JPH01158781A - サンドイッチ型光センサ - Google Patents

サンドイッチ型光センサ

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Publication number
JPH01158781A
JPH01158781A JP62318043A JP31804387A JPH01158781A JP H01158781 A JPH01158781 A JP H01158781A JP 62318043 A JP62318043 A JP 62318043A JP 31804387 A JP31804387 A JP 31804387A JP H01158781 A JPH01158781 A JP H01158781A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical sensor
edge
semiconductor layer
type optical
sensor
Prior art date
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Pending
Application number
JP62318043A
Other languages
English (en)
Inventor
Satoshi Komori
小森 敏
Hiroyuki Okamoto
弘之 岡本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH01158781A publication Critical patent/JPH01158781A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、サンドイッチ型光センサに関する。
従来艮佐 従来のサンドイッチ型光センサの構造は、例えば、第1
図〜第3図に示すようなものであった。第1図のものは
MIS型又はMSS型センサであり、1は上部透明電極
、2はa−Si:OH膜、3はa−si:H膜、4は下
部電極、5は基板である。第2図はショトキ−型センサ
であり、第3図は、P−i−n型センサであり、6はB
ドープされたa−Si: H膜、7はPドープされたa
−Si:H膜である。図面にみられるように、従来、上
部透明電極はa−Si:H系層上を一部が覆っていれば
充分と考えられていた。ところが、本発明者等の研究に
よると、上部透明電極が覆っていない部分、図面でいえ
ばαで示される部分においていいかえれば、上部透明電
極エツジと半導体層2,3のエツジ部との間の段差部分
にもエレクトロンとホールが発生し、この部分に生じた
キャリヤは上部電極までの拒離が長いため移動に時間が
かかり応答速度の遅延につながっていることが解明され
た。しかし、段差部を全くなくすと、その後のフォトリ
ソグラフィ・工程で、a−Siを主成分とする半導体層
の段差形状が悪くなり、歩留りに悪影響を及ぼすことが
わかった。そこで、従来よりも光応答速度を向上し、か
つ、フォトリソグラフィ・工程での歩留りに悪影響を及
ぼさない程度の段差を設ける必要があることがわかった
目     的 本発明は前記知見に基き、サンドイッチ型光センサの光
応答速度の改善を目的とするものである。
構   成 本発明は、a−Siを主成分とする半導体層が電極にサ
ンドイッチ状にはさまれた光センサーにおいて、電極の
少なくとも一方が透明電極であり、透明電極エツジと半
導体層エツジ部との間の段差が半導体層の膜厚の0.5
〜2倍であることを特徴とするものである。
半導体層エツジ部と上部透明電極エツジ部との距離Aは
半導体層の膜厚より小さければその効果が顕著にあられ
れる。半導体層が複数の場合には、そのうちの−層がそ
のようになっていても、それなりの効果を生ずる。
当然のことではあるが、光を上部電極側からあてる形式
で使用する場合のセンサは上部電極を透明なものとする
必要があり、又下部電極側から光をあてる形式で使用す
る場合のセンサは基板と下部電極を透明な相料とする必
要がある。
透明電極としては1例えば■n203、Sn○7、IT
O等を使用することができ、透明基板としてはガラス、
石英等が使用できる。
実施例 本発明の実施例を第4図を参照して説明する。
ガラス基板5上に下部電極4をCrを真空蒸着すること
により形成し、5in4、H2ガスをグロー放電分解し
、膜厚1μmの5i−H膜、SiH4、CO2、H2を
同じくグロー放電分解し、5i−OH膜を順次形成する
〈デポ条件〉 次に透明電極に1.T、Oをスパッタリング法により形
成し、ついでレジストを用いた露光、現像後、半導体層
になる様にフォトエツチングを行った。
比較例1 a−Si: Hとa−Si:OHよりなる半導体層のエ
ツジ部と上部電極エツジ部の距離Aを10μmという段
差を設けた以外は実施例1と同様の方法によりセンサを
作った。
比較例2 a−Si: OH層までを上部電極エツジと同一に形成
し、a−Si: Hの層のみはa−Si: Hエツジ部
と上部電極エツジ部の距離を10μmという段差を設け
た以外は実施例1と同一の方法によりセンサを作った。
第1表 上記光応答速度は100 L uxの緑色LEDをステ
ップ状に駆動し、この光をセンサに照射し、出力が光照
射の飽和値に対して10%から90%になるまでの立上
り時間を測定したものである。
効   果 前記第1表に明らかなとおり、透明電極のエツジ部と半
導体層のエツジ部に段差を設けないようにすると、その
光応答速度は著しく向上する。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第3図は従来型のセンサを例示するものであり
、第4図は本発明センサの一例である。 1・・・上部透明電極     2・・・a−Si:O
H膜3・・・a−Si:H膜     4・・・下部電
極5・・・基板

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、a−Siを主成分とする半導体層が電極にサンドイ
    ッチ状にはさまれた光センサーにおいて、電極の少なく
    とも一方が透明電極であり、透明電極エッジと半導体層
    エッジ部との間の段差が半導体層の膜厚の0.5〜2倍
    であることを特徴とするサンドイッチ型光センサー。
JP62318043A 1987-12-15 1987-12-15 サンドイッチ型光センサ Pending JPH01158781A (ja)

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JP62318043A JPH01158781A (ja) 1987-12-15 1987-12-15 サンドイッチ型光センサ

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JPH01158781A true JPH01158781A (ja) 1989-06-21

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