JPS61105543A - 写真感光材料 - Google Patents

写真感光材料

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JPS61105543A
JPS61105543A JP59227428A JP22742884A JPS61105543A JP S61105543 A JPS61105543 A JP S61105543A JP 59227428 A JP59227428 A JP 59227428A JP 22742884 A JP22742884 A JP 22742884A JP S61105543 A JPS61105543 A JP S61105543A
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acid
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gelatin
acrylate
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Tamotsu Suzuki
保 鈴木
Koichi Suematsu
末松 浩一
Sumio Nishikawa
西川 純生
Sumitaka Tatsuta
龍田 純隆
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    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は写真材料に関するもので、特に疎水性表面を有
する支持体上に親水性コロイドから成る写真層をもうけ
た写真材料に関するものである。
(従来の技術) 従来より写真用支持体として、その透明性、可撓性等の
秀れている点でポリエチレンテレフタレート、トリ酢酸
セルロース、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリオ
レフィンラミネート紙等が多く用いられている。
しかしながら、これら高分子物質を支持体に使用する場
合、支持体がいずれも疎水性の表面を有するため、これ
ら支持体上にゼラチンが主である親水性コロイドからな
る写真層を強固に接着させる事は非常に困難である。こ
の様な離点を克服するために試みられた従来技術におけ
る、疎水性支持体の表面処理としては、 (1)  薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火
焔処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活
性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸化
処理、などの表面活性化処理したのち、直接写真乳剤を
塗布して接着力を得る方法と、(2)  一旦これらの
表面処理をした後、下塗層を設けこの上に写真乳剤層を
塗布する方法との二法がある。
(例えば、米国特許第2.tり♂、J4t/号、コ。
26′ダ、320号、コ、?6グ、り!!号、3゜/4
13,41λ/号、j、4を乙コ、3J!号、3゜グア
!、/り3号、3,6/j、116号、英国特許第71
1.341号、r04t 、00!号、rり/、ダイ9
号等)。これらのうち(2)の方法がより有効であり広
く行なわれている。これらの表面処理はいずれも、本来
は疎水性であった支持体表面に1多少共、極性基を作ら
せる事、極表面の接着に対してマイナスの要因になる薄
層を除去する事、表面の架橋密度を増加させ接着強度を
あげる事などKより表面の接着力を増加させるものと思
われ、その結果として下塗液中に含有される成分の極性
基との親和力が増加することによるものないし、接着表
面の堅牢度が増加することによるもの等が考えられる。
又、下塗層の塗布の方法としても種々の工夫が行なわれ
ており、第一層として支持体によく接着する層を設け、
その上に第二層“とじて親水性の樹脂層を塗布する所謂
、重量法と疎水性基と親水性基との両方を含有する樹脂
層を一層のみ、塗布する単層法とがある。
これらの方法はいずれもよく研究されておシ、例えば、
塩化ビニル、塩化ビニリデン、ブタジェン、メタクリル
酸、アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸などの中
から選ばれた単量体を出発原料とする共重合体を始めと
して、ポリエチレンイミン、エポキシ樹脂グラフト化ゼ
ラチン、ニトロセルロースなど数多くの樹脂についてそ
の適性が検討されてきた。
特に、疎水性支持体と親水性ハロゲン化銀乳剤との間に
実用に耐え得る充分な接着力を得る下塗方法を完全に水
系で行なう為に、特に塩化ビニリデン系共重合体、ジエ
ン系共重合体の検討が行なわれている。
我々はベースと乳剤層とを接着させる方法として、ジエ
ン系単量体を、その−成分とする共重合体を単独、又は
適当な架橋剤と併用して下塗組成分として有効であ石事
が見い出して来た。
(例えば特開昭j/ −1141120号、同!グー9
4t023号、同j!−ぶ!タダタ号)下塗されたベー
ス面に、写真乳剤層との接着力を得る為にゼラチン又は
ゼラチン誘導体などの親水性物質を塗布する事が良く知
られている。
しかしながら、これらの方法では、乳剤層塗布後高温高
湿下罠放置された場合(例えばao0c以上10eIk
以上の湿度下)疎水性支持体と親水性ハロゲン化銀乳剤
との実用に耐え得る充分な接着力を得る事は不可能な事
であった。
(発明の目的) 本発明の目的は、第1に疎水性支持体と写真乳剤層との
接着を高温高湿下に長時間放置される様な過酷な東件下
においても良好ならしめる事である。第一は、均一な被
膜を形成し、フィルムの透明度に悪影響を与えない事で
ある。第3に写真乳剤塗布液の塗布性が良好な下塗面を
提供する事である。第ダは、写真乳剤層になんらの悪影
響を与える事の無い下塗層を提供する事である。
(問題点を解決する為の手段) 本発明のこれらの目的は、疎水性支持体上に高分子物質
より成る下塗層を有し、該下塗層中に1鉄、コバルト、
ニッケル、マンガン、セリウム、銅及びこれらのイオン
の内の少なくとも7種を含有することを特徴とする写真
感光材料によって達成された。
以下、本発明に用いられる構成要件について詳述する。
本発明に於て、疎水性支持体とは、例えば、セルロース
エステル(4IKセルローストリアセテート、セルロー
スジアセテート、セルロースプロピオネート)、ポリア
ミド、ポリカーボネート、ポリエステル(特にポリエチ
レンテレフタレート、ポリー/、4t−シクロヘキサン
ジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−/ r J
−ジフェノキシエタン−p 、 4t’−ジカルボキシ
レート)、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレ
ン等から成るフィルム及びこれらのフィルムを紙等他の
支持体上に塗布又はラミネートして成る複合フィルムを
いう。
中でも、ポリエチレンテレフタレートフィルムが最も好
ましく用いられ、特に−軸延伸、熱固定されたポリエチ
レンテレフタレートフィルムが、安定性、強じん性等の
点からも有利に用いられる。
プラスチックフィルム支持体の厚さに特に制限はないが
、/!〜!00μ、特に4tQ〜−〇、θμ程度のもの
が取扱い易さ、汎用性などの点から有利である。
又、支持体は、透明でもよいし、染料を含んでいてもよ
いし、二酸化チタンの如き顔料を含有するもの、さらに
、二酸化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウ
ム塩等を含有していてもよい。
本発明において疎水性支持体上に設けられる高分子物質
としてはジエン系単量体の共重合体が好ましく用いられ
る。
ジエン系単量体の共重合体とは、ブタジェン、イソプレ
ンなど炭素数りないし約♂のジエン系単量体を重合体の
一成分とする共重合体をいう。
共重合の相手としては、例えば、スチレン、アクリロニ
トリル、アクリルエステル、メタアクリルエステル(メ
チル、エチル、ブチル、フロビルなト)、ビニルエーテ
ル(メチル、エチル、クロロエチル、ブチルなト)、ビ
ニルエステル(タトえば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ルなど)、グリシジルアクリレート、グリシジルメタク
リレート、アリルグリジルエーテル、ジメチルアミノエ
チルメタクリレート、ビニルピリジン、tert−ブチ
ルアミノエチルメタクリレート、アクリル酸、メタクリ
ル酸、クロトン酸、イタコン酸、イタコン酸半エステル
、マレイン酸、マレイン酸半エステル、無水イタコン酸
、無水マレイン酸、アリルアルコール、コーヒドロキシ
エチルメタクリレート、−一ヒドロキシエチルアクリレ
ート、2−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、コー
ヒドロキシプロビルアクリレート、多価アルコールのモ
ノアリルエーテル、アクリルアミド、メタクリルアミド
、マレインアミド、N−メチロニルアクリルアミド、N
−メチロールメタクリルアミドとそのエーテル、ビニル
イソシアネート、アリルイソシアネートなど炭素数−な
いし約rのビニル又はビニIJデン化合物から選ばれる
。これらは乳化重合法により、好都合に製造され、市販
品も入手できる。又、この共重合体中のジエン成分の量
は約30〜40重量%、好ましくは3−〜4to重量%
がよい。
又、共重合体中には、アマイド、ヒドロキシ、カルボキ
シなどの親水性部位をもつ単量体を0゜/ないし一〇重
量−程度含ませることができる。
その他に、本発明で用いられる高分子物質としては、ガ
ラス転移温度が一2o’cがらグθ0cの範囲にある様
な共重合体又はホモポリマーがあげられる。この様な共
重合体又はホモポリマーの合成に用いられる単量体の同
としては、例えばアクリル酸エステル類、アクリルアミ
ド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類、
アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、
ビニル異節環化合物、N−ビニル化合物、スチレン類、
クロトン酸類、イタコン酸類、オレフィン類、オレフィ
ン類、無水マレイン酸類などがある。
これらの具体例としては、アクリル酸類、例えば、アク
リル酸、アクリレート(例えばアクリル酸エチル、アク
リル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸オクチル
、−一ブトキシエチルアクリレート、クロルエチルアク
リレート、ヒドロキシエチルアクリレート、シアノエチ
ルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、
ジエチレンクリコールモノアクリレート、トリメチロー
ルプロパンモノアクリレート、グリシジルアクリレート
、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレー
トなど): メタクリル酸類、例えば、メタクリル酸、メタアクリレ
ート(例えばメチルメタクリレート、エチルメタクリレ
ート、イソプロピルメタクリレート、ベンジルメタクリ
レート、シアノアセトキシエチルメタクリレート、クロ
ルベンジルメタクリレート、エチレングリコールモノメ
タクリレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート
、コ、−−ジメチルー3−ヒドロキシプロピルメタクリ
レート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、グ
リシジルメタクリレート、ジメチルアミノフェノキシエ
チルメタクリレート、フェニルメタクリレート、など)
ニ アクリルアミド類、例えばアクリルアミド、N−置換ア
クリルアミド(例えば、メチルアクリルアミド、エチル
アクリルアミド、ブチルアクリルアミド、t−オクチル
アクリルアミド、はンジルアクリルアミド、ジメチルア
ミノエチルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド、
ヒドロキシフェニルアクリルアミド、ジメチルアクリル
アミド、ジプチルアクリルアミド、など): メタクリルアミド類、例えばメタクリルアミド、N−置
換メタクリルアミド(例えば、メチルメタクリルアミド
、t−ブチルメタクリルアミド、を−オクチルメタクリ
ルアミド、ベンジルメタクリルアミド、シクロヘキシル
メタクリルアミド、など): アリル化合物、例えばアリルエステル類(例えば酢酸ア
リル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン
酸アリル、など)、アリルエキシエタノール、アリルブ
チルエーテル、アリルグリシジルエーテル、アリルフェ
ニルエーテルなト:ビニルエーテルa、(例、tばメチ
ルビニルエーテル、フチルビニルエーテル、ヘキシルビ
ニルエーテル、オクチルビニルエーテル、エチルヘキシ
ルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、ク
ロルエテルビニルエーテル、−一エチルブチルエーテル
、ヒドロキシエチルビニルエーテル、など): ビニルエステル類、例えばビニルアセテート、ビニルプ
ロピオネート、ビニルブチレート、ビニルカプロエ−ト
、ビニルジメチルプロピオネート、ビニルエチルブチレ
ート、ビニルアセテ−ト、ビニルカプロエート、ビニル
クロルアセテート、な、ど: ビニル異節項化合物、例えばN−ビニルオ岑サシリドン
、ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニ
ルピロリドン、N−ビニルカルノζ/−ル、N−ビニル
エチルアセトアミドなど:スチレン類(例、tばスチレ
ン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルス
チレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、メチ
ルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレ
ン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、アセト
キシメチルスチレン、メトキシスチレン、クロルスチレ
ン、ジクロルスチレン、J−iロム−グートリフルオル
メチルスチレン、ビニル安息香酸、ビニル安息香酸メチ
ルエステルなど):クロトン酸類、例えば、クロトン酸
、クロトン酸アミド、クロトン酸エステル(例えばクロ
トン酸ブチルなど) ビニルケトン類(例えば、メチルビニルケトン、フェニ
ルビニルケトン’IE) オレフィン類(例えば、ジシクロペンタジェン、エチレ
ン、フロピレン、/−iテン、/−ハンテン、/−ヘキ
セン、/−ヘプテン、/−オクテンなど)、イタコン酸
類(例えばイタコン酸、無水イタコン酸、イタコン酸メ
チル)、クロトン酸類(例えばクロトン酸、クロトン酸
メチル)、ソルビン酸、桂皮酸、ソルビン酸メチル、ソ
ルビン酸グリシジル、シトラコン酸、クロルアクリル酸
、メサコン酸、マレイン酸、フマール酸、エタクリル酸
、ハロゲン化オレフィン類(たとえば塩化ビニル、塩化
ビニリデン、イソプレンなど)、不飽和ニトリル類(た
とえばアクリロニトリル、メタクロルニトリルなど)な
どがある。共重合体は、2m以上の単量体よりなる共重
合体であっても良い。この様な共重合体の例としては、
スチレン/n−ブチルアクリレート/アクリル酸共重合
体、スチレン/n−ブチルアクリレート/グリ7ジルア
クリレート共重合体などがある。
次に本発明の主たる構成物質である鉄、コバルト、ニッ
ケル、セリウム、マンガン、銅あるいは/及びそれらの
イオンについて述べる。
これらの物質は、好ましくは水溶性の塩の形で添加され
る。
物質の例としては、Fe01Fe(OH)z、Feα2
、Fago4、Fe2O3、Feα13、Fe2(SO
2)a、Nl01Ni(OH)2、Niα2、NiSO
4・nHzO(n=o 、4 、7)、Ce2O3、C
e (OH) a 、Ce cta、CeBra、Ce
2(SO2)a・nH2O(n  = ’  +  4
t l  j e  r  +   タ  、/J) 
 、Ce 02、Ce(804)z4H20、Coo、
CoS。
Co(J2、C0NO3、CO3O4、Mn0z、Mn
SO4、Cub、CuSO4、Cu(NOz)zなどが
ある。
これらの添加量に、特に制限は無いが、通常高分子物質
に対して、F e S O4の場合、重量比で0゜07
チから!チ、より好ましくはO0/6チから7.6チで
あり、これ以外の物質に対してはFeイオンに対して等
価となる様な重量比が好ましい添加量となる。
かくして得られた共重合体の水分散液を、下塗液として
塗布する為には該水分散液を更に水で稀釈し、必要によ
り、架橋剤、界面活性剤、膨潤剤、親水性ポリマー、マ
ット剤、帯電防止剤、電解質等を添加する事が出来る。
下塗液中の本発明に係る共重合体の含有量は7〜.20
重量%、特に2〜73重量%である事が好ましい。
架橋剤としては例えば、米国特許第3.32!。
コ/7号、同3.コ?♂、ククj号、同31!ダ9.3
27号、ベルギー特許第4,402.ココ6号等に記載
のトリアジン系化合物;米国特許第3.2り/ 、/s
24を号、同3.コア、2,744を号、フランス特許
第1 、 !413 、ごタダ号、英国特許第1.27
0.671号に記載のジアルデヒド系化合物;米国特許
第3.09/、137号、特公昭4t?−243−10
号等に記載のエポキシ系化合物;米国特許第j、t4t
λ、4J’4号等に記載のビニル系化合物;米国特許第
3,392,024を号に記載のアジリジン系化合物:
米国特許第3゜!クタ、32♂号等に記載のエチレンイ
ミン系化合物:及びメチロール系化合物がある。
これらの化合物のうち、ジクロロトリアジン誘導体とし
ては例えば次式 で示されるジクロロ−s−トリアジン誘導体がある。
これらの量としては、共重合体に対して0.007重量
%から200重量%を含有させる事が出来る。これらジ
クロロ−8−トリアジン誘導体の具体的な例としては次
に示すものがある。
膨潤剤としては、特に添加の必要はないが例えばフェノ
ール、レゾルシン等を添加してもよく、その添加量は下
塗液/llクシ〜10gである。
親水性ポリマーとしては、ゼラチンの如き天然ポリマー
、ポリビニルアルコール、酢酸ビニル−無水マレイン酸
共重合体、アクリル酸−アクリルアミド共重合体、スチ
レン−無水マレイン酸共重合体、などの合成ポリマーを
挙げることができる。
帯電防止剤としては、アニオン又はカチオン界面活性剤
、イオネン系ポリマー、特開昭ジター3フフ2号等に記
載のマレイン酸系共重合体、コロイダルシリカ(例えば
日量化学■製スノーテックス)等を用いることが出来る
本発明では、ブロッキング防止剤として、マット剤(二
酸化ケイ素、ポリメチルアクリレート、ポリスチレン)
や、メチルセルロース、ポリビニルアルコール等を用い
る事も可能である。
本発明に係る下塗液は、一般によく知られた塗布方法、
例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カー
テンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコード
法、グラビアコート法、或いは、米国特許第、24♂/
2タダ号明細書に記載のホラ’−を使用fるエクストル
ージョンコート法等によシ塗布することが出来る。必要
に応じて、米国特許第、27j/7?/号、同JjO?
り4tz号、同29グ//り2号、及び同3!−ぶ32
1号明細書、尾崎等著「コーティング工学」2!3頁(
/?7J年朝倉書店発行)などに記載された方法により
2層以上の層を同時に塗布することが出来る。
本発明に係る下塗第1層の共重合体の塗布量としては、
固型分として、プラスチック支持体の/平方米当り、0
.0/〜10g1特にOl、2〜3gであることが好ま
しい。
本発明において、第コの下塗層は、有っても無くても差
し支えないが、好ましくは、ゼラチンなどの様な親水性
ポリマーを主バインダーとする層を設ける事が好ましい
ここでの親水性ポリマーとしては、ゼラチン、フタル化
ゼラチン、マレイン化ゼラチンなどのアシル化ズラチン
、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセル
ロース等のセルロース誘導体、アクリル酸、メタクリル
酸もしくはアミドなどをゼラチンにグラフトさせたグラ
フト化ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリヒドロキ
シアルキルアクリレート、ポリビニルピロリドン、コポ
リ−ビニルピロリドン−酢酸ビニル、カゼイン、アガロ
ース、アルブミン、アルギン酸ソーダ、ポリサッカライ
ド、寒天、でんぷん、グラフトでんぷん、ポリアクリル
アミド、ポリエチレンイミンアシル化物、あるいはアク
リル酸、メタクリル酸アクリルアミド、N−置換アクリ
ルアミド、N−置換メタクリルアミドなどの単独もしく
は共重合体、あるいはそれらの部分加水分解物な!合成
もしくは天然の親水性高分子化合物が用いられる。
これらのものは、単独もしくは混合して使用できる。
好ましい親水性ポリマーとしては、ゼラチンあるいはゼ
ラチン誘導体である。
上記の如き親水性ポリマーをバインダーとし、必要に応
じて、帯電防止剤、架橋剤、マット剤、ブロッキング防
止剤等を加える事が出来る。
次に本発明の用いられる写真層について簡単に触れる。
写真層のバインダー(親水性有機保膿コロイドとしては
、ゼラチン、フタル化ゼラチン、マレイン化ゼラチンな
どのアシル化ゼラチン、カルボキシメチルセルローズ、
ヒドロキシエチルセルロース等のセルロース誘導体、ア
クリル酸、メタクリル酸もしくはアミドなどをゼラチン
にグラフトさせたグラフト化ゼラテ/、ポリビニルアル
コール、ポリヒドロキシアルキルアクリレート、ポリビ
ニルピロリドン、コポリ−ビニルピロリドン−酢酸ビニ
ル、カゼイン、アガロース、アルブミン、アルギン酸ソ
ーダ、ポリサッカライド、寒天、でんぷん、グラフトで
んぷん、ポリアクリルアミド、ポリエチレンイミンアシ
ル化弐、おるいはアクリル酸、メタクリル酸アクリルア
ミド、N−置換アクリルアミド、N−置換メタクリルア
ミドなどの単独もしくは共重合体、あるいはそれらの部
分加水分解物など合成もしくは天然の親水性高分子化合
物が用いられる。これらのものは、単独もしくは混合し
て使用できる。
バインダーを上記の如き親水性高分子化合物とするもの
であれば、その中に何が添加されているかは本発明にお
いては特に重要でな、いが、これらの親水性バインダー
には、ハロゲン化銀あるいは拡散転写写真法で用いられ
る硫化銀等物理現像核、又ジアゾ化合物などの感材をは
じめ各種の添加剤、カプラー、乳化重合、ラテックスポ
リマーなどが使用されるのが常である。
本発明の感光性層に用いられる種々の素材、例えばハロ
ゲン化銀粒子、化学増感材、安定剤、分光増感剤、染料
、ポリマーラテックス、界面活性剤、ゼラチン硬膜剤、
力2−カプラー、退色防止剤、帯電防止剤、マット剤等
に関しては特に制限はなく、例えばリサーチディスクロ
ージャー(Research Disciosure 
) / 74巻ココ〜3/頁(/り7/年/2月)の記
載を参考にすることができる。
本発明には必らずしも必要ではないが、コロナ放電処理
等の表面処理を疎水性支持体上及び/又は高分子物質よ
り成る下塗層上及び/又は一番目の下塗層の上から行っ
ても良く、その場合には、処理前後の層の接着力が向上
する。
以下本発明を実施例により更に具体的に説明するが、こ
れにより本発明の実施の態様が限定されるものでない。
実施例を記載するに先だって各種の試験方法を説明する
〔フィルム支持体と乳剤層との接着の評価方法〕乳剤塗
布後、および処理(現像、定着、水成)後の接着力テス
トは3〜jmm間隔に縦横に本の切り目をナイフでいれ
、!×!個のます目を作り、ここにテープを付着させて
はがし、剥離した乳剤層のます目の数をかぞえる。まず
目の数が00ものをAクラス/〜コのものをA′クラス
、3〜4tのものをBクラス、これ以下をCクラスとす
る。
処理液中での接着力テストは、乳剤塗布ベースの末端を
指で強くlj回くり返しこすり、末端より剥離した長さ
がommをAクラス、/〜、2mrnをA′クラス、−
〜4tmmをBクラス、これ以下をCクラスとする。
処理液として現像液にはLDS−7/j(富士写真フィ
ルム■製)を定着液にはLF−30♂(富士写真フィル
ム■製)を用いて皿現像処理方法によってテストした。
これらの評価法において、写真材料として使用できるも
のはA−A’クラスである。
実施例 二軸延伸された厚さ/θθμのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上にコロナ放電処理を行ない、下記の組成
より成る第1の下塗液を塗布量が約6cc/m2となる
様にワイヤーバーコーターにより塗布し、/I/1O0
Cにて7分間乾燥した。次に反対面にも同様にして第1
下塗層を設けた。
組成/ 〔蒸留水      ♂θcc 組成λ 組成3 組成グ 組成! 組成6 組成7 上記の両面の第1下塗層上に下記の組成から成る第λの
下塗液を塗布量が約9cc/rn2となる様に片面ずつ
両面に塗布、乾燥して種類の被覆)゛イルム(下塗床支
持体)を作製した。
次に1種類の被覆フィルムの一方の側に下記処方(1)
のハロゲン化銀乳剤層を乾燥厚さ6.0μ塗布銀量j、
0g7m2になるように塗布した。さらに該ハロゲン化
銀乳剤層上に下記処方(2)の保護層を塗布し、この反
対側には下記処方(3)に従ってゼラチンパック層を乾
燥厚さ!μになるように塗希し、2種類の写真感材を作
製した。
処方−(1)ハロゲン化銀乳剤層処方 ゼラチン j g / m 2 塩沃臭化銀 (α:/θモルチ Br:/9.!モ ルチ ェ:θ、jモル%) 塩化金酸 O,/mg/m2 ポリエチルアクリレートラテックス (米国特許第33−.2j4.2a号明細書実施例−3
で用いているのと同じ) /、jg/m2 増感色素 3−アリル−!−〔λ−(/−エチル)−グ
メチルーコテトラゾリンー!イリ デンーエテリテン〕ローダニン にmg/m2 カブリ防止剤 グーヒドロキシ−6−メチル−/13゜3a−7−ント
ラザインデン j Om g / m 2 ポリオキシエチレン化合物 20 m g / m 2 ゼラチン硬化剤 一一ヒドロキシーa、t−シクロロー S−トリアジン・ナトリウム塩 &Omg/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ツー ダグOm g / m 2 処方−(2)  保膜層処方 ゼラチン / g/m ” マット剤 平均粒子径3 、0−1.0μのポリメチル
メタアクリレート 0.01g/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナト リウム 0.0jg7m2 ゼラチン硬化剤 コーヒドロキシーダ、6−ジクロロ− 8−)リアジン・ナトリウム塩 0.0/g/m2 処方(3)  パック層処方 ゼラチン j g / m 2 ゼラチン硬化剤 一一ヒドロキシーク、6−ジクロロ− 8−)リアジン・ナトリウム塩 0 、 / g / m2 黄 マット剤 0.0jg7m2 ポリニーラテックス0 j Og / / 00 gゼラチン 硬化剤に 染料 0.3g7m2 薫 保獲層と同じもの 薫黄  ハロゲン化銀乳剤層と同じもの薫*薫 ′下記
の染料(1):(2):(3)=/ : / : /の
混合物 δす3入      5UaK H2 得られた2種類の写真感材について、フィルム支持体と
写真乳剤層との接着の評価を行った。その結果を第1表
に示す。
第1表 さらに写真感材/〜7をto ’Cat/RHの状態下
に!日間放置したのちフィルム支持体と写真乳剤層との
接着の評価を行った。その結果を第第2表 第1表及び第2表から明らかな如く、本発明に係る感材
、2〜7は作成した直後でも、高温・高湿下に長時間さ
らした後でも、支持体と乳剤層との接着は極めて良好で
あることが判る。
又、本発明に係る感材はいずれも写真性、ヘイズとも良
好であった。
昭和!2年/、?月/λ日 1、事件の表示    昭和!り年特許第−22711
−21号2、発明の名称  写真感光材料 3、補正をする者 事件との関係       特許出願人連絡先 〒10
6東京都港区西麻布2丁目26番30号富士写真フィル
ム株式会社東京本社 電話(406) 2537 4、補正の対象  明細書の「発明の詳細な説明」の欄 5、補正の内容 l)第26頁り行目の 「作製した。」の後K 「第2の下塗液組成 を挿入する。
2)第37頁lλ行目の 「z o ’′c’  a j/RHJを「jo ’C
+t%R−HJ と補正する。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 疎水性支持体上に高分子物質より成る下塗層を設け、そ
    の層にニッケル、コバルト、マンガン、セリウム、鉄、
    銅及びそれらのイオンのうち、少くとも1種類を含む事
    を特徴とする写真感光材料
JP59227428A 1984-10-29 1984-10-29 写真感光材料 Granted JPS61105543A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006028484A (ja) * 2004-06-18 2006-02-02 Mec Kk 樹脂表面処理剤および樹脂表面処理法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2006028484A (ja) * 2004-06-18 2006-02-02 Mec Kk 樹脂表面処理剤および樹脂表面処理法

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