JPH01132694A - フラツクス洗剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はＩＣ部品、精密機械部品等に何首したフラック
スを除去するために用いるフラックス洗浄剤に関するも
のである。

［従来の技術］ ＩＣ部品、精密機械部品等の組立て工程でフラックスが
使われるが、これらが何首したままでは、製品とはなら
ない場合が多い。従って、通常このような部品の仕上げ
工程では有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。その有
機溶剤として次に掲げるような種々の利点から１．１．
２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン（以
下Ｒ１）３という）が広く使われている。Ｒ１）３は不
燃性、非曝性で毒性が低く、安定性も優れている。しか
も、金属、プラスチック、エラストマー等の基材を侵さ
ず、各種の汚れを選択的に溶解する性質がある。一般に
フラックス洗浄をする場合の被洗物は金属、プラスチッ
ク、エラストマー等から成る複合部品が多く従ってこの
点からも旧１３が有利であった。

［発明の解決しようとする問題点］ 本発明は従来使用されていたＲ１）３が種々の利点を持
つにもかかわらず、成層圏のオゾンを破壊し、ひいては
皮膚ガンの発生をひき起す原因となる疑いがあることか
らそれに対応すべくＲ１）３と同様な種々の利点を有し
、同等の洗浄が行なえる新規のフラックス洗浄剤を提供
することを目的とするものである。

［問題点を解決するための手段］ 本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり、
１．２−ジフルオロエタンを有効成分として含有するフ
ラックス洗浄剤を提供するものである。

本発明のフラックス洗浄剤の有効成分である１、２−ジ
フルオロエタン（以下ＲＩ５２という）は、適度な溶解
力がある等、従来のＲ１）３と同様な利点を有する優れ
た溶剤である。

本発明のフラックス洗浄剤には、各種の目的に応じてそ
の他の各種成分を含有させることができる。例えば、溶
解力を高めるためには、炭化水素類、アルコール類、ケ
トン類又は塩素化炭化水素類等の有機溶剤から選ばれる
少なくとも１種を含有させることができる。これらの有
機溶剤のフラックス洗浄剤中の含有割合は、０〜５０重
毒％、好ましくは１０〜４０重量％、さらに好ましくは
２０〜３０重量％である。１．２−ジフルオロエタンと
有機溶剤との混合物に共沸組成が存在する場合には、そ
の共沸組成での使用が好ましい。

炭化水素類としては炭素数１〜１５の鎖状又は環状の飽
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、ｎ−ペンタン、イ
ソペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、２−メチル
ペンタン、２．２−ジメチルブタン、２．３−ジメチル
ブタン、ｎ−へブタン、イソへブタン、３−メチルヘキ
サン、２．４−ジメチルペンタン、ｎ−オクタン、２−
メチルペンタン、３−メチルペンタン、４−メチルへブ
タン、２．２−ジメチルヘキサン、２．５−ジメチルヘ
キサン、３．３−ジメチルヘキサン、２−メチル−３−
エチルベンクン、３−メチル−３−エチルペンタン、２
、３．３−　トリメチルペンタン、２．３．４−　トリ
メチルペンタン、２．２．３−　トリメチルペンタン、
イソオクタン、ノナン、２．２．５−トリメデルヘキサ
ン、デカン、ドデンカン、１−ペンテン、２−ペンテン
、１−ヘキセン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセ
ン、シクロベンクン、メチルシクロペンクン、シクロヘ
キサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン
、ビシクロヘキサン、シクロヘキセン、α−ピネン、ジ
ペンテン、デカリン、テトラリン、アミジノ、アミルナ
フタレン等から選ばれるものである。より好ましくは、
ｎ　−ペン’？ン、ｎ−ヘキサン、ｎ−へブタン等であ
る。

アルコール類としては、炭素数Ｉ〜１７の鎖状又は環状
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、ｎ−ブチルアルコール、５ｅｃ−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒ　Ｌ−ブチル
アルコール、ペンチルアルコール、５ｅｃ−アミルアル
コール、１−エチル−１−プロパツール、２−メチル−
１−ブタノール、イソペンチルアルコール、Ｌｅｒｔ−
ペンデルアルコール、３−メチル−２−ブタノール、ネ
オペンチルアルコール、ｌ−ヘキサノール、２−メチル
−１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、
２−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタツール、２−
ヘプタツール、３−ヘプタツール、ｌ−オクタノール、
２−オクタノール、２−エチル−１−ヘキサノール、ｌ
−ノナノール、３．５．５−トリメチル−１−ヘキサノ
ール、Ｉ−デカノール、１−ウンデカノール、１−ドデ
カノール、アリルアルコール、プロパルギルアルコール
、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、１−メチ
ルシクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール
、３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロヘ
キサノール、α−テルピネオール、アビニチノール、２
．６−シメチルー４−ヘプタツール、トリメチルノニル
アルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデシルア
ルコール等から選ばれるものである。より好ましくはメ
タノール、エタノール、イソプロピルアルコール等であ
る。

ケトン類としては、Ｒ−ＣＯ−Ｒ’　、　Ｒ−Ｃｏ、　
Ｒ−Ｃｏ−Ｒ’　−、ｒ−Ｃ１），。

Ｃ０−Ｒ“、Ｒ−ＣＤ−Ｒ’、　Ｒ−ＣＯ−Ｒ’　（こ
こで、Ｒ，ｉ＋’、Ｒ”は炭素数１〜９の飽和又は不飽
和炭化水素基）のいずれかの一般式で示されるものが好
ましく、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノ
ン、３−ペンタノン、２−ヘキサノン、メチル−ロープ
チルケトン、メチルブチルケトン、２−ヘプタノン、４
−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、アセトニルアセト
ン、メシチルオキシド、ホロン、メチル−〇−アミルケ
トン、エチルブチルケトン、メチルへキシルケトン、シ
クロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、イソホロン
、２．４−ペンタンジオン、ジアセトンアルコール、ア
セトフェノン、フェンチョン等から選ばれるものである
。より好ましくはアセトン、メチルエチルケトン等であ
る。

塩素化炭化水素類としては、炭素数１〜２の飽和又は不
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、１．１−ジクロルエタン、１．２−ジクロロ
エタン、ｌ、、１．！トリクロルエタン、１，１．２−
トリクロルエタン、１．１．ｌ、２−テトラクロルエタ
ン、１．１，２．２−テトラクロルエタン、ペンタクロ
ルエタン、１．１−ジクロルエチレン、１．２−ジクロ
ルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエチレ
ン等から選ばれるものである。より好ましくは塩化メチ
レン。

！、　Ｉ、　ｌ−トリクロルエタン、トリクロルエチレ
ン、テトラクロルエチレン等である。

本発明のフラックス洗浄剤には、各種の洗浄助剤や安定
剤あるいはオゾン破壊に対する影響の少ない水素含有塩
素化フッ素化炭化水素類をさらに添加混合してもよい。

洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超
音波洗汀−１蒸気洗浄等通常の方法を採用することがで
きる。

［実施例］ 実施例１〜５ 下記第１表に示すフラックス洗浄剤を用いてフラックス
の洗浄試験を行なった。

プリント基板（銅張積層板）全面にフラックス（タムラ
Ｆ−ＡＩ−４．■タムラ製作所製）を塗布し、２００℃
の電気炉で２分間焼成後フラックス洗浄剤に１分間浸漬
した。フラックスの除去の度合を第１表に示す。

第１′表 （）内は混合比［重量％］ Ｏ：良好に除去できる　△：少量残存 ×：かなり残存 ［発明の効果］ 本発明のフラックス洗浄剤は実施例から明らかなように
フラックスの洗浄効果の優れたものである。又、従来使
用されていた旧１３と同様に適度な溶解力を持つことか
ら、金属、プラスデック及びエラストマー等から成る複
合部品に悪影響を与えることなく、フラックス洗浄する
ことができる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）１，２−ジフルオロエタンを有効成分として含有
   するフラックス洗浄剤。
2. （２）フラックス洗浄剤中には、炭化水素類、アルコー
   ル類、ケトン類又は塩素化炭化水素類から選ばれる少な
   くとも１種が含まれている特許請求の範囲第１項記載の
   フラックス洗浄剤。