JPH01132555A - 新規なフェノール誘導体及びその使用 - Google Patents
新規なフェノール誘導体及びその使用Info
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- JPH01132555A JPH01132555A JP62289575A JP28957587A JPH01132555A JP H01132555 A JPH01132555 A JP H01132555A JP 62289575 A JP62289575 A JP 62289575A JP 28957587 A JP28957587 A JP 28957587A JP H01132555 A JPH01132555 A JP H01132555A
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- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
- B41M5/30—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using chemical colour formers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規なフェノール化合物及びこれを使用する記
録材料に関する。
録材料に関する。
電子供与性無色染料及び電子受容性化合物を用いた記録
材料は、感圧記録紙、感熱記録紙等として広く利用され
ている。この記録材料に用いられる電子受容性化合物と
しては、ビスフェノールA、ビスフェノールS、4−ヒ
ドロキシ安息香酸ベンジルエステル、2,2−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)−n−へブタン、4.4’−シ
クロヘキシリデンフェノール、4−フェニルフェノール
などが知られている。
材料は、感圧記録紙、感熱記録紙等として広く利用され
ている。この記録材料に用いられる電子受容性化合物と
しては、ビスフェノールA、ビスフェノールS、4−ヒ
ドロキシ安息香酸ベンジルエステル、2,2−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)−n−へブタン、4.4’−シ
クロヘキシリデンフェノール、4−フェニルフェノール
などが知られている。
しかしこれらの電子受容性化合物は、電子供与性無色染
料と組み合わせて使用したときの発色濃度が不充分であ
ったり、記録後における発色画像の濃度が経時的に低下
するなどの問題がある。
料と組み合わせて使用したときの発色濃度が不充分であ
ったり、記録後における発色画像の濃度が経時的に低下
するなどの問題がある。
本発明者らは、新規なフェノール、誘導体を創製し、こ
の化合物が感圧及び感熱記録材料用の電子受容性化合物
として有用であることを見出した。
の化合物が感圧及び感熱記録材料用の電子受容性化合物
として有用であることを見出した。
本発明は、一般式
水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、フェ
ニル基、ベンジル基又は こにR3及びR4は水素原子、低級アルキル基、ハロゲ
ン原子、ニトリル基、ニトロ基又はアルコキシ基を示す
)で表わされるフェノール誘導体である。
ニル基、ベンジル基又は こにR3及びR4は水素原子、低級アルキル基、ハロゲ
ン原子、ニトリル基、ニトロ基又はアルコキシ基を示す
)で表わされるフェノール誘導体である。
式■の化合物のR2のための低級アルキル基、フェニル
基又はベンジル基は、ハロゲン電子、ニトリル基、ニト
ロ基、アルコキシ基などにより置換されていてもよい。
基又はベンジル基は、ハロゲン電子、ニトリル基、ニト
ロ基、アルコキシ基などにより置換されていてもよい。
メチルエステル、4−ヒドロキシフェニルスルキシフェ
ニルスルホニル酢酸ベンジルエステル、4−ヒドロキシ
フェニルチオプロピオン酸エステル、4−ヒドロキシフ
ェニルスルホニルプロピオン酸ベンジルエステル、4−
ヒドロキシフェニルスルホニルプロピオン酸−m −ク
ロロベンジルエステル、4−ヒドロキシフェニルスルホ
ニルプロピオン酸−m−クロロベンジルエステル、α、
d−ビス(4−ヒドロキシフェニルチオアセトキシ)−
p−キシレン、α、Cf−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ルスルフィニルアセトキシ)−p−キシレン、α、(1
’−ビス(4−ヒドロキシフェニルスルホニルアセトキ
シ)−p−キシレン、α、cf−ビス(4−ヒドロキシ
フェニルチオプロピオニルオキシ)−p−キシレン、α
、d−ビス(4−ヒドロキシフェニルスルホニルプロピ
オニルオキシ)−p−キシレン、α、cf−ビス(4−
ヒドロキシフェニルチオヘキサノイルオキシ)−p−キ
シレン、α、d−ビス(4−ヒドロキシフェニルスルホ
ニルヘキサノイルオキシ)−p−キシレン、1,4−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニルチオアセトキシメチル)−
2−メチルベンゼン、1,4−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニルスルホニルアセトキシメチル)−2−メチルベン
ゼン等。
ニルスルホニル酢酸ベンジルエステル、4−ヒドロキシ
フェニルチオプロピオン酸エステル、4−ヒドロキシフ
ェニルスルホニルプロピオン酸ベンジルエステル、4−
ヒドロキシフェニルスルホニルプロピオン酸−m −ク
ロロベンジルエステル、4−ヒドロキシフェニルスルホ
ニルプロピオン酸−m−クロロベンジルエステル、α、
d−ビス(4−ヒドロキシフェニルチオアセトキシ)−
p−キシレン、α、Cf−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ルスルフィニルアセトキシ)−p−キシレン、α、(1
’−ビス(4−ヒドロキシフェニルスルホニルアセトキ
シ)−p−キシレン、α、cf−ビス(4−ヒドロキシ
フェニルチオプロピオニルオキシ)−p−キシレン、α
、d−ビス(4−ヒドロキシフェニルスルホニルプロピ
オニルオキシ)−p−キシレン、α、cf−ビス(4−
ヒドロキシフェニルチオヘキサノイルオキシ)−p−キ
シレン、α、d−ビス(4−ヒドロキシフェニルスルホ
ニルヘキサノイルオキシ)−p−キシレン、1,4−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニルチオアセトキシメチル)−
2−メチルベンゼン、1,4−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニルスルホニルアセトキシメチル)−2−メチルベン
ゼン等。
式Iの化合物は例えば下記の方法により製造できる。
次式
で表わされる化合物を、一般式
X R’ C0OH(l[l)
(式中Xはハロゲン原子を示し、R1は前記の意味を有
する)で表わされる化合物と反応させるか、又は次式 (式中Xはハロゲン原子を示す)で表わされる化合物を
、一般式 %式%() (式中R1は前記の意味を有する)で表わされる化合物
と反応させて、一般式 (式中R1は前記の意味を有する。)で表わされる化合
物とする。
する)で表わされる化合物と反応させるか、又は次式 (式中Xはハロゲン原子を示す)で表わされる化合物を
、一般式 %式%() (式中R1は前記の意味を有する)で表わされる化合物
と反応させて、一般式 (式中R1は前記の意味を有する。)で表わされる化合
物とする。
化合物■と化合物■又は化合物■と化合物Vの反応は、
溶媒中で行うことが好ましい。溶媒としては水、アルコ
ール、フェノール、ジメチルスルホキシド、ジメチルホ
ルムアミド、ジメトキシエタン、テトラヒドロフライ、
エーテル、アセトンなどが用いられる。反応温度は好ま
しくは60℃ないし反応混合物の沸騰温度であり、反応
は通常4〜20時間で終了する。
溶媒中で行うことが好ましい。溶媒としては水、アルコ
ール、フェノール、ジメチルスルホキシド、ジメチルホ
ルムアミド、ジメトキシエタン、テトラヒドロフライ、
エーテル、アセトンなどが用いられる。反応温度は好ま
しくは60℃ないし反応混合物の沸騰温度であり、反応
は通常4〜20時間で終了する。
こうして得られた化合物)a又はその酸ハロゲン化物を
、一般式 %式%(2) (式中R5は置換されていてもよい低級アルキル基、フ
ェニル基又はベンジル基を示す)で表わされる化合物と
反応させるか、又は一般式(式中R4は前記の意味を有
する)で表わされる化合物と反応させると、Zが硫黄原
子である式■の化合物が得られる。
、一般式 %式%(2) (式中R5は置換されていてもよい低級アルキル基、フ
ェニル基又はベンジル基を示す)で表わされる化合物と
反応させるか、又は一般式(式中R4は前記の意味を有
する)で表わされる化合物と反応させると、Zが硫黄原
子である式■の化合物が得られる。
三塩化燐、ホスゲン等を作用させることにより媒中で行
うことが好ましい。酸としては無機酸例えば硫酸、塩酸
、硼酸、ポリリン酸等、有機酸 酸例えば芳香族スルホン酸、ルイス、例えば弗化硼素エ
ーテル錯体等が用いられる。溶媒としてハ例エバベンゼ
ン、トルエン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化
炭素、エーテル等が用いられる。反応温度は反応混合物
の沸騰温度が好ましく、反応は通常6〜20時間で終了
する。
うことが好ましい。酸としては無機酸例えば硫酸、塩酸
、硼酸、ポリリン酸等、有機酸 酸例えば芳香族スルホン酸、ルイス、例えば弗化硼素エ
ーテル錯体等が用いられる。溶媒としてハ例エバベンゼ
ン、トルエン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化
炭素、エーテル等が用いられる。反応温度は反応混合物
の沸騰温度が好ましく、反応は通常6〜20時間で終了
する。
以上の反応を式で示すと次のとおりである。
式中の記号は前記の意味を有する。
(IC)
○
は、Zが硫黄原子である式Iの化合物を酸化することに
より得られる。酸化剤としては例えば過酸化水素、過沃
素酸ナトリウム等が用いられる。Zが−S−である化合
物は例えば過酸化水素を用い、低温で酸化することによ
り得られる。
より得られる。酸化剤としては例えば過酸化水素、過沃
素酸ナトリウム等が用いられる。Zが−S−である化合
物は例えば過酸化水素を用い、低温で酸化することによ
り得られる。
○
ことにより得られる。
弐■の化合物は、感圧及び感熱記録材料用の電子受容性
化合物としてきわめて優れている。
化合物としてきわめて優れている。
したがって本発明は、さらに電子供与性無色染料及び電
子受容性化合物としての式Iの化合物を含有する記録材
料である。
子受容性化合物としての式Iの化合物を含有する記録材
料である。
式■の化合物は、2種以上の混合物として用いてもよく
、また他の電子受容性化合物例えばビスフェノールA、
ビスフェノールS、4−ヒドロキシ安息香酸ベンジルエ
ステル、活性白土等と混合して用いることもできる。
、また他の電子受容性化合物例えばビスフェノールA、
ビスフェノールS、4−ヒドロキシ安息香酸ベンジルエ
ステル、活性白土等と混合して用いることもできる。
本発明に用いられる電子供与性無色染料としては、例え
ば下記の化合物があげられる。クリスタルバイオレット
ラクトン、6,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル
)フタリド等のトリアリールメタン系化合物、4.4’
−ビス−ジメチルアミノベンズヒトリンペンジルエーテ
ル、N−ハロフェニル−ロイコオーラミン等ノシフェニ
ルメタン系化合物、3−ジエチルアミン−7−クロロフ
ルオラン、3−ジエチルアミン−6−メチル−7−クロ
ロフルオラン、6−シクロベキジルアミノ−6−クロロ
フルオラン、3−ジエチルアミノ7−ジペン、ジルアミ
、ノフルオラン、3−ピロリジノ−6−メチル−7−ア
ニリノフルオラン、3−ピペリジノ−6−メチル−7−
アニリノフルオラン、3−シクロヘキシルメチルアミノ
−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−エチルイ
ソアミルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン
、3−ジエチルアミン−7−(o−クロロアニリノ)フ
ルオラン、3−ジブチルアミノ−7−(o−クロロアニ
リノ)フルオラン等のキナンテン系化合物、ペンソイル
ロイコメチレンブルー、p−ニトロベンジルロイコメチ
レンブルー等のチアジン系化合物、3−メチル−スピロ
−ジナフトピラン、3−エチル−スピロ−ジナフトピラ
ン、 3.3’ −シクロロースピロージナフトピラ
ン等のスピロピラン系化合物など。、これらは単独もし
くは混合して用いることができる。
ば下記の化合物があげられる。クリスタルバイオレット
ラクトン、6,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル
)フタリド等のトリアリールメタン系化合物、4.4’
−ビス−ジメチルアミノベンズヒトリンペンジルエーテ
ル、N−ハロフェニル−ロイコオーラミン等ノシフェニ
ルメタン系化合物、3−ジエチルアミン−7−クロロフ
ルオラン、3−ジエチルアミン−6−メチル−7−クロ
ロフルオラン、6−シクロベキジルアミノ−6−クロロ
フルオラン、3−ジエチルアミノ7−ジペン、ジルアミ
、ノフルオラン、3−ピロリジノ−6−メチル−7−ア
ニリノフルオラン、3−ピペリジノ−6−メチル−7−
アニリノフルオラン、3−シクロヘキシルメチルアミノ
−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−エチルイ
ソアミルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン
、3−ジエチルアミン−7−(o−クロロアニリノ)フ
ルオラン、3−ジブチルアミノ−7−(o−クロロアニ
リノ)フルオラン等のキナンテン系化合物、ペンソイル
ロイコメチレンブルー、p−ニトロベンジルロイコメチ
レンブルー等のチアジン系化合物、3−メチル−スピロ
−ジナフトピラン、3−エチル−スピロ−ジナフトピラ
ン、 3.3’ −シクロロースピロージナフトピラ
ン等のスピロピラン系化合物など。、これらは単独もし
くは混合して用いることができる。
本発明の記録材料は、主に感圧及び感熱記録材料として
用いられる。感圧記録材料は、種々の形態をとりうるが
、電子供与性無色染料及び式Iの電子受容性化合物を別
個に含有する一対のシートから成るのが普通である。こ
れらのシートは下記の方法で製造できる。電子供与性無
色染料を溶媒に溶解し、この溶液をバインダー中に分散
するのか、又はマイクロカプセルに含有させたのち、支
持体に塗布することにより発色シートが得られる。溶媒
としてはアルキル化ナフタレン、アルキル化ジフェニル
、アルキル化ジフェニルメタン、アルキル化ジアリール
エタン、塩素化パラフィン等の合成油が用いられる。支
持体としては紙、プラ、スチツクシート、樹脂コーテツ
ド紙等が用いられる。
用いられる。感圧記録材料は、種々の形態をとりうるが
、電子供与性無色染料及び式Iの電子受容性化合物を別
個に含有する一対のシートから成るのが普通である。こ
れらのシートは下記の方法で製造できる。電子供与性無
色染料を溶媒に溶解し、この溶液をバインダー中に分散
するのか、又はマイクロカプセルに含有させたのち、支
持体に塗布することにより発色シートが得られる。溶媒
としてはアルキル化ナフタレン、アルキル化ジフェニル
、アルキル化ジフェニルメタン、アルキル化ジアリール
エタン、塩素化パラフィン等の合成油が用いられる。支
持体としては紙、プラ、スチツクシート、樹脂コーテツ
ド紙等が用いられる。
式■の化合物又はこれと他の電子受容性化合物をバイン
ダー中に分散させ、支持体に塗布することにより顕色剤
シートが得られる。バインダーとしてはスチレンブタジ
ェンラテックス、ポリビニルアルコール等が用いられる
。
ダー中に分散させ、支持体に塗布することにより顕色剤
シートが得られる。バインダーとしてはスチレンブタジ
ェンラテックス、ポリビニルアルコール等が用いられる
。
感熱記録材料を製造する場合は、まずバインダーを溶剤
又は分散剤に溶解又は分散する。バインダーとしてはカ
ゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドン、殿粉、イソブチレン−無水マレイン酸樹脂
、スチレン−無水マレイン酸樹脂、ポリアクリルアミド
、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセル
ロース、酢酸ビニル、アクリル酸エステル、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、5BR1NBR等のエマルジョ
ン、ラテックス等が用いられる。
又は分散剤に溶解又は分散する。バインダーとしてはカ
ゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドン、殿粉、イソブチレン−無水マレイン酸樹脂
、スチレン−無水マレイン酸樹脂、ポリアクリルアミド
、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセル
ロース、酢酸ビニル、アクリル酸エステル、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、5BR1NBR等のエマルジョ
ン、ラテックス等が用いられる。
次いでバインダー溶液又は分散液に電子供与性無色染料
、式Iの電子受容性化合物及び必要に応じて補助剤を加
え、この混合液を支持体に塗布すると、感熱記録材料が
得られる。補助剤としては熱可融性物質例えばエルカ酸
、ステアリン酸、フタル酸ジフェニルエステル、1−ヒ
ドロキシ−2−ナフトエ酸フェニルエステル、パラフィ
ンワックス、ステアリン酸アマイド等のワックス類、吸
油性顔料例えば炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、
酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸バリウム、メルク、クレー
、カオリナイト、ポリオレフィン粒子、ポリスチレン粒
子、尿素−ホルマリン樹脂粒子等が用いられる。式Iの
電子受容性化合物が液状の場合は、公知の方法によりマ
イクロカプセルに含有させて用いることもできる。
、式Iの電子受容性化合物及び必要に応じて補助剤を加
え、この混合液を支持体に塗布すると、感熱記録材料が
得られる。補助剤としては熱可融性物質例えばエルカ酸
、ステアリン酸、フタル酸ジフェニルエステル、1−ヒ
ドロキシ−2−ナフトエ酸フェニルエステル、パラフィ
ンワックス、ステアリン酸アマイド等のワックス類、吸
油性顔料例えば炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、
酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸バリウム、メルク、クレー
、カオリナイト、ポリオレフィン粒子、ポリスチレン粒
子、尿素−ホルマリン樹脂粒子等が用いられる。式Iの
電子受容性化合物が液状の場合は、公知の方法によりマ
イクロカプセルに含有させて用いることもできる。
〔発明の効果〕
本発明の新規フェノール誘導体は、電子受容性化合物と
して発色性及び保存性がきわめて優れており、記録材料
として優れた特性を有する。
して発色性及び保存性がきわめて優れており、記録材料
として優れた特性を有する。
本発明の化合物は、通電感熱材料、超音波記録材料、捺
印材料、タイプリボン、インキ等にも利用できる。
印材料、タイプリボン、インキ等にも利用できる。
新規化合物の製造:
合成例1
水酸化ナトリウム25.65 、!9 (640ミリモ
ル)をメタノール240 rnlに溶解し、4−ヒドロ
キシチオフェノール80.4 、F (640ミリモル
)を加え、さらにモノクロロ酢酸60.5 g(640
ミリモル)をメタノール40.5 mlに溶解した溶液
を15分間かけて滴加した。次いで懸濁液を12時間加
熱還流し、反応終了後、メタノールを減圧下で除去した
のち、残査に水100Qrnlを加え、析出した結晶を
炉別した。この結晶を水及びジクロロメタンで洗浄し、
乾燥したのち、ヘキサン−アセトンから再結晶すると、
融点146〜148℃の白色針状結晶として、4−ヒド
ロキシフェニルチオ酢酸カ679 (収率57%)得ら
れた。
ル)をメタノール240 rnlに溶解し、4−ヒドロ
キシチオフェノール80.4 、F (640ミリモル
)を加え、さらにモノクロロ酢酸60.5 g(640
ミリモル)をメタノール40.5 mlに溶解した溶液
を15分間かけて滴加した。次いで懸濁液を12時間加
熱還流し、反応終了後、メタノールを減圧下で除去した
のち、残査に水100Qrnlを加え、析出した結晶を
炉別した。この結晶を水及びジクロロメタンで洗浄し、
乾燥したのち、ヘキサン−アセトンから再結晶すると、
融点146〜148℃の白色針状結晶として、4−ヒド
ロキシフェニルチオ酢酸カ679 (収率57%)得ら
れた。
合成例2
p−クロロフェノール82.2g(640ミリモル)、
モノメルカプト酢酸58.9 fi (640ミリモル
)、メタノール240M及びピリジン55、3.!i’
(700ミリモル)の混合溶液を16時間加熱還流し
た。反応終了後、メタノールを減圧下で除去したのち、
残査に5%塩酸1000 rnlを加え、析出した結晶
を戸別した。以下合成例1と同様に処理すると、4−ヒ
ドロキシフェニルチオ酢酸が61g(収率52%)得ら
れた。
モノメルカプト酢酸58.9 fi (640ミリモル
)、メタノール240M及びピリジン55、3.!i’
(700ミリモル)の混合溶液を16時間加熱還流し
た。反応終了後、メタノールを減圧下で除去したのち、
残査に5%塩酸1000 rnlを加え、析出した結晶
を戸別した。以下合成例1と同様に処理すると、4−ヒ
ドロキシフェニルチオ酢酸が61g(収率52%)得ら
れた。
合成例6
合成例1で得られた4−ヒドロキシフェニルチオ酢酸1
00g(540ミリモル)、ベンジルアルコール175
g(1620ミリモル)及びベンゼン300 mlの混
合液に濃硫酸5. mlを加え、6時間加熱還流した。
00g(540ミリモル)、ベンジルアルコール175
g(1620ミリモル)及びベンゼン300 mlの混
合液に濃硫酸5. mlを加え、6時間加熱還流した。
反応終了後、ベンゼンを減圧下で除去したのち、残査に
水10100Oを加え、析出した結晶を戸別した。この
結晶を水洗し、乾燥したのち、ヘキサン−ベンゼンから
再結晶すると、融点70〜72℃の白色針状晶として、
4−ヒドロキシフェニルチオ酢酸ベンジルエステル12
6.9(収、135%)カ得られた。
水10100Oを加え、析出した結晶を戸別した。この
結晶を水洗し、乾燥したのち、ヘキサン−ベンゼンから
再結晶すると、融点70〜72℃の白色針状晶として、
4−ヒドロキシフェニルチオ酢酸ベンジルエステル12
6.9(収、135%)カ得られた。
合成例4
(1)4−ヒドロキシフェニルチオ酢酸50g(270
ミリモル)、塩化チ;にニル40mA! (540ミリ
モル)及びTHF 50 mlの混合物を、塩化水素ガ
スの発生が止まるまで加熱還流した。
ミリモル)、塩化チ;にニル40mA! (540ミリ
モル)及びTHF 50 mlの混合物を、塩化水素ガ
スの発生が止まるまで加熱還流した。
反応終了後、THFを減圧下で除去したのち、蒸留によ
り塩化チオニルを除去した。粗生成物をカラムクロマト
グラ′フィ(フコ−ゲルC−200/ジクロロメタン)
により精製すると、塩化4−ヒドロキシフェニルチオア
セチルが得られた。
り塩化チオニルを除去した。粗生成物をカラムクロマト
グラ′フィ(フコ−ゲルC−200/ジクロロメタン)
により精製すると、塩化4−ヒドロキシフェニルチオア
セチルが得られた。
(2)ヘンシルアルコール1oOml(960ミリモル
)に窒素気流下に、ナトリウム金属片4g(170ミリ
モル)を加え、金属片がな(なるまで100℃に加熱し
た。放冷後、塩化4−ヒドロキシフェニルチオアセチル
37g(170ミリモル)のエーテル30omA’溶液
を2o分かけて滴加し、室温で6時間攪拌した。反応終
了後、水を加え、エーテルで洗浄したのち、10%塩酸
を加えてpH5〜6程度に調節し、二一チルで抽出し、
抽出液に無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥した。硫酸
マグネシウムを炉別し、F液を減圧下で濃縮したのち、
残査をヘキサン−ベンゼンから再結晶すると、 4−
ヒドロキシフェニルチオ酢酸ヘンシルエステルが301
(収率60%)得られた。
)に窒素気流下に、ナトリウム金属片4g(170ミリ
モル)を加え、金属片がな(なるまで100℃に加熱し
た。放冷後、塩化4−ヒドロキシフェニルチオアセチル
37g(170ミリモル)のエーテル30omA’溶液
を2o分かけて滴加し、室温で6時間攪拌した。反応終
了後、水を加え、エーテルで洗浄したのち、10%塩酸
を加えてpH5〜6程度に調節し、二一チルで抽出し、
抽出液に無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥した。硫酸
マグネシウムを炉別し、F液を減圧下で濃縮したのち、
残査をヘキサン−ベンゼンから再結晶すると、 4−
ヒドロキシフェニルチオ酢酸ヘンシルエステルが301
(収率60%)得られた。
合成例5
合成例3で得られた4−ヒドロキシフェニルチオ酢酸ベ
ンジルエステル29g(2ooミリモル)、31%過酸
化水素水17g(155ミリモル)及びアセトン5Qy
nlの混合液を、1週間室温に放置した。次いでアセト
ンを減圧下で除去し、エーテルで抽出し、抽出液を無水
硫酸マグネシウムを添加して乾燥した。硫酸マグネシウ
ムを戸別し、F液を減圧下で濃縮したのち、カラムクロ
マトグラフィ(ワコーゲルC−200/エーテル)によ
り精製すると、融点約5℃の白色結晶として、4−ヒド
ロキシフェニルスルフィニル酢酸ベンジルエステルが1
3.9(115143%)得られた。
ンジルエステル29g(2ooミリモル)、31%過酸
化水素水17g(155ミリモル)及びアセトン5Qy
nlの混合液を、1週間室温に放置した。次いでアセト
ンを減圧下で除去し、エーテルで抽出し、抽出液を無水
硫酸マグネシウムを添加して乾燥した。硫酸マグネシウ
ムを戸別し、F液を減圧下で濃縮したのち、カラムクロ
マトグラフィ(ワコーゲルC−200/エーテル)によ
り精製すると、融点約5℃の白色結晶として、4−ヒド
ロキシフェニルスルフィニル酢酸ベンジルエステルが1
3.9(115143%)得られた。
合成例6
4−ヒドロキシフェニルチオ酢酸ヘンシルエステル27
.4 、F (100ミリモル)、過沃素酸ナトリウム
53g、水250 ml及びメタノール1501nlの
懸濁液を、12時間加熱還流した。
.4 、F (100ミリモル)、過沃素酸ナトリウム
53g、水250 ml及びメタノール1501nlの
懸濁液を、12時間加熱還流した。
放冷後、析出した固体を炉別し、F液を減圧下で濃縮し
、飽和食塩水を加えてエーテルで抽出した。抽出液に無
水硫酸マグネシウムを加えて乾燥したのち濾過し、F液
を減圧下で濃縮し、残査をヘキサン−酢酸エチルから再
結晶すると、融点123〜125℃の白色針状結晶とし
て、4−ヒドロキシフェニルスルホニル酢酸ヘンシルエ
ステルが27I(収率87%)得られた。
、飽和食塩水を加えてエーテルで抽出した。抽出液に無
水硫酸マグネシウムを加えて乾燥したのち濾過し、F液
を減圧下で濃縮し、残査をヘキサン−酢酸エチルから再
結晶すると、融点123〜125℃の白色針状結晶とし
て、4−ヒドロキシフェニルスルホニル酢酸ヘンシルエ
ステルが27I(収率87%)得られた。
合成例7
4−ヒドロキシフェニルチオ酢酸ベンジルエステル18
.!9(66ミリモル)を氷酢酸110rnlに溶解し
、31%過酸化水素水13Qmlを加え、1時間加熱還
流した。反応終了後、反応混合物を冷水中に注入し、析
出した結晶を戸別し、水洗した。乾燥後、ヘキサン−ア
セトンから再ル酢酸ベンジルエステルが得られた。
.!9(66ミリモル)を氷酢酸110rnlに溶解し
、31%過酸化水素水13Qmlを加え、1時間加熱還
流した。反応終了後、反応混合物を冷水中に注入し、析
出した結晶を戸別し、水洗した。乾燥後、ヘキサン−ア
セトンから再ル酢酸ベンジルエステルが得られた。
合成例8
4−ヒドロキシフェニルチオ酢酸100g(540ミリ
モル)及びα、d−ジヒドロキシーp−キシレン223
g(1620ミリモル)のベンゼン500m1溶液に濃
硫酸5ゴを加え、6時間加熱還流した。反応終了後、ベ
ンゼンを減圧下で除去したのち、残査に水1000m6
を加え、析出した結晶を炉別した。この結晶を水洗し、
乾燥したのち、ヘキサン−酢酸エチルから再結晶すると
、融点163〜164℃の白色針状結晶トして、α、α
′−ビス(4−ヒドロキシフェニルチオアセトキシ)−
p−キシレンが117g(収率92%)得られた。
モル)及びα、d−ジヒドロキシーp−キシレン223
g(1620ミリモル)のベンゼン500m1溶液に濃
硫酸5ゴを加え、6時間加熱還流した。反応終了後、ベ
ンゼンを減圧下で除去したのち、残査に水1000m6
を加え、析出した結晶を炉別した。この結晶を水洗し、
乾燥したのち、ヘキサン−酢酸エチルから再結晶すると
、融点163〜164℃の白色針状結晶トして、α、α
′−ビス(4−ヒドロキシフェニルチオアセトキシ)−
p−キシレンが117g(収率92%)得られた。
合成例9
α、α′−ジヒドロキシーp−キシレン132゜5.9
(960ミリモル)に窒素気流下、ナトリウム金属片4
.1170ミリモル)を加え、金属片がなくなるまで1
00℃に加熱した。放冷後、合成例4(1)で得られた
塩化4−ヒドロキシフェニルチオアセチル37 g(1
7,0ミリモル)のエーテル300d溶液を20分間か
けて滴加し、室温で6時間攪拌した。反応終了後、合成
ジフェニルチオアセトキシ)−p−キシレンが64I(
収率76%)得られた。
(960ミリモル)に窒素気流下、ナトリウム金属片4
.1170ミリモル)を加え、金属片がなくなるまで1
00℃に加熱した。放冷後、合成例4(1)で得られた
塩化4−ヒドロキシフェニルチオアセチル37 g(1
7,0ミリモル)のエーテル300d溶液を20分間か
けて滴加し、室温で6時間攪拌した。反応終了後、合成
ジフェニルチオアセトキシ)−p−キシレンが64I(
収率76%)得られた。
合成例10
合成例8で得られたα、d−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニルチオアセトキシ)−p−キシレン471(1ooミ
リモル)、31%過酸化水素水17g(155ミリモル
)及びアセトン50rnlの混合液を、1週間室温で攪
拌した。次いでアセトンを減圧下で除去し、残査を5%
冷塩酸中に注入し、析出した結晶を炉別した。この結晶
を乾燥したのち、ヘキサン−アセトンから再結晶すると
、融点約35℃のα、α′−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニルスルフィニルアセトキシ)−p−キシン/が25I
(収率49%)得られた。
ニルチオアセトキシ)−p−キシレン471(1ooミ
リモル)、31%過酸化水素水17g(155ミリモル
)及びアセトン50rnlの混合液を、1週間室温で攪
拌した。次いでアセトンを減圧下で除去し、残査を5%
冷塩酸中に注入し、析出した結晶を炉別した。この結晶
を乾燥したのち、ヘキサン−アセトンから再結晶すると
、融点約35℃のα、α′−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニルスルフィニルアセトキシ)−p−キシン/が25I
(収率49%)得られた。
合成例11
合成例8で得られたα、α′−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニルチオアセトキシ)−p−キシレン47.!i!(
100ミリモル)、過沃素酸ナトリウム53g、水25
0 rnl及びメタノール150m1の懸濁液を、12
時間加熱還流した。放冷後、析出した固体を戸別し、炉
液を減圧下で濃縮したのち、飽和食塩水を加え、ニーデ
ルで抽出した。抽出液に無水硫酸マグネシウムを加え乾
燥したのち濾過し、炉液を減圧下で濃縮し、残査をヘキ
サン−酢酸エチルから再結晶すると、融点221〜22
3℃の白色針状結晶として、α。
ェニルチオアセトキシ)−p−キシレン47.!i!(
100ミリモル)、過沃素酸ナトリウム53g、水25
0 rnl及びメタノール150m1の懸濁液を、12
時間加熱還流した。放冷後、析出した固体を戸別し、炉
液を減圧下で濃縮したのち、飽和食塩水を加え、ニーデ
ルで抽出した。抽出液に無水硫酸マグネシウムを加え乾
燥したのち濾過し、炉液を減圧下で濃縮し、残査をヘキ
サン−酢酸エチルから再結晶すると、融点221〜22
3℃の白色針状結晶として、α。
α′−ビス(4−ヒドロキシフェニルスルボニルアセト
キシ)−p−キシレンが24g(収率45%)得られた
。
キシ)−p−キシレンが24g(収率45%)得られた
。
合成例12
合成例8で得られたα、α′−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニルチオアセトキシ)−p−キシレン31’(660
ミリモル)を氷酢酸110mA!に溶解し、31%過酸
化水素水130m1を加え、1時間加熱還流した。反応
終了後、反応混合物を冷水中に注入し、析出した結晶を
戸別した。
ェニルチオアセトキシ)−p−キシレン31’(660
ミリモル)を氷酢酸110mA!に溶解し、31%過酸
化水素水130m1を加え、1時間加熱還流した。反応
終了後、反応混合物を冷水中に注入し、析出した結晶を
戸別した。
ヒドロキシフエ、Hz碌;アセトキシ)−p−キシレン
が22!!(収率62%)得られた。′記録材料の製造
: 例1 (1)発色剤シートの調製 電子供与性無色染料である6−エチルイソアミルアミノ
−6−メチルーフ−アニリノフルオラン111をアルキ
ル化ナフタレン30gに溶解し、この溶液をゼラチン6
g及びアラビヤゴム4gを溶解した水509中に激しく
攪拌しながら添加して乳化し、粒径1〜10μの油滴と
したのち、水を更に250g加えた。これに酢酸を少量
加えてpHを約4にしてコアセルベーションを生起させ
、この油滴の回りにゼラチン及びアラビヤゴムから成る
壁を形成し、更にホルマリンを加えてpHを約9となし
、この壁を硬化して発色剤含有マイクロカプセルを得た
。このマイクロカプセル分散液を紙に塗布乾燥して発色
剤シートを作成した。
が22!!(収率62%)得られた。′記録材料の製造
: 例1 (1)発色剤シートの調製 電子供与性無色染料である6−エチルイソアミルアミノ
−6−メチルーフ−アニリノフルオラン111をアルキ
ル化ナフタレン30gに溶解し、この溶液をゼラチン6
g及びアラビヤゴム4gを溶解した水509中に激しく
攪拌しながら添加して乳化し、粒径1〜10μの油滴と
したのち、水を更に250g加えた。これに酢酸を少量
加えてpHを約4にしてコアセルベーションを生起させ
、この油滴の回りにゼラチン及びアラビヤゴムから成る
壁を形成し、更にホルマリンを加えてpHを約9となし
、この壁を硬化して発色剤含有マイクロカプセルを得た
。このマイクロカプセル分散液を紙に塗布乾燥して発色
剤シートを作成した。
(2)顕色剤シートの調製
電子受容性化合物である4−ヒドロキシフェニルチオ酢
酸ベンジルエステル20gをポリビニルアルコール水溶
液200gに分散し、さらにカオリン20gを添加して
分散させ、これを紙に塗布乾燥して顕色剤シートを作成
した。
酸ベンジルエステル20gをポリビニルアルコール水溶
液200gに分散し、さらにカオリン20gを添加して
分散させ、これを紙に塗布乾燥して顕色剤シートを作成
した。
こうして調製した発色剤シートと顕色剤シートとを接触
させて加圧すると、瞬間的に黒色の印像が得られた。こ
の像は濃度が高(、長期間保存してもその濃度低下は認
められなかった。
させて加圧すると、瞬間的に黒色の印像が得られた。こ
の像は濃度が高(、長期間保存してもその濃度低下は認
められなかった。
例2
4−ヒドロキシフェニルチオ酢酸ベンジルエステルの代
わりに、4−ヒドロキシフェニルスルホニル酢酸ヘンシ
ルエステルを使用し、その他は例1と同様にして顕色剤
シートを調製し、例1と同様な条件で印字した。この印
字部は濃度が高く、長時間の保存に対してもその濃度低
下は起こらなかった。
わりに、4−ヒドロキシフェニルスルホニル酢酸ヘンシ
ルエステルを使用し、その他は例1と同様にして顕色剤
シートを調製し、例1と同様な条件で印字した。この印
字部は濃度が高く、長時間の保存に対してもその濃度低
下は起こらなかった。
例3
電子供与性無色染料である3−エチルイソアミルアミノ
−6−メチル−7−アニリノフルオラン25部、5%ヒ
ドロキシエチルセルロース水溶液50部及び水25部を
、混合、分散して発色剤液を得た。他方、4−ヒドロキ
シフェニルスルホニル酢酸ベンジルエステル20部、5
%ヒドロキシエチルセルロース水溶液50部、ステアリ
ン酸アマイド10部及び水20部を混合して顕色剤液を
得た。炭酸カルシウム40部、10%ポリビニルアルコ
ール水溶液40部及び水20部を混合、分散した液に、
発色剤液、顕色剤液、そしてパイグーとしての10%ポ
リビニルアルコール水溶液を10:3:10:10の比
で混合し、この混合液を中性紙に固形分塗布量6g/m
2になるよう塗布し、乾燥して感熱記録紙を得た。
−6−メチル−7−アニリノフルオラン25部、5%ヒ
ドロキシエチルセルロース水溶液50部及び水25部を
、混合、分散して発色剤液を得た。他方、4−ヒドロキ
シフェニルスルホニル酢酸ベンジルエステル20部、5
%ヒドロキシエチルセルロース水溶液50部、ステアリ
ン酸アマイド10部及び水20部を混合して顕色剤液を
得た。炭酸カルシウム40部、10%ポリビニルアルコ
ール水溶液40部及び水20部を混合、分散した液に、
発色剤液、顕色剤液、そしてパイグーとしての10%ポ
リビニルアルコール水溶液を10:3:10:10の比
で混合し、この混合液を中性紙に固形分塗布量6g/m
2になるよう塗布し、乾燥して感熱記録紙を得た。
この感熱紙を加熱エネルギー40 mJ /mrx2で
加熱発色させると黒色の印像が得られ、その発色濃度は
1.05であった。この濃度は、40°Cで90%RH
中に24時間放置すると、0.99に低下した。
加熱発色させると黒色の印像が得られ、その発色濃度は
1.05であった。この濃度は、40°Cで90%RH
中に24時間放置すると、0.99に低下した。
例4
(1)発色剤シートの調製
電子供与性無色染料である6−エチルイソアミルアミノ
−6−メチルーフ−アニリノフルオラン1gをアルキル
化ナフタレン60gに溶解し、この溶液をゼラチン6g
とアラビヤゴム4gを溶解した水50I中に激しく攪拌
しながら添加して乳化し、粒径1〜10μの油滴とした
のち、水を更に250I加えた。これに酢酸を少量加え
てpHを約4にしてコアセルベーションを生起させ、こ
の油滴の回りにゼラチンとアラビヤゴムから成る壁を形
成し、更にホルマリンを加えてpHを約9となし、この
壁を硬化して発色剤含有マイクロカプセルを樽た。この
マイクロカプセル分散液を紙に塗布乾燥して発色剤シー
トを作成した。
−6−メチルーフ−アニリノフルオラン1gをアルキル
化ナフタレン60gに溶解し、この溶液をゼラチン6g
とアラビヤゴム4gを溶解した水50I中に激しく攪拌
しながら添加して乳化し、粒径1〜10μの油滴とした
のち、水を更に250I加えた。これに酢酸を少量加え
てpHを約4にしてコアセルベーションを生起させ、こ
の油滴の回りにゼラチンとアラビヤゴムから成る壁を形
成し、更にホルマリンを加えてpHを約9となし、この
壁を硬化して発色剤含有マイクロカプセルを樽た。この
マイクロカプセル分散液を紙に塗布乾燥して発色剤シー
トを作成した。
(2)顕色剤シートの調製
α、α′−ビス(4−ヒドロキシフェニルチオlアセト
キシ)−p−キシレン20.9をポリビニルアルコ−・
ル水溶液200gに分散し、さらにカオリン20,9を
添加して分散させた液を紙に塗布乾燥して顕色剤シート
を作成した。
キシ)−p−キシレン20.9をポリビニルアルコ−・
ル水溶液200gに分散し、さらにカオリン20,9を
添加して分散させた液を紙に塗布乾燥して顕色剤シート
を作成した。
こうして調製した発色剤シートと顕色剤シートとを接触
させて加圧すると、瞬間的に黒色の印像が得られた。こ
の像は濃度が高く、長期間保存してもその濃度低下は認
められなかった。
させて加圧すると、瞬間的に黒色の印像が得られた。こ
の像は濃度が高く、長期間保存してもその濃度低下は認
められなかった。
例5
α、α′−ビス(4−ヒドロキシフェニルチオアセトキ
シ)−p−キシレンの代わりにα、α′−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニルスルホニルアセトキシ)−p−キシレ
ンを使用し、その他は例4と同様にして顕色剤シートを
調製し、例1と同様な条件で印字した。この印字部は濃
度が高く、長時間の保存後もその濃度低下は起こらなか
った。
シ)−p−キシレンの代わりにα、α′−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニルスルホニルアセトキシ)−p−キシレ
ンを使用し、その他は例4と同様にして顕色剤シートを
調製し、例1と同様な条件で印字した。この印字部は濃
度が高く、長時間の保存後もその濃度低下は起こらなか
った。
例6
電子供与性無色染料である3−エチルイソアミルアミノ
−6−メチル−7−アニリノフルオラン25部、5%ヒ
ドロキシエチルセルロース水溶液50部及び水25部を
混合、分散して発色剤液を得た。他方、α、α′−ビス
(4−t:)”ロキシフェニルチオアセトキシ)−p−
キシレン20部、5%ヒドロキシエチルセルロース水溶
液50部、ステアリン酸アマイド10部及び水20部を
混合、分散して顕色剤を得た。炭酸カルシウム40部、
10%ポリビニルアルコール水溶液40部及び水20部
を混合、分散した液に、発色剤液、顕色剤液、そしてバ
イダーとしての10%ポリビニルアルコール水溶液を1
0:5:10:10の比で混合し、この−混合液を中性
紙に固形分塗布量6 g/m2になるよう塗布し、乾燥
して感熱記録紙を得た。
−6−メチル−7−アニリノフルオラン25部、5%ヒ
ドロキシエチルセルロース水溶液50部及び水25部を
混合、分散して発色剤液を得た。他方、α、α′−ビス
(4−t:)”ロキシフェニルチオアセトキシ)−p−
キシレン20部、5%ヒドロキシエチルセルロース水溶
液50部、ステアリン酸アマイド10部及び水20部を
混合、分散して顕色剤を得た。炭酸カルシウム40部、
10%ポリビニルアルコール水溶液40部及び水20部
を混合、分散した液に、発色剤液、顕色剤液、そしてバ
イダーとしての10%ポリビニルアルコール水溶液を1
0:5:10:10の比で混合し、この−混合液を中性
紙に固形分塗布量6 g/m2になるよう塗布し、乾燥
して感熱記録紙を得た。
この感熱紙を加熱エネルギー” m J / II 2
で加熱発色させると黒色の印像が得られ、その発色濃度
は1.05であった。この濃度は、40’Cで90%R
H中に24時間放置すると、0.99に低下した。
で加熱発色させると黒色の印像が得られ、その発色濃度
は1.05であった。この濃度は、40’Cで90%R
H中に24時間放置すると、0.99に低下した。
比較例1
α、α′−ビス(4−ヒドロキシフェニルチオアセトキ
シ)−p−キシレンの代わりに4−ヒドロキシ安息香酸
ベンジルエステルを使用し、その他は例4と同様にして
顕色剤シートを調製し、例4と同様な条件で印字した。
シ)−p−キシレンの代わりに4−ヒドロキシ安息香酸
ベンジルエステルを使用し、その他は例4と同様にして
顕色剤シートを調製し、例4と同様な条件で印字した。
この印字部の濃度は長時間の保存により著しく低下した
。
。
比較例2
α、α′−ビス(4−ヒドロキシフェニルチオアセトキ
シ)−p−キシレンの代わりに4−ヒドロキシ安息香酸
ベンジルエステルを使用し、その他は例6と同様にして
感熱記録紙を得た。
シ)−p−キシレンの代わりに4−ヒドロキシ安息香酸
ベンジルエステルを使用し、その他は例6と同様にして
感熱記録紙を得た。
この記録紙を例6と同様な条件で印字し、放置した後の
濃度は←←←歩参0.80であった。
濃度は←←←歩参0.80であった。
この結果から、本発明の電子受容性化合物は、発色性及
び保存性がきわめて優れていることが知られる。
び保存性がきわめて優れていることが知られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中Zは硫黄原子、基▲数式、化学式、表等がありま
す▼又は▲数式、化学式、表等があります▼、R^1は
低級アルキル基又は基▲数式、化学式、表等があります
▼、R^2は水素原子、置換されていてもよい低級アル
キル基、フェニル基、ベンジル基又は 基▲数式、化学式、表等があります▼を示し、 ここにR^3及びR^4は水素原子、低級アルキル基、
ハロゲン原子、ニトリル基、ニトロ基又はアルコキシ基
を示す)で表わされるフェノール誘導体。 2、電子供与性無色染料及び電子受容性化合物から成り
、電子受容性化合物が一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中Zは硫黄原子、基▲数式、化学式、表等がありま
す▼又は▲数式、化学式、表等があります▼、R^1は
低級アルキル基又は基▲数式、化学式、表等があります
▼、R^2は水素原子、置換されていてもよい低級アル
キル基、フェニル基、ベンジル基又は 基▲数式、化学式、表等があります▼を示し、 ここにR^3及びR^4は水素原子、低級アルキル基、
ハロゲン原子、ニトリル基、ニトロ基又はアルコキシ基
を示す)で表わされるフェノール誘導体であることを特
徴とする記録材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62289575A JPH01132555A (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 新規なフェノール誘導体及びその使用 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62289575A JPH01132555A (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 新規なフェノール誘導体及びその使用 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01132555A true JPH01132555A (ja) | 1989-05-25 |
| JPH0560822B2 JPH0560822B2 (ja) | 1993-09-03 |
Family
ID=17745009
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62289575A Granted JPH01132555A (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 新規なフェノール誘導体及びその使用 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01132555A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5179068A (en) * | 1990-11-06 | 1993-01-12 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Heat-sensitive recording material |
-
1987
- 1987-11-18 JP JP62289575A patent/JPH01132555A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5179068A (en) * | 1990-11-06 | 1993-01-12 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Heat-sensitive recording material |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0560822B2 (ja) | 1993-09-03 |
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