JPH01186933A - 写真材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は写真材料に関するもので、特に疎水性表面を有
する支持体上に親水性コロイドから成る写真層をもうけ
た写真材料に関するものである。

「従来の技術」 従来より写真用支持体として、その透明性、可撓性等の
秀れている点でポリエチレンテレフタレート、トリ酢酸
セルロース、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリオ
レフィンラミネート紙等が多く用いられている。

しかしながら、これら高分子物質を支持体に使用する場
合、支持体がいずれも疎水性の表面を有するため、これ
ら支持体上にゼラチンが主である親水性コロイドからな
る写真層を強固に接着させる事は非常に困難である。こ
の様な難点を克服するために試みられた従来技術におけ
る、疎水性支持体の表面処理としては、 （１）薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処
理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プ
ラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸化処理
、などの表面活性化処理したのち、直接写真乳剤を塗布
して接着力を得る方法と、 （２）−旦これらの表面処理をした後、下塗層を設けこ
の上に写真乳剤層を塗布する方法との二法がある。

（例えば、米国特許第一、ｔりｒ、コ弘１号、λ。

７４％　、１２０号、Ｊ、ｒ６４’、７ｊｊ号、３゜／
参Ｊ、４ＣＪ／号、３．ＩＩｔ２，３３％号、３゜ｕ７
！、１９１号、３．ｔ／！、１１４号、英国特許第７１
ｒｌ、３ｔＪ−号、ｒｏ参、００％号、ｔり／、４！４
り号等）。これらのうち（２）の方法がより有効であり
広く行なわれている。これらの表面処理はいずれも、本
来は疎水性であった支持体表面に、多少共、極性基を作
らせる事、極表面の接着に対してマイナスの要因になる
薄層を除去する事、表面の架橋密度を増卯させ接着強度
をあげる事などにより表面の接着力を増卯させるものと
思われ、その結果として下塗液中に含有される成分の極
性基との親和力が増卯することによるものないし、接着
表面の堅牢度が増加することによるもの等が考えられる
。

又、下塗層の塗布の方法としても種々の工夫が行なわれ
ており、第−層として支持体によく接着する層を設け、
その上に第二層として親水性の樹脂層な塗布する所謂、
重層法と疎水性基と親水性基との両方を含有する樹脂層
を一層のみ、塗布する単層法とがある。

これらの方法はいずれもよく研究されており、例えば、
塩化ビニル、塩化ビニリデン、ブタジェン、メタクリル
酸、アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸などの中
、から選ばれた単量体を出発原料とする共重合体を始め
として、ポリエチレンイミン、エポキシ樹脂グラフト化
ゼラチン、ニトロセルロースなど数多くの樹脂について
その適性が検討されてきた。

特に、疎水性支持体と親水性ハロゲン化銀乳剤との間に
実用に耐え得る充分な接着力を得る下塗方法を完全に水
系で行なう為に、特に塩化ビ＝　１７デン系共重合体、
ジエン系共重合体の検討が行なわれており、有効である
事が見い出されている（例えば特開昭！／−／／≠／コ
Ｏ号、同よμ−タ参Ｑλ！号、同よｊ−６ｊＰ弘２号）
また、下塗層のブロッキングを防止するためにメチルセ
ルロースを含有する第一の下塗層を設けることも提案さ
れている（例えば、特開昭４Ｏ−Ｊ４り参係号）０ 「発明が解決しようとする問題点」 しかしながら、メチルセルロースを含有する第一の下塗
層を設けるとしばしばピンホール状のハジキや塗布ムラ
が発生することがあり、写真用支持体としての価値を失
わせる事があった。

本発明の目的は、第１に写真層と疎水性支持体との間に
良好な接着性を持つ下塗層を有する写真材料を提供する
ことにある。第４に写真層に悪い影響を与えない下塗層
を持つ写真材料を提供することにある。第３にピンホー
ル状のハジキや塗布ムラの欠陥を伴わず、安定かつ容易
に製造できる下塗層を有する写真材料を提供することに
ある。

第弘に平面性及び透明性に丁ぐれ、かつブロッキング故
障が発生しにくい下塗層を有する写真材料を提供するこ
とにある。

「問題点を解決するための手段」 本発明に疎水性支持体上に、高分子物質より成る第１の
下塗層を有し、更にその上に親水性ポリマー及び置換度
２．５以下のメチルセルロース及びノニオン性界面活性
剤もしくは両性界面活性剤を含有する第４の下塗層を有
するものを支持体として用いる事を特徴とする写真材料
である。

以下、本発明に用いられる構成要件について詳述する。

本発明に於て、疎水性支持体とは、例えば、セルロース
エステル（特にセルローストリアセテート、セルロース
ジアセテート、セルロースプロピオネート）、ポリアミ
ド、ポリカーボネート、ポリエステル（特にポリエチレ
ンテレ７メレート、ホＩＪ−／、弘−シクロヘキサンジ
メチレンテレフタレート、ポリエチレン−／、２−ジフ
ェノキシエタンーク、参′−ジカルボキシレート）、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン等から成る
フィルム及びこれらのフィルムを紙等他の支持体上に塗
布又はラミネートして成る複合フィルムをいう。

中でも、ポリエチレンテレフタレートフィルムが最も好
１１．＜用いられ、特にコ軸延伸、熱固定されたポリエ
チレンテレフタレートフィルムが、安定性、強じん性等
の点からも有利に用いられる。

プラスチックフィルム支持体の厚さに特に制限はないが
、ｌ！〜２００μ、特に４ＩＯ−２００μ程度のものが
取扱い易さ、汎用性などの点から有利である。

又、支持体は、透明でもよいし、染料を含んでいてもよ
いし、二酸化チタンの如き顔料を含有するもの、さらに
、二酸化ケイ素、アルミ力ゾル、クロム塩、ジルコニウ
ム塩等を含有していてもよいＯ 本発明において疎水性支持体上に第１の下塗層に用いら
れる分子物質としては例えばジエン系単量体の共重合体
が用いられる。

ジエン系単量体の共重合体とは、ゲタジエン、インプレ
ンなど炭素数μないし約ｔのジエン系単量体を重合体の
一成分とする共重合体をいう。

共重合の相手としては、例えば、スチレン、アクリロニ
トリル、アクリルエステル、メタアクリルエステル（メ
チル、エチル、グチル、フロビルナト）、ビニルエーテ
ル（メチル、エチル、りａロエチル、グチルなと）、ビ
ニルエステル（りとえば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ルなど）、グリシジルアクリレート、グリ７ジルメタク
リレート、アリルグリジルエーテル、ジメチルアミノエ
チルメタクリレート、ビニルピリジン、ｔｅｒｔ−ブチ
ルアミノエチルメタクリレート、アクリル酸、メタクリ
ル酸、クロトン酸、イタコン酸、イタコン酸半エステル
、マレイン酸、マレイン酸半エステル、無水イタコン酸
、無水マレイン酸、アリルアルコール、λ−ヒドロキシ
エチルメタクリレート、コーヒドロキシエチルアクリレ
ート、−一ヒドロキシプロピルメタアクリレート、コー
ヒドロキシブロビルアクリレート、多価アルコールのモ
ノアリルエーテル、 アクリルアミド、メタクリルアミド、マレインアミド、
Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタク
リルアミドとそのエーテル、ビニルイソシアネート、ア
リルインシアネートなと炭素数２ないし約ｔのビニル又
はビニリデン化合物から選ばれる。これらは乳化重合法
により、好都合に製造され、市販品も入手できる。又、
この共重合体中のジエン成分の量は約３０〜６０重ｔ％
、好ましくは３λ〜μＯ重量％がよい。

又、共重合体中には、アマイド、ヒドロキシ、カルボキ
ンなとの親水性部位をもつ単量体をＯ６ｌないし２０１
１Ｌ憧チ程度含ませることができる。

本発明の第１の下塗層に用いられる他の高分子物質とし
ては、ガラス転移温度が−コｏ　’Ｃから≠Ｑ０Ｃの範
囲にある様な共重合体又はホモポリマーがあげられる。

この様な共重合体又はポモポリマーの合成に用いられる
単量体の例としては、例えばアクリル酸エステル類、ア
クリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリル
アミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエ
ステル類、ビニル異部環化合物、Ｎ−ビニル化合物、ス
チレン類、クロトン酸類、イタコン酸類、オレフィン類
、オレフィン類、無水マレイン酸類などがある。これら
の具体例としては、アクリル酸類、例えば、アクリル酸
、アクリレート（例えばアクリル酸エチル、アクリル酸
プロピル、アクリル酸グチル、アクリル酸アミル、アク
リル酸エチルヘキクル、アクリル酸オクチル、アクリル
酸−１−オクチル、λ−メトキシエチルアクリレート、
コープトキシエチルアクリレニト、λ−フェノキシエチ
ルアクリレート、クロルエチルアクリレート、ヒドロキ
シエチルアクリレート、ンアノエチルアクリレート、ヒ
ドロキシプロピルアクリレート、ジメチルアミノエチル
アクリレート、λ、２−ジメチルヒドロキンプロピルア
クリレート、！−ヒドロキシペンチルアクリレート、ジ
エチレングリコールモノアクリレート、トリメチロール
ブロノ耐ンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモ
ノアクリレート、グリクジルアクリレート、コーヒドロ
キシー３−クロロプロピルアクリレート、ベンジルアク
リレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリル
アクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、
フェニルアクリレートなど）： メタクリル酸駕　例えば、メタクリル酸、メタアクリレ
ート（例えばメチルメタクリレート、エチルメタクリレ
ート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリ
レート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレー
ト、フクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリ
レート、シアノアセトキシエチルメタクリレート、クロ
ルベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、
スルホプロピルメタクリレート、Ｎ−エチル−Ｎ−フェ
ニルアミノエチルメタクリレート、エチレングリコール
モノメタクリレート、λ−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、−一ヒ
ドａキシプａピルメタクリレート、弘−ヒドロキシブチ
ルメタクリレート、！−ヒドロキシインチルメタクリレ
ート、２．２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピルメタ
クリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート
、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタ
エリスリトールモノメタクリレート、グリシジルメタク
リレート、λ−メトキシエチルメタクリレート、コー（
Ｊ−フェニルプロピルオキシ）エチルメタクリレート、
ジメチルアミノフェノキシエチルメタクリレート、フル
フリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタク
リレート、フェニルメタクリに一ト、クレジルメタクリ
レート、ナフチルメタクリレートなど）ニアクリルアミ
ド類、例えばアクリルアミド、Ｎ−置換アクリルアミド
（例えば、メチルアクリルアミド、エチルアクリルアミ
ド、プロピルアクリルアミド、インプロピルアクリルア
ミド、ブチルアクリルアミド、ｔ−ブチルアクリルアミ
ド、ヘプチルアクリルアミド、ｔ−オクチルアクリルア
ミド、シクロヘキシルアクリルアミド、ベンジルアクリ
ルアミド、ヒドロキシメチルアクリルアミド、メトキシ
エチルアクリルアミド、ジメチルアミノエチルアクリル
アミド、ヒドロキシエチルアクリルアミド、フェニルア
クリルアミド、ヒドロキシフェニルアクリルアミド、ト
リアクリルアミド、ナフチルアクリルアミド、ジメチル
アクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、ジブチルア
クリルアミド、ジイソブチルアクリルアミド、ダイアセ
トンアクリルアミド、メチルベンジルアクリルアミド、
ベンジルオキシエチルアクリルアミド、β−ンアノエチ
ルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、Ｎ−メチ
ル−Ｎ−アクリロイルピペラジン、Ｎ−アクリロイルピ
ぼリジン、アクリロイルグリシン、Ｎ−（／、／−ジメ
チル−３−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−β−
モルホリノエチルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルへ
キサメチレンイミン、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチ
ルアクリルアミド、Ｎ−λ−アセトアミドエチルーＮ−
アセチルアクリルアミドなと）：メタクリルアミド類、
例えばメタクリルアミド、Ｎ−置換メタクリルアミド（
例えば、メチルメタクリルアミド、ｔ−ブチルメタクリ
ルアミド、を−オクチルメタクリルアミド、ベンジルメ
タクリルアミド、シクロヘキシルメタクリルアミド、）
工二ルメタクリルアミド、ジメチルメタクリルアミド、
ジエチルメタクリルアミド、ジプロピルメタクリルアミ
ド、ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、
Ｎ−メチル−Ｎ−７二二ルメタクリルアミド、Ｎ−エチ
ル−Ｎ−フェニルメタクリルアミドなど１： アリル化合物、例えばアリルエステル類（例えば酢酸ア
リル、カプロ／酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン
酸アリル、）（ルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル
、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリルなど
ン、アリルエキシエタノール、アリルブチルエーテル、
アリルグリシジルエーテル、アリルフェニルエーテルナ
ト：ビニルエーテル類、（ｆｌＪｔハメチルビニルエー
テル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル
、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エ
チルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエ
ーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチル
ビニルエーテル、／−メチルーコ、コージメチルブロピ
ルビニルエーテル、λ−エチルブチルエーテル、ヒドロ
キシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニ
ルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジ
エチルアミノエチルビニルエーテル、プチルアミノエチ
ルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒ
ドロフルフリルビニルエーテル、ビニルフェニルエーテ
ル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロルフェニルエー
テル、ビニルーー、４Ｃ−ジクロルフェニルエーテル、
ビニル大フチルエーテル、ビニルアントラニルエーテル
ナト）：ビニルエステル類、ガニばビニルアセテート、
ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルイソ
ブチレート、ビニルジメチルプロピオネート、ビニルエ
チルグチレート、ビニルバレレート、ビニルカプロエー
ト、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテー
ト、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテ
ート、ビニルフェニルアセテート、ビニルアセトアセテ
ート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチレ
ート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレート、安息香
酸ビニル、サリチル酸ビニル、りａル安息香酸ビニル、
テトラクロル安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニルなど： ビニルＭｊ（［化合物、例えばＮ−ビニルオキサゾリド
ン、ビニルピリジン、ビニルビｆｆｌ　リン、Ｎ−ビニ
ルイξタソール、Ｎ−ビニルビｏ　ＩＪトン、Ｎ−ビニ
ルカルバゾール、ビニルチオフエン、Ｎ−ビニルエチル
アセドア、ミドなど： スチレンＭＣ例りはスチレン、メチルスチレン、ジメチ
ルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジ
エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレ
ン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシ
ルスチレン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン
、トリフルオルメチルスチレン、エトキシメチルスチレ
ン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、弘
−メトキシ−３−メチルスチレン、ジメトキシスチレン
、クロルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルスチ
レン、テトラクロルスチレン、ペンタクロルスチレン、
クロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨードスチレン、
フルオルスチレン、トリフルオルスチレン、　Ｊ−フロ
ム−Ｑ−−トＩＪフル、ｔルメチルスチレン、弘−フル
オル−３−）　！Ｊフルオルメチルスチレン、ビニル安
息香酸、ビニル安息香酸メチルエステルなど）：クロト
ン酸類、例えば、クロトン酸、クロトン酸アミド、クロ
トン酸エステル（例えばクロトン酸ブチル、クロトン酸
ヘキシル、グリセリンモノクロトネートナト）ビニルケ
トン類（例えば、メチルビニルケトン、フェニルビニル
ケトン、メトキンエチルビニルケトンなど） オレフィン類（例えば、ジシクロにンタジ二ン、エチレ
ン、プロピレン、／−ブテン、ｌ−ペンテン、ｌ−ヘキ
セン、グーメチル−ｌ−ペンテン、／−ヘプテン、ｌ−
オクテン、ｌ−デセン、！−メチルー／−ノネン、！、
タージメチルーｌ−オクテン、弘−メチル−／−ヘキセ
ン、弘、４Ａ−ジメチル−／−ハンテン、！−メチル−
７−ヘキセン、≠−メチルー／−ヘフテン、ｒ−）ｉｆ
ルー／−ヘプテン、≠、４Ａ−ジメチル−７−ヘキセン
、ｒ、４．Ａ−トリメチル−ｌ−ヘプテン、／−ドデセ
ンおよびｌ−オクタデセンなど）、イタコン酸類（例え
ばイタコン酸、無水イタコン酸、イタコン酸メチル、イ
タコン酸エチル）、クロトン酸類（例えばクロトン酸、
クロトン酸メチル、クロトン酸エチル）、ソルビン酸、
桂皮酸、ソルビン酸メチル、ソルビン酸りリシジル、７
トラコン酸、クロルアクリル酸、メサコン酸、マレイン
酸、フマール酸、エタクリル酸、ハロゲン化オレフィン
類（たとえば塩化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレン
などＪ、不飽和ニトリル類（たとえばアクリロニトリル
、メタクリロニトリルなどンなどがある。重合体に、２
種以上の単量体：りなる共重合体であっても良い。この
様な共重合体の例としては、スチレン／ｎ−ブチルアク
リレート／アクリル酸共重合体、スチレン／ｎ−ブチル
アクリレート／グリシジルアクリレート共１合体などが
ある。

本発明の第１の下塗層に用いる高分子物質としては、ジ
エン系単量体または塩化ビニリデン単量体を繰り返し単
位として有する重合体もしくは共重合体が好ましく用い
られる。

特に塩化ビニリデン単量体を繰り返し単位として有する
共重合体が好ましい。

通常、これらの重合体もしくに共重合体の水分散液を下
塗層として塗布するが、塗布する為には該水分散液を更
に水で稀釈し、必要により、架橋剤、界面活性剤、膨潤
剤、親水性ポリマー、マット剤、帯電防止剤、電解質等
を添加する事が出来る。

°　架橋剤としては例えば、米国特許第３，３コ！。

λｔ７号、同３．コＩｒ！、７７！号、同ｉ、ｓａり、
３７７号、ベルキー特許第１，１０２．コλ６号等に記
載のトリアジン系化合物；米国特許第３１．２り／、４
．２≠号、同３，２３２，７６参号、フランス％肝第１
．Ｓμ３．６り参考、英国特許第７．コア０．７７ｒ号
に記載のジアルデヒド系化合物；米国特許第Ｊ　、ＯＦ
／　、１１７号、特公昭≠ター２６！１０号等に記載の
エポキ７系化合物；米国特許第３．６４＆２，４４１６
号等に記載のビニル系化合物；米国特許第３，３２２．
０２４Ａ号に記載のアジリジン系化合物；米国特許３．
！参７，３７ｆ号等に記載のエチレンイきン系化合物；
及びメチロール系化合物がある。

これらの架橋剤のうち、λ、≠−ジクロロ−６−ヒドロ
キシ−８−トリアジン・ナトリウム塩が好ましく用いら
れる。

膨潤剤としては、特に添加の必要はないが例えばフェノ
ール、レゾルシン等を添加してもよく、その添加１は下
塗液／ｌ当り／−ＩＯ，！ｉ！である。

親水性ポリマーとしては、ゼラチンの如き天然ポリマー
、ポリビニルアルコール、酢酸ビニル−無水マレイン酸
共重合体、アクリル酸−アクリルアミド共重合体、スチ
レン−無水マレイン酸共重合体、などの合成ポリマーを
挙げることが出来る。

帯電防止剤としては、アニオン又はカチオン界面活性剤
、イオネン系ポリマー、特開昭ダター３２７コ号等に記
載のマレイン酸系共１合体、コロイダルシリカ（例えば
日産化学■製スノーテックス）等を用いることが出来る
。

電解質の例としてはＨＱ！、ＨＢｒ、Ｈα０４、Ｌｉ（
Ｊ、ＬｉＢｒ％ＬｉＩ、Ｌｉα４、ＮａＣＪ、ＮａＢｒ
、ＮａＩ％Ｎａ（ＩＯ４、Ｎ　ａ　Ｎ　０３、Ｎ　ａ　
ＯＨ，Ｋα、ＫＢｒ、ＫＩ％ＫＮＯ３、ＮＨ２Ｃｌ、Ｒ
ｂα、ＲｂＢｒ、ＲｂＩ、Ｍｇα２、ＭｇＢｒ２　、Ｍ
ｇＩ２　、ＣａＣ／２　、ＣａＢｒ２、ＣａＩ２　、Ｃ
ａ　（ＣＪＯ４）２　．５ｒＣＪ！２゜Ｓｒ（α０４　
）２　　、Ｂ　ａ（Ｊ２、ＢａＢｒ２、ＢａＩ２．ＡＡ
！α３．Ｌａα３、Ｚｎ（α０４）２などがあろう これらの電解質は、帯電防止効果を発現する事が可能で
その添加量はｍ　当り０．００／Ｉｎ９〜１００ｍ１好
ましくは０１１１１Ｉ９〜１０ｍ９添邪される。

本発明に係る第１及び第４の下塗層は、下塗用塗布液を
一般によく知られた塗布方法、例えばデイツプコート法
、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラー
コート法、ワイヤーバーコード法、グラビアコート法、
或いは、米国特許第コｔｒｉコタμ号明細書に記載のホ
ッパーを使用するエクストルージョンコート法等により
塗布することが出来る。必要に応じて、米国特許第λ７
１ｈ１７り１号、同ｚｚｏｒｙａｙ号、同コタ≠／ｒｙ
ｅ号、及び同３１２１．！２１ｒ号明細書、尾崎等者「
コーティング工学」２！３頁（、／り７３年朝倉書店発
行２などに記載された方法により２層以上の層を同時に
塗布することが出来る。

本発明に係る下塗第１層の共重合体の塗布量としては、
固型分として、プラスチック支持体のｌ平方来由り、ｏ
、ｏｉ〜／Ｑ９、特に０．２〜３Ｉであることが好ｆし
い。

次に本発明の重要部分となる第コの下塗層について記述
する。

本発明における第４の下塗層は前述した第１の下塗層と
後述する写真乳剤層との両者を接着ならしめる親水性ポ
リマーをバインダーとして含有し、さらに水浴性メチル
セルロースと７ニオン性界面活性剤または、両性界面活
性剤とを含有する塗布液を塗布して設ける。

メチルセルロースは、接着性を考慮すると、バインダー
に対し′ＣはりＯ重量％以下好ましくは５０２量％以下
、エリ好ましくは３０重量％以下程贋金有する。メチル
セルロースの置換度としてはＱ−２，！、好ましくはｏ
、ｒ〜コ、！、より好ましくに１．θ〜コ、ｊのものが
優れた効果な有し、コ、！を越える場合には、水溶性で
なくなるため、本発明の目的は達成されない。

（置換度については、「Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ　　
ｏｆｐｏｌｙｍｅｒ　　５ｃｉｅｎｃｅ　　ａｎｄ　　
ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙｊ第３巻、ｔｉ−ｔｏ頁（／Ｐ４
７年刊）に説明があり、それらの分析法についてもよＱ
り頁に記載されている） メチルセルロースの１合度については塗布方法により粘
度との関係から適宜選択が可能である。

しかしながら、好ましくは重合度が７ｏ−ｔｏ。

である。

ここで用いられるメチルセルロースは、メトキシ基以外
のエーテル化又はエステル化たとえばヒドロキシプロキ
ル基の導入、カルボキシベンゾイル基等が導入されても
差支えない。

この様なメチルセルロースとしては、下記の名称で信越
化学社より市販されており容易に入手する事も出来る。

メトローズＳＭ−／ｊ、メトローズＡＯ８Ｈ−２０、メ
トローズｔ　０８Ｈ−弘０００．メトローズｔｊｓＨ−
１０，メ）ｏ−ズＰＯ３Ｈ−１００これらの合成法、性
質については、信越化学社の製品カタログ「メトローズ
」及びＣｅ１ｌｕｌｏｓｅａｎｄ　　Ｃｅ１ｌｕｌｏｓ
ｅ　Ｄ−ｅｒｉｖａｔｉｖｅｓ　　４／　〜！、Ｏｔｔ
、Ｅら等に詳しく記されている。

メチルセルロースの製法としては、セルロースをｌＩｒ
−３！チのＮａＯＨ溶液と硫酸ジメチルでメチル化し、
高メチル化度の試料を得る為に、このメチル化操作なく
り返丁方法あるいは、オートクレーブ中でアルカリセル
ロースと塩化メチルを反応させる方法などがある。

本発明の著しい特徴な前述したメチルセルロースと後述
する界面活性剤の両省を用いる事によって本発明の目的
を効率良く達成する事を見い出した点にある。

界面活性剤としては、ノニオン性界面活性剤または両性
界面活性剤が本発明に必須のものであるが、アニオン性
界面活性剤等その他の界面活性剤を添加して（資）用し
てもよい。

ノニオン性界面活性剤または、両性界面活性剤は下塗液
／ｌ当りｏ、ｏｉ〜１０９、好ましくは０．１〜７１８
度含有する。

本発明に用いられるノニオン性界面活性剤としては親油
基として炭素数μ〜３０のアルキル基、アルケニル基、
アリール基、アラルキル基を有し親水基として炭素数２
〜乙の置換、無置換のポリオキンアルキレン基を有する
化合物であり、好ましくは下記一般式（１−／Ｊ、〔Ｉ
−λ〕又はＣＩ−ＪＪで表わされる化合物を挙げること
ができる。

一般式（１−／Ｊ Ｒ１−Ａ＋Ｂ　＋ｎ１Ｒ 一般式〔Ｉ−２〕 一般式（Ｉ−ＪＪ 式中、Ｒは水素原子、炭素数ｌ−弘のアルキル基（例え
ばメチル、エチル、ヒドロキシエｆｈｔｚと）、又は炭
素数／〜！のアルキルカルボニル（例えばアセチル、ク
ロルアセチル、カルボキシメチルカルボニルなど）を表
わ丁。

又％Ｒ１は炭素数ｌ〜３０の［換又は無置換のアルキル
基、アルケニル基又はアリール基を表わ丁。

Ａは一〇−基、−８−基、−ＣＯＯ−基、Ｎ−ＲＩＯ基
、−ＣＯ−Ｎ−ＲＩＯ基、又は一８Ｏ２Ｎ−ＦＬ４ｏ基
（ここでＲｘｏｌ”；［、水素原子、置換又に無置換の
アルキル基を示すウ　）を表ゎ丁、Ｂに、オキシアルキ
レン基を表わ丁。

Ｒ２、Ｒ３、’Ｒ７、Ｒ，は水素原子、置換もしくは無
置換のアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、ハロゲン原子、アシル基、アミド基、スル
ホンアミド基、カルバモイル基或いはスルファモイル基
を表わす。

又式中Ｒ６及びＲ８は、置換もしくは無置換のアルキル
基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハ
ロゲン原子、アシル基、アミド基、スルホンアミド基、
カルバモイル基或いはスルファモイル基を表わ丁。一般
式１ｆ−Ｊ）でフェニル環のｉｉ１換基は左右非対称で
もよい。

Ｒ４及びＲ５は、水素原子、置換もしくは無置換のアル
キル基、又はアリール基を表わす。Ｒ４とＲ５、Ｒ６と
Ｒ７及びＲ８とＲ９は互いに連結してｔＩＬ換もしくは
無置換の環を形成してもよい。

ｎ１％ｎ２、Ｒ３及びＲ４はオキシアルキレン基の平均
重合度であってλ〜！Ｏの数である。

又ｍは平均重合度であり、２〜１０の数である。

本発明の好ましい例を以下に配子。

Ｂは好ましくは２〜６の炭素を有するオキシアルキレン
基であり、特に好ましくは、オキシエチレン基、オキシ
プロピレン基、オキシ（ヒドロキシ］プロピレン基、オ
キ、シグチレン基、オキシスチレン基が挙げられる。特
に好ましくはオキシエチレン基である。

Ｒ１は好ましくは炭素数ダルλ参のアルキル基又好まし
くはヘキシル基、ドデシル基、インステアリル基、オレ
イル＆、ｔ−ブチルフェニル基、λ。

≠−シーｔ−７’チルフェニル基、λ＋ｌＩ　−’）−
を−ペンチルフェニル基、ｐ−ドデシルフェニル基、ｍ
−ヘンタデカフェニルＭ、ｔ−オクチル７エ二ル基、コ
、弘−ジノニルフェニル基、オクチルナフチル基等であ
る。

Ｒ２、Ｒ３、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は好ましくはメ
チル、エチル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル５．ｔ−アミ
ル、ｔ−ヘキシル、ｔ−オクチル、ノニル、テシル、ド
デシル、トリクロロメチル、トリクロロメチル基 ェニルーコープロピル等の炭素数ｌ−一〇の置換又は無
ｆｌ侠のアルキル基、フェニル基、ｐ−クロロフェニル
基等の置換又は無置換のアリール基、０ＲＩＩ（ここで
Ｒ１１は炭素数／−２０の置換又は無置換のアルキル基
又はアリール基を表わ丁。

以下同じである）で表わされる置換又は無Ｒ侠のアルコ
キシ基又はアリールオキシ基、塩素原子、臭素原子等の
ハロゲン原子、−ＣＯＲ１１で表わされるアシル基、−
Ｎ　Ｒ１２ＣＯＲ１１（ここにＲ１２は水素原子又に炭
素数／−２０のアルキル基な表わ丁。以下同じ）で表わ
されるアミド基、−Ｎ　Ｒ１２ＳＯ２Ｒ１１で表わされ
るスルホンアミド基、或いは 基であり１又Ｒ２、Ｒ３、Ｒ７、Ｒ９ｔｉｃ水素原子で
あって％、よい。これらのうちＲ６、Ｒ８は好ましくに
アルキル基又にハロゲン原子であり、特に好ましくはか
さ高いｔ−メチル基、ｔ−アミル基、ｔ−オクチル基等
の３級アルキル基である。Ｒ７、Ｒ９は特に好ましくは
水素原子である。すなわち、コ、４Ｃ−ジＩｌｌ侠フェ
ノールから合成される一般式（１−ＪＪの化合物が特に
好ましい。

Ｒ４、Ｒ５法、好ましくは水素原子、メチル基、エチル
１Ｉｎ−プロピルＭ％　　ｉ−プロピルＭ％　ｎ−ヘプ
チル基、ｌ−エチルアミルＭ％ｒｌ−’）ンデシル基、
トリクロロメチル基、トリブロモメチル基等の置換もし
くは無置換のアルキル基、α−フリル基、フェニル基、
ナフチル基、ｐ−１０ロフエニル基、ｐ−メトキ７フェ
ニル基、ｍ−ニトロフェニル基等の置換もしくは無ｖｊ
Ｌ換のアリール基である。又はＲ４とＲ５％　Ｒ６とＲ
７及びＲ８とＲ９は互いに連結してＲ侠もしくは無置換
の環を形成しても良く、例えばシクロヘキシル環である
。

これらのうちＲ４とＲ５は特に好ましくは、水素原子、
炭素数／〜ｒのアルキル基、フェニル！、フリル基であ
る。ｎｌ　　、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は特に好ましくニ！
〜３０の数である。Ｈ３とＨ４は同じでも異なっても良
い。

これらの化合物は例えば米国特許第一、りｔコ。

６！／号、同３　、ｐＪ、ｒ　、ａｒｔ号、同ｓ、１ｔ
ｓ７．０７６号、同３．≠！≠、ｔコ！号、同３゜タ！
、２．２７λ号、同３．６１！、！３７号、特公昭ｊ／
−タｔｉｏ号、特開昭５３−２２７１ｊｔ号、特開昭！
弘−ｒり６２を号、特開昭！？−２０３ｍ号、特開昭ｌ
ｌ−２０ｒ７４Ａ３号、堀口博著「新界面活性剤」（三
共出版／り７！年）等に記載されている。

次に本発明に好ましく用いられるノニオン界面活性剤の
具体例を示す。

化合物例 １−　ｔ　　　Ｃ１ＩＨ２３Ｃ００（−ＣＨ２ＣＨ２０
す、ＨＩ−λ　　Ｃ１５ＨａＩＣＯＯ−Ｅ−ＣＨ２ＣＨ
２０す１５Ｈ）　−ｊ １−４’　　Ｃ３）１１７０＋ＣＨ２ＣＨ２Ｏす、ＨＩ
−ｚ　　Ｃｌ２）１２５０（−ＣＨ２ＣＨ２０す、。Ｈ
Ｉ　　　Ａ　　　Ｃ１ｔｙＨ３３０ｆＣＨ２ＣＨ２０す
１□Ｈ■−７ １−ｒ　　Ｃ２２Ｈ４５０＋ＣＨ２Ｃ）１２０す２５Ｈ
■−２ Ｉ−／　／ Ｉ−／、２ Ｃ１６Ｈ３３０（−ＣＨ２ＣＨ２０＋ｒ＋ＣＨ２ＣＨＣ
Ｍ　、ｄ７＋　ＣＨ２ＣＨ２Ｏ＋−４ＨＨ ■−／ｊ ａ＋ｂ＝／ｊ ＣＨ３ Ｃ１３Ｈ２７Ｃ０Ｎ−（−ＣＨ２−Ｃ１（２０す□２Ｈ
Ｉ−／７ ａ　＋　ｂ　＝コＱ ＼ （ＣＨ２ＣＨ２０す１５Ｈ １−／タ　　Ｃｌ２Ｈ２ｓＳ＋ＣＨ２ＣＨ２Ｏす□６Ｈ
■−２０ Ｃｌ２Ｈ２ｓ＋ＣＨ２ＣＨ２Ｏす、。ＨＯ−（−ＣＨ２
ＣＨ２０す１□Ｈ Ｏ＋ＣＨ２ＣＨ２Ｏす。。Ｈ ■−コタ １−Ｊ　Ｏ → １−ｊコ Ｃ４Ｈｇ−ｔ　　　　　　Ｃ４Ｈｇ−ｔｊ−ＣＨ２ＣＨ
２ｏ′）ｌｏＨ ■−３３ （４Ｈ，７−ｔ　　　　　　　　Ｃ，ＢＨｌフーｔ本発
明で用いられる両性界面活性剤としては、下記の一般式
（ＩＩ−／）で示される化合物が好ましかった。

（式中、Ｒ２１％　Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４は、炭化水
素基またはその誘導体、Ｘ−はカルボキシル基またはス
ルホン基を表わ丁ン 特に好ましい物としては、下記の一般式（ｎ−コ〕〜（
Ｉｌ−ｊ）で示される化合物がある。

と鴇 （Ｉ［−Ｊ） Ｈ３ 〔■−弘〕 Ｈ３ （ＩＩ−ＩＪ Ｈ３ （式中％　Ｒ３１％　Ｒ３２％　Ｒ３３，Ｒ３４％　Ｒ
３５，Ｒａｓは炭化水素基またはその誘導体を表わ丁）
本発明の第１の下塗層における親水性ポリマーとしては
、ゼラチン、フタル化ゼラチン、マレイン化ゼラチンな
どのアシル化ゼラチン、カルボキシメチルセルロース、
ヒドロキクエチルセルロース等のセルロース誘導体、ア
クリル酸、メタクリル酸もしくはアミドなどをゼラチン
にグラフトさせたグラフト化ゼラチン、ポリビニルアル
コール、ポリヒドロキクアルキルアクリレート、ポリビ
ニルピロリドン、コポリ−ビニルピロリドン−酢酸ビニ
ル、カゼイン、アガロース、アルブミン、アルギン酸ソ
ーダ、ポリサッカライド、寒天、でんぷん、グラフトで
んぷん、ポリアクリルアミド、ポリエチレンイξンアシ
ル化物、あるいはアクリル酸、メタクリル酸アクリルア
ミド、Ｎ−置換アクリルアミド、Ｎ−１ｉ１換メタクリ
ルアミドなどの単独もしくは共重合体、あるいはそれら
の部分加水分解物など合成もしくは天然の親水性高分子
化合物が用いられる。これらのものに、単独もしくは混
合して使用できる。

好ましい親水性ポリマーとしては、ゼラチンあるいはゼ
ラチン誘導体である。

上記の如き親水性ポリマーをバインダーとし、置換度コ
、ｊ以下の水溶性メチルセルロースと、ノニオン性界面
活性剤または、両性界面活性剤が含有されるのであれば
、その中に何が添加されても、本発明には、重要でなく
、必要により帯電防止剤、架橋剤等を用いる事ができる
。

次に本発明の用いられる写真層について簡単に触れる。

写真層のバインダー（Ｒ水性有機保護コロイドとしては
、ゼラチン、フタル化ゼラチン、マレイン化ゼラチンな
どのアシル化ゼラチン、カルボキシメチルセルローズ、
ヒドロキシエチルセルロース等のセルロール誘導体、ア
クリル酸、メタクリル酸もしくはアミドなどをゼラチン
匡グラフトさせたグラフト化ゼラチン、ポリビニルアル
コール、ポリヒドロキンアルキルアクリレート、ポリビ
ニルピロリドン、コポリ−ビニルピロリドン−酢酸ビニ
ル、カゼイン、アガロース、アルブミン、アルギン酸ソ
ーダ、ポリサッカライド、寒天、でんぷん、グラフトで
んぷん、ポリアクリルアミド、ポリエチレンイミンアン
ル化弐、あるいはアクリル酸、メタクリル酸アクリルア
ミド、Ｎ−置換アクリルアミド、Ｎ−置換メタクリルア
ミドなどの単独もしくは共重合体、あるいはそれらの部
分加水分解物など合成もしくは天然の親水性高分子化合
物が用いられる。これらのものは、単独もしくは混合し
て使用できる。

バインダーを上記の如き親水性高分子化合物とするもの
であれば、その中に何が添加されているかは本発明にお
いては特に重要でないが、これらの親水性バインダーに
は、ハロゲン化銀あるいは拡散転写写真法で用いられる
硫化銀等物理現像核、又ジアゾ化合物などの感材をはじ
め各種の添卯剤、カプラー、乳化重合、ラテックスポリ
マーなどが使用されるのが常である。

本発明に使用されるハロゲン化銀乳剤は、臭化銀、沃臭
化銀、沃塩臭化銀、塩臭化銀および塩化銀が好ましい。

本発明に使用されるハロゲン化銀粒子は、立方体、八面
体のような規則的（ｒｅｇｕｌａｒ）な結晶形を有する
もの、また球状、板状などのような変則的（ｉｒｒｅｇ
ｕｌａｒ）な結晶形をもつもの、あるいはこれらの結晶
形の複合形をもつものである。

また程々の結晶形の粒子の混合から成るものも使用でき
るが、規則的な結晶形を使用するのが好ましい。

本発明に使用されるハロゲン化銀粒子に内部と表層とが
異なる相をもっていても、均一な相から成っていてもよ
い。また潜像が主として表面に形成されるような粒子（
例えばネガ屋乳剤）でもよく、粒子内部に主として形成
されるような粒子（例えば、内部潜像型乳剤、予めかぶ
らせた直接反転型乳剤］であっても゛よい。

本発明に用いられる写真乳剤はビー・ゲラフキデス（Ｐ
、Ｇｌａｆｋｉｄｅｓ）　　著、シミー・工・フイジー
ク・フォトグラフィック（Ｃｈｉｍｉｅ　　ｅｒＰｈｙ
ｓｉｑｕｅ　Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｅｑｕｅ）　　（ボ
ール七ンテル社刊、ｌり４７年）、ジー・エフ・ダフイ
ン（Ｇ、Ｆ、Ｄｕｆｆｉｎ）著、フォトグラフィック・
エマルジョン・ケミストリー（Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉ
ｃＥｍｕｌｓｉｏｎ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）（７オーカ
ルプレス刊、ｌり６６年）、ブイ・エル・ゼリクマン（
Ｖ、Ｌ、Ｚｅｌ　ｉｋｍａｎＪら著、メーキング・アン
ド・コーティング・フォトグラフィック・エマルジョｙ
（Ｍａｋｉｎｇ　ａｎｄ　Ｃｏａｔｉｎｇ　Ｐｈｏｔｏ
ｇｒａｐｈｉｃＥｍｕｌｓｉｏｎ）（フォーカルプレス
刊、１２６μ年）などに記載された方法を用いて調製す
ることができる。

本発明の写真乳剤ＫＦｓ、塗布助剤、帯電防止、スベリ
性改良、乳化分散、接着防止および写真特性改良（例え
ば現像促進、硬調化、増感）など種々の目的で種々の界
面活性剤を含んでもよい。

また、本発明の感光材料には退色防止剤、硬膜剤、色カ
ブリ防止剤、紫外線吸収剤、ゼラチン等の保護コロイド
、種々の添加剤に関して、具体的には、リサーチ・ディ
スクロージャーＶｏ１．／７ｔ（ｉｙｙｔ、Ｘ［Ｉ）Ｒ
Ｄ−ｔ７ｔａｚＲどに記載されている。

本発明のハロゲン化銀写真感光材料としては、カラーポ
ジフィルム、カラーペーパー、カラーネガフィルム、カ
ラー反転（カプラーを含む場合もあり、含まぬ場合もあ
る）、製版用写真感光材料（例えばリスフィルム、リス
デエープフイルムなど）、陰極線管デイスプレィ用感光
材料（例えば乳剤Ｘ線記録用感光材料、スクリーンを用
いる直接及び間接撮影用材料］、銀塩拡散転写プロセス
（Ｓｉｌｖｅｒ　　５ａｌｔ　　ｄｉｆｆｕｓｉｏｎ　
　ｔｒａｎｓｆｅｒｐｒｏｃｅｓｓ）用感光材料、カラ
ー拡散転写プロセス用感光材料、グイ・トランスファー
・プロセス（ｉｍｂｉｂｉｔｉｏｎ　　ｔｒａｎｓｆｅ
ｒ　　ｐｒｏｃｅｓｓ）用感光材料、銀色素漂白法に用
いる感光材料、プリントアウト像を記録する感光材料、
光現ａｍ焼出しくＤｉｒｅｃｔ　Ｐｒ１ｎｔ　　Ｉｍａ
ｇｅ）感光材料、熱現像用感光材料、物理現像用感光材
料などを挙げることができる。

以下本発明を実施例にエリ更に具体的に説明するが、こ
れにエリ本発明の実施の態様が限定されるものではない
。

実施例　に 軸延伸された厚さｌＯＯμのポリエチレンテレフタレー
トフィルム上にグロー放電処理を行ない下記の組成より
成る第１下塗液を塗布量が約６ａａ　／　ｍ　２となる
様にワイヤーバーコーターにより塗布し、ｌ弘０°Ｃに
て１分間乾燥した。

１蒸留水　　　　　　　　　　　　　　　１７ｃａ上記
の第１下塗層上に下記の組成から成る第一の下塗液組成
／−１０を塗布量が約ｆ　ＣＯ／　ｍ　　となる様に塗
布し、１３０°Ｃで７分間乾燥して７０種類の被覆フィ
ルム（下塗り済支持体）を作製した。

第一の下塗組成−／ １蒸留水　　　　　　　　　　　　　　　２ＰＴＩＬｌ
第λの下塗組成−コ 第１の下塗組成−３ 第一の下塗組成−μ 第一の下塗組成−！ 第４の下塗組成−６ 第一の下塗組成−７ 第４の下塗組成−ｒ 第４の下塗組成−タ 第４の下塗組成−１０ 〔ゼラチン　　　　　　　　　　　　　　　　　′Ｉ第
７下塗層と第４下塗層を設けた被覆フィルムｉｏ種類を
酸性染料にて、ゼラチン層を染色した後、ピンホール状
ハジキと塗布ムラを肉眼により評価した。得られた結果
を表−／に示す。

表−１ 表−７から本発明のメチルセルロースと、ノニオン性界
面活性剤または両性界面活性剤とを用いるとピンホール
状のハジキと塗布ムラの発生防止に優れている事を示し
ている。

次にｉｉｚ種類の被覆フィルムの一方の側に下記処方（
１）のハロゲン化銀乳剤層を乾燥厚さ１．０μ塗布銀量
ｊ、Ｏｆｌ／ｍ２になるように塗布した。

さらに該ハロゲン化銀乳剤層上に下記処方（２）の保護
層を塗布し、この反対側には下記処方（３）に従ってゼ
ラチンバック層を乾燥厚さ！μになるように塗布し、ｉ
ｏ種類の写真材料を作製した。

処方−（１）ハロゲン化銀乳剤層処方 ゼラチン　　１９７ｍ” 塩沃臭化銀　（α：２０モル％　Ｂｒ：／り、！モル慢
　Ｉ：ｏ、ｚモル慢） 塩化金酸　　０．／■／ｍ２ ポリエチルアクリレートラテックス （米国特許第３ｊＪｚｔＪｏ号明細 書　実施例−３で用いているのと同 じ）　　／、！９／簿２ 増感色素　　３−アリル−！−〔コー（ｌ−エチル）−
参メチルーλテトラゾリンー ！イリデン−エチリデン〕ローダニ ン　　６ダ／隅２ カブリ防止剤　び−ヒドロキシーぶ−メチルーｌ。

Ｊ　ｅ　Ｊ　ａ　　７−ソトラザインデン３０ダ／罵２ ポリオキクエチレン化合物 ゼラチン硬化剤　λ−ヒドロキシー≠、ｔ−ジクロＥ２
−８−）リアジン・ナトリウム 塩ｔｏｗｇ７簿２ 界面活性剤　ｐ−ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ　
弘ＯＷ９／ｓ２ 処方−（２）保護層処方 ゼラチン　　／ｆ／／− マット剤　　平均粒子径３．０〜４ｃ、０μのポリメチ
ルメタアクリレート ｏ、ｏｚｇ７ｍ” 界面活性剤　ｐ−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウ
ム　ｏ、ｏｚｇ７ｍ” ゼラチン硬化剤　λ−ヒドロキシー≠、≦−ジクロロ−
８−トリアジン・六ト１）　ウＡ塩０．０／ｇ／罵２ 処方−（３）バック層処方 マット剤　　０．０３ｇ／ｍ ポリマーラテックス　　１０７７／１００／ｌゼラチン ４Ｉ骨脣 染料　０．３ｇ／ＷＬ２ 骨　　保護層と同じもの 畳畳　　ハロゲン化銀乳剤層と同じもの１目　下記の染
料（１）：（２）：（３）＝／　：　ｉ　：　／の混合
物 ５Ｏ３Ｋ　　　　　５Ｏ３Ｋ ＋ ５ＯｓＫ　　　　　　　　　　　　　　ＳＯ３に得られ
た写真材料の写真性、支持体と写真層との間の接着性、
処理したあとの支持体のにとり（ヘイズ）を調べたとこ
ろ、本発明の下塗層を有する写真材料は特に影響を受け
ていなかった。

実施例　２ 二軸延伸された厚さｌＯＯμのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上にコロナ放電処理を行ない、下記の組成
エリ成る第１の下塗層用の塗布液を塗布量が約ｔａｃ７
ｒｎ２となる様に塗布し、１３００Ｃで１分間乾燥し、
下塗膜厚的Ｑ、λ〜Ｑ。

弘μの第１下塗層を得た。

上記の第１の下塗層上に実施例１に用いた第λの下塗液
組成／−１０を実施例１と同様に塗布・乾燥して７０種
類の被覆フィルムを得た。実施例１と同様の方法でピン
ホール状のノ１ジキと塗布ムラを評価した結果を表−コ
に示す。

表−２ 表−一から本発明のメチルセルロースと界面活性剤とを
用いるとピンホール状のハジキと塗布ムラの発生防止に
優れている事を示している。

次に１０種類の被覆フィルムに実施例１と同様にハロゲ
ン化銀乳剤層、保護層、バック層を塗布し、写真性、接
着性、ヘイズを調べたところ、本発明の下塗層を有する
写真材料は特に影響を受けていなかった。

特許出願人　富士写真フィルム株式会社昭和４３年３月
メ一日

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）疎水性支持体上に、高分子物質より成る第１の下
   塗層を有し、更にその上に親水性ポリマー及び置換度２
   ．５以下のメチルセルロース及びノニオン性界面活性剤
   もしくは両性界面活性剤を含有する第４の下塗層を有す
   るものを支持体として用いる事を特徴とする写真材料。
2. （２）第１の下塗層に用いられる高分子物質が塩化ビニ
   リデン単量体を繰り返し単位として有する共重合体であ
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の写真材
   料。