JPH01141408A - 弾性表面波装置の製造方法 - Google Patents

弾性表面波装置の製造方法

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JPH01141408A
JPH01141408A JP30059887A JP30059887A JPH01141408A JP H01141408 A JPH01141408 A JP H01141408A JP 30059887 A JP30059887 A JP 30059887A JP 30059887 A JP30059887 A JP 30059887A JP H01141408 A JPH01141408 A JP H01141408A
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JP
Japan
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photoresist
electrode
scribing
thin film
dust
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Pending
Application number
JP30059887A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsuji Sakai
酒井 勝二
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Nippon Seiki Co Ltd
Original Assignee
Nippon Seiki Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は圧電基板上に櫛歯状等適宜形状の電極を設けた
弾性表面波装置の製造方法に関するものである。
〔従来の技術〕
近年、テレビ、ビデオテープレコーダ等の映像機器や通
信機器の部品として弾性表面波(以下、SAWと略称す
る。)装置が汎用されている。
このSAW装置の製造は、1個の大きな圧電基板、たと
えば圧電セラミックやLiNb0z基板上に複数組の電
極を形成し、その後スクライブして、それぞれ1個の装
置とすることが一般的である。このスクライビングの際
にゴミや基板のかけらが生じ、これらが基板表面に付着
するとワイヤボンデングの際に電極にワイヤが接着でき
ない等の不都合があり、またこれを解消するため基板表
面を水中で洗うと電極に傷つくといった不具合がある。
このような問題点を解消するものとして、特開昭55−
52.236号公報が知られている。即ち、第2図(a
)〜同図+dlに示すように、圧電基板51上に電極5
2を形成した後(同図(a)) 、溶解し得る物質53
を基板51表面に塗布しく同図(bl) 、スクライブ
後(同図(C))上記物質53を除去(同図(d))す
るもので、ゴミや基板のかけら54が電極52表面に付
着しないようにして上記不具合を解消している。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記公報に示された従来方法においては、基板表面に物
質を塗布するという、ゴミ等の付着を防止するための専
用の工程が必要であるため、それまでの製造工程に比し
て作業を多く必要としている。従って、なるべく安価な
製品を提供する上で障害となり、精度が良好でもコスト
アンプとなってしまう問題点があった。
〔問題点を解決するための手段〕
上記問題点を解決するため本発明は、圧電基板上に電極
用薄膜を設け、この薄膜上にフォトレジストを設け、必
要部分を残して該フォトレジストを除去し、該除去され
たフォトレジスト対応部分を残して上記電極用薄膜を除
去し、基板をスクライブした後に上記残されたフォトレ
ジストを除去する工程を有することを特徴としている。
〔作用〕
従って、スクライブ工程よりも後にフォトレジストが除
去されるため、電極表面にはスクライブの際に生じたゴ
ミや基板のかけらが付着せず、かつゴミ等の付着を防止
するための専用の工程が不用となる。
〔実施例〕
第1図は本発明の一実施例を示す略断面図である。図中
、lは圧電基板であって、この圧電基板1表面に同図+
8)のように、電極用薄膜が適宜手段により、たとえば
アルミニウム薄膜が蒸着により、設ける。次いで、この
電極用薄膜2上にフォトレジスト3を塗布しく同図(b
))、続いて電極の形状の必要部分を残して同図(C)
のようにフォトレジスト3を除去し、さらに続いて同図
+d)のように、エツチング等により、上記残されたフ
ォトレジスト3対応位置以外の電極用薄膜2を除去する
。この状態で、たとえばレーザスクライバを用いて、同
図(e)のようにスクライブを行い、その後上記残され
たフォトレジスト3を除去するものである。
以上の実施例によれば、スクライブの際に生ずるゴミや
基板のかけら4は、第1図(Q)のように、フォトレジ
スト3が存在するために、一般に電極2表面には付着せ
ず、フォトレジスト3を除去する際に除去されるため、
専用の工程を設けなくとも、良好な装置を得ることが可
能となるものである。
なお、本発明は上記実施例のみに限定されるものではな
く、第1図+8)〜同図1f)に至る工程中に、他の付
加された工程が入っていても、少なくとも上記第1図(
a)〜同図<nが、その順に存在していればよい。
また、電極、フォトレジストの材料及び設は方や、スク
ライブのやり方は任意であることは言うまでもない。
°〔発明の効果〕 本発明によれば、スクライブする際に生ずるゴミ、基板
のかけら等が一般に電極の表面に付着し得ず、従って良
好な弾性表面波装置を得ることができるとともに、上記
電極表面へのゴミ等の付着を防ぐための専用の工程を設
ける必要がないという効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)乃至第1図(f)は本発明の一実施例を示
す略断面図、第2図(a)乃至第2図(d)は従来例を
示す略断面図である。 1−圧電基板 2−電極用薄膜 3−・−フォトレジスト 第1図 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 圧電基板表面に電極用薄膜を設け、該電極用薄膜上にフ
    ォトレジストを設けた後、必要部分を残して上記フォト
    レジストを除去し、該除去されたフォトレジスト対応部
    分の上記電極用薄膜を除去し、スクライブした後に残さ
    れた上記フォトレジストを除去する工程を有する弾性表
    面波装置の製造方法。
JP30059887A 1987-11-28 1987-11-28 弾性表面波装置の製造方法 Pending JPH01141408A (ja)

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