JPH01189993A - プリント配線板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、プリント配線板の製造方法に関し、詳しくは
高密度配線されたプリント配線板の製造方法に関するも
のである。

（従来の技術） 近年の電子機器の高性能化により、プリント配線板の単
位面積当りに実装される電子部品等の部品数が増加して
きており、プリント配線板の片面上だけでの配線が不可
能となり、プリント配線板の両面に配線を形成して多数
の部品が実装されるようになってきた。さらには、この
プリント配線板にあっては、その配線が高密度化及び多
層化され、しかも各層間の配線を結ぶ必要から、部品実
装には使用しないが、プリント配線板の両面間の導通な
とるための小径でランドの導体幅の小さいスルーホール
が使用されるようになった。

従来、プリント配線板の製造方法としては、テンティン
グ法及び半田剥離法が知られている。また、最近ではテ
ンティング法を応用する無電解銅めっきによる部分めっ
き法が注目されている。

テンティング法は、鋼張り積層板を出発材料としく第２
図の工程（ａ）　）　、　ドリルもしくはパンチングを
用いて所望の位置にスルーホールを形成しく第２図の工
程（ｂ））、無電解銅めっき及び電解銅めっきを用いて
スルーホール内を含む前記基板全面に銅めっきを施しく
第２図の工程（ｃ）　）　、感光性のドライフィルムを
前記基板表面にラミネートしく第２図の工程（ｄ））、
導体回路部及びスルーホールを含むランド部に耐エツチ
ングマスクが形成されるように感光・現像を行い（第２
図の工程（ｅ）　）　、エツチング液を用いて露出して
いる銅を溶解除去しく第２図の工程（ｆ））前記マスク
を剥離除去しく第２図の工程（ｇ）　）　、さらに、ソ
ルダーレジストを形成しく第２図の工程（ｈ））、プリ
ント配線板を製造するものである。

しかしなから、このテンティング法は、感光性のドライ
フィルムをスルーホール上に残し、これを耐エツチング
マスクとして使用するため、当該エツチングマスクには
、これかエツチング時に剥離しないように一定幅以上の
のりしろが必要である。ところが、プリント配線板上の
配線が１述したように高密度化されてきているため、ミ
ニバイアホール等のランド導体幅の小さいスルーホール
の形成は困難である。しかもこのテンティング法では、
エツチング工程の前に全面に所望厚みのめっきを施すの
で、厚い導体をエツチングすることになりエツチング精
度か悪く、また長時間のエツチングに耐えるにはトライ
フィルムの厚みが４０ｇｍ以ト必要であるため、トライ
フィルムの解像度が悪くなり、プリント配線板上への高
密度配線（パターン幅１００ｇｍ以下）の形成は難しか
った。

一方、上述のテンティング法に対して半田剥離法がある
。この半田剥離法は、テンティング法と同様、鋼張り積
層板を出発材料としく第３図の工程（ａ）　）　、　ド
リルもしくはパンチングを用いて所望の位置にスルーホ
ールを形成しく第３図の工程（ｂ）　）　、無電解銅め
っき及び電解銅めっきを施しく第３図の工程（ｃ）　）
　、感光性トライフィルムを基板表面にラミネートしく
第３図の工程（ｄ））、導体回路及びスルーホールを含
むランド部以外に耐めっきマスクが形成されるように露
光・現像を行い（第３図の工程（ｃ）　）　、　露出し
ている銅めっき−Ｈに半田めっきを行い（第３図の工程
（ｒ））、マスクを剥離除去しく第３図の工程（ｇ）　
）　、アルカリエツチング液を用いて露出している銅を
溶解除去しく第３図の工程（ｈ）　）　、その後半田め
っきを剥離除去して（第３図の工程（ｉ））さらにソル
ダーレジストを形成しく第３図の工程（ｊ））てプリン
ト配線板を製造する。

このような半田剥離法は、半田めっきでスルーホール内
の導体部を保護するため、ミニバイアホールの形成は可
能であるが、半田めっきを施した後に半田めっきを剥離
するという工程がどうしても必要になり、このための工
程か上記のテンティング法に比較して２工程分長くなり
、非常に無駄である。

また、これらのサブトラクティブ法では、電解銅めっき
によりスルーホールめっきをするため基板表面の導体厚
みがどうしてもばらつき、エツチング精度が悪く、また
導体厚みにばらつきがあるためにソルダーレジスト田圃
の精度も悪く、ファインパターンを有するプリント基板
の製造方法には信頼性が低いため、非常に不向きであっ
た。

これらの従来方法の他に、最近無電解鋼めっきによる部
分めっき法がある。この部分めっき法も、銅張り積層板
を出発材料としく第４図の工程（ａ））、　　ドリルも
しくはパンチングを用いて所望の位置にスルーホールを
形成しく第４図の工程（ｂ））、活性化（触媒付与）ま
たは無電解鋼めっき（２ｇｍ〜１０．ｗｍ）を全面に施
しく第４図の工程（Ｃ））、感光性のドライフィルムを
前記基板表面にラミネートしく第４図の工程（ｄ））て
、導体回路部及びスルーホールを含むランド部に耐エツ
チングマスクが形成されるように露光・現像を行ない（
第４図の工程（ｅ））、エツチング液を用いて露出して
いる銅を溶解除去しく第４図の工程（ｆ））前記マスク
を剥膜除去しく第４図の工程（ｇ））、耐めっきソルダ
ーレジストインクをスルーホール部及び銅めっき所望部
を除いて印刷・硬化させ（第４図の工程（ｈ））、その
後、無電解化学鋼めっきでスルーホール部及び銅めっき
所望部だけに、所望厚み施しく第４図の工程（ｉ））、
プリント配線板を製造する。

このような部分めっき法は、従来のテンティング法や半
田剥離法に比べめっき厚がばらつく電解銅めっきを行な
わないため、導体厚みか均一となり、さらにメツキ厚み
が薄いためソルダーレジストの印刷性か向上する利点を
持っている。しかしながら、ミニバイアスルーホール（
導通のための小穴径・小ランド径のスルーホール）を有
する高密度プリント配線板にソルダーレジストを印刷す
る場合、従来の印刷精度（２００ルｍ程度）ではミニバ
イアスルーホール部にソルダーレジストインクかかかる
ため、次工程の無電解銅めっき工程でミニバイアスルー
ホール壁やそのラント部にめっきされない部分か発生す
る。また、前記のソルダーレジストの代わりに、位置精
度がよい従来の感光性ツルターレジスト（写真焼は法）
を用いても、耐化学銅めっき性がないため、ソルダーレ
ジストは被覆した銅導体−Ｅで剥離する。この問題のた
め、部分めっき法の前記の利点か打ち消せられ、高密度
配線プリント基板の製造方法には適さない。

（発明か解決しようとする課題） 以上述べたように、従来のテンティング法やハンダ剥離
法、あるいは部分めっき法によっては、高密度配線した
プリント基板（ミニバイアスルーホール含）を製造する
ことは困難である。半田剥離法にあっては、ミニバイア
ホールの形成は可能であるか、工程が長く複雑となり、
−度めっきしたものを剥離するため、非常に無駄が多か
ワた。

しかもテンティング法では、エツチング工程の前に所望
厚みをめっきするため工・ンチング精度が悪く、半田剥
離法ではパターンめっきを施すため、ソルダーレジスト
インクの印刷性か悪くファインパターンを有するプリン
ト配線板の！２造には向かなかった。

また、上記方法よりエツチング精度や印刷性が向上する
部分めっき法は、ファインパターンを有するプリント配
線板に有効であるけれど、印刷工程での前記問題で製造
できなかった。

本発明の目的は、従来のテンティング法やハンダ剥離法
よりファインパターンを有するプリント配線板を製造す
るのに、有利な部分めっき法における上記欠点を解決し
て、高密度プリント配線板を安定して製造する方法を提
供するものである。

（課題を解決するための手段） 本発明は、従来技術の課題を解決し、上記目的を達成す
べくなされたものである。

これらの問題点を解決するために本発明が採った手段は
、 ｒ下記の（ａ）〜（ｊ）の各工程を含むことを特徴とす
るプリント配線板の製造方法： （ａ）銅張積層板等の基板を要する工程：（ｂ）前記基
板の所望位置にスルーホールを形成する工程： （ｃ）基板全面に無電解鋼めっきを施す工程：（ｄ）前
記基板表面に感光性樹脂組成物からなるレジスト被膜を
形成する工程： （ｅ）前記スルーホールを含むランド及び導体回路に写
真焼き付け法によりマスクを形成する工程： （ｆ）エツチング液を用いて前記レジスト被膜によるマ
スク部以外の鋼を溶解除去する工程：（ｇ）前記レジス
ト被膜な剥離し所望の回路パターン形成を形成する工程
： （ｈ）耐化学銅めっきソルダーレジストを、スルーホー
ルランド部あるいは部品搭載等を行なうパッド部にクリ
アランスを設けて前記基板上に印刷形成する工程； （ｉ）写真焼き付け型ソルダーレジストを、前記スルー
ホールランド部あるいは前記パッド部の周囲に形成する
工程： ＜ｊ）前記スルーホールランド部を含むスルーホール部
及び銅めっき所望部に無電解銅めっきを所望の厚み施す
工程。１ である。

この本発明の構成を第１図を用いて詳しく説明すると、 （ａ）まず、ｔＲ張積層板を出発材料として用意しくｆ
ｆ１１図の工程（ａ））、 （ｂ）この基板の所望の位置にドリルもしくはパンチン
グを用いてスルーホールを形成しく第１図の工程（ｂ）
）、 （ｃ）無電解銅めっきを薄＜（２ｕＬｍ　〜ｌｏｇｍ程
度）施しく第１図の工程（Ｃ））、 （ｄ）基板全面に、感光性樹脂組成からなるレジスト被
膜を形成させ（第１図の工程（ｄ））、（ｅ）スルーホ
ールを含むランド部及び導体回路に耐エツチングマスク
が形成されるように露光・現像を行ない（第１図の工程
（ｅ））、（ｆ）酸性エツチング液を用いて露出してい
る銅を溶解除去しく第１図の工程（ｆ））、（ｇ）さら
にマスクをアルカリ溶液または有機溶剤で剥膜除去しく
第１図の工程（ｇ））、（ｈ）耐めっきソルダーレジス
トをスルーホールランド部あるいは部品搭載等を行なう
パッド部にクリアランスを設けて、めっき所望頂部以外
に印刷し熱硬化させ（第１図の工程（ｈ））、（ｉ）次
に、感光性のソルダーレジストを前記スルーホール部の
穴を除いてそのクリアランス部あるいは部品搭載等を行
なうパッド部のクリアランス部を埋める様に部分的に印
刷しく第１図の工程（ｉ−１））　　、 そのスルーホールランド部あるいは部品搭載等を行なう
パッド部を除き、露光・現像・加熱を行ない、部分的に
ソルダーレジストを形成しく第１図の工程（１−２）　
）、 （ｊ）スルーホールを含むランド部などめっき所望部だ
けに所望厚み部分無電解鋼めっきを施しく第１図のＩ８
！（ｊ））、 プリント配線板を製造する。

即ち、工程（ｃ）のｆｉ電解鋼めっき工程をスルーホー
ル内の導体部を含む基板全面に、薄くめっきを行ない、
感光性樹脂組成からなるレジストよりパターン形成、さ
らに工程（ｈ）と工程（ｉ）の耐めっき用ソルダーレジ
ストインクと感光性ソルダーレジストを用いて、ソルダ
ーレジストを形成してから、工程Ｕ）の無電解銅めっき
をスルーホール内を含むランド部等に部分的に施こし、
プリント配線板を製造したのである。

本発明の実施にあたっては、上記の各工程の内、工程（
ｇ）と工程（ｈ）との順序を逆にして実施できることは
勿論である。

（発明の作用） 本発明が以−ヒのように構成されることによって、以下
のような作用がある。

ファインパターンを形成するのに有利な、部分めっき法
の問題点を、耐めっき用ソルダーレジストと感光性レジ
ストを併用することによって解決した。

すなわち、ミニバイアスルホールな有する高密度プリン
ト配線板にソルダーレジストを印刷する場合、従来の印
刷精度（２００ＩＬｍ程度）ではミニバイアスルーホー
ル部にソルダーレジストインクがかかるため、次工程の
無電解鋼めっき工程でミニバイアスルーホール壁やその
ランド部にめっきされない部分か発生することがあった
。また、前記のソルダーレジストの代わりに、位置精度
か良い従来の感光性ソルダーレジスト（写真焼き付け法
）を用いても、耐化学鋼めっき性がないため、ソルダー
レジストは被覆した鋼導体上で剥離する。しかしながら
、樹脂上では（基板樹脂上またはソルダーレジスト樹脂
上）樹脂同士のため剥離しない特性がある。

そこで、本発明ては、耐めっきソルダーレジストを、ミ
ニバイアスルーホールなどにクリアラレスな設けて形成
した後に、感光性ソルダーレジストを用いて、位置精度
よく、ミニバイアスルーホールなどに接する様に形成さ
せることで、部分めっき法の問題点となる印刷のズレ問
題を解消したのである。

（実施例） 実施例１ 第１図に示すように、ガラスエポキシ銅張り積層板＜１
）にドリルを用いて所望の位置のスルーホール（２）を
形成する。無電解鋼めっきを用いて、スルーホール（２
）内を含む基板全面に厚さ５ｇｍの銅めっき（３）を施
す。次に、アジド化合物を含有するアニオン型の感光性
レジスト材料を満たした層に、基板を浸漬して陽極とし
、直流５０Ｖで２分間電析を行ない、１００℃で５分間
乾燥させ膜厚５ＩＬｍ程度の感光性レジスト（４）に対
して露光・現像を行ない、スルーホール（２）の導体部
、ランド部、及び導体回路部に耐エツチングマスクを形
成し、塩化第二銅エツチング液を用いて露光している銅
を溶解除去する。５０″ｃ、ｉｏ％の水酸化ナトリウム
水溶液でマスクを除去する。

これに耐めっきソルダーレジストインク（５）を前記基
板に、ミニバイアスルーホール部にクリアランスを設け
、めワき所望部以外にスクリーン印刷し熱硬化させる。

（ランド径０．７φ、穴径０゜４φ、クリアランス０．
８φｍｍ）。

さらに、光硬化型ソルダーレジスト（６）をミニバイア
スルーホール部の穴を除いて上記のクリアランスを埋め
る様に１−一ナツ状（線幅０．２５ｍ　ｍ　）にスクリ
ーン印刷し、ミニバイアスルーホール部のラント部以外
か残るように露光現像し、そのあとＵＶキュアーをする
。そして、化学銅めっき（７）を２５ＪＬｍ施し、プリ
ント配線板を完成させた。

見見±ｌ 多層配線板の内層上にプリプレグが積層された基材（１
）にドリルを用いて、スルーホール（２）内を含む基板
全面に厚さ３ルｍの銅めっきを施す。

次に、実施例１と同様にして導体回路及び、スルーホー
ルを含むランド部に耐エツチングマスクか形成されるよ
うに露光・現像を行ない、エツチング液を用いて露出し
ている銅を溶解除去し、さらに前記マスクを剥脱除去す
る。

光硬化型ソルダーレジスト（５）をミニバイアスルーホ
ール部の穴を除いてドーナツ状（線幅０゜２５　ｍ　ｍ
　）にスクリーン印刷し、ミニバイアスルーホール部の
ランド部以外か残るように露光現像し、そのあとＵＶキ
ュアーをする。これに耐めっきソルダーレジストインク
（５）を前記基板にミニバイアスルーホール部にクリア
ランスを設け、めっき所望部以外にスクリーン印刷し熱
硬化させる（ランド径０．６φ、穴径０．３φ、久リア
ランス０．７φｍ　ｍ　）。そして化学鋼めっき（７）
を２５７ｚｍ施し、プリント配線位置を完成させた。

（発明の効果） 以上詳述した通り、本発明にあっては、上記実施例に例
示した如く、部分めっき法に耐めっきソルダーレジスト
と感光性ソルダーレジストを併用したところに特徴があ
る。この部分めっき法は、めっき厚がばらつく電解銅め
っきを行なわないため、導体厚みが均一となり、さらに
めっき厚みが薄いためソルダーレジストの印刷性が向ト
する利点をもっている。さらに、上記２種類のソルダー
レジストを併用することで、印刷の位置精度を向ヒさせ
た。

また、パターン形成工程で電着レジストを用いれば、高
密度プリント配線板の製造において、なお−層効果を有
するものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係るプリント配線板の製造方法を順を
追って示す部分拡大図、第２図は従来のテンティング法
によるプリント配線板の製造方法を順を追って示す部分
拡大図、第３図は従来の半田剥離法によるプリント配線
板の製造方法を順を追って示す部分拡大図、第４図は部
分めっき法を順を追って示す部分拡大断面図である。 符　　号　　の　　説　明 １−・−銅張り積層板、２・・・スルーホール、３・・
・銅めっき、４・・・感光性レジスト、５・・・ソルダ
ーレジスト、６・−・ソルダーレジスト２．７・・・部
分鋼めっき。　　　　　　　　　　　　　　　　以　上
第１図 （ａ）！村 第４図 （ａ）基ｔオ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）下記の（ａ）〜（ｊ）の各工程を含むことを特徴と
   するプリント配線板の製造方法； （ａ）銅張積層板等の基板を用意する工程；（ｂ）前記
   基板の所望の位置にスルーホールを形成する工程； （ｃ）基板全面に無電解銅めっきを施す工程；（ｄ）前
   記基板表面に感光性樹脂組成物からなるレジスト被膜を
   形成する工程； （ｅ）前記スルーホールを含むランド及び導体回路に写
   真焼き付け法によりマスクを形成する工程； （ｆ）エッチング液を用いて、前記レジスト被膜による
   マスク部以外の銅を溶解除去する工程；（ｇ）前記レジ
   スト被膜を剥離し所望の回路パターンを形成する工程； （ｈ）耐化学銅めっきソルダーレジストをスルーホール
   ランド部あるいは部品搭載等を行うパッド部にクリアラ
   ンスをもうけて前記基板上に印刷形成する工程； （ｉ）写真焼き付け型ソルダーレジストを、前記スルー
   ホールランド部あるいは前記パッド部の周囲に形成する
   工程； （ｊ）前記スルーホールランド部を含むスルーホール部
   及び銅めっき所望部に無電解銅めっきを所望の厚み施す
   工程。