JPH01138501A - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
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- JPH01138501A JPH01138501A JP62298516A JP29851687A JPH01138501A JP H01138501 A JPH01138501 A JP H01138501A JP 62298516 A JP62298516 A JP 62298516A JP 29851687 A JP29851687 A JP 29851687A JP H01138501 A JPH01138501 A JP H01138501A
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- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 64
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
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Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は紫外領域の光に有効な反射防止膜に関する。
従来技術
最近、紫外領域（例えば３６５ ｎｍ）の光源を利用し
た投影型露光の半導体露光装置が実用化されている。投
影型露光の半導体露光装置の解像力は光源波長に比例す
るため、光源の短波長化は図られ、１９３層ｍ、 ２４
８層ｍあるいは３０８ ｎｍ等の紫外線が用いられてい
る。
た投影型露光の半導体露光装置が実用化されている。投
影型露光の半導体露光装置の解像力は光源波長に比例す
るため、光源の短波長化は図られ、１９３層ｍ、 ２４
８層ｍあるいは３０８ ｎｍ等の紫外線が用いられてい
る。
しかし、上記露光装置は通常１５〜２０枚の多数のレン
ズから構成される照明系、縮小系を有するため、それら
の系における各レンズ面での反射によるゴースト等が像
において照度むらを発生させる。係る反射を防止するた
めには上記の光を吸収しない材料で反射防止膜を設ける
ことが考えられるが、従来のカメラレンズ等に用いられ
る反射防止膜はほとんどの場合紫外領域において吸収が
あり、これらの反射防止材料をそのまま流用することは
できない。
ズから構成される照明系、縮小系を有するため、それら
の系における各レンズ面での反射によるゴースト等が像
において照度むらを発生させる。係る反射を防止するた
めには上記の光を吸収しない材料で反射防止膜を設ける
ことが考えられるが、従来のカメラレンズ等に用いられ
る反射防止膜はほとんどの場合紫外領域において吸収が
あり、これらの反射防止材料をそのまま流用することは
できない。
一方、波長１６０〜２３０ｎｍの真空紫外領域の光に有
効な反射防止膜が、例えば特開昭６１−７７００１号公
報、特開昭６１−７７００２号公報あるいは特開昭６１
−７７００３号公報に開示されている。上記技術は真空
紫外領域の光を透過する低屈折率（ｎ＜１．５）物質と
中間屈折率（ｎ＝１．６〜１．８）物質を使用し、所定
の厚さで３層あるいは５層に積層した反射防止膜に関す
るものである。しかし上記技術に開示されている反射防
止に有効な波長領域は約７０ｎｍと狭い問題がある。
効な反射防止膜が、例えば特開昭６１−７７００１号公
報、特開昭６１−７７００２号公報あるいは特開昭６１
−７７００３号公報に開示されている。上記技術は真空
紫外領域の光を透過する低屈折率（ｎ＜１．５）物質と
中間屈折率（ｎ＝１．６〜１．８）物質を使用し、所定
の厚さで３層あるいは５層に積層した反射防止膜に関す
るものである。しかし上記技術に開示されている反射防
止に有効な波長領域は約７０ｎｍと狭い問題がある。
発明が解決しようとする問題点
本発明は上記のような事情に鑑みなされたものであって
、その目的とするところは、広範囲の紫外領域の光に対
して有効な反射防止膜を提供することを目的とする。
、その目的とするところは、広範囲の紫外領域の光に対
して有効な反射防止膜を提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段
すなはち、本発明は入射媒質側から基板側へ順に基板よ
りも低い屈折率を有する低屈折率物質からなる第１層、
屈折率が基板の有する屈折率より高い１．５〜１．８の
値を有する中間屈折率物質からなる第２層、基板よりも
低い屈折率を有する低屈折率物質からなる第３層、第３
層で使用した低屈折率物質の存する屈折率より低い屈折
率を有する低屈折率物質からなる第４層及び屈折率が基
板の有する屈折率より高い１．５〜１．８である中間屈
折率物質からなる第５層の５層構造からなり、１６０＋
＋＋ｅ〜４００ｎｍの波長域に対して有効な反射防止膜
に関する。
りも低い屈折率を有する低屈折率物質からなる第１層、
屈折率が基板の有する屈折率より高い１．５〜１．８の
値を有する中間屈折率物質からなる第２層、基板よりも
低い屈折率を有する低屈折率物質からなる第３層、第３
層で使用した低屈折率物質の存する屈折率より低い屈折
率を有する低屈折率物質からなる第４層及び屈折率が基
板の有する屈折率より高い１．５〜１．８である中間屈
折率物質からなる第５層の５層構造からなり、１６０＋
＋＋ｅ〜４００ｎｍの波長域に対して有効な反射防止膜
に関する。
本発明の反射防止膜は１８０〜４００＋＋ｍの広範囲の
紫外領域の光に対して有効に機能する。
紫外領域の光に対して有効に機能する。
本発明の反射防止膜は第１図に示したように、入射媒質
側から、基板（６）より小さい屈折率を有する低屈折率
物質（以下単に低屈折率物質という）からなる膜を第１
層（１）、基板より大きい屈折率を有する中間屈折率物
質（以下単に中間屈折率物質という）からなる膜を第２
層（２）、低屈折率物質からなる膜を第３層（３）、低
屈折率物質からなる膜を第４層（４）、および中間屈折
率物質からなる膜を第５層（５）としてレンズ基板（６
）上に形成した構成である。
側から、基板（６）より小さい屈折率を有する低屈折率
物質（以下単に低屈折率物質という）からなる膜を第１
層（１）、基板より大きい屈折率を有する中間屈折率物
質（以下単に中間屈折率物質という）からなる膜を第２
層（２）、低屈折率物質からなる膜を第３層（３）、低
屈折率物質からなる膜を第４層（４）、および中間屈折
率物質からなる膜を第５層（５）としてレンズ基板（６
）上に形成した構成である。
本発明に使用できるレンズ基板（６）としては、屈折率
１．４７〜１．６０からなる物質、具体的にはＳｉｎｇ
、Ｃａ Ｆ ｔ、ＢＫ−７等から構成されるものを使用
することができる。
１．４７〜１．６０からなる物質、具体的にはＳｉｎｇ
、Ｃａ Ｆ ｔ、ＢＫ−７等から構成されるものを使用
することができる。
低屈折率物質としては屈折率が１．６以下の物質で紫外
領域において透明かつ安定な物質が好ましく、例えばＭ
ｇＦｔ、ＣａＦ、あるいはＳｆＯ，等を使用することが
でき、前述したレンズ基板と同じ屈折率の同じ物質を使
用することも可能である。
領域において透明かつ安定な物質が好ましく、例えばＭ
ｇＦｔ、ＣａＦ、あるいはＳｆＯ，等を使用することが
でき、前述したレンズ基板と同じ屈折率の同じ物質を使
用することも可能である。
中間屈折率物質としては屈折率が１．５と１．８の間の
値を有する物質で紫外領域において透明かつ安定な物質
が好ましく、例えばＬ ａ Ｆ ｓ、ＮｄＦ’ 、、Ａ
Ｑ ｔ Ｏｓ、ＭｇＯ１Ｙ、Ｏ，等を使用スルコトカ
テキ、と（にＡ１２．０．、Ｌ ａ Ｆ ｓが好ましい
。屈折率が１．８以上の大きな値を有する物質は一般に
紫外領域に大きな吸収があるために、紫外領域光の反射
防止膜の構成に有効な材料は見当たらない。従って、本
発明は、紫外領域に大きな吸収がなく、紫外線に対して
透明かつ安定な物質の存在する中間屈折率物質を用いて
、紫外領域の光に有効な反射防止膜構成する。
値を有する物質で紫外領域において透明かつ安定な物質
が好ましく、例えばＬ ａ Ｆ ｓ、ＮｄＦ’ 、、Ａ
Ｑ ｔ Ｏｓ、ＭｇＯ１Ｙ、Ｏ，等を使用スルコトカ
テキ、と（にＡ１２．０．、Ｌ ａ Ｆ ｓが好ましい
。屈折率が１．８以上の大きな値を有する物質は一般に
紫外領域に大きな吸収があるために、紫外領域光の反射
防止膜の構成に有効な材料は見当たらない。従って、本
発明は、紫外領域に大きな吸収がなく、紫外線に対して
透明かつ安定な物質の存在する中間屈折率物質を用いて
、紫外領域の光に有効な反射防止膜構成する。
本発明においては、レンズ基板の種類にもよるが低屈折
率物質としてＭｇＦ、あるいはＳｉ：ｎ１を使用し５、
中間屈折率物質としてＡｆｆｔＯｓを組み合わせて使用
するのが好ましい。
率物質としてＭｇＦ、あるいはＳｉ：ｎ１を使用し５、
中間屈折率物質としてＡｆｆｔＯｓを組み合わせて使用
するのが好ましい。
基板上の第５層は厚さ約０゜５０λ。（λ０は設計主波
長）に中間屈折率物質によって構成される。
長）に中間屈折率物質によって構成される。
約というのは第５層の厚が０．５λ０から±０．１λ。
の誤差であれば許容できることを意味する。
それ以上の誤差になれば反射防止効果が低下する。
第４層は第５層の上に低下屈折率物質から、厚さ約０．
５０λ。に形成する。本発明においては第４層の厚さは
±０．１λ。の範囲の誤差であれば許容できる。その誤
差が±０．１λ０より大きくなると反射防止効果が低下
する。
５０λ。に形成する。本発明においては第４層の厚さは
±０．１λ。の範囲の誤差であれば許容できる。その誤
差が±０．１λ０より大きくなると反射防止効果が低下
する。
第３層は第４層上に、厚さ約０．５０λ。の低屈折率物
質によって形成される。その厚さは、±０゜１λ。の範
囲の誤差であれば許容される。その誤差が±０．１λ。
質によって形成される。その厚さは、±０゜１λ。の範
囲の誤差であれば許容される。その誤差が±０．１λ。
より大きくなると反射防止効果が低下する。
第３層と第４層は共に低屈折率物質から構成されるが、
同一屈折率を示す膜として構成すべきでなく、第４層の
屈折率は第３層の屈折率より大きくなるように構成する
必要がある。この条件を満たす範囲において第３層およ
び第４層には同一物質を使用することは可能であり、そ
の物質が基板と同一物質であってもよい。しかし、反射
防止効果の面からは第３層と第４層は異なる低屈折率物
質から構成することが好ましい。
同一屈折率を示す膜として構成すべきでなく、第４層の
屈折率は第３層の屈折率より大きくなるように構成する
必要がある。この条件を満たす範囲において第３層およ
び第４層には同一物質を使用することは可能であり、そ
の物質が基板と同一物質であってもよい。しかし、反射
防止効果の面からは第３層と第４層は異なる低屈折率物
質から構成することが好ましい。
第２層は第３層上に、厚さ約０．２５λ。の中間屈折率
物質によって形成される。その膜厚は±０．０５λ。の
範囲の誤差であれば許容できる。その誤差が±０．０５
λ。より大きくなると反射防止効果が低下する。
物質によって形成される。その膜厚は±０．０５λ。の
範囲の誤差であれば許容できる。その誤差が±０．０５
λ。より大きくなると反射防止効果が低下する。
第２層形成のための中間屈折率物質は第５層形成に使用
した中間屈折率物質と同じ物質あるいは異なる物質のい
ずれをも使用可能であるが、材料の種類をなるべく少な
くして製造面で扱いやすくするため等の理由により第５
層と同一の物質を使用することが好ましい。
した中間屈折率物質と同じ物質あるいは異なる物質のい
ずれをも使用可能であるが、材料の種類をなるべく少な
くして製造面で扱いやすくするため等の理由により第５
層と同一の物質を使用することが好ましい。
第１層は第２層上に、低屈折率物質から厚さ約０．２５
λ。に形成される。その膜厚は±０．０５λ。の範囲の
誤差であれば許容できる。その誤差が±０．０５λ。よ
り太き（なると反射防止効果が劣化する。
λ。に形成される。その膜厚は±０．０５λ。の範囲の
誤差であれば許容できる。その誤差が±０．０５λ。よ
り太き（なると反射防止効果が劣化する。
第１層形成のための低屈折率物質は第３層あるいは第４
層形成に使用した低屈折率物質と同じ物質あるいは異な
る物質のいずれをも使用可能であるが、材料の種類をな
るべく少なくシ、て製造面で扱いやすくする等の理由に
より第３層あるいは第４層と同一の物質を用いることが
好ましい。
層形成に使用した低屈折率物質と同じ物質あるいは異な
る物質のいずれをも使用可能であるが、材料の種類をな
るべく少なくシ、て製造面で扱いやすくする等の理由に
より第３層あるいは第４層と同一の物質を用いることが
好ましい。
第１層から第５層の製造方法としては、公知の方法、例
えばイオンブレーティング法、スッパタリング法等の真
空蒸着法を使用することができる。
えばイオンブレーティング法、スッパタリング法等の真
空蒸着法を使用することができる。
火旋刺
レンズ基板上に、表１から表６に示した膜構成の反射防
止膜を作製した。
止膜を作製した。
得られたレンズの反射防止特性を第２図〜第７図に示し
た。
た。
以上のようにして得られた膜構成１〜６の反射防止膜を
有するレンズの反射防止特性を第２図〜第７図に示した
。
有するレンズの反射防止特性を第２図〜第７図に示した
。
本発明の反射防止膜は、第２図から第７図より明らかな
ように膜構成を選択することにより波長１６０〜４００
ｎｍの広範囲の波長領域で反射率１％以下に押さえるこ
とができる。
ように膜構成を選択することにより波長１６０〜４００
ｎｍの広範囲の波長領域で反射率１％以下に押さえるこ
とができる。
発明の効果
本発明の反射防止膜は広範囲の紫外線波長領域において
有効である。
有効である。
第１図は本発明の反射防止膜の措成例を示す模式的断面
図である。 第２図から第７図は反射防止特性を示す図である。 ■・・・第１層 ２・・・第２層３・・・第３
層 ４・・・第４層５・・・第５層
６・・・レンズ基板第１図 第２図 第３図 第４図 第５ｒＩｆｆ 濠長＋ ｎｍｌ
図である。 第２図から第７図は反射防止特性を示す図である。 ■・・・第１層 ２・・・第２層３・・・第３
層 ４・・・第４層５・・・第５層
６・・・レンズ基板第１図 第２図 第３図 第４図 第５ｒＩｆｆ 濠長＋ ｎｍｌ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、入射媒質側から基板側へ順に、基板よりも低い屈折
率を有する低屈折率物質からなる第１層、屈折率が基板
の有する屈折率より高い１．５〜１．８の値を有する中
間屈折率物質からなる第２層、基板よりも低い屈折率を
有する低屈折物質からなる第３層、第３層で使用した低
屈折率物質の有する屈折率より低い屈折率を有する低屈
折率物質からなる第４層及び屈折率が基板の有する屈折
率より高い１．５〜１．８である中間屈折率物質からな
る第５層の５層構造からなり、１６０ｎｍ〜４００ｎｍ
の波長域に対して有効な反射防止膜。 ２、低屈折率物質が１．６以下の屈折率を有する特許請
求の範囲第１項記載の反射防止膜。 ３、更に以下の条件を満足することを特徴とする特許請
求の範囲第１項または第２項に記載の反射防止膜： 屈折率：光学的膜厚 第１層：ｎ＿１＜１．６：約０．２５λ＿０第２層：１
．５＜ｎ＿２＜１．８：約０．２５λ＿０第３層：ｎ＿
３＜１．６：約０．５０λ＿０第４層：ｎ＿４＜１．６
：約０．５０λ＿０第５層：１．５＜ｎ＿５＜１．８：
約０．５０λ＿０ここで、 ｎ＿１：第１層の屈折率 ｎ＿２：第２層の屈折率 ｎ＿３：第３層の屈折率 ｎ＿４：第４層の屈折率 ｎ＿５：第５層の屈折率 λ＿０：設計主波長 ４、低屈折率物質がＭｇＦ＿２、ＣａＦ＿２、ＳｉＯ＿
２からなるグループから選ばれる物質であり、中間屈折
率物質がＬａＦ＿３、ＮｄＦ＿３、Ａｌ＿２Ｏ＿３、Ｍ
ｇＯおよびＹ＿２Ｏ＿３からなるグループ選ばれる物質
である特許請求の範囲第１項記載の反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62298516A JP2586527B2 (ja) | 1987-11-26 | 1987-11-26 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62298516A JP2586527B2 (ja) | 1987-11-26 | 1987-11-26 | 反射防止膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01138501A true JPH01138501A (ja) | 1989-05-31 |
| JP2586527B2 JP2586527B2 (ja) | 1997-03-05 |
Family
ID=17860731
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62298516A Expired - Lifetime JP2586527B2 (ja) | 1987-11-26 | 1987-11-26 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2586527B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11142606A (ja) * | 1997-11-13 | 1999-05-28 | Canon Inc | 反射防止膜及びその製造方法 |
| WO2000003957A3 (de) * | 1998-07-14 | 2000-04-20 | Leica Microsystems | Zweibereichs-reflexionsminderungsschicht für den sichtbaren spektralbereich |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5438904A (en) * | 1977-06-28 | 1979-03-24 | Tenneco Chem | Paper sizing agent and method |
| JPS5917502A (ja) * | 1982-07-21 | 1984-01-28 | Tokyo Optical Co Ltd | ゲルマニユウム基板の赤外反射防止膜 |
| JPS6177001A (ja) * | 1984-09-25 | 1986-04-19 | Canon Inc | 光反射防止膜 |
-
1987
- 1987-11-26 JP JP62298516A patent/JP2586527B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5438904A (en) * | 1977-06-28 | 1979-03-24 | Tenneco Chem | Paper sizing agent and method |
| JPS5917502A (ja) * | 1982-07-21 | 1984-01-28 | Tokyo Optical Co Ltd | ゲルマニユウム基板の赤外反射防止膜 |
| JPS6177001A (ja) * | 1984-09-25 | 1986-04-19 | Canon Inc | 光反射防止膜 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11142606A (ja) * | 1997-11-13 | 1999-05-28 | Canon Inc | 反射防止膜及びその製造方法 |
| WO2000003957A3 (de) * | 1998-07-14 | 2000-04-20 | Leica Microsystems | Zweibereichs-reflexionsminderungsschicht für den sichtbaren spektralbereich |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2586527B2 (ja) | 1997-03-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |