JPH01130321A - 磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
磁気ディスクの製造方法Info
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- JPH01130321A JPH01130321A JP62289778A JP28977887A JPH01130321A JP H01130321 A JPH01130321 A JP H01130321A JP 62289778 A JP62289778 A JP 62289778A JP 28977887 A JP28977887 A JP 28977887A JP H01130321 A JPH01130321 A JP H01130321A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 22
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16H—GEARING
- F16H61/00—Control functions within control units of change-speed- or reversing-gearings for conveying rotary motion ; Control of exclusively fluid gearing, friction gearing, gearings with endless flexible members or other particular types of gearing
- F16H61/66—Control functions within control units of change-speed- or reversing-gearings for conveying rotary motion ; Control of exclusively fluid gearing, friction gearing, gearings with endless flexible members or other particular types of gearing specially adapted for continuously variable gearings
- F16H61/662—Control functions within control units of change-speed- or reversing-gearings for conveying rotary motion ; Control of exclusively fluid gearing, friction gearing, gearings with endless flexible members or other particular types of gearing specially adapted for continuously variable gearings with endless flexible members
- F16H61/66254—Control functions within control units of change-speed- or reversing-gearings for conveying rotary motion ; Control of exclusively fluid gearing, friction gearing, gearings with endless flexible members or other particular types of gearing specially adapted for continuously variable gearings with endless flexible members controlling of shifting being influenced by a signal derived from the engine and the main coupling
- F16H61/66259—Control functions within control units of change-speed- or reversing-gearings for conveying rotary motion ; Control of exclusively fluid gearing, friction gearing, gearings with endless flexible members or other particular types of gearing specially adapted for continuously variable gearings with endless flexible members controlling of shifting being influenced by a signal derived from the engine and the main coupling using electrical or electronical sensing or control means
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、インライン型スパッタ法により下地膜、磁気
記録膜および保護膜を形成する磁気ディスクの製造方法
に関する。
記録膜および保護膜を形成する磁気ディスクの製造方法
に関する。
（従来の技術）
従来より、例えば第３図に示すようなインライン型スパ
ッタ装置を用いて金属薄膜型の磁気ディスクを製造する
ことが試みられている。
ッタ装置を用いて金属薄膜型の磁気ディスクを製造する
ことが試みられている。
第３図において、１はスパッタ装置を構成する真空容器
であり、この真空容器１内には、下地膜（例えば、ｃｒ
膜）を形成するための一対の第１ターゲット２，３と、
磁気記録膜（例えばＣ０ＮｉＣｒ膜）を形成するための
一対の第２ターゲット４．５と、保護膜（例えば、Ｃ膜
）を形成するための一対の第３ターゲツト６．７と、が
矢印Ａで示すディスク基板の搬送方向に順次収納されて
いる。
であり、この真空容器１内には、下地膜（例えば、ｃｒ
膜）を形成するための一対の第１ターゲット２，３と、
磁気記録膜（例えばＣ０ＮｉＣｒ膜）を形成するための
一対の第２ターゲット４．５と、保護膜（例えば、Ｃ膜
）を形成するための一対の第３ターゲツト６．７と、が
矢印Ａで示すディスク基板の搬送方向に順次収納されて
いる。
このように構成されたスパッタ装置において、まず、Ｃ
ｒターゲット２，３を用いて環状マグネトロンスパッタ
を行なって、Ｃｒ粒子を飛来させて基板８上に所定の厚
さの下地膜となるＣｒ膜９を形成し、次いでこのＣｒ膜
９上にＣＯＮ ｒ Ｃｒターゲット４，５を用いて環状
マグネトロンスパッタを行ない、ＣＯＮ ｉ Ｃｒ粒子
を飛来させて磁気記録膜となるＣ０ＮｉＣｒ膜１０を所
定の厚さに形成し、ざらにＣターゲット６．７を用いて
環状マグネトロンスパッタを行ない、Ｃ粒子を飛来させ
てＣｏＮｉＣｒ膜１０上にＣ膜１１を所定の厚さに形層
する（第４図および第５図、参照）。
ｒターゲット２，３を用いて環状マグネトロンスパッタ
を行なって、Ｃｒ粒子を飛来させて基板８上に所定の厚
さの下地膜となるＣｒ膜９を形成し、次いでこのＣｒ膜
９上にＣＯＮ ｒ Ｃｒターゲット４，５を用いて環状
マグネトロンスパッタを行ない、ＣＯＮ ｉ Ｃｒ粒子
を飛来させて磁気記録膜となるＣ０ＮｉＣｒ膜１０を所
定の厚さに形成し、ざらにＣターゲット６．７を用いて
環状マグネトロンスパッタを行ない、Ｃ粒子を飛来させ
てＣｏＮｉＣｒ膜１０上にＣ膜１１を所定の厚さに形層
する（第４図および第５図、参照）。
こうして、磁気ディスクが製造される。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら、このような従来の磁気ディスクの製造方
法にあっては、製造された磁気ディスクの膜断面は、第
４図および第５図に示すような粒構成となっていた。す
なわち、第４図に示すように、ディスク基板の搬送方向
（矢印Ａ、参照）に対して垂直な方向からみた断面では
、Ｃｒ膜９のＣｒ粒子９ＡおよびＣｏＮｉＣｒ膜１０の
Ｃ０ＮｉＣｒ粒子１０Ａは弓状にそれぞれ湾曲した形状
となっているが、これに対して第５図に示すようにディ
スク基板の搬送方向（■印Ｂ、参照）がらみた断面では
、Ｃｒ膜９のＣｒ粒子９ＢおよびＣｏＮｉＣｒ膜１０の
ＣｏＮ ｉ Ｃｒ粒子１０Ｂは柱状の形状となっている
。
法にあっては、製造された磁気ディスクの膜断面は、第
４図および第５図に示すような粒構成となっていた。す
なわち、第４図に示すように、ディスク基板の搬送方向
（矢印Ａ、参照）に対して垂直な方向からみた断面では
、Ｃｒ膜９のＣｒ粒子９ＡおよびＣｏＮｉＣｒ膜１０の
Ｃ０ＮｉＣｒ粒子１０Ａは弓状にそれぞれ湾曲した形状
となっているが、これに対して第５図に示すようにディ
スク基板の搬送方向（■印Ｂ、参照）がらみた断面では
、Ｃｒ膜９のＣｒ粒子９ＢおよびＣｏＮｉＣｒ膜１０の
ＣｏＮ ｉ Ｃｒ粒子１０Ｂは柱状の形状となっている
。
このようにＣｒ粒子９Ａ、９ＢおよびＣｏＮｉＣｒ粒子
１０Ａ、１０Ｂのそれぞれの形状がディスク基板の搬送
方向とその垂直方向において異なるため、磁気異方性が
大きくなる。その結果、保磁力Ｈｃはディスク基板の搬
送方向とその垂直方向においてその差（ΔＨｃ）が大き
くなり、再生時には再生出力が変動し、モジュレーショ
ンやノイズが大きくなるという問題点があった。
１０Ａ、１０Ｂのそれぞれの形状がディスク基板の搬送
方向とその垂直方向において異なるため、磁気異方性が
大きくなる。その結果、保磁力Ｈｃはディスク基板の搬
送方向とその垂直方向においてその差（ΔＨｃ）が大き
くなり、再生時には再生出力が変動し、モジュレーショ
ンやノイズが大きくなるという問題点があった。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、このような従来の問題点に鑑みてなされたも
のであって、少なくとも下地膜を形成するためのターゲ
ットを複数組設けて多層となるように下地膜を形成する
ことにより、粒子形状を柱状に近づくように変えて磁気
特性の改善を図った磁気ディスクの製造方法を提供する
ことを目的としている。
のであって、少なくとも下地膜を形成するためのターゲ
ットを複数組設けて多層となるように下地膜を形成する
ことにより、粒子形状を柱状に近づくように変えて磁気
特性の改善を図った磁気ディスクの製造方法を提供する
ことを目的としている。
この目的を達成するために、本発明は、スパッタ法で基
板上に下地膜、磁気記録膜および保護膜を形成する磁気
ディスクの製造方法において、少なくとも複数組のター
ゲットを用いて多層となるように前記下地膜を形成する
ようにしたものである。
板上に下地膜、磁気記録膜および保護膜を形成する磁気
ディスクの製造方法において、少なくとも複数組のター
ゲットを用いて多層となるように前記下地膜を形成する
ようにしたものである。
（作用）
本発明では、少なくとも下地膜を形成するためのターゲ
ットを複数組設けて下地膜が多層となるように形成した
ため、ディスク基板の搬送方向に対して垂直となる方向
からみた断面において、下地膜を構成する粒構成が柱状
に近づく。
ットを複数組設けて下地膜が多層となるように形成した
ため、ディスク基板の搬送方向に対して垂直となる方向
からみた断面において、下地膜を構成する粒構成が柱状
に近づく。
したがって、磁気異方性が小さくなり、ディスク基板の
搬送方向とその垂直方向において保磁力ＨＣはその差が
小さくなる。その結果、再生時の再生出力は変動が小さ
くなり、モジュレーションやノイズを充分抑制すること
ができる。
搬送方向とその垂直方向において保磁力ＨＣはその差が
小さくなる。その結果、再生時の再生出力は変動が小さ
くなり、モジュレーションやノイズを充分抑制すること
ができる。
（実施例）
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第１図は本発明を実施するためのインライン型スパッタ
装置を示す図である。
装置を示す図である。
まず、装置を説明すると、第１図において、２１はイン
ライン型スパッタ装置を構成する真空容器であり、この
真空容器２１内は所定の真空度に保持されている。
ライン型スパッタ装置を構成する真空容器であり、この
真空容器２１内は所定の真空度に保持されている。
真空容器２１内にはディスク基板の搬送方向（矢印Ａ、
参照）に、まず−組の第１ターゲツト２２．２３および
一組の第２ターゲット２４，２５がそれぞれ設置される
。第１ターゲツト２２゜２３は、下地膜となる例えば第
１Ｃｒ膜２６を形成するためのものであり、また第２タ
ーゲツト２４．２５は、下地膜となる第２Ｏｒ膜２７を
形成するためのものである。
参照）に、まず−組の第１ターゲツト２２．２３および
一組の第２ターゲット２４，２５がそれぞれ設置される
。第１ターゲツト２２゜２３は、下地膜となる例えば第
１Ｃｒ膜２６を形成するためのものであり、また第２タ
ーゲツト２４．２５は、下地膜となる第２Ｏｒ膜２７を
形成するためのものである。
次に、真空容器２１内には第２ターゲツト２４゜２５に
つづいてディスク基板の搬送方向に、−組の第３ターゲ
ット２８．２９および一組の第４ターゲット３０．３１
が設置される。第３ターゲット２８．２９は、磁気記録
膜となる、例えば第１ＣＯＮｉＣｒ膜３２を形成するた
めのものでおり、第４ターゲット３０．３１は磁気記録
膜となる第２ＣｏＮ ｉ Ｃｒ膜３３を形成するための
ものである。
つづいてディスク基板の搬送方向に、−組の第３ターゲ
ット２８．２９および一組の第４ターゲット３０．３１
が設置される。第３ターゲット２８．２９は、磁気記録
膜となる、例えば第１ＣＯＮｉＣｒ膜３２を形成するた
めのものでおり、第４ターゲット３０．３１は磁気記録
膜となる第２ＣｏＮ ｉ Ｃｒ膜３３を形成するための
ものである。
次に、真空容器２１内には第４ターゲツト３０゜３１に
つづいてディスク基板の搬送方向に一組の第５ターゲッ
ト３４．３５が設＠される。第５ターゲット３４．３５
は保護膜となる、例えばＣ膜を形成するためのものであ
る。なお、前記第１゜第２ターゲツト２２〜２５と第３
．第４ターゲツト２８〜３１とは例えば１０ｃｍの間隔
をおいて設置される。また、第１．第２ターゲツト２２
〜２５および第３．第４ターゲツト２８〜３１は、ここ
ではそれぞれ２組づつ設置するようにしたが、これに限
定されるものでなく２組以上設置する方が効果が大きい
。
つづいてディスク基板の搬送方向に一組の第５ターゲッ
ト３４．３５が設＠される。第５ターゲット３４．３５
は保護膜となる、例えばＣ膜を形成するためのものであ
る。なお、前記第１゜第２ターゲツト２２〜２５と第３
．第４ターゲツト２８〜３１とは例えば１０ｃｍの間隔
をおいて設置される。また、第１．第２ターゲツト２２
〜２５および第３．第４ターゲツト２８〜３１は、ここ
ではそれぞれ２組づつ設置するようにしたが、これに限
定されるものでなく２組以上設置する方が効果が大きい
。
次に、前述したインライン型スパッタ装置を用いて磁気
ディスクを製造する製造方法を説明する。
ディスクを製造する製造方法を説明する。
まず矢印Ａで示す搬送方向に沿って基板３６を真空容器
２１内へ搬送する。基板３６としてはアルミニウム製基
板よりもキズがなく平滑性に優れている円盤状のガラス
板を用いる。
２１内へ搬送する。基板３６としてはアルミニウム製基
板よりもキズがなく平滑性に優れている円盤状のガラス
板を用いる。
次に、Ｃｒを用いて第１ターゲット２２．２３から環状
マグネトロンスパッタを行なってＣｒ粒子を飛来させて
基板、３６上に下地膜となる所定の厚さの第１０ｒ膜２
６を形成し、次いでこの第１Ｃｒ膜２６上にＣｒを用い
て環状マグネトロンスパッタを行なって第２ターゲット
２４．２５からＣｒ粒子を飛来させて下地膜となる所定
の厚さの第２Ｃｒ膜２７を形成する。
マグネトロンスパッタを行なってＣｒ粒子を飛来させて
基板、３６上に下地膜となる所定の厚さの第１０ｒ膜２
６を形成し、次いでこの第１Ｃｒ膜２６上にＣｒを用い
て環状マグネトロンスパッタを行なって第２ターゲット
２４．２５からＣｒ粒子を飛来させて下地膜となる所定
の厚さの第２Ｃｒ膜２７を形成する。
次に、第２Ｏｒ膜２７上にＣ０ＮｉＣｒを用いて環状マ
グネトロンスパッタを行なって第３ターゲット２８．２
９からＣ０ＮｉＣｒ粒子を飛来さ −せて磁気記録
膜となる所一定の厚さの第１ＣｏＮｉＣｒｌｌｉ３２を
形成し、゛次いでこの第１ ＣＯＮ ｒＣｒＣｒ膜上２
上ＯＮ ｉ Ｃｒを用いて環状マグネトロンスパッタを
行なつ”で第４ターゲツト３０゜３１からＣ０ＮｌＣｒ
粒子を飛来させて磁気記録膜となる所定の厚さの第２０
ＯＮ ＋ ｃｒ膜３３を形成する。
グネトロンスパッタを行なって第３ターゲット２８．２
９からＣ０ＮｉＣｒ粒子を飛来さ −せて磁気記録
膜となる所一定の厚さの第１ＣｏＮｉＣｒｌｌｉ３２を
形成し、゛次いでこの第１ ＣＯＮ ｒＣｒＣｒ膜上２
上ＯＮ ｉ Ｃｒを用いて環状マグネトロンスパッタを
行なつ”で第４ターゲツト３０゜３１からＣ０ＮｌＣｒ
粒子を飛来させて磁気記録膜となる所定の厚さの第２０
ＯＮ ＋ ｃｒ膜３３を形成する。
最摸に、第２ＣＯＮ ｒ ｃｒ膜３３上にＣを用いて環
状マグネトロンスパッタを行なって第５ターゲット３４
．３５からＣ粒子を飛来させて所定の厚さの保護膜とな
るＣ膜３７を形成する。こうして、磁気ディスクが製造
される。
状マグネトロンスパッタを行なって第５ターゲット３４
．３５からＣ粒子を飛来させて所定の厚さの保護膜とな
るＣ膜３７を形成する。こうして、磁気ディスクが製造
される。
製造された磁気ディスクの膜断面は第２図に示される。
第２図において、第１Ｃｒ膜２６と第２Ｏｒ膜２７とが
全体としてＣｒ膜３８を構成しており、第１ＣＯＮｉＣ
ｒ膜３２と第２ＣＯＮ＋ｃｒ膜３３とが全体としてＣＯ
Ｎ ｉ Ｑｒ膜３９を構成している。
全体としてＣｒ膜３８を構成しており、第１ＣＯＮｉＣ
ｒ膜３２と第２ＣＯＮ＋ｃｒ膜３３とが全体としてＣＯ
Ｎ ｉ Ｑｒ膜３９を構成している。
第１Ｃｒ膜２６を構成する第１Ｃｒ粒子２６Ａと第２０
ｒ膜２７を構成する第２０ｒ粒子２７Ａは、それぞれ小
ざな弓状に形成されるが、第１Ｃｒ粒子２６Ａと第２０
ｒ粒子２７Ａを積層した全体のＣｒ粒子の形状は、第５
図に示すＣｒ粒子９Ｂが示すような柱形状に近づく。す
なわち、Ｃｒ膜３８は多層に分割された第１．第２Ｏｒ
粒子２６Ａ、２７Ａから構成されるので、多層に分割す
ればするほど、Ｃｒ粒子の形状は直線的な柱形状に近づ
くことになる。
ｒ膜２７を構成する第２０ｒ粒子２７Ａは、それぞれ小
ざな弓状に形成されるが、第１Ｃｒ粒子２６Ａと第２０
ｒ粒子２７Ａを積層した全体のＣｒ粒子の形状は、第５
図に示すＣｒ粒子９Ｂが示すような柱形状に近づく。す
なわち、Ｃｒ膜３８は多層に分割された第１．第２Ｏｒ
粒子２６Ａ、２７Ａから構成されるので、多層に分割す
ればするほど、Ｃｒ粒子の形状は直線的な柱形状に近づ
くことになる。
同様に、第１ＣＯＮｉＣｒ膜３２を構成する第１ＣＯＮ
ｉＣｒ粒子３２Ａと、第２ＣＯＮ ｒ ｃｒ膜３３を構
成する第２ＣｏＮ ｉ Ｃｒ粒子３３Ａを積層した全体
のＣ’ｏＮｉＣｒ粒子は、第５図に示すＣＯＮ ｉ Ｃ
ｒ粒子１０Ａが示すような柱形状に近づく。
ｉＣｒ粒子３２Ａと、第２ＣＯＮ ｒ ｃｒ膜３３を構
成する第２ＣｏＮ ｉ Ｃｒ粒子３３Ａを積層した全体
のＣ’ｏＮｉＣｒ粒子は、第５図に示すＣＯＮ ｉ Ｃ
ｒ粒子１０Ａが示すような柱形状に近づく。
すなわち、第２図の矢印Ａで示すディスク基板の搬送方
向に対して垂直な方向からみた膜断面における粒構成は
、第５図に示す粒構成に近いものとなる。
向に対して垂直な方向からみた膜断面における粒構成は
、第５図に示す粒構成に近いものとなる。
したがって、磁気異方性は小さくなり、保磁力ＨＣはデ
ィスク基板の搬送方向とその垂直方向においてその差（
ΔＨＣ）が小さくなり、再生時の再生出力の変動はわず
かとなる。その結果、モジュレーションやシイズを充分
抑制することができる。
ィスク基板の搬送方向とその垂直方向においてその差（
ΔＨＣ）が小さくなり、再生時の再生出力の変動はわず
かとなる。その結果、モジュレーションやシイズを充分
抑制することができる。
なお、本実施例においては、第３．第４ターゲツト２８
〜３１を設けてＣ０ＮｉＣｒ膜３９を分割するようにし
たが、必ずしも分割させる必要はなく、Ｃｒ膜３８を分
割させるだけでも良い。
〜３１を設けてＣ０ＮｉＣｒ膜３９を分割するようにし
たが、必ずしも分割させる必要はなく、Ｃｒ膜３８を分
割させるだけでも良い。
（発明の効果）
以上説明してきたように、本発明によれば、少なくとも
複数組のターゲットを設けて下地膜となるＣｒ膜を複数
組に分割するようにしたため、その粒構成を柱形状に近
づけることができる。このため、磁気異方性は小さくな
り、保磁力はディスク基板の搬送方向とのその垂直方向
においてその差が小さくなり、再生時の再生出力の変動
が小さくなる。その結果、モジュレーションやノイズを
充分抑制することができる。
複数組のターゲットを設けて下地膜となるＣｒ膜を複数
組に分割するようにしたため、その粒構成を柱形状に近
づけることができる。このため、磁気異方性は小さくな
り、保磁力はディスク基板の搬送方向とのその垂直方向
においてその差が小さくなり、再生時の再生出力の変動
が小さくなる。その結果、モジュレーションやノイズを
充分抑制することができる。
第１図は本発明を実施するために用いるインライン型ス
パッタ装置の概略図、 第２図は本発明に係る製造方法により製造された磁気デ
ィスクの膜断面を示す半断面図、第３図は従来の製造方
法を実施するために用いるインライン型スパッタ装置の
概略図、第４図および第５図は従来の製造方法により製
造されせた磁気ディスクの膜断面を示す各半断面図であ
る。 ２１・・・真空容器、 ２２．２３・・・第１ターゲツト、 ２４．２５・・・第２ターゲツト、 ２６・・・第１Ｃｒ膜、 ２７・・・第２Ｃｒ膜、 ２８．２９・・・第３ターゲツト、 ３０．３１・・・第４ターゲツト、 ３２−・・第１ＣＯＮｉＣｒ膜、 ３３−・・第２ＣｏＮ ｉ Ｃｒ膜、 ３４．３５・・・第５ターゲツト、 ３６・・・基板、 ３７・・・Ｃ膜（保護膜）、 ３Ｂ−Ｃｒｔｌ＠（下地膜）、 ３９・・・ＣｏＮｉＣｒ膜（磁気記録膜）。 特許出願人 日本板硝子株式会社 代理人 弁理士 宮 内 佐一部
パッタ装置の概略図、 第２図は本発明に係る製造方法により製造された磁気デ
ィスクの膜断面を示す半断面図、第３図は従来の製造方
法を実施するために用いるインライン型スパッタ装置の
概略図、第４図および第５図は従来の製造方法により製
造されせた磁気ディスクの膜断面を示す各半断面図であ
る。 ２１・・・真空容器、 ２２．２３・・・第１ターゲツト、 ２４．２５・・・第２ターゲツト、 ２６・・・第１Ｃｒ膜、 ２７・・・第２Ｃｒ膜、 ２８．２９・・・第３ターゲツト、 ３０．３１・・・第４ターゲツト、 ３２−・・第１ＣＯＮｉＣｒ膜、 ３３−・・第２ＣｏＮ ｉ Ｃｒ膜、 ３４．３５・・・第５ターゲツト、 ３６・・・基板、 ３７・・・Ｃ膜（保護膜）、 ３Ｂ−Ｃｒｔｌ＠（下地膜）、 ３９・・・ＣｏＮｉＣｒ膜（磁気記録膜）。 特許出願人 日本板硝子株式会社 代理人 弁理士 宮 内 佐一部
Claims (1)
- スパッタ法で基板上に下地膜、磁気記録膜および保護膜
を形成する磁気ディスクの製造方法において、少なくと
も複数組のターゲットを用いて多層となるように前記下
地膜を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62289778A JPH01130321A (ja) | 1987-11-17 | 1987-11-17 | 磁気ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62289778A JPH01130321A (ja) | 1987-11-17 | 1987-11-17 | 磁気ディスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01130321A true JPH01130321A (ja) | 1989-05-23 |
| JPH0450652B2 JPH0450652B2 (ja) | 1992-08-14 |
Family
ID=17747637
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62289778A Granted JPH01130321A (ja) | 1987-11-17 | 1987-11-17 | 磁気ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01130321A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0249215A (ja) * | 1988-05-27 | 1990-02-19 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5977621A (ja) * | 1982-10-26 | 1984-05-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 垂直磁気記録媒体 |
| JPS61196430A (ja) * | 1985-02-27 | 1986-08-30 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS629526A (ja) * | 1985-07-02 | 1987-01-17 | リン・デ−タ・コ−ポレ−シヨン | デイスクの媒体 |
| JPS63131317A (ja) * | 1986-11-20 | 1988-06-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS63211121A (ja) * | 1987-02-27 | 1988-09-02 | Hitachi Ltd | 多層薄膜の製造方法 |
| JPS6414715A (en) * | 1987-07-08 | 1989-01-18 | Fuji Electric Co Ltd | Magnetic recording medium |
-
1987
- 1987-11-17 JP JP62289778A patent/JPH01130321A/ja active Granted
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5977621A (ja) * | 1982-10-26 | 1984-05-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 垂直磁気記録媒体 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0249215A (ja) * | 1988-05-27 | 1990-02-19 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0450652B2 (ja) | 1992-08-14 |
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