪＡ／７ミドのビスエ
ーテル、ビニルカルバマート、ビスアクリルアミド醋酸
、グリオキサールビスアミドのようなビニル化合物、ア
リル化合物も使用される。
本発明による光重合性記録材料に使用される、ことに適
当な光重合性オレフィン不飽和有機化合物は、２個以上
のアクリロイル基及び／或はメタクリロイル基を有する
ウレタンアクリラート乃至ウレタンメタクリラートのモ
ノマーである。このよ５なウレタン−（メタ）アクリラ
ートモノマーは、例えば脂肪族ジオール或はポリオール
と有機ジイソシアナートとを約１＝２のＯＨ： ＮＣＯ
当量割合で反応させ、次いで得られた反応生成物の遊離
イソシアナート基を適当なアクリロイル化合物及び／或
はメタクリロイル化合物、例えばとドロ會ジアルキル−
（メタ）アクリラートと反応させて得られる。この脂肪
族ジポリオール及び／或はポリオールとしては、ことに
ジー及びトリー（メタ）アクリラートと共に上述したジ
ー及びポリヒドロキシ化合物が考えられ、有機ジイソシ
アナートとしては例えばヘキサメチレンジイソシアナー
ト、トルイレンジイソシアナート、イソホロンジイソシ
アナートなどが挙げられる。ヒドロキシアルキル−（メ
タ）アクリラートとしては、ヒドロキシエチル（メタ）
アクリラート、プａパンジオール−モノ−（メタ）アク
リラート或はブタンジオール−モノ−（メタ）アクリラ
ートが挙げられる。また２個以上のアクリロイル基及び
／或はメタクリロイル基を有する七ツマ−１例えばジー
或はポリグリシジル化合物とアクリル酸及び／或はメタ
クリル酸との反応、或はグリシジル（メタ）アクリラー
トとジオール或はポリオール、ことに脂肪族ジオール或
はポリオール、例えばジー及びトリー（メタ）アクリラ
ートと共に上述した化合物との反応により得られる化合
物が挙げられる。
当な光重合性オレフィン不飽和有機化合物は、２個以上
のアクリロイル基及び／或はメタクリロイル基を有する
ウレタンアクリラート乃至ウレタンメタクリラートのモ
ノマーである。このよ５なウレタン−（メタ）アクリラ
ートモノマーは、例えば脂肪族ジオール或はポリオール
と有機ジイソシアナートとを約１＝２のＯＨ： ＮＣＯ
当量割合で反応させ、次いで得られた反応生成物の遊離
イソシアナート基を適当なアクリロイル化合物及び／或
はメタクリロイル化合物、例えばとドロ會ジアルキル−
（メタ）アクリラートと反応させて得られる。この脂肪
族ジポリオール及び／或はポリオールとしては、ことに
ジー及びトリー（メタ）アクリラートと共に上述したジ
ー及びポリヒドロキシ化合物が考えられ、有機ジイソシ
アナートとしては例えばヘキサメチレンジイソシアナー
ト、トルイレンジイソシアナート、イソホロンジイソシ
アナートなどが挙げられる。ヒドロキシアルキル−（メ
タ）アクリラートとしては、ヒドロキシエチル（メタ）
アクリラート、プａパンジオール−モノ−（メタ）アク
リラート或はブタンジオール−モノ−（メタ）アクリラ
ートが挙げられる。また２個以上のアクリロイル基及び
／或はメタクリロイル基を有する七ツマ−１例えばジー
或はポリグリシジル化合物とアクリル酸及び／或はメタ
クリル酸との反応、或はグリシジル（メタ）アクリラー
トとジオール或はポリオール、ことに脂肪族ジオール或
はポリオール、例えばジー及びトリー（メタ）アクリラ
ートと共に上述した化合物との反応により得られる化合
物が挙げられる。
上記ジー及びポリグリシジル化合物としては、ことに多
価脂肪族アルコール或は多価フェノール、例えばビスフ
ェノールＡ或はその置換生成物のポリグリシジルエーテ
ルが挙げられる。このようなアクリロイル基及び／或は
メタクリロイル基含有モノマーとしては、例えばビスフ
ェノールＡ−ビスグリシジルエーテルとアクリル酸及び
／或はメタクリル酸との約１＝２０モル割合の反応生成
物ならびに１，６−ヘキサンシオールーピスーグリシジ
ルエーテルーメタクリラートが挙げられる。
価脂肪族アルコール或は多価フェノール、例えばビスフ
ェノールＡ或はその置換生成物のポリグリシジルエーテ
ルが挙げられる。このようなアクリロイル基及び／或は
メタクリロイル基含有モノマーとしては、例えばビスフ
ェノールＡ−ビスグリシジルエーテルとアクリル酸及び
／或はメタクリル酸との約１＝２０モル割合の反応生成
物ならびに１，６−ヘキサンシオールーピスーグリシジ
ルエーテルーメタクリラートが挙げられる。
フォトレジスト層製造のため建特に有利であるのは、光
重合性記オレフイン不飽和有機化合物として、２個の、
好ましくは２個以上のアクリロイル基及び／或はメタク
リロイル基を有するオリゴマーを含有する光重合性記録
材料である。例えば上記文献に記載され公知である、ア
クリロイル基及び／或はメタクリロイル基を有するオリ
ゴマー−ウレタン樹脂及びジエボキシド或はポリエポキ
シドを主体とするオリゴマー−ウレタン樹脂がことに適
当である。水で現像可能の光重合性記録材料のための、
ことに興味あるこの種のオリゴマーは、アクリロイル基
及び／或はメタクリロイル基のほかにさらに追加的に分
子内に遊離カルボ中シル基を有するものである。この光
重合性オリゴマー中の遊離カルボキシル基の含有量は比
較的高く、そのためにオリゴマーが５０乃至１５０ ｍ
ｇ ＫＯＨ／９の範囲の酸価な示すよ５にするのが好ま
しい。この種の適当な光重合性オリゴマーについては、
例えば西独特許出願公開２４４２５２７号公報、同国特
許２５５７４０８号公報、或はまた同国公開２９１７４
８３号公報に記載されている。本発明により光重合性記
録材料に使用して好ましい効果をもたらすさらに他の光
重合性オリゴマーは、例えばこの種のアクリロイル基及
び／或はメタクリロイル基含有ジオール或はポリオール
化合物の遊離ヒドロキシルを、多価カルボン酸を形成し
、次いで反応生成物の遊離カルボキシル基の一部分をジ
エボキシド或はポリエポキシドと反応させて、鎖伸長さ
せ、場合により分枝させることにより製造され得る。こ
のようなオリゴマー製造のために出発物質として使用さ
れるアクリロイル基及び／或はメタクリロイル基含有ジ
オール乃至ポリオール化合物は、ジー乃至ポリエポキシ
ド化合物、例えばジー乃至ポリグリシジルエーテル或は
ジー乃至ポリグリシジルエステルを、アクリル酸及び／
或はメタクリル酸と約１：１のグリシジル基： Ｃ０Ｏ
Ｈ基の当量割合で反応させることにより製造するのが有
利である。この場合、上記ジー乃至ポリエポキシド化合
物は、例えば（メタ）アクリル酸との反応前或はその間
にジカルボン酸との反応によりあらかじめ伸長させるこ
とができる。この最後に述べた種類のオリゴマーとして
は、ビスフェノールＡ−ビスグリシジルエーテルとアク
リル酸及び／或はメタクリル酸乃至は例えばアジピン酸
のようなジカルボン酸約３０乃至７０モル％及びアクリ
ル酸及び／或はメタクリル酸３０乃至７０モル％の混合
物とを１＝１のグリシジル基： Ｃ０ＯＨ総量の当量割
合で反応させ、得られる反応生成物と例えばフタール酸
無水物のようなジカルボン酸無水物、或は場合により他
の多価カルボン酸、例えばトリメリット酸の無水物僅少
量との混合物とを１＝１のＯＨ基：無水物基の当量割合
で反応させて多価カルボン酸の酸性部分エステルを形成
し、次いで得られる反応生成物の有利カルボキシル基と
ジー及び／或はポリグリシジルエーテル、例えばビスフ
ェノールＡ−ビスグリシジルエーテル或はペンタエリド
リフトグリシジルエーテルとを１：１以上、ことに約１
．１５ ： １乃至５：１のＣ０ＯＨ基ニゲリシジル基
当量割合で反応させることにより得られる化合物が挙げ
られる。
重合性記オレフイン不飽和有機化合物として、２個の、
好ましくは２個以上のアクリロイル基及び／或はメタク
リロイル基を有するオリゴマーを含有する光重合性記録
材料である。例えば上記文献に記載され公知である、ア
クリロイル基及び／或はメタクリロイル基を有するオリ
ゴマー−ウレタン樹脂及びジエボキシド或はポリエポキ
シドを主体とするオリゴマー−ウレタン樹脂がことに適
当である。水で現像可能の光重合性記録材料のための、
ことに興味あるこの種のオリゴマーは、アクリロイル基
及び／或はメタクリロイル基のほかにさらに追加的に分
子内に遊離カルボ中シル基を有するものである。この光
重合性オリゴマー中の遊離カルボキシル基の含有量は比
較的高く、そのためにオリゴマーが５０乃至１５０ ｍ
ｇ ＫＯＨ／９の範囲の酸価な示すよ５にするのが好ま
しい。この種の適当な光重合性オリゴマーについては、
例えば西独特許出願公開２４４２５２７号公報、同国特
許２５５７４０８号公報、或はまた同国公開２９１７４
８３号公報に記載されている。本発明により光重合性記
録材料に使用して好ましい効果をもたらすさらに他の光
重合性オリゴマーは、例えばこの種のアクリロイル基及
び／或はメタクリロイル基含有ジオール或はポリオール
化合物の遊離ヒドロキシルを、多価カルボン酸を形成し
、次いで反応生成物の遊離カルボキシル基の一部分をジ
エボキシド或はポリエポキシドと反応させて、鎖伸長さ
せ、場合により分枝させることにより製造され得る。こ
のようなオリゴマー製造のために出発物質として使用さ
れるアクリロイル基及び／或はメタクリロイル基含有ジ
オール乃至ポリオール化合物は、ジー乃至ポリエポキシ
ド化合物、例えばジー乃至ポリグリシジルエーテル或は
ジー乃至ポリグリシジルエステルを、アクリル酸及び／
或はメタクリル酸と約１：１のグリシジル基： Ｃ０Ｏ
Ｈ基の当量割合で反応させることにより製造するのが有
利である。この場合、上記ジー乃至ポリエポキシド化合
物は、例えば（メタ）アクリル酸との反応前或はその間
にジカルボン酸との反応によりあらかじめ伸長させるこ
とができる。この最後に述べた種類のオリゴマーとして
は、ビスフェノールＡ−ビスグリシジルエーテルとアク
リル酸及び／或はメタクリル酸乃至は例えばアジピン酸
のようなジカルボン酸約３０乃至７０モル％及びアクリ
ル酸及び／或はメタクリル酸３０乃至７０モル％の混合
物とを１＝１のグリシジル基： Ｃ０ＯＨ総量の当量割
合で反応させ、得られる反応生成物と例えばフタール酸
無水物のようなジカルボン酸無水物、或は場合により他
の多価カルボン酸、例えばトリメリット酸の無水物僅少
量との混合物とを１＝１のＯＨ基：無水物基の当量割合
で反応させて多価カルボン酸の酸性部分エステルを形成
し、次いで得られる反応生成物の有利カルボキシル基と
ジー及び／或はポリグリシジルエーテル、例えばビスフ
ェノールＡ−ビスグリシジルエーテル或はペンタエリド
リフトグリシジルエーテルとを１：１以上、ことに約１
．１５ ： １乃至５：１のＣ０ＯＨ基ニゲリシジル基
当量割合で反応させることにより得られる化合物が挙げ
られる。
光重合性オレフィン二重結合含有ポリマーとしては、例
えば西独特許出願公開１５２２３５９号公報に記載され
ているような感光性ポリマーが挙げられる。
えば西独特許出願公開１５２２３５９号公報に記載され
ているような感光性ポリマーが挙げられる。
一般に常圧下に１００℃以上の沸点を有する光重合性オ
レフィン不飽和有機化合物は、当業者に周知自明のよう
に、光重合性記録材料の他の組成分、ことに場合によ−
り共に使用されるポリマー結合剤と併用し得るものが選
択される。
レフィン不飽和有機化合物は、当業者に周知自明のよう
に、光重合性記録材料の他の組成分、ことに場合によ−
り共に使用されるポリマー結合剤と併用し得るものが選
択される。
好ましい光重合性記録材料は、光重合性オレフィン不飽
和有機化合物のほかに、ことに光重合性オレフィン不飽
和有機化合物として、もりばら光重合性モノマー及び／
或は光重合性オリゴマーが使用される場合には、ポリマ
ー結合剤を含有する。
和有機化合物のほかに、ことに光重合性オレフィン不飽
和有機化合物として、もりばら光重合性モノマー及び／
或は光重合性オリゴマーが使用される場合には、ポリマ
ー結合剤を含有する。
この記録材料から形成される層の非露光の、従りて非架
橋部分を、化学線による画像形成露光後、洗除可能とす
るために、上記ポリマー結合剤は、光重合性記録材料の
ための現像用溶媒に可溶性であるか、少なくとも分散可
能でなければならない。
橋部分を、化学線による画像形成露光後、洗除可能とす
るために、上記ポリマー結合剤は、光重合性記録材料の
ための現像用溶媒に可溶性であるか、少なくとも分散可
能でなければならない。
適当なポリマー結合剤としては、仏国特許１５２０８５
６号明細誉に記載されているような線形ポリアミド、こ
とにアルコール可溶性ツボリアミド、セルロース誘導体
、ことに水性アルカリ現像剤で洗除可能のセルロースｇ
導体、ビニルアルコールポリマー、種々の鹸化度を有す
るビニルア七タートのよ５な、ｌ乃至４個の炭素原子を
有する脂肪族モノカ／Ｉ／ボン酸ビニルエステルの重合
体及び共重合体、ビニルピロリドン、ビニルクロリド或
はスチレンの単独重合体及び共重合体、ポリウレタン、
ポリエーテルウレタン、ポリエステルウレタン、ポリエ
ステル樹脂、ジエン重合体及び共重合体、例えばブタジ
ェン及び／或はイソプレンとスチレン或はα−メチルス
チレンから成るブロック共重合体、ならびにフォトレジ
スト層及び平版印刷版体製造用としてアクリル酸アルキ
ルエステル及びメタクリル酸アルキルエステルの重合体
及び共重合体が挙げられる。適当な好ましいポリマー結
合剤として、特にポリメタクリラート、ポリメチルメタ
クリラート、アルキル−（メタ）アクリラートの共重合
体、例えばジメチルアミノエチルメタクリラートのよう
なアミノ基含有コモノマーを重合金有する、アルキル（
メタ）アクリラート及び（メタ）アクリル酸の共重合体
、場合によりＮ−ビニルラクタム、ヒドロキシアルキル
（メタ）アクリラート或はスチレンのようなさらに他の
コモノマーを重合金有する、スチレン及びマレイン酸無
水物及び／或はマレイン酸半エステルの共重合体、或は
スチレン、マレイン酸無水物及び（メタ）アクリル酸の
共重合体がある。
６号明細誉に記載されているような線形ポリアミド、こ
とにアルコール可溶性ツボリアミド、セルロース誘導体
、ことに水性アルカリ現像剤で洗除可能のセルロースｇ
導体、ビニルアルコールポリマー、種々の鹸化度を有す
るビニルア七タートのよ５な、ｌ乃至４個の炭素原子を
有する脂肪族モノカ／Ｉ／ボン酸ビニルエステルの重合
体及び共重合体、ビニルピロリドン、ビニルクロリド或
はスチレンの単独重合体及び共重合体、ポリウレタン、
ポリエーテルウレタン、ポリエステルウレタン、ポリエ
ステル樹脂、ジエン重合体及び共重合体、例えばブタジ
ェン及び／或はイソプレンとスチレン或はα−メチルス
チレンから成るブロック共重合体、ならびにフォトレジ
スト層及び平版印刷版体製造用としてアクリル酸アルキ
ルエステル及びメタクリル酸アルキルエステルの重合体
及び共重合体が挙げられる。適当な好ましいポリマー結
合剤として、特にポリメタクリラート、ポリメチルメタ
クリラート、アルキル−（メタ）アクリラートの共重合
体、例えばジメチルアミノエチルメタクリラートのよう
なアミノ基含有コモノマーを重合金有する、アルキル（
メタ）アクリラート及び（メタ）アクリル酸の共重合体
、場合によりＮ−ビニルラクタム、ヒドロキシアルキル
（メタ）アクリラート或はスチレンのようなさらに他の
コモノマーを重合金有する、スチレン及びマレイン酸無
水物及び／或はマレイン酸半エステルの共重合体、或は
スチレン、マレイン酸無水物及び（メタ）アクリル酸の
共重合体がある。
本発明による光重合性記録材料は、色形成剤組成物の光
酸化剤に加えて、さらに他の感光性組成分として、光重
合性記録材料中の光重合性オレフィン系不飽和有機化合
物のラジカル重合を化学線の作用下に開始させ得る光重
合開始剤を含有する。
酸化剤に加えて、さらに他の感光性組成分として、光重
合性記録材料中の光重合性オレフィン系不飽和有機化合
物のラジカル重合を化学線の作用下に開始させ得る光重
合開始剤を含有する。
この開始剤としてことに＄ましいのは、それ自体公知の
芳香族カルボニル化合物、ことに一般式（式中、Ａｒは
場合により置換されたアリール基、ことにフェニル基を
意味する）で表される構造の芳香族ケトンである。上記
一般式（Ｘ■）中の両Ａｒは同じものであっても異なる
ものであり【もよく、また場合により−ＣＨ基或はＳ原
子を介して結合されることもできる。この光重合開始剤
としては化学線の波長範囲（本発明光重合性記録材料に
含有される増感剤はこの範囲にその吸収帯を有する）に
おいて著しい吸収を有しない（ξ（５０００）ものが選
択される。このような光重合開始剤として好ましいもの
は、例えばベンゾフェノン、４．４’−ジクロルベンゾ
フェノンのよう装置ｍベンゾフェノン、アントラキノン
、ベンゾアントラキノン、２−エチルアント−）−＃ノ
ン乃至ｔｅｒｔ−ブチルアントラ卑ノンのような多核で
非置換或は置換されたキノン、ならびに２−メチルチオ
キサントン、２−イソプロピルチオキサントン或は２−
クロルチオキサントンのようなチオキサントンである。
芳香族カルボニル化合物、ことに一般式（式中、Ａｒは
場合により置換されたアリール基、ことにフェニル基を
意味する）で表される構造の芳香族ケトンである。上記
一般式（Ｘ■）中の両Ａｒは同じものであっても異なる
ものであり【もよく、また場合により−ＣＨ基或はＳ原
子を介して結合されることもできる。この光重合開始剤
としては化学線の波長範囲（本発明光重合性記録材料に
含有される増感剤はこの範囲にその吸収帯を有する）に
おいて著しい吸収を有しない（ξ（５０００）ものが選
択される。このような光重合開始剤として好ましいもの
は、例えばベンゾフェノン、４．４’−ジクロルベンゾ
フェノンのよう装置ｍベンゾフェノン、アントラキノン
、ベンゾアントラキノン、２−エチルアント−）−＃ノ
ン乃至ｔｅｒｔ−ブチルアントラ卑ノンのような多核で
非置換或は置換されたキノン、ならびに２−メチルチオ
キサントン、２−イソプロピルチオキサントン或は２−
クロルチオキサントンのようなチオキサントンである。
本発明による光重合性記録材料はそのほかに少なくとも
１種の広い意味での増感剤すなわち光重合性記録材料を
化学線照射する際に光酸化剤（ｂ）及び／又は光重合開
始剤を活性化する化合物も含んでいる。本発明による光
重合性記録材料用増感剤とじ【はとくに多電子芳香族化
合物が問題となる。
１種の広い意味での増感剤すなわち光重合性記録材料を
化学線照射する際に光酸化剤（ｂ）及び／又は光重合開
始剤を活性化する化合物も含んでいる。本発明による光
重合性記録材料用増感剤とじ【はとくに多電子芳香族化
合物が問題となる。
望ましくは増感剤として芳香族第三アミンとくにそのア
ミノフェニル残基がカルボニル残基とくに芳香族カルボ
ニル残基と結合されて二重結合が互いに共役の関係にあ
るものが用いられる。これらにはたとえば一般式（ｆｌ
ｕ （式中几２及び几３が同じもの又は相異なるものであり
てよく、場合によつては置換のある炭素原子数１乃至６
のアルキル基、フェニール基又はアラルキル基を表わし
、Ｒ２とＲ１とが互いに結合されて非芳香族環となって
いてもよく、Ｒ＋４は望ましくは水素又はアルキル基を
表わし、ｎは０．１又は２であり、Ｘは場合によっては
置換のあるペンゾール残基又は場合忙よりては置換のあ
る複素芳香族環系たとえば場合によつては置換のある及
び／又はベンゼン核にオルト位縮合のあるピリジン−、
ジアゾール−、トリアゾール−、チアゾール−、オキサ
ゾール−、チアジアゾール−１又はオキシジアゾール環
を表わす）の芳香族アミンが属する。一般式（Ｉｔの増
感剤中の残基Ｘの例としては下記の残基を列挙しておく
： 索原子数１乃至６のアルキル− 又は場合によってはハロゲン原 子、アルキル又はアルコキシに よる置換のある了り−ルである もの Ｒ１４はＨ１アルキル、アルフキ アルケニル、カルバルコキシ、 場合によつてはハロゲン原子、 アルキル又はアルコキシによる 置換のあるフェニルであり又は Ｒ”及びＲ＋”がともに飽和の五又 は六員環を形成する ナフタレン又はピラゾールを補 完する残基であり、Ａにより形 成される環系は場合によっては ハロゲン原子・アルキル又はア ルフキシによる置換があっても よい はＨ１アルキル、場合によって はアルキル・アルコキシ又はジ アルキルアミノによる置換のあ るフェニル、ナフチル又ハヒフ はＨ１アルキル又は場合によっ ては置換のあるフェニルまたＲ２′ はＨ１アルキル、場合によりて はアルキル・アルコキシ又はジ アルキルアミノによる置換のあ るフェニル、ナフチル、ピフエ ルキルー又はアル：Ｉ−？シ残基に よる置換がありてもよい。
ミノフェニル残基がカルボニル残基とくに芳香族カルボ
ニル残基と結合されて二重結合が互いに共役の関係にあ
るものが用いられる。これらにはたとえば一般式（ｆｌ
ｕ （式中几２及び几３が同じもの又は相異なるものであり
てよく、場合によつては置換のある炭素原子数１乃至６
のアルキル基、フェニール基又はアラルキル基を表わし
、Ｒ２とＲ１とが互いに結合されて非芳香族環となって
いてもよく、Ｒ＋４は望ましくは水素又はアルキル基を
表わし、ｎは０．１又は２であり、Ｘは場合によっては
置換のあるペンゾール残基又は場合忙よりては置換のあ
る複素芳香族環系たとえば場合によつては置換のある及
び／又はベンゼン核にオルト位縮合のあるピリジン−、
ジアゾール−、トリアゾール−、チアゾール−、オキサ
ゾール−、チアジアゾール−１又はオキシジアゾール環
を表わす）の芳香族アミンが属する。一般式（Ｉｔの増
感剤中の残基Ｘの例としては下記の残基を列挙しておく
： 索原子数１乃至６のアルキル− 又は場合によってはハロゲン原 子、アルキル又はアルコキシに よる置換のある了り−ルである もの Ｒ１４はＨ１アルキル、アルフキ アルケニル、カルバルコキシ、 場合によつてはハロゲン原子、 アルキル又はアルコキシによる 置換のあるフェニルであり又は Ｒ”及びＲ＋”がともに飽和の五又 は六員環を形成する ナフタレン又はピラゾールを補 完する残基であり、Ａにより形 成される環系は場合によっては ハロゲン原子・アルキル又はア ルフキシによる置換があっても よい はＨ１アルキル、場合によって はアルキル・アルコキシ又はジ アルキルアミノによる置換のあ るフェニル、ナフチル又ハヒフ はＨ１アルキル又は場合によっ ては置換のあるフェニルまたＲ２′ はＨ１アルキル、場合によりて はアルキル・アルコキシ又はジ アルキルアミノによる置換のあ るフェニル、ナフチル、ピフエ ルキルー又はアル：Ｉ−？シ残基に よる置換がありてもよい。
本発明による光重合性記録材料用の望ましい増感剤はＸ
が下記の意味のものである一般式（（転）のもの（ｆｌ
−０）である： 適切な望ましい増感剤の例としてはとりわけ２゜５−ビ
ス−（４′−ジエチルアミノフェニル）−１゜３、′４
−オキシジアゾール、２−（４’−ジエチルアミノフェ
ニル） １１２．３−ベンズトリアゾール、２−（４
′−ジエチルアミノ−フェニル）−４，５−ジフェニル
−１，２，３−）リアゾール、２−（４−ジメチルアミ
ノフェニル）−ベンズチアゾール、２−（４−ジメチル
アミノフェニル）−ペンスオキサゾール、２−（４−ジ
メチルアミノスチリル）−ベンズチアゾール及び２−（
４−ジエチルアミノスチリル）−ナフ）（１，２ｄ）チ
アゾールをあげておく。
が下記の意味のものである一般式（（転）のもの（ｆｌ
−０）である： 適切な望ましい増感剤の例としてはとりわけ２゜５−ビ
ス−（４′−ジエチルアミノフェニル）−１゜３、′４
−オキシジアゾール、２−（４’−ジエチルアミノフェ
ニル） １１２．３−ベンズトリアゾール、２−（４
′−ジエチルアミノ−フェニル）−４，５−ジフェニル
−１，２，３−）リアゾール、２−（４−ジメチルアミ
ノフェニル）−ベンズチアゾール、２−（４−ジメチル
アミノフェニル）−ペンスオキサゾール、２−（４−ジ
メチルアミノスチリル）−ベンズチアゾール及び２−（
４−ジエチルアミノスチリル）−ナフ）（１，２ｄ）チ
アゾールをあげておく。
Ｘはここでもまた望ましくは置換のあるの型のペンゾー
ル残基な表わし、Ｒ２８はＨ１アルキル、シクロアルキ
ル、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシ、Ｃｌ５Ｂｒ１ア
ルコキシ、アルギルチオ、ジアルキルアミノ又はジアリ
ールアミノ、望ましくはｐ−位置のものである。望まし
い化合物はペンゾール残基が を意味し几２６がジアルキルアミノ又はジアリールアミ
ノであるものである。この椙の望ましい増感剤としてと
りわけ４−ジメチルアミノベンゾフェノン、４．４’−
ビス−（ジメチルアミノ）−ベンゾフェノン、４．４’
−ビス−（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン及び４，
４′−ビス（ヒドロキシエチルメチルアミン）−ベンゾ
フェノンヲアケておく。
ル残基な表わし、Ｒ２８はＨ１アルキル、シクロアルキ
ル、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシ、Ｃｌ５Ｂｒ１ア
ルコキシ、アルギルチオ、ジアルキルアミノ又はジアリ
ールアミノ、望ましくはｐ−位置のものである。望まし
い化合物はペンゾール残基が を意味し几２６がジアルキルアミノ又はジアリールアミ
ノであるものである。この椙の望ましい増感剤としてと
りわけ４−ジメチルアミノベンゾフェノン、４．４’−
ビス−（ジメチルアミノ）−ベンゾフェノン、４．４’
−ビス−（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン及び４，
４′−ビス（ヒドロキシエチルメチルアミン）−ベンゾ
フェノンヲアケておく。
本発明により使用する光酸化剤（ｂ）を含んでいる発色
系はその場合意外なことに本発明による光重合成記録材
料中において繭記の種類の増感剤とともに光重合性記録
材料に必要なものとしては比較的短かい化学線照射時間
でさえ発色度及びコントラスト形成を極めて強く向上さ
せる。
系はその場合意外なことに本発明による光重合成記録材
料中において繭記の種類の増感剤とともに光重合性記録
材料に必要なものとしては比較的短かい化学線照射時間
でさえ発色度及びコントラスト形成を極めて強く向上さ
せる。
本発明による光重合性記録材料は、上述した組成分のは
かに、さらに記録材料の加工処理技術上の、かつ／もし
くは使用技術上の特性を改善する、或は変性する慣用の
添加剤及び／或は助剤を含有する。このような剤として
は、ことに熱重合禁止剤、無機或は有機の顔料乃至染料
、ならびにコントラスト増強剤乃至層補強効果をもたら
し得る低分子量接着剤、流動性化助剤、補強剤、滑剤、
可塑化剤などが挙げられる。
かに、さらに記録材料の加工処理技術上の、かつ／もし
くは使用技術上の特性を改善する、或は変性する慣用の
添加剤及び／或は助剤を含有する。このような剤として
は、ことに熱重合禁止剤、無機或は有機の顔料乃至染料
、ならびにコントラスト増強剤乃至層補強効果をもたら
し得る低分子量接着剤、流動性化助剤、補強剤、滑剤、
可塑化剤などが挙げられる。
本発明による光重合性記録材料の各組成分は、そのため
に慣用の、それ自体公知の量及び量割合で使用され、記
録材料中忙均質混合物の状態で存在する。光重合性記録
材料製造のために、各組成分をそれ自体公知の方法で、
例えば溶媒乃至溶媒混合物に溶解させて、或は混線機、
エクストルーダなどで均質に混合する。特に各組成分の
量及び量割合は、混合物が溶液中で製造される場合、溶
媒蒸散後、この混合物が固化するように選定される。
に慣用の、それ自体公知の量及び量割合で使用され、記
録材料中忙均質混合物の状態で存在する。光重合性記録
材料製造のために、各組成分をそれ自体公知の方法で、
例えば溶媒乃至溶媒混合物に溶解させて、或は混線機、
エクストルーダなどで均質に混合する。特に各組成分の
量及び量割合は、混合物が溶液中で製造される場合、溶
媒蒸散後、この混合物が固化するように選定される。
本発明による光重合性記録材料における光重合及び色形
成乃至色濃度強化をもたらすため、波長が３００乃至４
２０ ｎｍ 、ことに３２０乃至４００ ｎｍの化学線
が使用される。照射線光源としては、ことに高圧水銀灯
、中圧水銀灯、低圧水銀灯、高活性螢光灯、キセノンイ
ンパルスランプ、ＵＶ螢光灯などが一般に手軽に使用さ
れる。
成乃至色濃度強化をもたらすため、波長が３００乃至４
２０ ｎｍ 、ことに３２０乃至４００ ｎｍの化学線
が使用される。照射線光源としては、ことに高圧水銀灯
、中圧水銀灯、低圧水銀灯、高活性螢光灯、キセノンイ
ンパルスランプ、ＵＶ螢光灯などが一般に手軽に使用さ
れる。
本発明による記録材料は、それ自体公知の方法で紫外線
により硬化可能のコーティング乃至被覆剤、各種光重合
ポリマー印刷版体、レリーフ版体、フォトレジストなど
になされる。この場合、化学線照射によりｎ光領域の良
好な光重合がもたらされるだけでなく、色濃度変化、及
び色コントラストが可能な限り増強されることが望まれ
る用途、例えば担持材料土建本発明による光重合性記録
材料の薄層を形成して成る感光性記録素子、ことに層転
写及び平版印刷版体用乾燥フィルムレジストの場合Ｋｔ
￥ｆＫ有利である。この感光性記録素子用担持材料とし
ては、従来慣用の、記録安定性のよい、好ましくは可撓
性のよい材料、例えば合成樹脂フィルム乃至シート、金
属板などが使用される。
により硬化可能のコーティング乃至被覆剤、各種光重合
ポリマー印刷版体、レリーフ版体、フォトレジストなど
になされる。この場合、化学線照射によりｎ光領域の良
好な光重合がもたらされるだけでなく、色濃度変化、及
び色コントラストが可能な限り増強されることが望まれ
る用途、例えば担持材料土建本発明による光重合性記録
材料の薄層を形成して成る感光性記録素子、ことに層転
写及び平版印刷版体用乾燥フィルムレジストの場合Ｋｔ
￥ｆＫ有利である。この感光性記録素子用担持材料とし
ては、従来慣用の、記録安定性のよい、好ましくは可撓
性のよい材料、例えば合成樹脂フィルム乃至シート、金
属板などが使用される。
乾燥フィルムレジスト用の担持材料としては、ことに例
えばポリエチレンテレフタラート或はボリブチレンテレ
フタラートのようなポリエステルのシートが使用される
。また平版印刷版体用の担持材料としては、ことに表面
を機械的、化学的及び／或は電気料学的に粗面化前処理
したオフセットタイプのアルミニウム板が使用される。
えばポリエチレンテレフタラート或はボリブチレンテレ
フタラートのようなポリエステルのシートが使用される
。また平版印刷版体用の担持材料としては、ことに表面
を機械的、化学的及び／或は電気料学的に粗面化前処理
したオフセットタイプのアルミニウム板が使用される。
乾燥フィルムレジストに慣用の約１０乃至１００μｍ１
ことに約１５乃至７０μｍ及び平版印刷版体では通常約
１乃至６μｍの厚さの、本発明による光重合性記録材料
の薄層は、上述した担持材料上に、例えば溶液注下法、
スピンコーティング法などで施される。
ことに約１５乃至７０μｍ及び平版印刷版体では通常約
１乃至６μｍの厚さの、本発明による光重合性記録材料
の薄層は、上述した担持材料上に、例えば溶液注下法、
スピンコーティング法などで施される。
平版印刷版体製造のためには、本発明による光重合性記
録材料から作製された平版印刷用の板状体を化学線によ
り画像形成露光し、適当な現像溶媒で洗除し現像する。
録材料から作製された平版印刷用の板状体を化学線によ
り画像形成露光し、適当な現像溶媒で洗除し現像する。
画像形成構造のレジストマスター作製のため忙は、本発
明による光重合性記録材料を、防護されるべき、また耐
久性をもたらすために変性されるべき基板上に、例えば
溶液状態で直接施し、或は乾燥フィルムレシス）Ｋよる
層転写法であらかじめ形成された層を重ね合わせること
によりもたらされる。基板としては、作製されるべきレ
ジストマスターのそれぞれの使用目的に応じて公知の種
類のもの、例えば銅板或は銅被覆板が使用される。画像
形成構造レジストマスター作製のためには、本発明によ
る光重合性記録材料から基体上に形成されたフォトレジ
スト層を、化学線により画像形成露光し、次いで非露光
領域を適当な溶媒で洗除し現像する。この本発明光重合
性記録材料の画像形成露光のため釦は、前述した波長範
囲の光学線が使用される。現像溶媒の種類は、本発明に
よる光重合性記録材料の組成分、ことに添加されるポリ
マー結合剤及び／或は光重合性オレフィン不飽和有機化
合物に応じて決定される。これに応じて有機溶媒或は混
合溶媒乃至は水性現像液が使用される。
明による光重合性記録材料を、防護されるべき、また耐
久性をもたらすために変性されるべき基板上に、例えば
溶液状態で直接施し、或は乾燥フィルムレシス）Ｋよる
層転写法であらかじめ形成された層を重ね合わせること
によりもたらされる。基板としては、作製されるべきレ
ジストマスターのそれぞれの使用目的に応じて公知の種
類のもの、例えば銅板或は銅被覆板が使用される。画像
形成構造レジストマスター作製のためには、本発明によ
る光重合性記録材料から基体上に形成されたフォトレジ
スト層を、化学線により画像形成露光し、次いで非露光
領域を適当な溶媒で洗除し現像する。この本発明光重合
性記録材料の画像形成露光のため釦は、前述した波長範
囲の光学線が使用される。現像溶媒の種類は、本発明に
よる光重合性記録材料の組成分、ことに添加されるポリ
マー結合剤及び／或は光重合性オレフィン不飽和有機化
合物に応じて決定される。これに応じて有機溶媒或は混
合溶媒乃至は水性現像液が使用される。
本発明による光重合性記録材料中の色形成剤組成物は高
い安定性を有する。従りて、この光重合性記録材料は、
従来のこの種の記録材料に必要とされていた大量の熱重
合禁止剤を添加する必要とすることなく、秀れた暗所貯
蔵可能性を有する。
い安定性を有する。従りて、この光重合性記録材料は、
従来のこの種の記録材料に必要とされていた大量の熱重
合禁止剤を添加する必要とすることなく、秀れた暗所貯
蔵可能性を有する。
また化学線露光により、本発明による光重合性記録材料
は、光酸化剤として例えば有機ハμゲン化合物を含有す
る従来技術による対比可能の記録材料に比して、露光領
域と非露光領域との間の強烈な色コントラストをもたら
し、予期し得なかりた色濃度の増大をもたらす。これは
類似の色形成剤組成分を含有するが、本発明の光重合性
記録材料と異なり光重合性有機化合物、光重合開始剤及
び増感剤を含有しない公知の写真的記録材料を考えると
、全く予期し得なかりた結果である。本発明の光重合性
記録材料における光酸化剤の使用は、この記録材料の製
造及び使用に１！妾な諸特性忙対し全く不利な彰響を及
ぼさない。むしろ、本発明記録材料は逆に極めて改着さ
れた露光特性を示す。
は、光酸化剤として例えば有機ハμゲン化合物を含有す
る従来技術による対比可能の記録材料に比して、露光領
域と非露光領域との間の強烈な色コントラストをもたら
し、予期し得なかりた色濃度の増大をもたらす。これは
類似の色形成剤組成分を含有するが、本発明の光重合性
記録材料と異なり光重合性有機化合物、光重合開始剤及
び増感剤を含有しない公知の写真的記録材料を考えると
、全く予期し得なかりた結果である。本発明の光重合性
記録材料における光酸化剤の使用は、この記録材料の製
造及び使用に１！妾な諸特性忙対し全く不利な彰響を及
ぼさない。むしろ、本発明記録材料は逆に極めて改着さ
れた露光特性を示す。
さらに、本発明による光重合性記録材料の場合、前述し
た残留層の間ｍも解決される。すなわち、この記録材料
から作製され、画像形成露光され、現像された層は、長
時間の経過後も溶媒で残滓をあらためて洗除する必要な
く完全に基体から除去される。これは、ことにフォトレ
ジストとしての使用の場合、例えばプリント回路板、集
積回路製造の際にことｋｔ要な意味を有する。
た残留層の間ｍも解決される。すなわち、この記録材料
から作製され、画像形成露光され、現像された層は、長
時間の経過後も溶媒で残滓をあらためて洗除する必要な
く完全に基体から除去される。これは、ことにフォトレ
ジストとしての使用の場合、例えばプリント回路板、集
積回路製造の際にことｋｔ要な意味を有する。
以下の実施例により本発明をさらに詳細に説明し、対比
試験例との比ｆｆ１ｃよりその利点をさらに具体的に示
すが、ここで使用される部及びパーセントは、特に明示
しない限り重量に関するものである。
試験例との比ｆｆ１ｃよりその利点をさらに具体的に示
すが、ここで使用される部及びパーセントは、特に明示
しない限り重量に関するものである。
実施例１乃至６
以下の各組成分を撹拌して均質な混合物を製造する。
２５０部の醋酸エステル／メタノール（１：１）４０部
のビスフェノールへ−ビスゲリシジルエーテル、フター
ル酸無水物及びグリシジルメタクリラートから製造され
た、メタクリロイル基及び遊離カルボン酸基含有オリゴ
マー、 １３．４１１Ｓのトリメチロールプロパントリアクリラ
ート、 １１部のヘキサンジオール−ビス−グリシジルエーテル
−ビス−メタクリラート、 ２９部のメチルメタクリラート６０％、Ｎ−ピニルピロ
リジン３０％及びメタクリル酸１０％から成る共重合体
、 ３．４部のベンゾフェノン、 ０．１部の増感剤、 Ｏ，Ｓ Ｓのロイコクリスタルバイオレット、４５部の
光酸化剤、 ０．０５部のシコメットーペンタプルー圧カフイルター
で濾過後、溶液を銅板上に注下成層して、溶媒蒸散及び
乾燥した後の乾燥層の厚さが３８μｍとなるようＫする
。次いで層の吸光度を測定した。
のビスフェノールへ−ビスゲリシジルエーテル、フター
ル酸無水物及びグリシジルメタクリラートから製造され
た、メタクリロイル基及び遊離カルボン酸基含有オリゴ
マー、 １３．４１１Ｓのトリメチロールプロパントリアクリラ
ート、 １１部のヘキサンジオール−ビス−グリシジルエーテル
−ビス−メタクリラート、 ２９部のメチルメタクリラート６０％、Ｎ−ピニルピロ
リジン３０％及びメタクリル酸１０％から成る共重合体
、 ３．４部のベンゾフェノン、 ０．１部の増感剤、 Ｏ，Ｓ Ｓのロイコクリスタルバイオレット、４５部の
光酸化剤、 ０．０５部のシコメットーペンタプルー圧カフイルター
で濾過後、溶液を銅板上に注下成層して、溶媒蒸散及び
乾燥した後の乾燥層の厚さが３８μｍとなるようＫする
。次いで層の吸光度を測定した。
レジストマスター作裏のため上記光重合性レジスト層写
真ネガチプを経て波長３６０ ｎｍで露光し、次いで非
露光領域をソーダ水溶液で洗除した。
真ネガチプを経て波長３６０ ｎｍで露光し、次いで非
露光領域をソーダ水溶液で洗除した。
銅板の露出部分を市販のエツチング浴で処理し、レジス
ト層は３日経過後においても、銅基板上に残層を残すこ
となく５０℃で３％ＫＯＨ溶液により完全に除去され得
る。
ト層は３日経過後においても、銅基板上に残層を残すこ
となく５０℃で３％ＫＯＨ溶液により完全に除去され得
る。
露光同径の混合物の光学的密度（ＯＤ）を５９０℃ｍで
測定した。
測定した。
１１ Ａ Ｄ Ｏ，０８０
，６３０，５５２Ｂ Ｅ Ｏ，１０
０，７３０，６３３Ｂ Ｆ Ｏ，１３
０，８００，６７４Ｂ Ｄ Ｏ，１２
０，８００，６８５ＣＤ０１０８ １．１０
１．０２６ ＣＧ Ｏ，０７１，
０６０，９９９比較的のためにＤＯ５３１３５３９９よ
り転載光酸化剤 Ａ：１−メトキシ−２−ピコリニウム−ｐ−）ルオール
スルホン酸 Ｂ：１−（イソブトキシカルボニルオキシ）−２−ピコ
リニウム−クロリド Ｃａ１−（Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ）−ピ
リジニウムークロリド 増感剤 Ｄ：ビス−（４−ジメチルアミノ）−ベンゾフェノン Ｂ：４−ジメチルアミノフェニル−２，６−ジフエ二ル
ービリジン Ｆ：２−（、ｒ−ジメチルアミノフェニル）−４゜５−
ジフェニル−１，２，３−）リアゾールＧ：２−（ジメ
チルアミノフェニル）−ベンズチアゾール 実施例７（比較試験人） 実施例第１と同様に作業したが今回は光酸化剤として２
．５−ジクロル−１，４−ビス（ジクロルメチル）ペン
ゾール２５部を用いた。この場合５９０ ｎｍで測定し
た記録層の吸光が露光により０．０９から０．６１へ増
大したすなわち吸光の変化は僅かに０．５２であって発
色度のより少ない濃化に相当するものでありた。さらに
この場合には仕上ったレジスト・パターンが３日後には
もはやα留被膜なしには銅板から剥ぎ取ることができな
かった。
，６３０，５５２Ｂ Ｅ Ｏ，１０
０，７３０，６３３Ｂ Ｆ Ｏ，１３
０，８００，６７４Ｂ Ｄ Ｏ，１２
０，８００，６８５ＣＤ０１０８ １．１０
１．０２６ ＣＧ Ｏ，０７１，
０６０，９９９比較的のためにＤＯ５３１３５３９９よ
り転載光酸化剤 Ａ：１−メトキシ−２−ピコリニウム−ｐ−）ルオール
スルホン酸 Ｂ：１−（イソブトキシカルボニルオキシ）−２−ピコ
リニウム−クロリド Ｃａ１−（Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ）−ピ
リジニウムークロリド 増感剤 Ｄ：ビス−（４−ジメチルアミノ）−ベンゾフェノン Ｂ：４−ジメチルアミノフェニル−２，６−ジフエ二ル
ービリジン Ｆ：２−（、ｒ−ジメチルアミノフェニル）−４゜５−
ジフェニル−１，２，３−）リアゾールＧ：２−（ジメ
チルアミノフェニル）−ベンズチアゾール 実施例７（比較試験人） 実施例第１と同様に作業したが今回は光酸化剤として２
．５−ジクロル−１，４−ビス（ジクロルメチル）ペン
ゾール２５部を用いた。この場合５９０ ｎｍで測定し
た記録層の吸光が露光により０．０９から０．６１へ増
大したすなわち吸光の変化は僅かに０．５２であって発
色度のより少ない濃化に相当するものでありた。さらに
この場合には仕上ったレジスト・パターンが３日後には
もはやα留被膜なしには銅板から剥ぎ取ることができな
かった。
実施例８
下記の成分から均質の混合物を作りた：酢酸エステル
２５０部トリメチロールプロパン
トリアクリラート １７部ビスフェノールＡ−
ビスグリシジルエーテルとアクリル酸との等モル転化生
成物 １８部平均分子Ｊｌ（重み平均）
１５３０００のポリメチルメタクリラート５３部 ベンゾフェノン ３．４部２−（
４’−ジメチルアミノフェニル）４．５−ジフェニル−
１＝２＊３）リアゾール ０．１３部クりスタル
ヴアイオレットーロイコベース ０．５部（Ｎ、Ｎ−
ジメチルカルバモイルオキシ）ピリジニウム−クロリド
ｚＯ部シコメットー
パテントプルー ０．０３部トリエチレングリ
フールジアセタート ５．９４部この溶液をまずポ
リエステル−フィルム上に注ぎ、溶媒の冷却及び乾燥の
後ＩＣ厚さ３５μｍの固形分層ができるようにした。そ
の層の吸光（５９０℃ｍ ）は０．１２でありた。
２５０部トリメチロールプロパン
トリアクリラート １７部ビスフェノールＡ−
ビスグリシジルエーテルとアクリル酸との等モル転化生
成物 １８部平均分子Ｊｌ（重み平均）
１５３０００のポリメチルメタクリラート５３部 ベンゾフェノン ３．４部２−（
４’−ジメチルアミノフェニル）４．５−ジフェニル−
１＝２＊３）リアゾール ０．１３部クりスタル
ヴアイオレットーロイコベース ０．５部（Ｎ、Ｎ−
ジメチルカルバモイルオキシ）ピリジニウム−クロリド
ｚＯ部シコメットー
パテントプルー ０．０３部トリエチレングリ
フールジアセタート ５．９４部この溶液をまずポ
リエステル−フィルム上に注ぎ、溶媒の冷却及び乾燥の
後ＩＣ厚さ３５μｍの固形分層ができるようにした。そ
の層の吸光（５９０℃ｍ ）は０．１２でありた。
レジスト−パターンを作るため＃４張りのプリン回路基
板上に光重合性レジスト層を１１０℃において貼付し、
写真陰画を通し３０秒間平板露光器内で波長１６０ ｎ
ｍの化学線をもって露光させた。引続いてポリエステル
フィルムを除去した後に１゜１．１−）ジクロルエタン
をもりて層の未露光部分を洗い失った。露光によって層
内の発色度の強い濃化が引き起こされ、その際に層の５
９９ ｎｍにおける吸光は０．７２だけ変えられ０．８
４となりた。得られたレジストパターンは３日間貯蔵後
も申し分なく、メチレンクロリドを用いて残留被膜を残
すことなく基層から剥し取ることができた。
板上に光重合性レジスト層を１１０℃において貼付し、
写真陰画を通し３０秒間平板露光器内で波長１６０ ｎ
ｍの化学線をもって露光させた。引続いてポリエステル
フィルムを除去した後に１゜１．１−）ジクロルエタン
をもりて層の未露光部分を洗い失った。露光によって層
内の発色度の強い濃化が引き起こされ、その際に層の５
９９ ｎｍにおける吸光は０．７２だけ変えられ０．８
４となりた。得られたレジストパターンは３日間貯蔵後
も申し分なく、メチレンクロリドを用いて残留被膜を残
すことなく基層から剥し取ることができた。
実施例９（比較試験Ｂ）
実施側温８と同様に作業したが、今回は混合物調製の際
に（Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ）−ピリジニ
ウムクロリド２部の代りに２．５−ジクロル−１，４−
ビス−（ジクロルメチル）−ペンゾール３部を用いた；
同時にトリエチレングリフールジアセタートの割合を５
．９４部から４９４部に減じた。今回は未露光のレジス
ト層の吸光（５９０ｎｍ ）が同じで露光による吸光の
増大０．２が測定されたにすぎない。露光ずみ及び未露
光範囲間の色フントラストが明かに実施側温８における
よりも弱かった。そのほか得られたレジスト−パターン
は３日後にはもはや基層から剥せたかりた０ 実施例１０乃至１５ 実施側温８を反復した。ただしここでは（Ｎ。
に（Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ）−ピリジニ
ウムクロリド２部の代りに２．５−ジクロル−１，４−
ビス−（ジクロルメチル）−ペンゾール３部を用いた；
同時にトリエチレングリフールジアセタートの割合を５
．９４部から４９４部に減じた。今回は未露光のレジス
ト層の吸光（５９０ｎｍ ）が同じで露光による吸光の
増大０．２が測定されたにすぎない。露光ずみ及び未露
光範囲間の色フントラストが明かに実施側温８における
よりも弱かった。そのほか得られたレジスト−パターン
は３日後にはもはや基層から剥せたかりた０ 実施例１０乃至１５ 実施側温８を反復した。ただしここでは（Ｎ。
Ｎ−ジメチル−カルバモイルオキシ）−ピリジニウムク
ロリドの代りに下記表１に示しである光酸化剤をその都
度２部の量で用いた。未露光の光重合性レジスト層の吸
光（５９０ｎｍ ）は実施側温８のものと一致した。画
像どおりの露光によって達成された５９０ ｒｕｍでの
吸光変化（ΔＥ）は、発色度の濃化をならび（Ｃ未露光
範囲の下地吸光と関連して露光により達成された色コン
トラストを示すものであり、同じく表１に示しである。
ロリドの代りに下記表１に示しである光酸化剤をその都
度２部の量で用いた。未露光の光重合性レジスト層の吸
光（５９０ｎｍ ）は実施側温８のものと一致した。画
像どおりの露光によって達成された５９０ ｒｕｍでの
吸光変化（ΔＥ）は、発色度の濃化をならび（Ｃ未露光
範囲の下地吸光と関連して露光により達成された色コン
トラストを示すものであり、同じく表１に示しである。
得られたレジストパターンはすべての場合において数日
間貯蔵後も残留被膜を残すことなしに剥きとりでさた。
間貯蔵後も残留被膜を残すことなしに剥きとりでさた。
表１
１０ １−エトキシ−２−ピコリニウムートシフー）
０．５１１１ １−メトキシ−２，６−
シメチルピリジニウムーテトラフルオル硼酸塩＊０．５
６ １２ １−（ｆソプトをジ−カルボニルオキシ）−２
−’ピコリニウムクロリド
０．８１１３１−（α、α、α−トリクロルエ
トキシ力ルポ二）ｋｔオキシピリジニウムクロリド
０．７９１４１−（
Ｎ−モルホリノカルポニルオギシ）ビリジニクムヘキサ
フルオルーホスフアート ０
．７２１５１−（）リフルオルメチルスルホニルオキシ
）ピリジニウム−トリフルオルメタンスルホナート
０．６８＊ 比軟のためＤＯ８３１３５３９９から転記実施例１６乃
至２１ 夾施側温８を反復した。ただし今回は２−（４’−ジメ
チルアミノフエニル）−４，５−ジフェニル−１，２，
３−）リアゾールの代りに下記表２に示しである増感剤
をその都度０．１３部の量で用いた。その都度１分間画
像に従ってレジスト層を露光させて表２に示した露光ず
み範囲忙おける５９０部ｍでの吸光変化（ΔＯＤ）が達
成された。
０．５１１１ １−メトキシ−２，６−
シメチルピリジニウムーテトラフルオル硼酸塩＊０．５
６ １２ １−（ｆソプトをジ−カルボニルオキシ）−２
−’ピコリニウムクロリド
０．８１１３１−（α、α、α−トリクロルエ
トキシ力ルポ二）ｋｔオキシピリジニウムクロリド
０．７９１４１−（
Ｎ−モルホリノカルポニルオギシ）ビリジニクムヘキサ
フルオルーホスフアート ０
．７２１５１−（）リフルオルメチルスルホニルオキシ
）ピリジニウム−トリフルオルメタンスルホナート
０．６８＊ 比軟のためＤＯ８３１３５３９９から転記実施例１６乃
至２１ 夾施側温８を反復した。ただし今回は２−（４’−ジメ
チルアミノフエニル）−４，５−ジフェニル−１，２，
３−）リアゾールの代りに下記表２に示しである増感剤
をその都度０．１３部の量で用いた。その都度１分間画
像に従ってレジスト層を露光させて表２に示した露光ず
み範囲忙おける５９０部ｍでの吸光変化（ΔＯＤ）が達
成された。
代理人 弁理士 １）代 熱 治
Claims (17)
- （１）少なくとも１種の光重合性オレフィン系不飽和有
機化合物、場合によっては１種のポリマー結合剤、少な
くとも１種の光重合開始剤、化学線照射の際に記録材料
の発色度増大を引き起こす色形成剤組成物、１種の増感
剤ならびに場合によってはその他の添加物及び助剤を含
んでいる光重合性記録材料であって色形成剤組成物とし
て （ａ）少なくとも１種の無色の又は実質上無色の、酸化
により着色化合物となり得る有機化合物及び （ｂ）無色又は実質上無色の有機化合物（ａ）のための
光酸化剤 を含んでいるものにおいて、光酸化剤（ｂ）として１種
の、場合によっては置換のある複素芳香族系化合物を伴
なう１種の有機塩を含んでおり、その複素芳香族系化合
物には一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中Ｒは場合によっては置換のあるアルキル−、アル
キニル−、ヘタリール−、アルケニルカルボニル−、ア
ルキンカルボニル−、アルコキシカルボニル−、カルバ
モイル−、アルキルスルホニル−、アリールスルホニル
アミノスルフィニル−残基又は置換のあるシクロアルキ
ル残基ならびに場合によっては置換のあるヘタリールカ
チオンを表わす）の基少なくとも１個が組みこまれてお
り、この塩の長波長吸収帯の最大は４００ｎｍより小さ
いことを条件とすることを特徴とする光重合性記録材料
。 - （２）光酸化剤（ｂ）として、環内の窒素原子数１乃至
３の六員複素芳香族系化合物であって一般式（ I ）の
基のあるものの、このものの核に置換のある誘導体の、
又はこのもののベンゼン核にオルト位縮合が又はヘタリ
ール核にオルト位縮合がある誘導体の塩を含んでいるこ
とを特徴とする請求項１記載の光重合性記録材料。 - （３）光酸化剤（ｂ）として一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中Ｒは一般式（ I ）の基中のものと同じ意味のも
のであり、Ｒ＾１は水素又は１個又は数個の場合によっ
ては置換のあるアルキル基、場合によっては置換のある
フェニル基、アルコキシ基、ビニル基、ホルミル基、ニ
トロ基又はハロゲン原子を表わし、Ｒ−又はＲ＾１残基
を介して２個の式（II）の化合物が互いに結合されてい
てもよく、Ａ＾■は無機−又は有機酸のアニオンを表わ
すがＲ−又はＲ＾１残基のうちの一つがアニオン基のあ
る残基を表わすときは、Ａ＾■アニオンは存在しないこ
とを条件とする）の化合物を含んでいることを特徴とす
る請求項１又は２記載の光重合性記録材料。 - （４）一般式（II）の化合物中においてＲが置換のある
炭素原子数６のシクロアルキル基を表わすことを特徴と
する請求項３記載の光重合性記録材料。 - （５）一般式（II）の化合物中においてＲがアルコキシ
基の炭素原子数１乃至６の場合によっては置換のあるア
ルコキシカルボニル基を表わすことを特徴とする請求項
３記載の光重合性記録材料。 - （６）一般式（II）の化合物中においてＲが同様に又は
非対称に置換のあるＮ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル残
基であり、カルバモイル基の窒素原子にある置換基が互
いに結合され一つの環となっていてもよいことを条件と
することを特徴とする請求項３記載の光重合性記録材料
。。 - （７）一般式（II）の化合物中においてＲ＾１が水素原
子又は１個又は数個の場合によっては置換のあるアルキ
ル基を表わすことを特徴とする請求項３乃至５のうちの
一つに記載の光重合性記録材料。 - （８）一般式（II）の化合物中においてＲ＾１が水素原
子又は１個又は２個のメチル基を表わすことを特徴とす
る請求項７記載の光重合性記録材料。 - （９）光酸化剤（ｂ）として或いはＮ−アルコキシカル
ボニルオキシ−ピリジニウム−塩を、或いはＮ−カルバ
モイルオキシ−ピリジニウム−塩を含んでいることを特
徴とする請求項１乃至８のうちの一つに記載の光重合性
記録材料。 - （１０）光酸化剤（ｂ）として或いはＮ−カルバモイル
オキシ−ピコリニウム塩を、或いはＮ−アルコキシカル
ボニルオキシ−ピリジニウム塩を含んでいることを特徴
とする請求項１乃至８のうちの一つに記載の光重合性記
録材料。 - （１１）光酸化剤（ｂ）として含まれている塩が塩化物
−、過塩素酸−、ベンゾールスルホン酸−、トルオール
スルホン酸−、アルキルスルホン酸−、テトラフルオル
硼酸−、ヘキサフルオル燐酸−又はトリフルオルメタン
スルホン酸−アニオンを含んでいることを特徴とする請
求項１乃至１０のうちの一つに記載の光重合性記録材料
。 - （１２）無色の又は実質上無色の有機化合物であって酸
化により着色化合物となり得るもの（ａ）としてロイコ
色素を、とくにトリアリール−メタン色素をそのロイコ
形において、含んでいることを特徴とする請求項１乃至
１１のうちの一つに記載の光重合性記録材料。 - （１３）光重合開始剤として芳香族カルボニル化合物と
くにベンゾフェノン又はベンゾフェノン誘導体を含んで
いることを特徴とする請求項１乃至１２のうちの一つに
記載の光重合性記録材料。 - （１４）増感剤として第三芳香族アミンを含んでおり、
そのものでは第三アミノ基を支えている芳香族環が共役
を介して別の芳香族−又は複素芳香族環と結合されてい
ることを特徴とする請求項１乃至１３のうちの一つに記
載の光重合性記録材料。 - （１５）増感剤として一般式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中Ｒ＾２及びＲ＾３は同じもの又は相異なるもので
あってよく、炭素原子数１乃至６の場合によっては置換
のあるアルキル基、フェニル基又はアラルキル基を表わ
し、Ｒ＾２及びＲ＾３はまた互いに結合されて非芳香族
環となっていてもよく、Ｒ＾４は水素又はアルキル基を
表わし、Ｘは場合によっては置換のあるベンゾール残基
又は場合によっては置換のある複素芳香族環系原子団を
表わし、ｎは０、１又は２である）の化合物を含んでい
ることを特徴とする請求項１４記載の光重合性記録材料
。 - （１６）請求項１乃至１５のうちの一つに記載の光重合
性記録材料を基質とするフォトレジスト層。 - （１７）請求項１乃至１５のうちの一つに記載の光重合
性記録材料を基質とする平版印刷版体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3717037.6 | 1987-05-21 | ||
| DE19873717037 DE3717037A1 (de) | 1987-05-21 | 1987-05-21 | Photopolymerisierbare aufzeichnungsmaterialien sowie photoresistschichten und flachdruckplatten auf basis dieser aufzeichnungsmaterialien |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01118833A true JPH01118833A (ja) | 1989-05-11 |
Family
ID=6328034
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63122224A Pending JPH01118833A (ja) | 1987-05-21 | 1988-05-20 | 光重合可能の記録材料ならびにこの記録材料を主体とするフォトレジスト層及び平版印刷版体 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4886735A (ja) |
| EP (1) | EP0291881B1 (ja) |
| JP (1) | JPH01118833A (ja) |
| DE (2) | DE3717037A1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1992009011A1 (fr) * | 1990-11-19 | 1992-05-29 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Composition de resine photosensible et structure d'element photosensible |
| JP2008265265A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-11-06 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及び平版印刷方法 |
| US11213876B2 (en) | 2017-10-05 | 2022-01-04 | Showa Aluminum Can Corporation | Guidance device, device for moving disc-shaped member, can lid manufacturing system and beverage can manufacturing system |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4129284A1 (de) * | 1991-09-03 | 1993-03-04 | Agfa Gevaert Ag | Bilderzeugungselement mit einem fotopolymerisierbaren monomer |
| JP3070184B2 (ja) * | 1991-10-18 | 2000-07-24 | 三菱化学株式会社 | 光重合性組成物及び感光材料 |
| US5776764A (en) * | 1993-10-20 | 1998-07-07 | Nippon Paint Co., Ltd. | Polysilane type photosensitive resin composition and method for forming pattern using the same |
| US5858617A (en) * | 1996-03-12 | 1999-01-12 | Konica Corporation | Photopolymerizable composition and presensitized planographic printing plate employing the same |
| CN102887855B (zh) * | 2011-07-18 | 2015-10-28 | 海洋王照明科技股份有限公司 | 含吡啶离子液体、其制备方法和应用 |
Family Cites Families (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA870006A (en) * | 1971-05-04 | Eastman Kodak Company | Energy-sensitive systems | |
| DE1258265B (de) * | 1960-02-05 | 1968-01-04 | Eastman Kodak Co | Lichtempfindliche photographische Schicht |
| US3284205A (en) * | 1963-09-17 | 1966-11-08 | Horizons Inc | Benzotriazole and heterocyclic ketimide activators for leuco compounds |
| GB1090142A (en) * | 1965-02-26 | 1967-11-08 | Agfa Gevaert Nv | Photochemical insolubilisation of polymers |
| US3449367A (en) * | 1965-08-13 | 1969-06-10 | Pennsalt Chemicals Corp | Chromium phosphinate complexes |
| US3552973A (en) * | 1967-07-20 | 1971-01-05 | Du Pont | Light sensitive hexaarylbiimidazole/p- aminophenyl ketone compositions |
| US3574622A (en) * | 1968-10-09 | 1971-04-13 | Eastman Kodak Co | Photopolymerization using n-alkoxy heterocyclic initiators |
| BE756378A (fr) * | 1969-09-18 | 1971-03-01 | Eastman Kodak Co | Composition et produit photosensibles contenant des photo-oxydants |
| US3883351A (en) * | 1972-02-09 | 1975-05-13 | Horizons Inc | Method of making a photoresist |
| US3899338A (en) * | 1972-02-09 | 1975-08-12 | Horizons Inc | Photosensitive material suitable for use as a photoresist |
| JPS5514087B2 (ja) * | 1973-09-05 | 1980-04-14 | ||
| DE2557408C2 (de) * | 1975-12-19 | 1983-08-25 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur Herstellung eines in organischen Lösungsmitteln löslichen, vernetzbaren Acryloyl- und/oder Methacryloylgruppen und Carboxylgruppen enthaltenden Urethanharzes und seine Verwendung |
| US4065315A (en) * | 1976-04-26 | 1977-12-27 | Dynachem Corporation | Phototropic dye system and photosensitive compositions containing the same |
| LU76074A1 (ja) * | 1976-10-26 | 1978-05-16 | ||
| CA1153610A (en) * | 1978-05-09 | 1983-09-13 | Edward J. Reardon, Jr. | Carbonylic halides as activators for phototropic compositions |
| DE2953553T1 (de) * | 1979-02-26 | 1982-03-25 | Xidex Corp | Contrast colorant for photopolymerizable compositions |
| US4228232A (en) * | 1979-02-27 | 1980-10-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photopolymerizable composition containing ethylenically unsaturated oligomers |
| US4304923A (en) * | 1979-02-27 | 1981-12-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photopolymerizable oligomer |
| US4247618A (en) * | 1979-05-11 | 1981-01-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photoimaging systems with cyclic hydrazides |
| CA1216998A (en) * | 1980-09-10 | 1987-01-20 | Donald P. Specht | Photopolymerization compositions comprising amine- substituted photosensitizers and n-heterocyclic compounds bearing an n-oxy substituent |
| JPS6057340A (ja) * | 1983-09-08 | 1985-04-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 焼出し性組成物 |
| JPS60239744A (ja) * | 1984-05-14 | 1985-11-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
-
1987
- 1987-05-21 DE DE19873717037 patent/DE3717037A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-05-13 EP EP88107721A patent/EP0291881B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-05-13 DE DE8888107721T patent/DE3876855D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-05-17 US US07/195,008 patent/US4886735A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-05-20 JP JP63122224A patent/JPH01118833A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1992009011A1 (fr) * | 1990-11-19 | 1992-05-29 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Composition de resine photosensible et structure d'element photosensible |
| US6030749A (en) * | 1990-11-19 | 2000-02-29 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition and a photosensitive element structure |
| JP2008265265A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-11-06 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及び平版印刷方法 |
| US11213876B2 (en) | 2017-10-05 | 2022-01-04 | Showa Aluminum Can Corporation | Guidance device, device for moving disc-shaped member, can lid manufacturing system and beverage can manufacturing system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0291881A2 (de) | 1988-11-23 |
| DE3876855D1 (de) | 1993-02-04 |
| DE3717037A1 (de) | 1988-12-08 |
| US4886735A (en) | 1989-12-12 |
| EP0291881B1 (de) | 1992-12-23 |
| EP0291881A3 (en) | 1989-06-07 |
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