JPS61105543A - 写真感光材料 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/91—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by subbing layers or subbing means
- G03C1/93—Macromolecular substances therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は写真材料に関するもので、特に疎水性表面を有
する支持体上に親水性コロイドから成る写真層をもうけ
た写真材料に関するものである。
する支持体上に親水性コロイドから成る写真層をもうけ
た写真材料に関するものである。
(従来の技術)
従来より写真用支持体として、その透明性、可撓性等の
秀れている点でポリエチレンテレフタレート、トリ酢酸
セルロース、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリオ
レフィンラミネート紙等が多く用いられている。
秀れている点でポリエチレンテレフタレート、トリ酢酸
セルロース、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリオ
レフィンラミネート紙等が多く用いられている。
しかしながら、これら高分子物質を支持体に使用する場
合、支持体がいずれも疎水性の表面を有するため、これ
ら支持体上にゼラチンが主である親水性コロイドからな
る写真層を強固に接着させる事は非常に困難である。こ
の様な離点を克服するために試みられた従来技術におけ
る、疎水性支持体の表面処理としては、 (1) 薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火
焔処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活
性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸化
処理、などの表面活性化処理したのち、直接写真乳剤を
塗布して接着力を得る方法と、(2) 一旦これらの
表面処理をした後、下塗層を設けこの上に写真乳剤層を
塗布する方法との二法がある。
合、支持体がいずれも疎水性の表面を有するため、これ
ら支持体上にゼラチンが主である親水性コロイドからな
る写真層を強固に接着させる事は非常に困難である。こ
の様な離点を克服するために試みられた従来技術におけ
る、疎水性支持体の表面処理としては、 (1) 薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火
焔処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活
性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸化
処理、などの表面活性化処理したのち、直接写真乳剤を
塗布して接着力を得る方法と、(2) 一旦これらの
表面処理をした後、下塗層を設けこの上に写真乳剤層を
塗布する方法との二法がある。
(例えば、米国特許第2.tり♂、J4t/号、コ。
26′ダ、320号、コ、?6グ、り!!号、3゜/4
13,41λ/号、j、4を乙コ、3J!号、3゜グア
!、/り3号、3,6/j、116号、英国特許第71
1.341号、r04t 、00!号、rり/、ダイ9
号等)。これらのうち(2)の方法がより有効であり広
く行なわれている。これらの表面処理はいずれも、本来
は疎水性であった支持体表面に1多少共、極性基を作ら
せる事、極表面の接着に対してマイナスの要因になる薄
層を除去する事、表面の架橋密度を増加させ接着強度を
あげる事などKより表面の接着力を増加させるものと思
われ、その結果として下塗液中に含有される成分の極性
基との親和力が増加することによるものないし、接着表
面の堅牢度が増加することによるもの等が考えられる。
13,41λ/号、j、4を乙コ、3J!号、3゜グア
!、/り3号、3,6/j、116号、英国特許第71
1.341号、r04t 、00!号、rり/、ダイ9
号等)。これらのうち(2)の方法がより有効であり広
く行なわれている。これらの表面処理はいずれも、本来
は疎水性であった支持体表面に1多少共、極性基を作ら
せる事、極表面の接着に対してマイナスの要因になる薄
層を除去する事、表面の架橋密度を増加させ接着強度を
あげる事などKより表面の接着力を増加させるものと思
われ、その結果として下塗液中に含有される成分の極性
基との親和力が増加することによるものないし、接着表
面の堅牢度が増加することによるもの等が考えられる。
又、下塗層の塗布の方法としても種々の工夫が行なわれ
ており、第一層として支持体によく接着する層を設け、
その上に第二層“とじて親水性の樹脂層を塗布する所謂
、重量法と疎水性基と親水性基との両方を含有する樹脂
層を一層のみ、塗布する単層法とがある。
ており、第一層として支持体によく接着する層を設け、
その上に第二層“とじて親水性の樹脂層を塗布する所謂
、重量法と疎水性基と親水性基との両方を含有する樹脂
層を一層のみ、塗布する単層法とがある。
これらの方法はいずれもよく研究されておシ、例えば、
塩化ビニル、塩化ビニリデン、ブタジェン、メタクリル
酸、アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸などの中
から選ばれた単量体を出発原料とする共重合体を始めと
して、ポリエチレンイミン、エポキシ樹脂グラフト化ゼ
ラチン、ニトロセルロースなど数多くの樹脂についてそ
の適性が検討されてきた。
塩化ビニル、塩化ビニリデン、ブタジェン、メタクリル
酸、アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸などの中
から選ばれた単量体を出発原料とする共重合体を始めと
して、ポリエチレンイミン、エポキシ樹脂グラフト化ゼ
ラチン、ニトロセルロースなど数多くの樹脂についてそ
の適性が検討されてきた。
特に、疎水性支持体と親水性ハロゲン化銀乳剤との間に
実用に耐え得る充分な接着力を得る下塗方法を完全に水
系で行なう為に、特に塩化ビニリデン系共重合体、ジエ
ン系共重合体の検討が行なわれている。
実用に耐え得る充分な接着力を得る下塗方法を完全に水
系で行なう為に、特に塩化ビニリデン系共重合体、ジエ
ン系共重合体の検討が行なわれている。
我々はベースと乳剤層とを接着させる方法として、ジエ
ン系単量体を、その−成分とする共重合体を単独、又は
適当な架橋剤と併用して下塗組成分として有効であ石事
が見い出して来た。
ン系単量体を、その−成分とする共重合体を単独、又は
適当な架橋剤と併用して下塗組成分として有効であ石事
が見い出して来た。
(例えば特開昭j/ −1141120号、同!グー9
4t023号、同j!−ぶ!タダタ号)下塗されたベー
ス面に、写真乳剤層との接着力を得る為にゼラチン又は
ゼラチン誘導体などの親水性物質を塗布する事が良く知
られている。
4t023号、同j!−ぶ!タダタ号)下塗されたベー
ス面に、写真乳剤層との接着力を得る為にゼラチン又は
ゼラチン誘導体などの親水性物質を塗布する事が良く知
られている。
しかしながら、これらの方法では、乳剤層塗布後高温高
湿下罠放置された場合(例えばao0c以上10eIk
以上の湿度下)疎水性支持体と親水性ハロゲン化銀乳剤
との実用に耐え得る充分な接着力を得る事は不可能な事
であった。
湿下罠放置された場合(例えばao0c以上10eIk
以上の湿度下)疎水性支持体と親水性ハロゲン化銀乳剤
との実用に耐え得る充分な接着力を得る事は不可能な事
であった。
(発明の目的)
本発明の目的は、第1に疎水性支持体と写真乳剤層との
接着を高温高湿下に長時間放置される様な過酷な東件下
においても良好ならしめる事である。第一は、均一な被
膜を形成し、フィルムの透明度に悪影響を与えない事で
ある。第3に写真乳剤塗布液の塗布性が良好な下塗面を
提供する事である。第ダは、写真乳剤層になんらの悪影
響を与える事の無い下塗層を提供する事である。
接着を高温高湿下に長時間放置される様な過酷な東件下
においても良好ならしめる事である。第一は、均一な被
膜を形成し、フィルムの透明度に悪影響を与えない事で
ある。第3に写真乳剤塗布液の塗布性が良好な下塗面を
提供する事である。第ダは、写真乳剤層になんらの悪影
響を与える事の無い下塗層を提供する事である。
(問題点を解決する為の手段)
本発明のこれらの目的は、疎水性支持体上に高分子物質
より成る下塗層を有し、該下塗層中に1鉄、コバルト、
ニッケル、マンガン、セリウム、銅及びこれらのイオン
の内の少なくとも7種を含有することを特徴とする写真
感光材料によって達成された。
より成る下塗層を有し、該下塗層中に1鉄、コバルト、
ニッケル、マンガン、セリウム、銅及びこれらのイオン
の内の少なくとも7種を含有することを特徴とする写真
感光材料によって達成された。
以下、本発明に用いられる構成要件について詳述する。
本発明に於て、疎水性支持体とは、例えば、セルロース
エステル(4IKセルローストリアセテート、セルロー
スジアセテート、セルロースプロピオネート)、ポリア
ミド、ポリカーボネート、ポリエステル(特にポリエチ
レンテレフタレート、ポリー/、4t−シクロヘキサン
ジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−/ r J
−ジフェノキシエタン−p 、 4t’−ジカルボキシ
レート)、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレ
ン等から成るフィルム及びこれらのフィルムを紙等他の
支持体上に塗布又はラミネートして成る複合フィルムを
いう。
エステル(4IKセルローストリアセテート、セルロー
スジアセテート、セルロースプロピオネート)、ポリア
ミド、ポリカーボネート、ポリエステル(特にポリエチ
レンテレフタレート、ポリー/、4t−シクロヘキサン
ジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−/ r J
−ジフェノキシエタン−p 、 4t’−ジカルボキシ
レート)、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレ
ン等から成るフィルム及びこれらのフィルムを紙等他の
支持体上に塗布又はラミネートして成る複合フィルムを
いう。
中でも、ポリエチレンテレフタレートフィルムが最も好
ましく用いられ、特に−軸延伸、熱固定されたポリエチ
レンテレフタレートフィルムが、安定性、強じん性等の
点からも有利に用いられる。
ましく用いられ、特に−軸延伸、熱固定されたポリエチ
レンテレフタレートフィルムが、安定性、強じん性等の
点からも有利に用いられる。
プラスチックフィルム支持体の厚さに特に制限はないが
、/!〜!00μ、特に4tQ〜−〇、θμ程度のもの
が取扱い易さ、汎用性などの点から有利である。
、/!〜!00μ、特に4tQ〜−〇、θμ程度のもの
が取扱い易さ、汎用性などの点から有利である。
又、支持体は、透明でもよいし、染料を含んでいてもよ
いし、二酸化チタンの如き顔料を含有するもの、さらに
、二酸化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウ
ム塩等を含有していてもよい。
いし、二酸化チタンの如き顔料を含有するもの、さらに
、二酸化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウ
ム塩等を含有していてもよい。
本発明において疎水性支持体上に設けられる高分子物質
としてはジエン系単量体の共重合体が好ましく用いられ
る。
としてはジエン系単量体の共重合体が好ましく用いられ
る。
ジエン系単量体の共重合体とは、ブタジェン、イソプレ
ンなど炭素数りないし約♂のジエン系単量体を重合体の
一成分とする共重合体をいう。
ンなど炭素数りないし約♂のジエン系単量体を重合体の
一成分とする共重合体をいう。
共重合の相手としては、例えば、スチレン、アクリロニ
トリル、アクリルエステル、メタアクリルエステル(メ
チル、エチル、ブチル、フロビルなト)、ビニルエーテ
ル(メチル、エチル、クロロエチル、ブチルなト)、ビ
ニルエステル(タトえば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ルなど)、グリシジルアクリレート、グリシジルメタク
リレート、アリルグリジルエーテル、ジメチルアミノエ
チルメタクリレート、ビニルピリジン、tert−ブチ
ルアミノエチルメタクリレート、アクリル酸、メタクリ
ル酸、クロトン酸、イタコン酸、イタコン酸半エステル
、マレイン酸、マレイン酸半エステル、無水イタコン酸
、無水マレイン酸、アリルアルコール、コーヒドロキシ
エチルメタクリレート、−一ヒドロキシエチルアクリレ
ート、2−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、コー
ヒドロキシプロビルアクリレート、多価アルコールのモ
ノアリルエーテル、アクリルアミド、メタクリルアミド
、マレインアミド、N−メチロニルアクリルアミド、N
−メチロールメタクリルアミドとそのエーテル、ビニル
イソシアネート、アリルイソシアネートなど炭素数−な
いし約rのビニル又はビニIJデン化合物から選ばれる
。これらは乳化重合法により、好都合に製造され、市販
品も入手できる。又、この共重合体中のジエン成分の量
は約30〜40重量%、好ましくは3−〜4to重量%
がよい。
トリル、アクリルエステル、メタアクリルエステル(メ
チル、エチル、ブチル、フロビルなト)、ビニルエーテ
ル(メチル、エチル、クロロエチル、ブチルなト)、ビ
ニルエステル(タトえば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ルなど)、グリシジルアクリレート、グリシジルメタク
リレート、アリルグリジルエーテル、ジメチルアミノエ
チルメタクリレート、ビニルピリジン、tert−ブチ
ルアミノエチルメタクリレート、アクリル酸、メタクリ
ル酸、クロトン酸、イタコン酸、イタコン酸半エステル
、マレイン酸、マレイン酸半エステル、無水イタコン酸
、無水マレイン酸、アリルアルコール、コーヒドロキシ
エチルメタクリレート、−一ヒドロキシエチルアクリレ
ート、2−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、コー
ヒドロキシプロビルアクリレート、多価アルコールのモ
ノアリルエーテル、アクリルアミド、メタクリルアミド
、マレインアミド、N−メチロニルアクリルアミド、N
−メチロールメタクリルアミドとそのエーテル、ビニル
イソシアネート、アリルイソシアネートなど炭素数−な
いし約rのビニル又はビニIJデン化合物から選ばれる
。これらは乳化重合法により、好都合に製造され、市販
品も入手できる。又、この共重合体中のジエン成分の量
は約30〜40重量%、好ましくは3−〜4to重量%
がよい。
又、共重合体中には、アマイド、ヒドロキシ、カルボキ
シなどの親水性部位をもつ単量体を0゜/ないし一〇重
量−程度含ませることができる。
シなどの親水性部位をもつ単量体を0゜/ないし一〇重
量−程度含ませることができる。
その他に、本発明で用いられる高分子物質としては、ガ
ラス転移温度が一2o’cがらグθ0cの範囲にある様
な共重合体又はホモポリマーがあげられる。この様な共
重合体又はホモポリマーの合成に用いられる単量体の同
としては、例えばアクリル酸エステル類、アクリルアミ
ド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類、
アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、
ビニル異節環化合物、N−ビニル化合物、スチレン類、
クロトン酸類、イタコン酸類、オレフィン類、オレフィ
ン類、無水マレイン酸類などがある。
ラス転移温度が一2o’cがらグθ0cの範囲にある様
な共重合体又はホモポリマーがあげられる。この様な共
重合体又はホモポリマーの合成に用いられる単量体の同
としては、例えばアクリル酸エステル類、アクリルアミ
ド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類、
アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、
ビニル異節環化合物、N−ビニル化合物、スチレン類、
クロトン酸類、イタコン酸類、オレフィン類、オレフィ
ン類、無水マレイン酸類などがある。
これらの具体例としては、アクリル酸類、例えば、アク
リル酸、アクリレート(例えばアクリル酸エチル、アク
リル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸オクチル
、−一ブトキシエチルアクリレート、クロルエチルアク
リレート、ヒドロキシエチルアクリレート、シアノエチ
ルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、
ジエチレンクリコールモノアクリレート、トリメチロー
ルプロパンモノアクリレート、グリシジルアクリレート
、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレー
トなど): メタクリル酸類、例えば、メタクリル酸、メタアクリレ
ート(例えばメチルメタクリレート、エチルメタクリレ
ート、イソプロピルメタクリレート、ベンジルメタクリ
レート、シアノアセトキシエチルメタクリレート、クロ
ルベンジルメタクリレート、エチレングリコールモノメ
タクリレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート
、コ、−−ジメチルー3−ヒドロキシプロピルメタクリ
レート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、グ
リシジルメタクリレート、ジメチルアミノフェノキシエ
チルメタクリレート、フェニルメタクリレート、など)
ニ アクリルアミド類、例えばアクリルアミド、N−置換ア
クリルアミド(例えば、メチルアクリルアミド、エチル
アクリルアミド、ブチルアクリルアミド、t−オクチル
アクリルアミド、はンジルアクリルアミド、ジメチルア
ミノエチルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド、
ヒドロキシフェニルアクリルアミド、ジメチルアクリル
アミド、ジプチルアクリルアミド、など): メタクリルアミド類、例えばメタクリルアミド、N−置
換メタクリルアミド(例えば、メチルメタクリルアミド
、t−ブチルメタクリルアミド、を−オクチルメタクリ
ルアミド、ベンジルメタクリルアミド、シクロヘキシル
メタクリルアミド、など): アリル化合物、例えばアリルエステル類(例えば酢酸ア
リル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン
酸アリル、など)、アリルエキシエタノール、アリルブ
チルエーテル、アリルグリシジルエーテル、アリルフェ
ニルエーテルなト:ビニルエーテルa、(例、tばメチ
ルビニルエーテル、フチルビニルエーテル、ヘキシルビ
ニルエーテル、オクチルビニルエーテル、エチルヘキシ
ルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、ク
ロルエテルビニルエーテル、−一エチルブチルエーテル
、ヒドロキシエチルビニルエーテル、など): ビニルエステル類、例えばビニルアセテート、ビニルプ
ロピオネート、ビニルブチレート、ビニルカプロエ−ト
、ビニルジメチルプロピオネート、ビニルエチルブチレ
ート、ビニルアセテ−ト、ビニルカプロエート、ビニル
クロルアセテート、な、ど: ビニル異節項化合物、例えばN−ビニルオ岑サシリドン
、ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニ
ルピロリドン、N−ビニルカルノζ/−ル、N−ビニル
エチルアセトアミドなど:スチレン類(例、tばスチレ
ン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルス
チレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、メチ
ルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレ
ン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、アセト
キシメチルスチレン、メトキシスチレン、クロルスチレ
ン、ジクロルスチレン、J−iロム−グートリフルオル
メチルスチレン、ビニル安息香酸、ビニル安息香酸メチ
ルエステルなど):クロトン酸類、例えば、クロトン酸
、クロトン酸アミド、クロトン酸エステル(例えばクロ
トン酸ブチルなど) ビニルケトン類(例えば、メチルビニルケトン、フェニ
ルビニルケトン’IE) オレフィン類(例えば、ジシクロペンタジェン、エチレ
ン、フロピレン、/−iテン、/−ハンテン、/−ヘキ
セン、/−ヘプテン、/−オクテンなど)、イタコン酸
類(例えばイタコン酸、無水イタコン酸、イタコン酸メ
チル)、クロトン酸類(例えばクロトン酸、クロトン酸
メチル)、ソルビン酸、桂皮酸、ソルビン酸メチル、ソ
ルビン酸グリシジル、シトラコン酸、クロルアクリル酸
、メサコン酸、マレイン酸、フマール酸、エタクリル酸
、ハロゲン化オレフィン類(たとえば塩化ビニル、塩化
ビニリデン、イソプレンなど)、不飽和ニトリル類(た
とえばアクリロニトリル、メタクロルニトリルなど)な
どがある。共重合体は、2m以上の単量体よりなる共重
合体であっても良い。この様な共重合体の例としては、
スチレン/n−ブチルアクリレート/アクリル酸共重合
体、スチレン/n−ブチルアクリレート/グリ7ジルア
クリレート共重合体などがある。
リル酸、アクリレート(例えばアクリル酸エチル、アク
リル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸オクチル
、−一ブトキシエチルアクリレート、クロルエチルアク
リレート、ヒドロキシエチルアクリレート、シアノエチ
ルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、
ジエチレンクリコールモノアクリレート、トリメチロー
ルプロパンモノアクリレート、グリシジルアクリレート
、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレー
トなど): メタクリル酸類、例えば、メタクリル酸、メタアクリレ
ート(例えばメチルメタクリレート、エチルメタクリレ
ート、イソプロピルメタクリレート、ベンジルメタクリ
レート、シアノアセトキシエチルメタクリレート、クロ
ルベンジルメタクリレート、エチレングリコールモノメ
タクリレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート
、コ、−−ジメチルー3−ヒドロキシプロピルメタクリ
レート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、グ
リシジルメタクリレート、ジメチルアミノフェノキシエ
チルメタクリレート、フェニルメタクリレート、など)
ニ アクリルアミド類、例えばアクリルアミド、N−置換ア
クリルアミド(例えば、メチルアクリルアミド、エチル
アクリルアミド、ブチルアクリルアミド、t−オクチル
アクリルアミド、はンジルアクリルアミド、ジメチルア
ミノエチルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド、
ヒドロキシフェニルアクリルアミド、ジメチルアクリル
アミド、ジプチルアクリルアミド、など): メタクリルアミド類、例えばメタクリルアミド、N−置
換メタクリルアミド(例えば、メチルメタクリルアミド
、t−ブチルメタクリルアミド、を−オクチルメタクリ
ルアミド、ベンジルメタクリルアミド、シクロヘキシル
メタクリルアミド、など): アリル化合物、例えばアリルエステル類(例えば酢酸ア
リル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン
酸アリル、など)、アリルエキシエタノール、アリルブ
チルエーテル、アリルグリシジルエーテル、アリルフェ
ニルエーテルなト:ビニルエーテルa、(例、tばメチ
ルビニルエーテル、フチルビニルエーテル、ヘキシルビ
ニルエーテル、オクチルビニルエーテル、エチルヘキシ
ルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、ク
ロルエテルビニルエーテル、−一エチルブチルエーテル
、ヒドロキシエチルビニルエーテル、など): ビニルエステル類、例えばビニルアセテート、ビニルプ
ロピオネート、ビニルブチレート、ビニルカプロエ−ト
、ビニルジメチルプロピオネート、ビニルエチルブチレ
ート、ビニルアセテ−ト、ビニルカプロエート、ビニル
クロルアセテート、な、ど: ビニル異節項化合物、例えばN−ビニルオ岑サシリドン
、ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニ
ルピロリドン、N−ビニルカルノζ/−ル、N−ビニル
エチルアセトアミドなど:スチレン類(例、tばスチレ
ン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルス
チレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、メチ
ルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレ
ン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、アセト
キシメチルスチレン、メトキシスチレン、クロルスチレ
ン、ジクロルスチレン、J−iロム−グートリフルオル
メチルスチレン、ビニル安息香酸、ビニル安息香酸メチ
ルエステルなど):クロトン酸類、例えば、クロトン酸
、クロトン酸アミド、クロトン酸エステル(例えばクロ
トン酸ブチルなど) ビニルケトン類(例えば、メチルビニルケトン、フェニ
ルビニルケトン’IE) オレフィン類(例えば、ジシクロペンタジェン、エチレ
ン、フロピレン、/−iテン、/−ハンテン、/−ヘキ
セン、/−ヘプテン、/−オクテンなど)、イタコン酸
類(例えばイタコン酸、無水イタコン酸、イタコン酸メ
チル)、クロトン酸類(例えばクロトン酸、クロトン酸
メチル)、ソルビン酸、桂皮酸、ソルビン酸メチル、ソ
ルビン酸グリシジル、シトラコン酸、クロルアクリル酸
、メサコン酸、マレイン酸、フマール酸、エタクリル酸
、ハロゲン化オレフィン類(たとえば塩化ビニル、塩化
ビニリデン、イソプレンなど)、不飽和ニトリル類(た
とえばアクリロニトリル、メタクロルニトリルなど)な
どがある。共重合体は、2m以上の単量体よりなる共重
合体であっても良い。この様な共重合体の例としては、
スチレン/n−ブチルアクリレート/アクリル酸共重合
体、スチレン/n−ブチルアクリレート/グリ7ジルア
クリレート共重合体などがある。
次に本発明の主たる構成物質である鉄、コバルト、ニッ
ケル、セリウム、マンガン、銅あるいは/及びそれらの
イオンについて述べる。
ケル、セリウム、マンガン、銅あるいは/及びそれらの
イオンについて述べる。
これらの物質は、好ましくは水溶性の塩の形で添加され
る。
る。
物質の例としては、Fe01Fe(OH)z、Feα2
、Fago4、Fe2O3、Feα13、Fe2(SO
2)a、Nl01Ni(OH)2、Niα2、NiSO
4・nHzO(n=o 、4 、7)、Ce2O3、C
e (OH) a 、Ce cta、CeBra、Ce
2(SO2)a・nH2O(n = ’ + 4
t l j e r + タ 、/J)
、Ce 02、Ce(804)z4H20、Coo、
CoS。
、Fago4、Fe2O3、Feα13、Fe2(SO
2)a、Nl01Ni(OH)2、Niα2、NiSO
4・nHzO(n=o 、4 、7)、Ce2O3、C
e (OH) a 、Ce cta、CeBra、Ce
2(SO2)a・nH2O(n = ’ + 4
t l j e r + タ 、/J)
、Ce 02、Ce(804)z4H20、Coo、
CoS。
Co(J2、C0NO3、CO3O4、Mn0z、Mn
SO4、Cub、CuSO4、Cu(NOz)zなどが
ある。
SO4、Cub、CuSO4、Cu(NOz)zなどが
ある。
これらの添加量に、特に制限は無いが、通常高分子物質
に対して、F e S O4の場合、重量比で0゜07
チから!チ、より好ましくはO0/6チから7.6チで
あり、これ以外の物質に対してはFeイオンに対して等
価となる様な重量比が好ましい添加量となる。
に対して、F e S O4の場合、重量比で0゜07
チから!チ、より好ましくはO0/6チから7.6チで
あり、これ以外の物質に対してはFeイオンに対して等
価となる様な重量比が好ましい添加量となる。
かくして得られた共重合体の水分散液を、下塗液として
塗布する為には該水分散液を更に水で稀釈し、必要によ
り、架橋剤、界面活性剤、膨潤剤、親水性ポリマー、マ
ット剤、帯電防止剤、電解質等を添加する事が出来る。
塗布する為には該水分散液を更に水で稀釈し、必要によ
り、架橋剤、界面活性剤、膨潤剤、親水性ポリマー、マ
ット剤、帯電防止剤、電解質等を添加する事が出来る。
下塗液中の本発明に係る共重合体の含有量は7〜.20
重量%、特に2〜73重量%である事が好ましい。
重量%、特に2〜73重量%である事が好ましい。
架橋剤としては例えば、米国特許第3.32!。
コ/7号、同3.コ?♂、ククj号、同31!ダ9.3
27号、ベルギー特許第4,402.ココ6号等に記載
のトリアジン系化合物;米国特許第3.2り/ 、/s
24を号、同3.コア、2,744を号、フランス特許
第1 、 !413 、ごタダ号、英国特許第1.27
0.671号に記載のジアルデヒド系化合物;米国特許
第3.09/、137号、特公昭4t?−243−10
号等に記載のエポキシ系化合物;米国特許第j、t4t
λ、4J’4号等に記載のビニル系化合物;米国特許第
3,392,024を号に記載のアジリジン系化合物:
米国特許第3゜!クタ、32♂号等に記載のエチレンイ
ミン系化合物:及びメチロール系化合物がある。
27号、ベルギー特許第4,402.ココ6号等に記載
のトリアジン系化合物;米国特許第3.2り/ 、/s
24を号、同3.コア、2,744を号、フランス特許
第1 、 !413 、ごタダ号、英国特許第1.27
0.671号に記載のジアルデヒド系化合物;米国特許
第3.09/、137号、特公昭4t?−243−10
号等に記載のエポキシ系化合物;米国特許第j、t4t
λ、4J’4号等に記載のビニル系化合物;米国特許第
3,392,024を号に記載のアジリジン系化合物:
米国特許第3゜!クタ、32♂号等に記載のエチレンイ
ミン系化合物:及びメチロール系化合物がある。
これらの化合物のうち、ジクロロトリアジン誘導体とし
ては例えば次式 で示されるジクロロ−s−トリアジン誘導体がある。
ては例えば次式 で示されるジクロロ−s−トリアジン誘導体がある。
これらの量としては、共重合体に対して0.007重量
%から200重量%を含有させる事が出来る。これらジ
クロロ−8−トリアジン誘導体の具体的な例としては次
に示すものがある。
%から200重量%を含有させる事が出来る。これらジ
クロロ−8−トリアジン誘導体の具体的な例としては次
に示すものがある。
膨潤剤としては、特に添加の必要はないが例えばフェノ
ール、レゾルシン等を添加してもよく、その添加量は下
塗液/llクシ〜10gである。
ール、レゾルシン等を添加してもよく、その添加量は下
塗液/llクシ〜10gである。
親水性ポリマーとしては、ゼラチンの如き天然ポリマー
、ポリビニルアルコール、酢酸ビニル−無水マレイン酸
共重合体、アクリル酸−アクリルアミド共重合体、スチ
レン−無水マレイン酸共重合体、などの合成ポリマーを
挙げることができる。
、ポリビニルアルコール、酢酸ビニル−無水マレイン酸
共重合体、アクリル酸−アクリルアミド共重合体、スチ
レン−無水マレイン酸共重合体、などの合成ポリマーを
挙げることができる。
帯電防止剤としては、アニオン又はカチオン界面活性剤
、イオネン系ポリマー、特開昭ジター3フフ2号等に記
載のマレイン酸系共重合体、コロイダルシリカ(例えば
日量化学■製スノーテックス)等を用いることが出来る
。
、イオネン系ポリマー、特開昭ジター3フフ2号等に記
載のマレイン酸系共重合体、コロイダルシリカ(例えば
日量化学■製スノーテックス)等を用いることが出来る
。
本発明では、ブロッキング防止剤として、マット剤(二
酸化ケイ素、ポリメチルアクリレート、ポリスチレン)
や、メチルセルロース、ポリビニルアルコール等を用い
る事も可能である。
酸化ケイ素、ポリメチルアクリレート、ポリスチレン)
や、メチルセルロース、ポリビニルアルコール等を用い
る事も可能である。
本発明に係る下塗液は、一般によく知られた塗布方法、
例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カー
テンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコード
法、グラビアコート法、或いは、米国特許第、24♂/
2タダ号明細書に記載のホラ’−を使用fるエクストル
ージョンコート法等によシ塗布することが出来る。必要
に応じて、米国特許第、27j/7?/号、同JjO?
り4tz号、同29グ//り2号、及び同3!−ぶ32
1号明細書、尾崎等著「コーティング工学」2!3頁(
/?7J年朝倉書店発行)などに記載された方法により
2層以上の層を同時に塗布することが出来る。
例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カー
テンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコード
法、グラビアコート法、或いは、米国特許第、24♂/
2タダ号明細書に記載のホラ’−を使用fるエクストル
ージョンコート法等によシ塗布することが出来る。必要
に応じて、米国特許第、27j/7?/号、同JjO?
り4tz号、同29グ//り2号、及び同3!−ぶ32
1号明細書、尾崎等著「コーティング工学」2!3頁(
/?7J年朝倉書店発行)などに記載された方法により
2層以上の層を同時に塗布することが出来る。
本発明に係る下塗第1層の共重合体の塗布量としては、
固型分として、プラスチック支持体の/平方米当り、0
.0/〜10g1特にOl、2〜3gであることが好ま
しい。
固型分として、プラスチック支持体の/平方米当り、0
.0/〜10g1特にOl、2〜3gであることが好ま
しい。
本発明において、第コの下塗層は、有っても無くても差
し支えないが、好ましくは、ゼラチンなどの様な親水性
ポリマーを主バインダーとする層を設ける事が好ましい
。
し支えないが、好ましくは、ゼラチンなどの様な親水性
ポリマーを主バインダーとする層を設ける事が好ましい
。
ここでの親水性ポリマーとしては、ゼラチン、フタル化
ゼラチン、マレイン化ゼラチンなどのアシル化ズラチン
、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセル
ロース等のセルロース誘導体、アクリル酸、メタクリル
酸もしくはアミドなどをゼラチンにグラフトさせたグラ
フト化ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリヒドロキ
シアルキルアクリレート、ポリビニルピロリドン、コポ
リ−ビニルピロリドン−酢酸ビニル、カゼイン、アガロ
ース、アルブミン、アルギン酸ソーダ、ポリサッカライ
ド、寒天、でんぷん、グラフトでんぷん、ポリアクリル
アミド、ポリエチレンイミンアシル化物、あるいはアク
リル酸、メタクリル酸アクリルアミド、N−置換アクリ
ルアミド、N−置換メタクリルアミドなどの単独もしく
は共重合体、あるいはそれらの部分加水分解物な!合成
もしくは天然の親水性高分子化合物が用いられる。
ゼラチン、マレイン化ゼラチンなどのアシル化ズラチン
、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセル
ロース等のセルロース誘導体、アクリル酸、メタクリル
酸もしくはアミドなどをゼラチンにグラフトさせたグラ
フト化ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリヒドロキ
シアルキルアクリレート、ポリビニルピロリドン、コポ
リ−ビニルピロリドン−酢酸ビニル、カゼイン、アガロ
ース、アルブミン、アルギン酸ソーダ、ポリサッカライ
ド、寒天、でんぷん、グラフトでんぷん、ポリアクリル
アミド、ポリエチレンイミンアシル化物、あるいはアク
リル酸、メタクリル酸アクリルアミド、N−置換アクリ
ルアミド、N−置換メタクリルアミドなどの単独もしく
は共重合体、あるいはそれらの部分加水分解物な!合成
もしくは天然の親水性高分子化合物が用いられる。
これらのものは、単独もしくは混合して使用できる。
好ましい親水性ポリマーとしては、ゼラチンあるいはゼ
ラチン誘導体である。
ラチン誘導体である。
上記の如き親水性ポリマーをバインダーとし、必要に応
じて、帯電防止剤、架橋剤、マット剤、ブロッキング防
止剤等を加える事が出来る。
じて、帯電防止剤、架橋剤、マット剤、ブロッキング防
止剤等を加える事が出来る。
次に本発明の用いられる写真層について簡単に触れる。
写真層のバインダー(親水性有機保膿コロイドとしては
、ゼラチン、フタル化ゼラチン、マレイン化ゼラチンな
どのアシル化ゼラチン、カルボキシメチルセルローズ、
ヒドロキシエチルセルロース等のセルロース誘導体、ア
クリル酸、メタクリル酸もしくはアミドなどをゼラチン
にグラフトさせたグラフト化ゼラテ/、ポリビニルアル
コール、ポリヒドロキシアルキルアクリレート、ポリビ
ニルピロリドン、コポリ−ビニルピロリドン−酢酸ビニ
ル、カゼイン、アガロース、アルブミン、アルギン酸ソ
ーダ、ポリサッカライド、寒天、でんぷん、グラフトで
んぷん、ポリアクリルアミド、ポリエチレンイミンアシ
ル化弐、おるいはアクリル酸、メタクリル酸アクリルア
ミド、N−置換アクリルアミド、N−置換メタクリルア
ミドなどの単独もしくは共重合体、あるいはそれらの部
分加水分解物など合成もしくは天然の親水性高分子化合
物が用いられる。これらのものは、単独もしくは混合し
て使用できる。
、ゼラチン、フタル化ゼラチン、マレイン化ゼラチンな
どのアシル化ゼラチン、カルボキシメチルセルローズ、
ヒドロキシエチルセルロース等のセルロース誘導体、ア
クリル酸、メタクリル酸もしくはアミドなどをゼラチン
にグラフトさせたグラフト化ゼラテ/、ポリビニルアル
コール、ポリヒドロキシアルキルアクリレート、ポリビ
ニルピロリドン、コポリ−ビニルピロリドン−酢酸ビニ
ル、カゼイン、アガロース、アルブミン、アルギン酸ソ
ーダ、ポリサッカライド、寒天、でんぷん、グラフトで
んぷん、ポリアクリルアミド、ポリエチレンイミンアシ
ル化弐、おるいはアクリル酸、メタクリル酸アクリルア
ミド、N−置換アクリルアミド、N−置換メタクリルア
ミドなどの単独もしくは共重合体、あるいはそれらの部
分加水分解物など合成もしくは天然の親水性高分子化合
物が用いられる。これらのものは、単独もしくは混合し
て使用できる。
バインダーを上記の如き親水性高分子化合物とするもの
であれば、その中に何が添加されているかは本発明にお
いては特に重要でな、いが、これらの親水性バインダー
には、ハロゲン化銀あるいは拡散転写写真法で用いられ
る硫化銀等物理現像核、又ジアゾ化合物などの感材をは
じめ各種の添加剤、カプラー、乳化重合、ラテックスポ
リマーなどが使用されるのが常である。
であれば、その中に何が添加されているかは本発明にお
いては特に重要でな、いが、これらの親水性バインダー
には、ハロゲン化銀あるいは拡散転写写真法で用いられ
る硫化銀等物理現像核、又ジアゾ化合物などの感材をは
じめ各種の添加剤、カプラー、乳化重合、ラテックスポ
リマーなどが使用されるのが常である。
本発明の感光性層に用いられる種々の素材、例えばハロ
ゲン化銀粒子、化学増感材、安定剤、分光増感剤、染料
、ポリマーラテックス、界面活性剤、ゼラチン硬膜剤、
力2−カプラー、退色防止剤、帯電防止剤、マット剤等
に関しては特に制限はなく、例えばリサーチディスクロ
ージャー(Research Disciosure
) / 74巻ココ〜3/頁(/り7/年/2月)の記
載を参考にすることができる。
ゲン化銀粒子、化学増感材、安定剤、分光増感剤、染料
、ポリマーラテックス、界面活性剤、ゼラチン硬膜剤、
力2−カプラー、退色防止剤、帯電防止剤、マット剤等
に関しては特に制限はなく、例えばリサーチディスクロ
ージャー(Research Disciosure
) / 74巻ココ〜3/頁(/り7/年/2月)の記
載を参考にすることができる。
本発明には必らずしも必要ではないが、コロナ放電処理
等の表面処理を疎水性支持体上及び/又は高分子物質よ
り成る下塗層上及び/又は一番目の下塗層の上から行っ
ても良く、その場合には、処理前後の層の接着力が向上
する。
等の表面処理を疎水性支持体上及び/又は高分子物質よ
り成る下塗層上及び/又は一番目の下塗層の上から行っ
ても良く、その場合には、処理前後の層の接着力が向上
する。
以下本発明を実施例により更に具体的に説明するが、こ
れにより本発明の実施の態様が限定されるものでない。
れにより本発明の実施の態様が限定されるものでない。
実施例を記載するに先だって各種の試験方法を説明する
。
。
〔フィルム支持体と乳剤層との接着の評価方法〕乳剤塗
布後、および処理(現像、定着、水成)後の接着力テス
トは3〜jmm間隔に縦横に本の切り目をナイフでいれ
、!×!個のます目を作り、ここにテープを付着させて
はがし、剥離した乳剤層のます目の数をかぞえる。まず
目の数が00ものをAクラス/〜コのものをA′クラス
、3〜4tのものをBクラス、これ以下をCクラスとす
る。
布後、および処理(現像、定着、水成)後の接着力テス
トは3〜jmm間隔に縦横に本の切り目をナイフでいれ
、!×!個のます目を作り、ここにテープを付着させて
はがし、剥離した乳剤層のます目の数をかぞえる。まず
目の数が00ものをAクラス/〜コのものをA′クラス
、3〜4tのものをBクラス、これ以下をCクラスとす
る。
処理液中での接着力テストは、乳剤塗布ベースの末端を
指で強くlj回くり返しこすり、末端より剥離した長さ
がommをAクラス、/〜、2mrnをA′クラス、−
〜4tmmをBクラス、これ以下をCクラスとする。
指で強くlj回くり返しこすり、末端より剥離した長さ
がommをAクラス、/〜、2mrnをA′クラス、−
〜4tmmをBクラス、これ以下をCクラスとする。
処理液として現像液にはLDS−7/j(富士写真フィ
ルム■製)を定着液にはLF−30♂(富士写真フィル
ム■製)を用いて皿現像処理方法によってテストした。
ルム■製)を定着液にはLF−30♂(富士写真フィル
ム■製)を用いて皿現像処理方法によってテストした。
これらの評価法において、写真材料として使用できるも
のはA−A’クラスである。
のはA−A’クラスである。
実施例
二軸延伸された厚さ/θθμのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上にコロナ放電処理を行ない、下記の組成
より成る第1の下塗液を塗布量が約6cc/m2となる
様にワイヤーバーコーターにより塗布し、/I/1O0
Cにて7分間乾燥した。次に反対面にも同様にして第1
下塗層を設けた。
ートフィルム上にコロナ放電処理を行ない、下記の組成
より成る第1の下塗液を塗布量が約6cc/m2となる
様にワイヤーバーコーターにより塗布し、/I/1O0
Cにて7分間乾燥した。次に反対面にも同様にして第1
下塗層を設けた。
組成/
〔蒸留水 ♂θcc
組成λ
組成3
組成グ
組成!
組成6
組成7
上記の両面の第1下塗層上に下記の組成から成る第λの
下塗液を塗布量が約9cc/rn2となる様に片面ずつ
両面に塗布、乾燥して種類の被覆)゛イルム(下塗床支
持体)を作製した。
下塗液を塗布量が約9cc/rn2となる様に片面ずつ
両面に塗布、乾燥して種類の被覆)゛イルム(下塗床支
持体)を作製した。
次に1種類の被覆フィルムの一方の側に下記処方(1)
のハロゲン化銀乳剤層を乾燥厚さ6.0μ塗布銀量j、
0g7m2になるように塗布した。さらに該ハロゲン化
銀乳剤層上に下記処方(2)の保護層を塗布し、この反
対側には下記処方(3)に従ってゼラチンパック層を乾
燥厚さ!μになるように塗希し、2種類の写真感材を作
製した。
のハロゲン化銀乳剤層を乾燥厚さ6.0μ塗布銀量j、
0g7m2になるように塗布した。さらに該ハロゲン化
銀乳剤層上に下記処方(2)の保護層を塗布し、この反
対側には下記処方(3)に従ってゼラチンパック層を乾
燥厚さ!μになるように塗希し、2種類の写真感材を作
製した。
処方−(1)ハロゲン化銀乳剤層処方
ゼラチン j g / m 2
塩沃臭化銀
(α:/θモルチ Br:/9.!モ
ルチ ェ:θ、jモル%)
塩化金酸 O,/mg/m2
ポリエチルアクリレートラテックス
(米国特許第33−.2j4.2a号明細書実施例−3
で用いているのと同じ) /、jg/m2 増感色素 3−アリル−!−〔λ−(/−エチル)−グ
メチルーコテトラゾリンー!イリ デンーエテリテン〕ローダニン にmg/m2 カブリ防止剤 グーヒドロキシ−6−メチル−/13゜3a−7−ント
ラザインデン j Om g / m 2 ポリオキシエチレン化合物 20 m g / m 2 ゼラチン硬化剤 一一ヒドロキシーa、t−シクロロー S−トリアジン・ナトリウム塩 &Omg/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ツー ダグOm g / m 2 処方−(2) 保膜層処方 ゼラチン / g/m ” マット剤 平均粒子径3 、0−1.0μのポリメチル
メタアクリレート 0.01g/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナト リウム 0.0jg7m2 ゼラチン硬化剤 コーヒドロキシーダ、6−ジクロロ− 8−)リアジン・ナトリウム塩 0.0/g/m2 処方(3) パック層処方 ゼラチン j g / m 2 ゼラチン硬化剤 一一ヒドロキシーク、6−ジクロロ− 8−)リアジン・ナトリウム塩 0 、 / g / m2 黄 マット剤 0.0jg7m2 ポリニーラテックス0 j Og / / 00 gゼラチン 硬化剤に 染料 0.3g7m2 薫 保獲層と同じもの 薫黄 ハロゲン化銀乳剤層と同じもの薫*薫 ′下記
の染料(1):(2):(3)=/ : / : /の
混合物 δす3入 5UaK H2 得られた2種類の写真感材について、フィルム支持体と
写真乳剤層との接着の評価を行った。その結果を第1表
に示す。
で用いているのと同じ) /、jg/m2 増感色素 3−アリル−!−〔λ−(/−エチル)−グ
メチルーコテトラゾリンー!イリ デンーエテリテン〕ローダニン にmg/m2 カブリ防止剤 グーヒドロキシ−6−メチル−/13゜3a−7−ント
ラザインデン j Om g / m 2 ポリオキシエチレン化合物 20 m g / m 2 ゼラチン硬化剤 一一ヒドロキシーa、t−シクロロー S−トリアジン・ナトリウム塩 &Omg/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ツー ダグOm g / m 2 処方−(2) 保膜層処方 ゼラチン / g/m ” マット剤 平均粒子径3 、0−1.0μのポリメチル
メタアクリレート 0.01g/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナト リウム 0.0jg7m2 ゼラチン硬化剤 コーヒドロキシーダ、6−ジクロロ− 8−)リアジン・ナトリウム塩 0.0/g/m2 処方(3) パック層処方 ゼラチン j g / m 2 ゼラチン硬化剤 一一ヒドロキシーク、6−ジクロロ− 8−)リアジン・ナトリウム塩 0 、 / g / m2 黄 マット剤 0.0jg7m2 ポリニーラテックス0 j Og / / 00 gゼラチン 硬化剤に 染料 0.3g7m2 薫 保獲層と同じもの 薫黄 ハロゲン化銀乳剤層と同じもの薫*薫 ′下記
の染料(1):(2):(3)=/ : / : /の
混合物 δす3入 5UaK H2 得られた2種類の写真感材について、フィルム支持体と
写真乳剤層との接着の評価を行った。その結果を第1表
に示す。
第1表
さらに写真感材/〜7をto ’Cat/RHの状態下
に!日間放置したのちフィルム支持体と写真乳剤層との
接着の評価を行った。その結果を第第2表 第1表及び第2表から明らかな如く、本発明に係る感材
、2〜7は作成した直後でも、高温・高湿下に長時間さ
らした後でも、支持体と乳剤層との接着は極めて良好で
あることが判る。
に!日間放置したのちフィルム支持体と写真乳剤層との
接着の評価を行った。その結果を第第2表 第1表及び第2表から明らかな如く、本発明に係る感材
、2〜7は作成した直後でも、高温・高湿下に長時間さ
らした後でも、支持体と乳剤層との接着は極めて良好で
あることが判る。
又、本発明に係る感材はいずれも写真性、ヘイズとも良
好であった。
好であった。
昭和!2年/、?月/λ日
1、事件の表示 昭和!り年特許第−22711
−21号2、発明の名称 写真感光材料 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人連絡先 〒10
6東京都港区西麻布2丁目26番30号富士写真フィル
ム株式会社東京本社 電話(406) 2537 4、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 5、補正の内容 l)第26頁り行目の 「作製した。」の後K 「第2の下塗液組成 を挿入する。
−21号2、発明の名称 写真感光材料 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人連絡先 〒10
6東京都港区西麻布2丁目26番30号富士写真フィル
ム株式会社東京本社 電話(406) 2537 4、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 5、補正の内容 l)第26頁り行目の 「作製した。」の後K 「第2の下塗液組成 を挿入する。
2)第37頁lλ行目の
「z o ’′c’ a j/RHJを「jo ’C
+t%R−HJ と補正する。
+t%R−HJ と補正する。
Claims (1)
- 疎水性支持体上に高分子物質より成る下塗層を設け、そ
の層にニッケル、コバルト、マンガン、セリウム、鉄、
銅及びそれらのイオンのうち、少くとも1種類を含む事
を特徴とする写真感光材料
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59227428A JPS61105543A (ja) | 1984-10-29 | 1984-10-29 | 写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59227428A JPS61105543A (ja) | 1984-10-29 | 1984-10-29 | 写真感光材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61105543A true JPS61105543A (ja) | 1986-05-23 |
| JPH0364051B2 JPH0364051B2 (ja) | 1991-10-03 |
Family
ID=16860694
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59227428A Granted JPS61105543A (ja) | 1984-10-29 | 1984-10-29 | 写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61105543A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006028484A (ja) * | 2004-06-18 | 2006-02-02 | Mec Kk | 樹脂表面処理剤および樹脂表面処理法 |
-
1984
- 1984-10-29 JP JP59227428A patent/JPS61105543A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006028484A (ja) * | 2004-06-18 | 2006-02-02 | Mec Kk | 樹脂表面処理剤および樹脂表面処理法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0364051B2 (ja) | 1991-10-03 |
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