JPH0112773B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

ポリカーボネートは公知であり、そして、その
顕著な特質のため、多くの分野の応用に使用され
てきた。しかしながら、例えば有機溶媒に対する
抵抗力および応力亀裂に対する耐性は、特定的な
応用に対しては不適当である。 フエノール、ｐ−ｔ−ブチルフエノールまたは
２，６−ジメチルフエノールのみで末端が普通に
おさまつているポリカーボネートと比較すると、
本発明に従うポリカーボネートは機械的または熱
的特性に変化を示さない。更に、それらのもの
は、殊に光開始剤の存在下およびUV光の照射下
では、架橋に適しており、従つて有機溶媒に対し
て抵抗力を有し、応力亀裂に対して強く、難燃化
剤を加えることによつて殊に優れた防炎性を有す
るポリカーボネートを製造するのを可能にする。 本発明は、ジフエノールおよび一官能基の連鎖
停止剤を使用して製造される、一般式（） 式中、Ｚはジフエノールから水酸基を除去した
残基であり、 ｎは約20乃至400の整数であり、 Ｅは であり、該式中、 ｍは０または１を意味し、 ＲはＨまたはC₁〜C₃−アルキルを意味する、 に相当する約10000乃至200000、好ましくは約
20000および80000の間の分子量ｗ（重量平均）
を有する芳香族ポリカーボネートの変性方法に関
する。 より詳細には、本発明は、上記式（）のポリ
カーボネートまたはポリカーボネート混合物を、
ポリカーボネートの重量に対して約0.5乃至５重
量％、好ましくは約１乃至３重量％の光開始剤、
および、場合により、ポリカーボネートの重量に
対して約0.5乃至５重量％、好ましくは約１およ
び３重量％の間の不安定なCH結合を有する化合
物（以下、光還元剤という）、および、場合によ
り、ポリカーボネートの重量に対して約0.05およ
び５重量％の間、好ましくは約0.1および２重量
％の間の難燃化剤を添加した後、紫外光で照射す
ることによつてポリカーボネートを変性（改質）
する方法に関する。 上記一般式（）のポリカーボネートは、一般
式（） HO−Ｚ−OH （） 式中、Ｚは、場合によりアルキル置換またはハ
ロゲン置換することができ、且つ、好ましくは約
６乃至30個のＣ原子を含有する、二価の芳香族の
基である、 のジフエノールおよび／またはそれらのクロロ炭
酸エステルを、ポリカーボネートの製造法として
公知の方法に従つて、均一または不均一な相の系
に於いて、使用した構造単位Ｚのモル数に対して
約0.05および５モル％、好ましくは約0.1乃至４
モル％の間の、一般式（） 式中、ｍおよびＲは式（）に対して示した意
味を有する、 の化合物と反応させることによつて製造される。 連鎖の停止に使用されるモノマーは安価であり
市場で容易に入手でき、ポリカーボネートの製造
法として公知の方法でポリマー中に難なく組み入
れることができるので、紫外光により容易に架橋
できるポリカーボネートは経済的な条件下で製造
することができる。 本発明に従つて好適な式（）の化合物の例
は、アクリロイルクロリド、メタクリロイルクロ
リド、イソプロペニルフエニルクロロカーボネー
トおよびｐ−ヒドロキシスチレンクロロカーボネ
ートである。 本発明に従つて使用すべき式（）に従う連鎖
停止剤に加えて、ポリカーボネートの合成に適し
た通常の一官能基のフエノールは全て本発明に従
つて共に使用することもできる。 好ましくは６乃至30個のＣ原子を含有する式
（）のジフエノールの適当な例は、ヒドロキノ
ン、レゾルシノール、ジヒドロキシジフエニル、
ビス−（ヒドロキシフエニル）−アルカン、ビス−
（ヒドロキシフエニル）−シクロアルカン、ビス−
（ヒドロキシフエニル）スルフイド、ビス−（ヒド
ロキシフエニル）エーテル、ビス−（ヒドロキシ
フエニル）スルホキシド、ビス−（ヒドロキシフ
エニル）スルホン、α、α′−ビス−（ヒドロキシ
フエニル）−ジイソプロピルベンゼンおよびこれ
らのものの核アルキル化並びに核ハロゲン化化合
物である。 これらのものおよび他の好適なジフエノール
は、例えば、米国特許第3028365号、同2999835
号、同3148172号、同3271368号、同2991273号、
同3271367号、同3280078号、同3014891号、およ
び同2999846号、西ドイツ国特許出願公開明細書
第1570703号、同2063050号、同2063052号、同
2211956号および2211957号、フランス国特許第
1561518号および単行本「H.Schnell、Chemistry
and Physics of Polycarbonates、Interscience
Publishers、New York、1964年」に記載されて
いる。 好ましいジフエノールの例は、２，２−ビス−
（４−ヒドロキシフエニル）−プロパン、２，２−
ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフエ
ニル）−プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジク
ロロ−４−ヒドロキシフエニル）−プロパン、２，
２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフ
エニル）−プロパンおよび１，１−ビス−（４−ヒ
ドロキシフエニル）−シクロヘキサンである。 式（）のジフエノールの如何なる混合物も、
他の発明と牴触しない限り、使用することが可能
である。 ポリカーボネートは、用いるジフエノールに対
して少量の、好ましくは約0.05および2.0モル％
の間の量の、３官能基または３官能基より多くの
基の化合物、殊に３または３より多くのフエノー
ル性ヒドロキシル基を有する化合物を組み入れる
ことによつて、分枝させることができる。 この種のポリカーボネートは、例えば、西ドイ
ツ国特許出願公告明細書第1570533号、同1595762
号、同2116974号、同2113347号および同2500092
号、連合王国特許第1079821号および米国特許第
3544514号に記載されている。 本発明に従うポリカーボネートの製造は実質上
下記の２つの公知の方法（H.Schnell、
Chemistry and Physics of Polycarbonahes、
Polymer Rev.、第巻、27頁以降．
Interscience Publishers参照）により行なうこと
ができ、それは手短には下記の如く記述される。 １ 不均一な相の系に於ける芳香族ポリカーボネ
ートの製造（相境界法） この方法に於いては、式（）のジフエノー
ルをアルカリ性の水層に溶解させる。本発明に
従うポリカーボネートの製造に必要な、式
（）に従う連鎖調節剤を、有機溶媒に溶かす
かあるいはそのままで、このアルカリ相に加え
る。該ポリカーボネートに適した溶媒を加えた
後、二相の混合物が生成するが、この中へ約０
および60℃の間でホスゲンを通す。触媒を添加
すると高分子量のポリカーボネートが得られ
る。該混合物を、有機相を洗いそして次に例え
ば非蒸発押出し成形器中で約280および330℃の
間の温度に於いて溶媒を留去させることにより
仕上げる。 ポリカーボネートおよび式（）の化合物に
適した有機溶媒は、例えばメチレンクロリド、
クロロベンゼンおよびそれらの混合物の如き、
ポリカーボネートの合成に対しては公知のもの
である。 好適な触媒は、例えばトリエチルアミンおよ
びトリブチルアミンの如き、ポリカーボネート
の合成に対しては公知のものである。 ２ 均一な相の系に於けるポリカーボネートの製
造（ピリジン法） 一般式（）に従うジフエノールおよび一般
式（）に従う連鎖調節剤を、例えばピリジン
の如き有機塩基中に溶解させる。該ポリカーボ
ネートに適した溶媒を加えた後、約０および60
℃の間の温度に於いてホスゲンを通す。 反応の間に生成するピリジンハイドロクロリ
ドを別し、そして有機層を希HClで洗いそし
て次に中性になるまで水で洗浄する。仕上げ
は、また、(1)のもとで記述した如く、例えば非
蒸発スクリユー中で溶媒を留去させることによ
り行なう。 ピリジンの他、適当な有機塩基の例はトリエ
チルアミンおよびトリブチルアミンである。メ
チレンクロリドおよびクロロベンゼンおよびそ
れらの混合物をポリカーボネートの溶媒として
使用することができる。 もし、式（）のジフエノールに加えて、或い
はジフエノールのかわりに、それらのもののクロ
ロ炭酸エステルを使用する場合は、(1)および(2)の
方法に必要な連鎖停止剤の量は、式（）のビス
フエノールおよびそれらのもののクロロ炭酸エス
テルの和から生起する構造単位Ｚから適宜に計算
される。 原理的には、ポリカーボネートと整合する光開
始剤は全て本発明に従うポリカーボネートの改良
に適している。かくて、例えば、最も広い意味で
の脂肪族および芳香族ケトンを基材とする、グリ
オキサレートおよびキノンも包含する光開始剤が
適している。もう少し狭い意味でのケトンおよび
グリオキサレートの例は、アセトフエノン、ベン
ジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、
ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフエノ
ン、ｐ−クロロ−ベンゾフエノン、ｐ−ベンゾイ
ルベンゾフエノン、ジベンザルアセトン、ベンゾ
イルアセトン、ベンジルアセトン、デオキシベン
ゾイン、２，４−ジメチル−ベンゾフエノン、
２，５−ジメチルベンゾフエノン、３，４−ジメ
チルベンゾフエノン、４−ベンゾイルジフエニ
ル、９−フルオレノン、４，４−ビス−（ジメチ
ルアミノ）−ベンゾフエノン、４−ジメチルアミ
ノ−ベンゾフエノン、ジベンジルケトン、４−メ
チルベンゾフエノン、プロピオフエノン、ベンズ
アンスロン、エチルフエニルグリオキサレート、
ｔ−ブチルフエニルグリオキサレート、トリメチ
ルシリルフエニルグリオキサレート等々である。 芳香族ケトンまたはグリオキサレートが好まし
い。ベンゾフエノン、ベンゾイン、ｐ−ベンゾイ
ルベンゾフエノン、ｔ−ブチルフエニルグリオキ
サレートおよびトリメチルシリルフエニルグリオ
キサレートが殊に好ましい。 キノン、例えばアントラキノン、１−クロロア
ントラキノン、２−クロロ−アントラキノン、２
−エチルアントラキノン、１−メチルアントラキ
ノン、２−メチルアントラキノン、２−フエニル
アントラキノン等々もまた光開始剤として使用す
ることができる。好ましいキノンは２−メチルア
ントラキノン、２−クロロアントラキノン、およ
び２−エチルアントラキノンである。 他の好適な光開始剤は熟達した人々には公知で
あり、次の出版物から知ることもできる。J.
Kosar、「Light−Sensitive Systems」、John
Wiley ＆ Sons、New York、1965年、第４
章（「Unsaturated Compounds」）、第５章
（「Photopolymerization Processes」）および第
８章（Photopolymerization of Vinyl
Monomers）、「Chem.Revs.」第68巻、125乃至
151頁（1968年）、J.F.Rabek「Photosensitized
Processes in Polymer Chemistry：Ａ
Review」、Photochem.Photobiol.第７巻、５乃
至57頁（1968年）、G.Delzenne、「Sensitizers of
Photopolymerization」、Ind.Chim.Belge第24巻、
739乃至764頁（1965年）、およびC.M.Mc
CloskeyおよびJ.Bond.「Photosensitizers For
Polyester−Vinyl Polymerization」．Ind.Eng.
Chem.第47巻、2125乃至2129頁（1955年）。 本発明に従うポリカーボネートの変性に必要な
紫外光照射は、市販で得られる紫外ランプ、例え
ばフイリツプスHTQ4または７、Hanoviaランプ
等々を用いた紫外光で達せられる。照射時間は、
用いる光開始剤の含有率および試料の性質に応じ
て約20乃至180秒とする。 本発明に従うポリカーボネートの変性に適した
難燃化剤の例は、公知であつて且つポリカーボネ
ートを耐炎性にするのに適した化合物、および、
西ドイツ国特許出願公開明細書第2049358号およ
び同2253072号、米国特許第3775367号および同
3836490号および他の文献に記載されているもの
の如き、協同作用を有する物質である。 好適な化合物の例は、アルカリ金属塩、殊に、
例えばイソオクタン酸カリウム、イソオクタン酸
ナトリウム、イソオクタン酸リチウム、ペルフル
オロオクタン酸カリウム、ペルフルオロオクタン
酸ナトリウム、ペルフルオロオクタン酸リチウ
ム、５−エチル−ジオキサン−１，３−イル−５
−カルボン酸のカリウム塩、イソオクタン酸ルビ
ジウム、ペルフルオロオクタン酸ルビジウムおよ
びペルフルオロメタンスルホン酸カリウム、ペル
フルオロオクタンスルホン酸カリウムおよびペル
フルオロブタンスルホン酸カリウムの如きペルフ
ルオロアルカンスルホン酸のアルカリ金属塩の如
き、ポリカーボネート中に可溶なアルカリ金属塩
である。 更に、ラウリン酸、ステアリン酸、オレイン
酸、フタール酸モノベンジルエステル、アジピン
酸モノブチルエステル、ｐ−オクチル安息香酸、
ｐ−ｔ−ブチル安息香酸、３−（３，５−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシフエニル）−プロピオ
ン酸およびジグリコール酸モノデシルエステルの
アルカリ金属塩を使用することもできる。 本発明に従うポリカーボネートの変性は二段で
達成することができる。最初の段階は、 (a) 溶解しフイルムとして単離することによる
か、或いは (b) 約280および330℃の間で混合し、場合により
ポリカーボネートをシートまたは他の射出成形
体へ成形することにより、光開始剤および場合
により難燃化剤および／または光還元剤を組み
入れる段階で、第二の段階は架橋が達成される
までの紫外光照射である。 (b)の段階を進める際は、例えばベンゾフエノン
の如き物質を、混合前にポリカーボネートに加
え、光開始剤を活性化するのが好ましい。光開始
剤と一緒に光還元剤を使用することは文献でよく
知られている。（J.Am.Chem.Soc.83巻、2795頁
（1961年）、J.Am.Chem.Soc.第89巻、3471頁
（1967年）およびAngew.Chem.1032頁（1972年）
参照）。 光還元剤すなわち不安定なCH結合を有する化
合物としては、メシチレン、ジベンジルエーテ
ル、安息香酸ベンジルエステル、ポリグリコール
エーテルまたは脂肪族ポリエステルを使用するこ
とができる。 本発明では、また、光開始剤の活性化のもう一
つの方法として、光開始剤を含有するポリカーボ
ネートを照射に先立つて不安定なCH結合を有す
る化合物の蒸気に曝し、そして、その後直ちに紫
外線光照射によつて架橋を行なわせることもでき
る。その際に使用できる化合物は、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、クロロホルム、トルエン、
キシレンまたはCH₂Cl₂である。 組み入れるべき光還元剤の量は組み入れられた
光開始剤の量によるが、一般には光開始剤を基準
にして等モルの量の光還元剤を加える。 更に、組み入れられた光開始剤の量に応じて、
蒸気状態で使用される光還元剤の量は、主に、架
橋されるべき表面およびポリカーボネート成形体
の構造並びに望みの架橋反応の程度による。 場合により炎遅延剤を組み入れた後の、光開始
剤を用い、場合により光還元剤を用いた、本発明
のポリカーボネートを提供するためのもう一つ別
の方法は、それぞれのポリカーボネート成形体
を、よく知られている方法、例えば米国特許第
3892889号の方法と類似の方法を用いて、光開始
剤の溶液および場合によりポリカーボネートに対
して不活性な溶媒中の光還元剤を使用して、浸漬
または噴霧することである。 用いるべき光開始剤および場合により光還元剤
の量は、これも、主として、架橋されるべき表面
およびポリカーボネート成形体の構造並びに望み
の架橋反応の程度による。光開始剤および場合に
より光還元剤の、この後者の工程変数に従う、ポ
リカーボネート表面に使用すべき量は、架橋され
るべき平均100μの表面層に対しそれぞれ10^-3ｇ／
cm²の大きさの程度である。処理されたポリカーボ
ネート成形体は次によく知られた方法で乾燥さ
せ、紫外光照射で改良する。 他の高エネルギー線源、例えば電子線、殊に陰
極線もまた、場合により増感剤の添加後、本発明
のポリカーボネートの照射に使用することができ
る。 本発明に従つて得ることができる変性されたポ
リカーボネート成形組成物は有機溶媒に対して抵
抗力があり、そして通常のポリカーボネートと比
較すると、応力亀裂に対する改善された抵抗力に
よつて区別できる。もし難燃化剤を加えてあれ
ば、ほんの少しの添加であつても、ULサブジエ
クト94に従うとVOと評価される生成物が得られ
る。 本発明に従つて得ることができる変性されたポ
リカーボネートは、応力亀裂に対する高い抵抗力
と同時に有機溶媒に対する高い抵抗力が要求され
る全ての場合に、フイルムおよび成形体として使
用することができる。 以下の実施例は本発明の主旨を実に詳細に例示
する目的のものである。示した相対粘度は、メチ
レンクロリド中、25℃および濃度５ｇ／に於い
て測定した。 なお、下記におけるULサブジエクト94試験は、
一試料につき10本ずつの寸法127×12.7×1.6mm
（1/16″）および127×12.7×3.2mm（1/8″）の射出
成形された試験棒を用いての燃焼試験によつて、
当該試料の難燃性をV0、V1およびV2のいずれか
の等級に分類するものであつて、その分類基準は
次の通りである。 V0：点火炎を取り去つた後の平均の燃焼およ
び／またはくすぶりが５秒を越えず、且つ、脱
脂綿に着火する滴下粒を生じない。 V1：点火炎を取り去つた後の平均の燃焼およ
び／またはくすぶりが25秒を越えず、且つ脱脂
綿に着火する滴下粒を生じない。 V2：点火炎を取り去つた後の平均の燃焼およ
び／またはくすぶりが25秒を越えないが、脱脂
綿に着火する滴下粒を生ずる。 ただし、各試料はすべての試験棒が特定のＶ等
級に適合することを必要とし、さもなくば、当該
試料には最も悪い試験棒の等級が付される。例え
ば、１本の試験棒がV2と等級付けられ、他の９
本の試験棒がV0と等級付けられた場合には、当
該試料はV2と評価される。 参考例 １ 連鎖停止剤としてメタクリロイルクロリド3.27
モル％を用いて製造したポリカーボネート。 ２，２−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−プ
ロパン（ビスフエノールＡ）3.192Kg（14モル）、
濃度45％の水酸化ナトリウム水溶液2.53Kgおよび
蒸留水15から１つの溶液を作る。メチレンクロ
リド34Kgを加えた後、メチレンクロリド１Kg中に
溶かしたメタクリロイルクロリド52.2ｇ（約0.5
モル）を、室温に於いて撹拌しながら加える。20
乃至25℃に於いて、ホスゲン2.64Kgを通す。濃度
6.5％の水酸化ナトリウム溶液を更に26.3Kg加え
ることによつて、ホスゲン化の間PH値を13乃至14
に保持する。トリエチルアミン15mlを次に加え、
混合物を更に30分間撹拌する。つぎに上部の水相
を分離し去り、有機相を酸洗し、電解質が無くな
るまで洗浄する。次にメチレンクロリドを300℃
で有機相からZSK機を介して留去し去り、そし
てポリカーボネートを粒剤とする。相対溶融粘度
は約1.30であり、分子量は約28500である。 参考例 ２ イソプロペニルフエニルクロロカーボネート
3.4モル％を用いて製造したポリカーボネート。 製造および仕上げは、参考例１に於いて記載し
た方法に従つて、イソプロペニルフエニルクロロ
カーボネート3.4モル％を用いて行なう。相対溶
液粘度は約1.31であり、分子量は約29700である。 参考例 ３（比較参考例） ｐ−ｔ−ブチルフエノール3.27モル％を用いて
製造したポリカーボネート。 製造および仕上げは、参考例１に於いて記載し
た方法に従つて、ｐ−ｔ−ブチルフエノール3.27
モル％を用いて行なう。相対溶液粘度は約1.30で
あり、分子量は約28500である。 参考例１乃至３からのポリカーボネートをメチ
レンクロリド中に溶かし、そして、ベンゾフエノ
ン１または２重量％を加えてから、厚さ約100μ
のフイルムに加工し、約120℃に於いて一晩乾燥
する。 参考例 ４ 参考例１のポリカーボネートをメチレンクロリ
ド中に溶かし、ポリカーボネートの重量を基準に
して１重量％のベンゾフエノンおよびポリカーボ
ネートの重量を基準にして1.5重量％のジベンジ
ルエーテルをも加えてから、厚さ約100μのフイ
ルムに加工し、約120℃に於いて一晩乾燥する。 実施例 １ 参考例１乃至４からのフイルムを、次に、フイ
リツプスHTQ紫外ランプ（高圧水銀蒸気ランプ）
を用いて、15cmの距離に於いて、45および180秒
間両面を照射する。フイルムをメチレンクロリド
で処理し架橋した部分を不溶性繊維あるいはフイ
ルム片として別し、乾燥後重量法により決定す
る。参考例１乃至４からのポリカーボネートの異
なる架橋の結果、フイルムは異なつた応力亀裂を
起す。 測定のために、幅１cmで厚さ100μの細片を曲
げて半径３cmの輪を作り、そして、その輪を四塩
化炭素に浸す。応力亀裂の起つた結果フイルムの
輪が壊れるまでの時間を記録する。結果を第１表
に要約する。

【表】 参考例 ５ 参考例１からのポリカーボネート3916ｇを、ベ
ンゾフエノン80ｇ（２重量％）およびペルフルオ
ロブタンスルホン酸カリウム４ｇ（0.1重量％）
と、300℃に於いて、ツインスクリユー型の機械
中で一緒に混合し、該混合物を粒剤とする。 参考例 ６ 参考例２からのポリカーボネート3876ｇを、ベ
ンゾフエノン120ｇおよびペルフルオロブタンス
ルホン酸カリウム４ｇと、300℃に於いて、ツイ
ンスクリユー型の機械中で混合し、該混合物を粒
剤とする。 参考例 ７（比較参考例） 参考例３からのポリカーボネート3876ｇを、ベ
ンゾフエノン120ｇおよびペルフルオロブタンス
ルホン酸カリウム４ｇと、300℃に於いて、ツイ
ンスクリユー型の機械中で混合し、該混合物を粒
剤とする。 実施例 ２ 参考例５、６および７からのポリカーボネート
粒剤を射出成形して標準的な試験棒を作り、フイ
リツプスHTQ ４高圧水銀蒸気ランプを用いて、
約15cmの距離に於いて約45秒間この棒の両面を照
射する。見出した、火に対する危険率の分類を第
２表に要約する。

【表】

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 約10000および200000の間の分子量ｗ（重量
   平均）を有し、ジフエノールおよび一官能基の連
   鎖停止剤を使用して製造された、一般式（） 式中、Ｚはジフエノールから水酸基を除去した
   残基を意味し、 ｎは約20乃至400の整数を意味し、 Ｅは を意味し、該式中ｍは０または１を意味し、そし
   て ＲはＨまたはC₁−C₃−アルキルを意味する、 に相当する高分子量の芳香族ポリカーボネート
   を、該ポリカーボネートに該ポリカーボネートの
   重量に対して0.05および５重量％の間の光開始剤
   ならびに場合により該ポリカーボネートの重量に
   対して0.05および５重量％の間のメシチレン、ジ
   ベンジルエーテル、安息香酸ベンジルエステル、
   ポリグリコールエーテル、脂肪族ポリエステル、
   テトラヒドロフラン、ジオキサン、クロロホル
   ム、トルエン、キシレンおよびCH₂Cl₂から選ば
   れる不安定なCH結合を有する化合物を添加した
   のち、紫外光で照射することを特徴とする、ポリ
   カーボネートの変性方法。 ２ ポリカーボネートを、 (a) ポリカーボネートの重量に対して0.05および
   ５重量％の間の光開始剤および (b) 場合により、ポリカーボネートの重量に対し
   て0.05および５重量％の間の不安定CH結合を
   有する化合物 を含有する溶媒混合物中に浸し、そして次に紫外
   光を照射することから成り、該溶媒がポリカーボ
   ネートに対して不活性なものであることを特徴と
   する、特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 光開始剤および場合により不安定なCH結合
   を有する化合物を含有する溶媒混合物を用いてポ
   リカーボネートに噴霧することから成る、特許請
   求の範囲第１項記載の方法。 ４ 約10000および200000の間の分子量ｗ（重量
   平均）を有し、ジフエノールおよび一官能基の連
   鎖停止剤を使用して製造された、一般式（） 式中、Ｚはジフエノールから水酸基を除去した
   残基を意味し、ｎは約20乃至400の整数を意味し、
   Ｅは を意味し、該式中ｍは０または１を意味し、そし
   てＲはＨまたはC₁−C₃−アルキルを意味する、 に相当する高分子量の芳香族ポリカーボネート
   を、該ポリカーボネートに該ポリカーボネートの
   重量に対して0.05および５重量％の間の光開始
   剤、該ポリカーボネートの重量に対して0.05およ
   び５重量％の間の難燃化剤ならびに場合により該
   ポリカーボネートの重量に対して0.05および５重
   量％の間のメシチレン、ジベンジルエーテル、安
   息香酸ベンジルエステル、ポリグリコールエーテ
   ル、脂肪族ポリエステル、テトラヒドロフラン、
   ジオキサン、クロロホルム、トルエン、キシレン
   およびCH₂Cl₂から選ばれる不安定なCH結合を有
   する化合物を添加したのち、紫外光で照射するこ
   とを特徴とする、ポリカーボネートの変性方法。