JPH0364052B2 - - Google Patents
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Classifications
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- G—PHYSICS
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Description
(産業上の利用分野)
本発明は写真材料に関するもので、特に疎水性
表面を有する支持体上に親水性コロイドかな成る
写真層をもうけた写真材料に関するものである。 (従来の技術) 従来より写真用支持体として、その透明性、可
撓性等の秀れている点でポリエチレンテレフタレ
ート、トリ酢酸セルロース、ポリスチレン、ポリ
カーボネート、ポリオレフインラミネート紙等が
多く用いられている。 これら高分子物質を支持体に使用する場合、支
持体がいずれも疎水性の表面を有するため、これ
ら支持体上にゼラチンが主である親水性コロイド
からなる写真層を強固に接着させる事が必要であ
る。このために試みられた従来技術における、疎
水性支持体の表面処理としては、 (1) 薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火
焔処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電
処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸
処理、オゾン酸化処理、などの表面活性化処理
したのち、直接写真乳剤を塗布して接着力を得
る方法と、 (2) 一旦これらの表面処理をした後、下塗層を設
けこの上に写真乳剤層を塗布する方法との二法
がある。 (例えば、米国特許第2698241号、2764520号、
2864755号、3143421号、3462335号、3475193号、
3615556号、英国特許第788365号、804005号、
891469号等)。これらのうち(2)の方法がより有効
であり広く行なわれている。これらの表面処理は
いずれも、本来は疎水性であつた支持体表面に、
多少共、極性基を作らせる事、極表面の接着に対
してマイナスの要因になる薄層を除去する事、表
面の架橋密度を増加させ接着強度をあげる事など
により表面の接着力を増加させるものと思われ、
その結果として下塗液中に含有される成分の極性
基との親和力が増加することによるものないし、
接着表面の堅牢度が増加することによるもの等が
考えられる。 又、下塗層の塗布の方法としても種々の工夫が
行なわれており、第一層として支持体によく接着
する層を設け、その上に第二層として親水性の樹
脂層を塗布する所謂、重量法と疎水性基と親水性
基との両方を含有する樹脂層を一層のみ、塗布す
る単層法とがある。 これらの方法はいずれもよく研究されており、
例えば、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ブタジエ
ン、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、無
水マレイン酸などの中から選ばれた単量体を出発
原料とする共重合体を始めとして、ポリエチレン
イミン、エポキシ樹脂グラフト化ゼラチン、ニト
ロセルロースなど数多くの樹脂についてその適性
が検討されてきた。 特に、疎水性支持体と親水性ハロゲン化銀乳剤
との間に実用に耐え得る充分な接着力を得る下塗
方法を完全に水系で行なう為に、特に塩化ビニリ
デン系共重合体、ジエン系共重合体の検討が行な
われている。 我々はベースと乳剤層とを接着させる方法とし
て、ジエン系単量体を、その一成分とする共重合
体を単独、又は適当な架橋剤と併用して下塗組成
分として有効である事が見い出して来た。 (例えば特開昭51−114120号、同54−94025号、
同55−65949号) 下塗されたベース面に、写真乳剤層との接着力
を得る為にゼラチン又はゼラチン誘導体などの親
水性物質を塗布する事が良く知られている。 ところで、下塗液として主溶媒として水を用い
て塗布する場合、塗布液が長時間放置されると、
微生物が繁殖し、腐敗によつて、下塗液中に浮遊
物を生じて、ハジキ、異物付着等の塗布面故障を
発生する事があつた。 一方下塗された支持体は、帯電防止性を有する
事が必要である。その理由は、下塗された支持体
に、ハロゲン化銀写真乳剤層を塗布する前に、ハ
ンドリングにより、ローラーとの剥離で帯電を生
じると乳剤層の塗布ムラを生じたりする事がある
からである。あるいは、乳剤層を塗布した後で
も、裏面あるいは端部に下塗ベース面が残つてい
る場合には、そこからの放電によりいわゆるスタ
チツク故障を生じる事があるからである。 我々は、上記2点の問題点を同時に解決する為
に鋭意検討した結果、本発明に到達したものであ
る。 (発明の目的) 本発明の目的は、第一に下塗液の腐敗を防止す
る事である。第二に下塗された支持体面に帯電防
止性を付与させる事である。第三に写真乳剤層に
なんらの悪影響を与える事の無い下塗層を提供す
る事にある。第四にハジキ、異物等の塗布面故障
を生じる事の無い下塗層を提供する事にある。 (問題点を解決する為の手段) 本発明のこれらの目的は疎水性支持体上に水溶
性下塗液あるいは、水分散性下塗液にて、塗設す
る下塗層を有する写真感光材料において、その下
塗液中に下記物質のうち少くとも1種類が添加さ
れている事を特徴とする写真感光材料により達成
された。 但し、上記一般式におけるRは水素原子又は
Co+H2o+1(n=1〜20)を表わす。 以下、本発明に用いられる構成要件について詳
述する。 本発明に於て、疎水性支持体とは、例えば、セ
ルロースエステル(特にセルローストリアセテー
ト、セルロースジアセテート、セルロースプロピ
オネート)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポ
リエステル(特にポリエチレンテレフタレート、
ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフ
タレート、ポリエチレン−1,2−ジフエノキシ
エタン−4,4′−ジカルボキシレート)、ポリス
チレン、ポリプロピレン、ポリエチレン等から成
るフイルム及びこれらのフイルムを紙等他の支持
体上に塗布又はラミネートして成る複合フイルム
をいう。 中でも、ポリエチレンテレフタレートフイルム
が最も好ましく用いられ、特に2軸延伸、熱固定
されたポリエチレンテレフタレートフイルムが、
安定性、強じん性等の点からも有利に用いられ
る。 プラスチツクフイルム支持体の厚さに特に制限
はないが、15〜500μ、特に40〜200μ程度のもの
が取扱い易さ、汎用性などの点から有利である。 又、支持体は、透明でもよいし、染料を含んで
いてもよいし、二酸化チタンの如き顔料を含有す
るもの、さらに、二酸化ケイ素、アルミナゾル、
クロム塩、ジルコニウム塩等を含有していてもよ
い。 本発明において、疎水性支持体上に設けられる
下塗液中には、必らずしも必要ではないが合成あ
るいは、天然の高分子物質が通常含まれる。疎水
性支持体に設けられる下塗層は、一層以上何層あ
つても良く、本発明で使用される添加(1)〜(3)はそ
れらの、どの層に添加されても良く、添加剤(1)〜
(3)は高分子物質が合成・精製される段階で添加さ
れても、下塗液として調製される段階で添加され
てもかまわない。 合成高分子物質としては、ジエン系単量体の共
重合体、塩化ビニリデン系共重合体、アクリル酸
エステル系共重合体、無水マレイン酸の共重合体
などが好ましく用いられる。合成高分子物質は、
水系ラテツクスエマルジヨン又は水溶性ポリマー
として用いられ、溶剤が水であるならば、高分子
物質の構造は特に限定されない。通常この様な合
成高分子物質は、疎水性支持体に最も近い層に用
いられ、この層の上に直接ハロゲン化銀乳剤層が
塗設されるかあるいは、この層に上にゼラチンな
どの様な親水性バインダー層を設けたのち、ハロ
ゲン化銀乳剤層が設けられる。 ジエン系単量体の共重合体とは、ブタジエン、
イソプレンなど炭素数4ないし約8のジエン系単
量体を重合体の一成分とする共重合体をいう。 共重合の相手としては、例えば、スチレン、ア
クリロニトリル、アクリルエステル、メタアクリ
ルエステル(メチル、エチル、ブチル、プロピル
など)、ビニルエーテル(メチル、エチル、クロ
ロエチル、ブチルなど)、ビニルエステル(たと
えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなど)、グ
リシジルアクリレート、グリシジルメタクリレー
ト、アリルグリシジルエーテル、ジメチルアミノ
エチルメタクリレート、ビニルピリジン、tert−
ブチルアミノエチルメタクリレート、アクリル
酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、イ
タコン酸半エステル、マレイン酸、マレイン酸半
エステル、無水イタコン酸、無水マレイン酸、ア
リルアルコール、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2
−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2−ヒ
ドロキシプロピルアクリレート、多価アルコール
のモノアリルエーテル、 アクリルアミド、メタクリルアミド、マレイン
アミド、N−メチロールアクリルアミド、N−メ
チロールメタクリルアミドとそのエーテル、ビニ
ルイソシアネート、アリルイソシアネートなど炭
素数2ないし約8のビニル又はビニリデン化合物
から選ばれる。これらは乳化重合法により、好都
合に製造され、市販品も入手できる。又、この共
重合体中のジエン成分の量は約30〜60重量%、好
ましくは32〜40重量%がよい。 又、共重合体中には、アマイド、ヒドロキシ、
カルボキシなどの親水性部位をもつ単量体を0.1
ないし20重量%程度含ませることができる。 その他に、本発明で用いられる高分子物質とし
ては、ガラス転移温度が−20℃から40℃の範囲に
ある様な共重合体又はホモポリマーがあげられ
る。この様な共重合体又はホモポリマーの合成に
用いられる単量体の例としては、例えばアクリル
酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸
エステル類、メタクリルアミド類、アリル化合
物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、ビニ
ル異節環化合物、N−ビニル化合物、スチレン
類、クロトン酸類、イタコン酸類、オレフイン
類、オレフイン類、無水マレイン酸類などがあ
る。これらの具体例としては、アクリル酸類、例
えば、アクリル酸、アクリレート(例えばアクリ
ル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミ
ル、アクリル酸オクチル、2−ブトキシエチルア
クリレート、クロルエチルアクリレート、ヒドロ
キシエチルアクリレート、シアノエチルアクリレ
ート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジエ
チレングリコールモノアクリレート、トリメチロ
ールプロパンモノアクリレート、グリシジルアク
リレート、ベンジルアクリレート、メトキシベン
ジルアクリレート、など): メタクリル酸類、例えば、メタクリル酸、メタ
アクリレート(例えばメチルメタクリレート、エ
チルメタクリレート、イソプロピルメタクリレー
ト、ベンジルメタクリレート、シアノアセトキシ
エチルメタクリレート、クロルベンジルメタクリ
レート、エチレングリコールモノメタクリレー
ト、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、
2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルメタ
クリレート、ジエチレングリコールモノメタクリ
レート、グリシジルメタクリレート、ジメチルア
ミノフエノキシエチルメタクリレート、フエニル
メタクリレートなど): アクリルアミド類、例えばアクリルアミド、N
−置換アクリルアミド(例えば、メチルアクリル
アミド、エチルアクリルアミド、ブチルアクリル
アミド、t−オクチルアクリルアミド、ベンジル
アクリルアミド、ジメチルアミノエチルアクリル
アミド、フエニルアクリルアミド、ヒドロキシフ
エニルアクリルアミド、ジメチルアクリルアミ
ド、ジブチルアクリルアミド、など): メタクリルアミド類、例えばメタクリルアミ
ド、N−置換メタクリルアミド(例えば、メチル
メタクリルアミド、t−ブチルメタクリルアミ
ド、t−オクチルメタクリルアミド、ベンジルメ
タクリルアミド、シクロヘキシルメタクリルアミ
ド、など): アリル化合物、例えばアリルエステル類(例え
ば酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸ア
リル、ラウリン酸アリル、など)、アリルエキシ
エタノール、アリルブチルエーテル、アリルグリ
シジルエーテル、アリルフエニルエーテルなど: ビニルエーテル類、(例えばメチルビニルエー
テル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエ
ーテル、オクチルビニルエーテル、エチルヘキシ
ルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテ
ル、クロルエチルビニルエーテル、2−エチルブ
チルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、ジエチレングリコールビニルエーテルな
ど): ビニルエステル類、例えばビニルアセテート、
ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニ
ルイソブチレート、ビニルジメチルプロピオネー
ト、ビニルエチルブチレート、ビニルバレレー
ト、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテー
ト、など: ビニル異節環化合物、例えばN−ビニルオキサ
ゾリドン、ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾ
ール、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバ
ゾール、N−ビニルエチルアセトアミドなど: スチレン類(例えばスチレン、メチルスチレ
ン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エ
チルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルス
チレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチ
レン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレ
ン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレ
ン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ビニル
安息香酸、ビニル安息香酸メチルエステルな
ど):クロトン酸類、例えば、クロトン酸、クロ
トン酸アミド、クロトン酸エステル(例えばクロ
トン酸ブチル、など) ビニルケトル類(例えば、メチルビニルケト
ン、フエニルビニルケトン、など) オレフイン類(例えば、ジシクロペンタジエ
ン、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペ
ンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オク
テン、など)、イタコン酸類(例えばイタコン酸、
無水イタコン酸、イタコン酸メチル)、クロトン
酸類(例えばクロトン酸、クロトン酸メチル)、
ソルビン酸、桂皮酸、ソルビン酸メチル、ソルビ
ン酸グリシジル、シトラコン酸、クロルアクリル
酸、メサコン酸、マレイン酸、フマール酸、エタ
クリル酸、ハロゲン化オレフイン類(たとえば塩
化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレンなど)、
不飽和ニトリル類(たとえばアクリロニトリル、
メタクリロニトリルなど)などがある。共重合体
は、2種以上の単量体よりなる共重合体であつて
も良い。この様な共重合体の例としては、スチレ
ン/n−ブチルアクリレート/アクリル酸共重合
体、スチレン/n−ブチルアクリレート/グリシ
ジルアクリレート共重合体などがある。 水溶性ポリマーとしては、ゼラチン、フタル化
ゼラチン、マレイン化ゼラチンなどのアシル化ゼ
ラチン、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキ
シエチルセルロース等のセルロース誘導体、アク
リル酸、メタクリル酸もしくはアミドなどをゼラ
チンにグラフトさせたグラフト化ゼラチン、ポリ
ビニルアルコール、ポリヒドロキシアルキルアク
リレート、ポリビニルピロリドン、コポリ−ビニ
ルピロリドン−酢酸ビニル、カゼイン、アガロー
ス、アルブミン、アルギン酸ソーダ、ポリサツカ
ライド、寒天、でんぷん、グラフトでんぷん、ポ
リアクリルアミド、ポリエチレンイミンアシル化
物、あるいはアクリル酸、メタクリル酸アクリル
アミド、N−置換アクリルアミド、N−置換メタ
クリルアミドなどの単独もしくは共重合体、ある
いはそれらの部分加水分解物など合成もしくは天
然の親水性高分子化合物が用いられる。これらの
ものは、単独もしくは混合して使用できる。 好ましい親水性ポリマーとしては、ゼラチンあ
るいはゼラチン誘導体である。 本発明で使用される添加剤(1)〜(3)は、市販品と
してI.C.I社のプロキセルCRL(1)に相当、ソマー
ル工業社のソマサイドRS(2)+(3)に相当、武田薬
品社のスラオフ72N(2)に相当、パーマケムアジア
社のトツプサイド800(2)に相当などを利用する事
も出来る。 これらの添加量については特に制限は無いが下
塗液中0.0001%から10%、好ましくは0.001%か
ら1%の範囲で使用される。 これらは、水、メタノール、エチレンジアミン
などを溶媒として添加する事が出来る。 共重合体あるいはホモポリマーの水分散液ある
いは水溶液を、下塗液として塗布する為には該水
分散液を更に水で稀釈し、必要により、架橋剤、
界面活性剤、膨潤剤、マツト剤、他の帯電防止
剤、電解質等を添加する事が出来る。 架橋剤としては例えば、米国特許第3325287号、
同3288775号、同3549377号、ベルギー特許第
6602226号等に記載のトリアジン系化合物;米国
特許第3291624号、同3232764号、フランス特許第
1543694号、英国特許第1270578号に記載のジアル
デヒド系化合物;米国特許第3091537号、特公昭
49−26580号等に記載のエポキシ系化合物;米国
特許第3642486号等に記載のビニル系化合物;米
国特許第3392024号に記載のアジリン系化合物;
米国特許第3549378号等に記載のエチレンイミン
系化合物;及びメチロール系化合物がある。 これらの化合物のうち、ジクロロトリアジン誘
導体としては例えば次式
表面を有する支持体上に親水性コロイドかな成る
写真層をもうけた写真材料に関するものである。 (従来の技術) 従来より写真用支持体として、その透明性、可
撓性等の秀れている点でポリエチレンテレフタレ
ート、トリ酢酸セルロース、ポリスチレン、ポリ
カーボネート、ポリオレフインラミネート紙等が
多く用いられている。 これら高分子物質を支持体に使用する場合、支
持体がいずれも疎水性の表面を有するため、これ
ら支持体上にゼラチンが主である親水性コロイド
からなる写真層を強固に接着させる事が必要であ
る。このために試みられた従来技術における、疎
水性支持体の表面処理としては、 (1) 薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火
焔処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電
処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸
処理、オゾン酸化処理、などの表面活性化処理
したのち、直接写真乳剤を塗布して接着力を得
る方法と、 (2) 一旦これらの表面処理をした後、下塗層を設
けこの上に写真乳剤層を塗布する方法との二法
がある。 (例えば、米国特許第2698241号、2764520号、
2864755号、3143421号、3462335号、3475193号、
3615556号、英国特許第788365号、804005号、
891469号等)。これらのうち(2)の方法がより有効
であり広く行なわれている。これらの表面処理は
いずれも、本来は疎水性であつた支持体表面に、
多少共、極性基を作らせる事、極表面の接着に対
してマイナスの要因になる薄層を除去する事、表
面の架橋密度を増加させ接着強度をあげる事など
により表面の接着力を増加させるものと思われ、
その結果として下塗液中に含有される成分の極性
基との親和力が増加することによるものないし、
接着表面の堅牢度が増加することによるもの等が
考えられる。 又、下塗層の塗布の方法としても種々の工夫が
行なわれており、第一層として支持体によく接着
する層を設け、その上に第二層として親水性の樹
脂層を塗布する所謂、重量法と疎水性基と親水性
基との両方を含有する樹脂層を一層のみ、塗布す
る単層法とがある。 これらの方法はいずれもよく研究されており、
例えば、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ブタジエ
ン、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、無
水マレイン酸などの中から選ばれた単量体を出発
原料とする共重合体を始めとして、ポリエチレン
イミン、エポキシ樹脂グラフト化ゼラチン、ニト
ロセルロースなど数多くの樹脂についてその適性
が検討されてきた。 特に、疎水性支持体と親水性ハロゲン化銀乳剤
との間に実用に耐え得る充分な接着力を得る下塗
方法を完全に水系で行なう為に、特に塩化ビニリ
デン系共重合体、ジエン系共重合体の検討が行な
われている。 我々はベースと乳剤層とを接着させる方法とし
て、ジエン系単量体を、その一成分とする共重合
体を単独、又は適当な架橋剤と併用して下塗組成
分として有効である事が見い出して来た。 (例えば特開昭51−114120号、同54−94025号、
同55−65949号) 下塗されたベース面に、写真乳剤層との接着力
を得る為にゼラチン又はゼラチン誘導体などの親
水性物質を塗布する事が良く知られている。 ところで、下塗液として主溶媒として水を用い
て塗布する場合、塗布液が長時間放置されると、
微生物が繁殖し、腐敗によつて、下塗液中に浮遊
物を生じて、ハジキ、異物付着等の塗布面故障を
発生する事があつた。 一方下塗された支持体は、帯電防止性を有する
事が必要である。その理由は、下塗された支持体
に、ハロゲン化銀写真乳剤層を塗布する前に、ハ
ンドリングにより、ローラーとの剥離で帯電を生
じると乳剤層の塗布ムラを生じたりする事がある
からである。あるいは、乳剤層を塗布した後で
も、裏面あるいは端部に下塗ベース面が残つてい
る場合には、そこからの放電によりいわゆるスタ
チツク故障を生じる事があるからである。 我々は、上記2点の問題点を同時に解決する為
に鋭意検討した結果、本発明に到達したものであ
る。 (発明の目的) 本発明の目的は、第一に下塗液の腐敗を防止す
る事である。第二に下塗された支持体面に帯電防
止性を付与させる事である。第三に写真乳剤層に
なんらの悪影響を与える事の無い下塗層を提供す
る事にある。第四にハジキ、異物等の塗布面故障
を生じる事の無い下塗層を提供する事にある。 (問題点を解決する為の手段) 本発明のこれらの目的は疎水性支持体上に水溶
性下塗液あるいは、水分散性下塗液にて、塗設す
る下塗層を有する写真感光材料において、その下
塗液中に下記物質のうち少くとも1種類が添加さ
れている事を特徴とする写真感光材料により達成
された。 但し、上記一般式におけるRは水素原子又は
Co+H2o+1(n=1〜20)を表わす。 以下、本発明に用いられる構成要件について詳
述する。 本発明に於て、疎水性支持体とは、例えば、セ
ルロースエステル(特にセルローストリアセテー
ト、セルロースジアセテート、セルロースプロピ
オネート)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポ
リエステル(特にポリエチレンテレフタレート、
ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフ
タレート、ポリエチレン−1,2−ジフエノキシ
エタン−4,4′−ジカルボキシレート)、ポリス
チレン、ポリプロピレン、ポリエチレン等から成
るフイルム及びこれらのフイルムを紙等他の支持
体上に塗布又はラミネートして成る複合フイルム
をいう。 中でも、ポリエチレンテレフタレートフイルム
が最も好ましく用いられ、特に2軸延伸、熱固定
されたポリエチレンテレフタレートフイルムが、
安定性、強じん性等の点からも有利に用いられ
る。 プラスチツクフイルム支持体の厚さに特に制限
はないが、15〜500μ、特に40〜200μ程度のもの
が取扱い易さ、汎用性などの点から有利である。 又、支持体は、透明でもよいし、染料を含んで
いてもよいし、二酸化チタンの如き顔料を含有す
るもの、さらに、二酸化ケイ素、アルミナゾル、
クロム塩、ジルコニウム塩等を含有していてもよ
い。 本発明において、疎水性支持体上に設けられる
下塗液中には、必らずしも必要ではないが合成あ
るいは、天然の高分子物質が通常含まれる。疎水
性支持体に設けられる下塗層は、一層以上何層あ
つても良く、本発明で使用される添加(1)〜(3)はそ
れらの、どの層に添加されても良く、添加剤(1)〜
(3)は高分子物質が合成・精製される段階で添加さ
れても、下塗液として調製される段階で添加され
てもかまわない。 合成高分子物質としては、ジエン系単量体の共
重合体、塩化ビニリデン系共重合体、アクリル酸
エステル系共重合体、無水マレイン酸の共重合体
などが好ましく用いられる。合成高分子物質は、
水系ラテツクスエマルジヨン又は水溶性ポリマー
として用いられ、溶剤が水であるならば、高分子
物質の構造は特に限定されない。通常この様な合
成高分子物質は、疎水性支持体に最も近い層に用
いられ、この層の上に直接ハロゲン化銀乳剤層が
塗設されるかあるいは、この層に上にゼラチンな
どの様な親水性バインダー層を設けたのち、ハロ
ゲン化銀乳剤層が設けられる。 ジエン系単量体の共重合体とは、ブタジエン、
イソプレンなど炭素数4ないし約8のジエン系単
量体を重合体の一成分とする共重合体をいう。 共重合の相手としては、例えば、スチレン、ア
クリロニトリル、アクリルエステル、メタアクリ
ルエステル(メチル、エチル、ブチル、プロピル
など)、ビニルエーテル(メチル、エチル、クロ
ロエチル、ブチルなど)、ビニルエステル(たと
えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなど)、グ
リシジルアクリレート、グリシジルメタクリレー
ト、アリルグリシジルエーテル、ジメチルアミノ
エチルメタクリレート、ビニルピリジン、tert−
ブチルアミノエチルメタクリレート、アクリル
酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、イ
タコン酸半エステル、マレイン酸、マレイン酸半
エステル、無水イタコン酸、無水マレイン酸、ア
リルアルコール、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2
−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2−ヒ
ドロキシプロピルアクリレート、多価アルコール
のモノアリルエーテル、 アクリルアミド、メタクリルアミド、マレイン
アミド、N−メチロールアクリルアミド、N−メ
チロールメタクリルアミドとそのエーテル、ビニ
ルイソシアネート、アリルイソシアネートなど炭
素数2ないし約8のビニル又はビニリデン化合物
から選ばれる。これらは乳化重合法により、好都
合に製造され、市販品も入手できる。又、この共
重合体中のジエン成分の量は約30〜60重量%、好
ましくは32〜40重量%がよい。 又、共重合体中には、アマイド、ヒドロキシ、
カルボキシなどの親水性部位をもつ単量体を0.1
ないし20重量%程度含ませることができる。 その他に、本発明で用いられる高分子物質とし
ては、ガラス転移温度が−20℃から40℃の範囲に
ある様な共重合体又はホモポリマーがあげられ
る。この様な共重合体又はホモポリマーの合成に
用いられる単量体の例としては、例えばアクリル
酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸
エステル類、メタクリルアミド類、アリル化合
物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、ビニ
ル異節環化合物、N−ビニル化合物、スチレン
類、クロトン酸類、イタコン酸類、オレフイン
類、オレフイン類、無水マレイン酸類などがあ
る。これらの具体例としては、アクリル酸類、例
えば、アクリル酸、アクリレート(例えばアクリ
ル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミ
ル、アクリル酸オクチル、2−ブトキシエチルア
クリレート、クロルエチルアクリレート、ヒドロ
キシエチルアクリレート、シアノエチルアクリレ
ート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジエ
チレングリコールモノアクリレート、トリメチロ
ールプロパンモノアクリレート、グリシジルアク
リレート、ベンジルアクリレート、メトキシベン
ジルアクリレート、など): メタクリル酸類、例えば、メタクリル酸、メタ
アクリレート(例えばメチルメタクリレート、エ
チルメタクリレート、イソプロピルメタクリレー
ト、ベンジルメタクリレート、シアノアセトキシ
エチルメタクリレート、クロルベンジルメタクリ
レート、エチレングリコールモノメタクリレー
ト、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、
2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルメタ
クリレート、ジエチレングリコールモノメタクリ
レート、グリシジルメタクリレート、ジメチルア
ミノフエノキシエチルメタクリレート、フエニル
メタクリレートなど): アクリルアミド類、例えばアクリルアミド、N
−置換アクリルアミド(例えば、メチルアクリル
アミド、エチルアクリルアミド、ブチルアクリル
アミド、t−オクチルアクリルアミド、ベンジル
アクリルアミド、ジメチルアミノエチルアクリル
アミド、フエニルアクリルアミド、ヒドロキシフ
エニルアクリルアミド、ジメチルアクリルアミ
ド、ジブチルアクリルアミド、など): メタクリルアミド類、例えばメタクリルアミ
ド、N−置換メタクリルアミド(例えば、メチル
メタクリルアミド、t−ブチルメタクリルアミ
ド、t−オクチルメタクリルアミド、ベンジルメ
タクリルアミド、シクロヘキシルメタクリルアミ
ド、など): アリル化合物、例えばアリルエステル類(例え
ば酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸ア
リル、ラウリン酸アリル、など)、アリルエキシ
エタノール、アリルブチルエーテル、アリルグリ
シジルエーテル、アリルフエニルエーテルなど: ビニルエーテル類、(例えばメチルビニルエー
テル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエ
ーテル、オクチルビニルエーテル、エチルヘキシ
ルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテ
ル、クロルエチルビニルエーテル、2−エチルブ
チルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、ジエチレングリコールビニルエーテルな
ど): ビニルエステル類、例えばビニルアセテート、
ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニ
ルイソブチレート、ビニルジメチルプロピオネー
ト、ビニルエチルブチレート、ビニルバレレー
ト、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテー
ト、など: ビニル異節環化合物、例えばN−ビニルオキサ
ゾリドン、ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾ
ール、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバ
ゾール、N−ビニルエチルアセトアミドなど: スチレン類(例えばスチレン、メチルスチレ
ン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エ
チルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルス
チレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチ
レン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレ
ン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレ
ン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ビニル
安息香酸、ビニル安息香酸メチルエステルな
ど):クロトン酸類、例えば、クロトン酸、クロ
トン酸アミド、クロトン酸エステル(例えばクロ
トン酸ブチル、など) ビニルケトル類(例えば、メチルビニルケト
ン、フエニルビニルケトン、など) オレフイン類(例えば、ジシクロペンタジエ
ン、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペ
ンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オク
テン、など)、イタコン酸類(例えばイタコン酸、
無水イタコン酸、イタコン酸メチル)、クロトン
酸類(例えばクロトン酸、クロトン酸メチル)、
ソルビン酸、桂皮酸、ソルビン酸メチル、ソルビ
ン酸グリシジル、シトラコン酸、クロルアクリル
酸、メサコン酸、マレイン酸、フマール酸、エタ
クリル酸、ハロゲン化オレフイン類(たとえば塩
化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレンなど)、
不飽和ニトリル類(たとえばアクリロニトリル、
メタクリロニトリルなど)などがある。共重合体
は、2種以上の単量体よりなる共重合体であつて
も良い。この様な共重合体の例としては、スチレ
ン/n−ブチルアクリレート/アクリル酸共重合
体、スチレン/n−ブチルアクリレート/グリシ
ジルアクリレート共重合体などがある。 水溶性ポリマーとしては、ゼラチン、フタル化
ゼラチン、マレイン化ゼラチンなどのアシル化ゼ
ラチン、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキ
シエチルセルロース等のセルロース誘導体、アク
リル酸、メタクリル酸もしくはアミドなどをゼラ
チンにグラフトさせたグラフト化ゼラチン、ポリ
ビニルアルコール、ポリヒドロキシアルキルアク
リレート、ポリビニルピロリドン、コポリ−ビニ
ルピロリドン−酢酸ビニル、カゼイン、アガロー
ス、アルブミン、アルギン酸ソーダ、ポリサツカ
ライド、寒天、でんぷん、グラフトでんぷん、ポ
リアクリルアミド、ポリエチレンイミンアシル化
物、あるいはアクリル酸、メタクリル酸アクリル
アミド、N−置換アクリルアミド、N−置換メタ
クリルアミドなどの単独もしくは共重合体、ある
いはそれらの部分加水分解物など合成もしくは天
然の親水性高分子化合物が用いられる。これらの
ものは、単独もしくは混合して使用できる。 好ましい親水性ポリマーとしては、ゼラチンあ
るいはゼラチン誘導体である。 本発明で使用される添加剤(1)〜(3)は、市販品と
してI.C.I社のプロキセルCRL(1)に相当、ソマー
ル工業社のソマサイドRS(2)+(3)に相当、武田薬
品社のスラオフ72N(2)に相当、パーマケムアジア
社のトツプサイド800(2)に相当などを利用する事
も出来る。 これらの添加量については特に制限は無いが下
塗液中0.0001%から10%、好ましくは0.001%か
ら1%の範囲で使用される。 これらは、水、メタノール、エチレンジアミン
などを溶媒として添加する事が出来る。 共重合体あるいはホモポリマーの水分散液ある
いは水溶液を、下塗液として塗布する為には該水
分散液を更に水で稀釈し、必要により、架橋剤、
界面活性剤、膨潤剤、マツト剤、他の帯電防止
剤、電解質等を添加する事が出来る。 架橋剤としては例えば、米国特許第3325287号、
同3288775号、同3549377号、ベルギー特許第
6602226号等に記載のトリアジン系化合物;米国
特許第3291624号、同3232764号、フランス特許第
1543694号、英国特許第1270578号に記載のジアル
デヒド系化合物;米国特許第3091537号、特公昭
49−26580号等に記載のエポキシ系化合物;米国
特許第3642486号等に記載のビニル系化合物;米
国特許第3392024号に記載のアジリン系化合物;
米国特許第3549378号等に記載のエチレンイミン
系化合物;及びメチロール系化合物がある。 これらの化合物のうち、ジクロロトリアジン誘
導体としては例えば次式
乳剤塗布後、および処理(現像、定着、水洗)
後の接着力テストは3〜5mm間隔に縦横6本の切
り目をナイフでいれ、5×5個のます目を作り、
ここにテープを付着させてはがし、剥離した乳剤
層のます目の数をかぞえる。ます目の数が0のも
のをAクラス1〜2のものA′クラス、3〜4の
ものをBクラス、これ以下をCクラスとする。 処理液中での接着力テストは、乳剤塗布ベース
の末端を指で強く15回くり返しこすり、末端より
剥離した長さが0mmをAクラス、1〜2mmを
A′クラス、2〜4mmをBクラス、これ以下をC
クラスとする。 処理液として現像液にはLDS−715(富士写真
フイルム(株)製)を定着液にはLF−308(富士写真
フイルム(株)製)を用いて皿現像処理方法によつて
テストした。 これらの評価法において、写真材料として使用
できるものはA〜A′クラスである。 〔下塗液の腐敗性のテスト方法〕 下塗液を調製後、23℃50%RHの培養セル中に
放置し1週間後の微生物の発生の有無と臭気を確
認した。 〔帯電防止性の評価方法〕 下塗されたベース表面の表面電気抵抗を23℃65
%RHにて21時間放置後、同一条件下で測定す
る。 実施例 1 二軸延伸された厚さ100μのポリエチレンテレ
フタレートフイルム上に、コロナ放電処理を行な
い、下記の組成より成る第1の下塗液を塗布量が
約6c.c./m2となる様にワイヤーバーコーターによ
り塗布し、140℃にて1分間乾燥した。次に反対
面にも、同様にして第1の下塗層を塗布した。 これらの下塗液については、培養セルにて微生
物の発生の有無と臭気を確認した。 次いでこれらの第1下塗層上に1%ゼラチン溶
液を約10c.c./m2となる様にワイヤーバーコーター
により両面塗布し、140℃にて1分間乾燥した。
このフイルムについて帯電防止性を表面電気抵抗
の測定により評価した。 次に8種類の被覆フイルムの一方の側に下記処
方(1)のハロゲン化銀乳剤層を乾燥厚さ6.0μ塗布銀
量5.0g/m2になるように塗布した。さらに該ハ
ロゲン化銀乳剤層上に下記処方(2)の保護層を塗布
し、この反対側には下記処方(3)に従つてゼラチン
パツク層を乾燥厚さ5μになるように塗布し、8
種類の写真感材を作製した。 処方−(1) ハロゲン化銀乳剤層処方 ゼラチン 5g/m2 塩沃臭化銀(Cl:80モル% Br:19.5モル%
I:0.5モル%) 塩化金酸 0.1mg/m2 ポリエチルアクリレートラテツクス(米国特許第
3525620号明細書実施例3で用いているのと同じ)
1.5g/m2 増感色素3−アリル−5−〔2−(1−エチル)−
4メチル−2テトラゾリン−5イリデン−エチリ
デン〕ローダニン 6mg/m2 カブリ防止剤4−ヒドロキシ−6−メチル−1,
3,3a−7−ソトラザインデン 30mg/m2 ポリオキシエチレン化合物 20mg/m2 ゼラチン硬化剤2−ヒドロキシ−4.6−ジクロロ
−S−トリアジン・ナトリウム塩 60mg/m2 界面活性剤p−ドデシルベンゼンスルホン酸ソー
ダ 40mg/m2 処方−(2) 保護層処方 ゼラチン 1g/m2 マツト剤平均粒子径3.0〜4.0μのポリメチルメタ
クリレート 0.05g/m2 界面活性剤p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナト
リウム 0.03g/m2 ゼラチン硬化剤2−ヒドロキシ−4.6−ジクロロ
−S−トリアジン・ナトリウム塩 0.01g/m2 処方−(3) バツク層処方 ゼラチン 5g/m2 ゼラチン硬化剤2−ヒドロキシ−4.6−ジクロロ
−S−トリアジン・ナトリウム塩 0.1g/m2 マツト剤* 0.03g/m2 ポリマーラテツクス** 50g/100gゼラチン 染料*** 0.3g/m2 * 保護層と同じもの ** ハロゲン化銀乳剤層と同じもの *** 下記の染料(1):(2):(3)=1:1:1の
混合物 得られた8種類の写真感材について、フイルム
支持体と写真乳剤層との接着の評価を行つた。 組成 1 〔〕 ブタジエン−スチレン共重合体ラテツク
ス(固型分43%、ブタジエン/スチレン重量
比=32/68) 13c.c. 〔〕 2,4−ジクロロ−6ヒドロキシ−S−
トリアジンナトリウム塩8%溶液 7c.c. 〔〕 ラウリルベンゼンスルホン酸ナトリウム
1%水溶液 1.6c.c. 〔〕 蒸留水 80c.c. 組成 2 〔〕〜〔〕は組成1と同じ メタノール1%溶液 1c.c. 〔〕 蒸留水 79c.c. 組成 3 〔〕〜〔〕は組成1と同じ メタノール1%溶液 0.5c.c. メタノール1%溶液 0.5c.c. 〔〕 蒸留水 79c.c. 組成 4 〔〕〜〔〕は組成1と同じ メタノール1%溶液 1c.c. 〔〕 79c.c. 組成 5 〔〕〜〔〕は組成1と同じ メタノール1%溶液 1c.c. 〔〕 蒸留水 79c.c. 組成 6 〔〕〜〔〕は組成1と同じ メタノール分散液 1c.c. 〔〕 蒸留水 79c.c. 組成 7 〔〕〜〔〕は組成1と同じ 〔〕 蒸留水 79c.c. 組成 8 〔〕〜〔〕は組成1と同じ 〔〕 蒸留水 79c.c.
後の接着力テストは3〜5mm間隔に縦横6本の切
り目をナイフでいれ、5×5個のます目を作り、
ここにテープを付着させてはがし、剥離した乳剤
層のます目の数をかぞえる。ます目の数が0のも
のをAクラス1〜2のものA′クラス、3〜4の
ものをBクラス、これ以下をCクラスとする。 処理液中での接着力テストは、乳剤塗布ベース
の末端を指で強く15回くり返しこすり、末端より
剥離した長さが0mmをAクラス、1〜2mmを
A′クラス、2〜4mmをBクラス、これ以下をC
クラスとする。 処理液として現像液にはLDS−715(富士写真
フイルム(株)製)を定着液にはLF−308(富士写真
フイルム(株)製)を用いて皿現像処理方法によつて
テストした。 これらの評価法において、写真材料として使用
できるものはA〜A′クラスである。 〔下塗液の腐敗性のテスト方法〕 下塗液を調製後、23℃50%RHの培養セル中に
放置し1週間後の微生物の発生の有無と臭気を確
認した。 〔帯電防止性の評価方法〕 下塗されたベース表面の表面電気抵抗を23℃65
%RHにて21時間放置後、同一条件下で測定す
る。 実施例 1 二軸延伸された厚さ100μのポリエチレンテレ
フタレートフイルム上に、コロナ放電処理を行な
い、下記の組成より成る第1の下塗液を塗布量が
約6c.c./m2となる様にワイヤーバーコーターによ
り塗布し、140℃にて1分間乾燥した。次に反対
面にも、同様にして第1の下塗層を塗布した。 これらの下塗液については、培養セルにて微生
物の発生の有無と臭気を確認した。 次いでこれらの第1下塗層上に1%ゼラチン溶
液を約10c.c./m2となる様にワイヤーバーコーター
により両面塗布し、140℃にて1分間乾燥した。
このフイルムについて帯電防止性を表面電気抵抗
の測定により評価した。 次に8種類の被覆フイルムの一方の側に下記処
方(1)のハロゲン化銀乳剤層を乾燥厚さ6.0μ塗布銀
量5.0g/m2になるように塗布した。さらに該ハ
ロゲン化銀乳剤層上に下記処方(2)の保護層を塗布
し、この反対側には下記処方(3)に従つてゼラチン
パツク層を乾燥厚さ5μになるように塗布し、8
種類の写真感材を作製した。 処方−(1) ハロゲン化銀乳剤層処方 ゼラチン 5g/m2 塩沃臭化銀(Cl:80モル% Br:19.5モル%
I:0.5モル%) 塩化金酸 0.1mg/m2 ポリエチルアクリレートラテツクス(米国特許第
3525620号明細書実施例3で用いているのと同じ)
1.5g/m2 増感色素3−アリル−5−〔2−(1−エチル)−
4メチル−2テトラゾリン−5イリデン−エチリ
デン〕ローダニン 6mg/m2 カブリ防止剤4−ヒドロキシ−6−メチル−1,
3,3a−7−ソトラザインデン 30mg/m2 ポリオキシエチレン化合物 20mg/m2 ゼラチン硬化剤2−ヒドロキシ−4.6−ジクロロ
−S−トリアジン・ナトリウム塩 60mg/m2 界面活性剤p−ドデシルベンゼンスルホン酸ソー
ダ 40mg/m2 処方−(2) 保護層処方 ゼラチン 1g/m2 マツト剤平均粒子径3.0〜4.0μのポリメチルメタ
クリレート 0.05g/m2 界面活性剤p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナト
リウム 0.03g/m2 ゼラチン硬化剤2−ヒドロキシ−4.6−ジクロロ
−S−トリアジン・ナトリウム塩 0.01g/m2 処方−(3) バツク層処方 ゼラチン 5g/m2 ゼラチン硬化剤2−ヒドロキシ−4.6−ジクロロ
−S−トリアジン・ナトリウム塩 0.1g/m2 マツト剤* 0.03g/m2 ポリマーラテツクス** 50g/100gゼラチン 染料*** 0.3g/m2 * 保護層と同じもの ** ハロゲン化銀乳剤層と同じもの *** 下記の染料(1):(2):(3)=1:1:1の
混合物 得られた8種類の写真感材について、フイルム
支持体と写真乳剤層との接着の評価を行つた。 組成 1 〔〕 ブタジエン−スチレン共重合体ラテツク
ス(固型分43%、ブタジエン/スチレン重量
比=32/68) 13c.c. 〔〕 2,4−ジクロロ−6ヒドロキシ−S−
トリアジンナトリウム塩8%溶液 7c.c. 〔〕 ラウリルベンゼンスルホン酸ナトリウム
1%水溶液 1.6c.c. 〔〕 蒸留水 80c.c. 組成 2 〔〕〜〔〕は組成1と同じ メタノール1%溶液 1c.c. 〔〕 蒸留水 79c.c. 組成 3 〔〕〜〔〕は組成1と同じ メタノール1%溶液 0.5c.c. メタノール1%溶液 0.5c.c. 〔〕 蒸留水 79c.c. 組成 4 〔〕〜〔〕は組成1と同じ メタノール1%溶液 1c.c. 〔〕 79c.c. 組成 5 〔〕〜〔〕は組成1と同じ メタノール1%溶液 1c.c. 〔〕 蒸留水 79c.c. 組成 6 〔〕〜〔〕は組成1と同じ メタノール分散液 1c.c. 〔〕 蒸留水 79c.c. 組成 7 〔〕〜〔〕は組成1と同じ 〔〕 蒸留水 79c.c. 組成 8 〔〕〜〔〕は組成1と同じ 〔〕 蒸留水 79c.c.
【表】
なおフイルム支持体と乳剤層及びバツク層との
接着は乳剤塗布後、処理後、処理液中とも組成1
〜8の場合について、全て、Aクラスであつた。 実施例 2 二軸延伸された厚さ100μのポリエチレンテレ
フタレートフイルム上に、コロナ放電処理を行な
い、実施例1の組成1の下塗液を塗布量が約6
c.c./m2となる様にワイヤーバーコーターにより塗
布し、140℃にて1分間乾燥した。次に反対面に
も同様にして第1の下塗層を塗布した。 次いで、これらの第1下塗層上に下記組成より
成る第2の下塗液を約10c.c./m2となる様にワイヤ
ーバーコーターにより両面塗布し、140℃にて1
分間乾燥した。この第2の下塗液については、培
養セルにて微生物の発生の有無と臭気を確認し
た。更にこれらのフイルムについて帯電防止性を
評価した。 次いで、実施例1と同様に片面にハロゲン化銀
乳剤層と保護層を、反対側にゼラチンバツク層を
塗布して、フイルム支持体と写真乳剤層との接着
を評価した。 組成 1 〔〕 ゼラチン 1g 〔〕 蒸留水 99c.c. 組成 2 〔〕 ゼラチン 1g メタノール1%溶液 1c.c. 〔〕 蒸留水 98c.c. 組成 3 〔〕 ゼラチン 1g メタノール1%溶液 0.5c.c. メタノール1%溶液 0.5c.c. 〔〕 蒸留水 98c.c. 組成 4 〔〕 ゼラチン 1g メタノール1%分散液 1c.c. 〔〕 98c.c. 組成 5 〔〕 ゼラチン 1g メタノール1%溶液 1c.c. 〔〕 蒸留水 98c.c.
接着は乳剤塗布後、処理後、処理液中とも組成1
〜8の場合について、全て、Aクラスであつた。 実施例 2 二軸延伸された厚さ100μのポリエチレンテレ
フタレートフイルム上に、コロナ放電処理を行な
い、実施例1の組成1の下塗液を塗布量が約6
c.c./m2となる様にワイヤーバーコーターにより塗
布し、140℃にて1分間乾燥した。次に反対面に
も同様にして第1の下塗層を塗布した。 次いで、これらの第1下塗層上に下記組成より
成る第2の下塗液を約10c.c./m2となる様にワイヤ
ーバーコーターにより両面塗布し、140℃にて1
分間乾燥した。この第2の下塗液については、培
養セルにて微生物の発生の有無と臭気を確認し
た。更にこれらのフイルムについて帯電防止性を
評価した。 次いで、実施例1と同様に片面にハロゲン化銀
乳剤層と保護層を、反対側にゼラチンバツク層を
塗布して、フイルム支持体と写真乳剤層との接着
を評価した。 組成 1 〔〕 ゼラチン 1g 〔〕 蒸留水 99c.c. 組成 2 〔〕 ゼラチン 1g メタノール1%溶液 1c.c. 〔〕 蒸留水 98c.c. 組成 3 〔〕 ゼラチン 1g メタノール1%溶液 0.5c.c. メタノール1%溶液 0.5c.c. 〔〕 蒸留水 98c.c. 組成 4 〔〕 ゼラチン 1g メタノール1%分散液 1c.c. 〔〕 98c.c. 組成 5 〔〕 ゼラチン 1g メタノール1%溶液 1c.c. 〔〕 蒸留水 98c.c.
【表】
なお、フイルム支持体と乳剤層及びバツク層と
の接着は乳剤塗布後、処理後、処理液中とも組成
1〜5の場合について、全て、Aクラスであつ
た。
の接着は乳剤塗布後、処理後、処理液中とも組成
1〜5の場合について、全て、Aクラスであつ
た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 疎水性支持体上に水溶性下塗液あるいは、水
分散性下塗液にて塗設する下塗層を有する写真感
光材料においてその下塗液中に下記物質のうち少
なくとも1種類が添加されている事を特徴とする
写真感光材料。 但し、上記一般式におけるRは水素原子又は
Co+H2o+1(n=1〜20)を表わす。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59229108A JPS61107343A (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | 写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59229108A JPS61107343A (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | 写真感光材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61107343A JPS61107343A (ja) | 1986-05-26 |
| JPH0364052B2 true JPH0364052B2 (ja) | 1991-10-03 |
Family
ID=16886862
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59229108A Granted JPS61107343A (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | 写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61107343A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63198048A (ja) * | 1987-02-13 | 1988-08-16 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 写真用支持体の製造方法 |
| US5008150A (en) * | 1987-10-02 | 1991-04-16 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Photographic support with an undercoating layer on a resin coated base sheet |
| JPH03182740A (ja) * | 1989-12-13 | 1991-08-08 | Konica Corp | 処理変動性に対して安定なハロゲン化銀写真感光材料 |
-
1984
- 1984-10-31 JP JP59229108A patent/JPS61107343A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61107343A (ja) | 1986-05-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |