JPS6165878A - 5−0−置換−2−デオキシキシロノ−1,4−ラクトンおよびその製造方法 - Google Patents
5−0−置換−2−デオキシキシロノ−1,4−ラクトンおよびその製造方法Info
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- JPS6165878A JPS6165878A JP59187154A JP18715484A JPS6165878A JP S6165878 A JPS6165878 A JP S6165878A JP 59187154 A JP59187154 A JP 59187154A JP 18715484 A JP18715484 A JP 18715484A JP S6165878 A JPS6165878 A JP S6165878A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、第1式で示される5−〇−置換−2−デオ
キシキシロノ−1,4−ラクトンおよびその製造方法に
関し、 (ただし、第1式中、Rは容易に脱離可能な保護基であ
る。) さらに詳しくは、たとえば香料等の合成中間体に有用な
5−〇−置換−2−デオキシキシロノ−1.4−ラクト
ンおよびその製造方法に関する。
キシキシロノ−1,4−ラクトンおよびその製造方法に
関し、 (ただし、第1式中、Rは容易に脱離可能な保護基であ
る。) さらに詳しくは、たとえば香料等の合成中間体に有用な
5−〇−置換−2−デオキシキシロノ−1.4−ラクト
ンおよびその製造方法に関する。
[従来の技術]
従来、光学活性を有する5−ヒドロキシメチル−(5H
)−フラン−2−オンおよびその誘導体は、恰好なキラ
ル形成構造を有するにもかかわらず、その合成が困難な
ために、限られたある種の天然物の合成にしか使用され
ていない、今までに、キラルな5−アルコキシメチル−
(5H)−フラン−・2−オンについての3つの合成法
が報告されている[たとえば、 K、Koga et
al、 、 J。
)−フラン−2−オンおよびその誘導体は、恰好なキラ
ル形成構造を有するにもかかわらず、その合成が困難な
ために、限られたある種の天然物の合成にしか使用され
ていない、今までに、キラルな5−アルコキシメチル−
(5H)−フラン−・2−オンについての3つの合成法
が報告されている[たとえば、 K、Koga et
al、 、 J。
Chew、 Sac、 Cbem、 Cammu
n、 (1975) 1352]。
n、 (1975) 1352]。
[発明が解決しようとする問題点]
5−フルコキシメチル−(5H)−フラン−2−オンの
合成は、特別なエナンチオマーのみが有効なL−グルタ
ミン酸やD−リポノラクトンのような天然の光学活性前
駆体を必要とする。したがって、天然物の合成に有用な
5−ヒドロキシメチル−(5H)−フラン−2−オンお
よびその誘導体を、光学活性のない簡単な構造の化合物
から簡易に合成する方法は、今だ確立されていないのが
現状である。
合成は、特別なエナンチオマーのみが有効なL−グルタ
ミン酸やD−リポノラクトンのような天然の光学活性前
駆体を必要とする。したがって、天然物の合成に有用な
5−ヒドロキシメチル−(5H)−フラン−2−オンお
よびその誘導体を、光学活性のない簡単な構造の化合物
から簡易に合成する方法は、今だ確立されていないのが
現状である。
[問題点を解決するための手段]
この発明者らは、前記事情に基ずき、簡単な化合物、特
に光学活性構造をもたない化合物を原料にして、天然物
たとえば香料等の合成に有用な5−ヒドロキシメチル−
(5H)−フラン−2−オンおよびその誘導体の簡易な
合成法について鋭意研究した。その結果、天然のL−酒
石酸から簡単に合成することのできる(Z)−4−ベン
ジルオキシ−2−ラテン−1−オールを出発原料にして
、(S)−5−ベンジルオキシメチル−(5H)−フラ
ン−2−オン等を合成するのに必要な(D)−5−ベン
ジル−2−デオキシキシロノ−1.4−ラクトンを容易
に合成することができることを見出してこの発明に到達
した。
に光学活性構造をもたない化合物を原料にして、天然物
たとえば香料等の合成に有用な5−ヒドロキシメチル−
(5H)−フラン−2−オンおよびその誘導体の簡易な
合成法について鋭意研究した。その結果、天然のL−酒
石酸から簡単に合成することのできる(Z)−4−ベン
ジルオキシ−2−ラテン−1−オールを出発原料にして
、(S)−5−ベンジルオキシメチル−(5H)−フラ
ン−2−オン等を合成するのに必要な(D)−5−ベン
ジル−2−デオキシキシロノ−1.4−ラクトンを容易
に合成することができることを見出してこの発明に到達
した。
すなわち、この発明の目的は、たとえば5−ヒドロキシ
メチル−(5H)−フラン−2−オンの合成原料である
5−〇=置換−2−デオキシキシロノ−1,4−ラクト
ンを提供することにあり、さらにこの発明の他の目的は
、簡単な構造の原料化合物から5−〇−置換−2−デオ
キシキシロノ−1,4−ラクトンを簡易に合成する方法
を提供することにある。
メチル−(5H)−フラン−2−オンの合成原料である
5−〇=置換−2−デオキシキシロノ−1,4−ラクト
ンを提供することにあり、さらにこの発明の他の目的は
、簡単な構造の原料化合物から5−〇−置換−2−デオ
キシキシロノ−1,4−ラクトンを簡易に合成する方法
を提供することにある。
この発明に、係る5−0−置換−2−デオキシキシロノ
−1.4−ラクトンは、第2式で示されるD一体の(D
)−5−0−置換−2−デオキシキシロノ−1,4−ラ
クトンと第3式で示されるL一体の(L)−5−0−置
換−2−デオキシキシロノ−1,4−ラクトンとを含み
、いずれも新規化合物である。
−1.4−ラクトンは、第2式で示されるD一体の(D
)−5−0−置換−2−デオキシキシロノ−1,4−ラ
クトンと第3式で示されるL一体の(L)−5−0−置
換−2−デオキシキシロノ−1,4−ラクトンとを含み
、いずれも新規化合物である。
R○
(ただし、第2式および第3式中、Rは還元等により容
易に脱離可能な保護基であり、たとえばベンジル基、な
らびに、たとえばp−メトキシベンジル基、p−ニトロ
ベンジル基、ベンツヒドリル基、トリチル基およびβ、
β、β−トリクロロエチル基のような置換ベンジル基等
である。)この5−0−置換−2−デオキシキシロノ−
1.4−ラクトンたとえば5−0−ベンジル−2−デオ
キシキシロノ−1.4−ラクトンのD一体は、4−ベン
ジルオキシ−(25,3R)−エポキシブタン−1−オ
ール[化合物(1)]から、また]5−0−ベンジルー
2−デオキシキシロノ−14−ラクトンのL一体は、4
−ベンジルオキシ−(2R,3S)−エポキシブタン−
1−オールまたは4−ベンジルオキシ−(2R,3R)
−エポキシブタン−1−オールからいずれも同様に次の
ようにして合成することができる。説明の便宜のために
D一体の合成法につき次に説明する。
易に脱離可能な保護基であり、たとえばベンジル基、な
らびに、たとえばp−メトキシベンジル基、p−ニトロ
ベンジル基、ベンツヒドリル基、トリチル基およびβ、
β、β−トリクロロエチル基のような置換ベンジル基等
である。)この5−0−置換−2−デオキシキシロノ−
1.4−ラクトンたとえば5−0−ベンジル−2−デオ
キシキシロノ−1.4−ラクトンのD一体は、4−ベン
ジルオキシ−(25,3R)−エポキシブタン−1−オ
ール[化合物(1)]から、また]5−0−ベンジルー
2−デオキシキシロノ−14−ラクトンのL一体は、4
−ベンジルオキシ−(2R,3S)−エポキシブタン−
1−オールまたは4−ベンジルオキシ−(2R,3R)
−エポキシブタン−1−オールからいずれも同様に次の
ようにして合成することができる。説明の便宜のために
D一体の合成法につき次に説明する。
なお、4−ベンジルオキシ−2,3−エポキシブタン−
1−オールの(2S、3R)一体、(2R,3S)一体
および(2R,3R)一体は、いずれも4−ベンジルオ
キシ−2−ブテン−1−オールのエポキシ化により公知
の方法に従って合成することができる[K、B、5ha
rpleas et a+、」。
1−オールの(2S、3R)一体、(2R,3S)一体
および(2R,3R)一体は、いずれも4−ベンジルオ
キシ−2−ブテン−1−オールのエポキシ化により公知
の方法に従って合成することができる[K、B、5ha
rpleas et a+、」。
Org、 Che+*、、土1.1373 (198
2)]。
2)]。
先ず、4−べ/ジルオキシー(2S、3R)−エポキシ
ブタン−1−オールにシアン化アルカリたとえばシアン
化ナトリウムとを含水アルコール中で反応させて、第4
式で示される(D)−5−0−ベンジル−2−デオキシ
キシロ酸とする。
ブタン−1−オールにシアン化アルカリたとえばシアン
化ナトリウムとを含水アルコール中で反応させて、第4
式で示される(D)−5−0−ベンジル−2−デオキシ
キシロ酸とする。
この場合、含水アルコール中でシアン化アルカリを化合
物(1)に作用させると、ペイン(Payne)転移が
起り、1位炭素原子にシアノ基が置換し。
物(1)に作用させると、ペイン(Payne)転移が
起り、1位炭素原子にシアノ基が置換し。
次いで加水分解が生起して第4式で示される(D)−5
−0−ベンジル−2−デオキシキシロ酸が生じると考え
られる。
−0−ベンジル−2−デオキシキシロ酸が生じると考え
られる。
前記含水アルコールに使用するアルコールとしては、た
とえばメチルアルコール、エチルアルコール等の低級ア
ルコールが挙げられる。
とえばメチルアルコール、エチルアルコール等の低級ア
ルコールが挙げられる。
前記シアン化アルカリとしては、たとえばシアン化ナト
リウム、シアン化カリウム等が挙げられる。
リウム、シアン化カリウム等が挙げられる。
化合物(1)を第4式で示されるCD)−5−0−ベン
ジル−2−デオキシキシロ酸に変換する際の反応操作と
して、たとえば、40%の含水アルコール中で3モル当
量のシアン化ナトリウムと1モル当量の化合物(1)と
を、たとえば8時間還流することが挙げられる。このよ
うにすると、化合物(1)につき、ペイン転移反応およ
び1位炭素原子での置換反応が順次に進行し、得られる
シアナミドが直ちに加水分解して第4式で示される(D
)−5−0−ベンジル−2−デオキシキシロ酸が生じる
こととなる。
ジル−2−デオキシキシロ酸に変換する際の反応操作と
して、たとえば、40%の含水アルコール中で3モル当
量のシアン化ナトリウムと1モル当量の化合物(1)と
を、たとえば8時間還流することが挙げられる。このよ
うにすると、化合物(1)につき、ペイン転移反応およ
び1位炭素原子での置換反応が順次に進行し、得られる
シアナミドが直ちに加水分解して第4式で示される(D
)−5−0−ベンジル−2−デオキシキシロ酸が生じる
こととなる。
かくして得られる、第4式で示される(D)−5−0−
ベンジル−2−デオキシキシロ酸を精製することなくこ
れに適宜の溶媒を加えて共沸還流すると、脱水反応によ
り、目的とする(D)−5−〇−ベンジルー2−デオキ
シキシロノ−1.4−ラクトンが得られる。
ベンジル−2−デオキシキシロ酸を精製することなくこ
れに適宜の溶媒を加えて共沸還流すると、脱水反応によ
り、目的とする(D)−5−〇−ベンジルー2−デオキ
シキシロノ−1.4−ラクトンが得られる。
前記溶媒として、ベンゼン、トルエン、キシレン等を使
用することができる。
用することができる。
5−0−ベンジル−2−デオキシキシロノ−1.4−ラ
クトンのL一体についても、前記と同様にして合成する
ことができる。
クトンのL一体についても、前記と同様にして合成する
ことができる。
〔発明の効果]
この発明に係る5−0−置換−2−デオキシキシロノ−
1.4−ラクトンは、香料等の合成に有用な5−ヒドロ
キシメチル−(5H)−フラン−2−オンを合成する原
料として有用である。この5−〇−置換−2−デオキシ
キシロノ−1.4−ラクトンは、これを原料にして筒車
な脱水反応およびたとえばヨウ化水素等の醜処理により
容易に5−ヒドロキシメチル−(5H)−フラン−2−
オンを合成することができる。
1.4−ラクトンは、香料等の合成に有用な5−ヒドロ
キシメチル−(5H)−フラン−2−オンを合成する原
料として有用である。この5−〇−置換−2−デオキシ
キシロノ−1.4−ラクトンは、これを原料にして筒車
な脱水反応およびたとえばヨウ化水素等の醜処理により
容易に5−ヒドロキシメチル−(5H)−フラン−2−
オンを合成することができる。
また、この5−0−置換−2−デオキシキシロノ−1,
4−ラクトンは、簡単に合成可能な4−〇−置換−2.
3−エポキシブタン−1−オールから容易に合成するこ
とができる。
4−ラクトンは、簡単に合成可能な4−〇−置換−2.
3−エポキシブタン−1−オールから容易に合成するこ
とができる。
したがって、この発明によりたとえば香料等に有用な原
料を簡単な化合物から工業的に生産する道が開けたと言
える。
料を簡単な化合物から工業的に生産する道が開けたと言
える。
[実施例]
次に実施例を挙げてこの発明をさらに具体的に説明する
。
。
(実施例1)
4−ベンジルオキシ−(2S、3R)−エポキシブタン
−1−才−ル4.85 g (25mmol )を40
%の含水エタノール4Osl中でシアン化ナトリウム3
.68 g (75mmol )と共に8時間加熱還流
した。その後、得られた生成液から大部分のエタノール
を減圧下に溜去して得た母液をエーテル20m1で2回
洗浄した。得られた水層を濃塩酸で水冷下に注意深(p
H3〜4に調節した。しかる後、酸性の水溶液を塩化メ
チレン30m1で3回抽出操作し、有機層を硫酸マグネ
シウムで乾燥した。溶媒を溜去することにより、油状の
(D)−5−0−ベンジル−2−デオキシキシロ酸4.
06gを得た。
−1−才−ル4.85 g (25mmol )を40
%の含水エタノール4Osl中でシアン化ナトリウム3
.68 g (75mmol )と共に8時間加熱還流
した。その後、得られた生成液から大部分のエタノール
を減圧下に溜去して得た母液をエーテル20m1で2回
洗浄した。得られた水層を濃塩酸で水冷下に注意深(p
H3〜4に調節した。しかる後、酸性の水溶液を塩化メ
チレン30m1で3回抽出操作し、有機層を硫酸マグネ
シウムで乾燥した。溶媒を溜去することにより、油状の
(D)−5−0−ベンジル−2−デオキシキシロ酸4.
06gを得た。
この(D)−5−0−ベンジル−2−デオキシキシロ酸
にトルエン60+slを加え、ディーンスターク(De
an 5tark)の装置により12時間共沸させ、脱
水した0反応液を冷却後、5%の炭酸水素ナトリウム溶
液501で5次いで飽和食塩水501で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を溜去すると、淡焚色の結
晶2.80gが得られた0次いで、n−ヘキサン/エー
テル(1: 1容積比)混合溶媒で再結晶すると、無色
葉片状の(D)−5−0−ベンジル−2−デオキシキシ
ロノ−1.4−ラクトンを得た。収量;2.14g融点
74.6〜75.5℃ [α] D +48.9 [C1,53、エタノー
ル] 元素分析[Cl2H,O,、!:して]計算値:C;6
4.85% H;8.35% 実測値:C;64.55% H;8.50% IR(フィルム、C履−1) ν=3450、178 O NMR(δ、pp層) 2.6 (2H,m) 3.1 (LH,d) 3.8 (2H,d) 4.4 (LH,m) 4.5 (2H,s) ?、3 (5H,s) (実施例2) (D)−5−0−ベンジル−2−デオキシキシロノ−1
,4−ラクトン220mg (1mmol )とトリエ
チルアミン200mg (2mmol )とを含む塩化
メチレン溶液5+wlを0℃に冷却し、撹拌しながらこ
の塩化メチレン溶液にメタンスルホニルクロリド136
mg (1,2mmol )を滴下し、滴下後、同温
度で1時間撹拌した。得られた反応液に塩化メチレン1
0m1を加えた後、水101g1で洗浄し。
にトルエン60+slを加え、ディーンスターク(De
an 5tark)の装置により12時間共沸させ、脱
水した0反応液を冷却後、5%の炭酸水素ナトリウム溶
液501で5次いで飽和食塩水501で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を溜去すると、淡焚色の結
晶2.80gが得られた0次いで、n−ヘキサン/エー
テル(1: 1容積比)混合溶媒で再結晶すると、無色
葉片状の(D)−5−0−ベンジル−2−デオキシキシ
ロノ−1.4−ラクトンを得た。収量;2.14g融点
74.6〜75.5℃ [α] D +48.9 [C1,53、エタノー
ル] 元素分析[Cl2H,O,、!:して]計算値:C;6
4.85% H;8.35% 実測値:C;64.55% H;8.50% IR(フィルム、C履−1) ν=3450、178 O NMR(δ、pp層) 2.6 (2H,m) 3.1 (LH,d) 3.8 (2H,d) 4.4 (LH,m) 4.5 (2H,s) ?、3 (5H,s) (実施例2) (D)−5−0−ベンジル−2−デオキシキシロノ−1
,4−ラクトン220mg (1mmol )とトリエ
チルアミン200mg (2mmol )とを含む塩化
メチレン溶液5+wlを0℃に冷却し、撹拌しながらこ
の塩化メチレン溶液にメタンスルホニルクロリド136
mg (1,2mmol )を滴下し、滴下後、同温
度で1時間撹拌した。得られた反応液に塩化メチレン1
0m1を加えた後、水101g1で洗浄し。
次いで5%の塩酸水溶液5mlで2回洗浄し、さらに飽
和食塩水10m1で2回洗浄した。そして、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧下に溶媒を溜去すると、油状物を
得た。減圧蒸留することにより、(S)−5−ベンジル
オキシメチル−(5H)−フラン−2−オンを190m
g(収率94%)得た。
和食塩水10m1で2回洗浄した。そして、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧下に溶媒を溜去すると、油状物を
得た。減圧蒸留することにより、(S)−5−ベンジル
オキシメチル−(5H)−フラン−2−オンを190m
g(収率94%)得た。
Claims (4)
- (1)第1式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(1) (ただし、第1式中、Rは容易に脱離可能な保護基であ
る、)で示される5−O−置換−2−デオキシキシロノ
−1,4−ラクトン。 - (2)前記Rがベンジル基である特許請求の範囲第1項
に記載の5−O−置換−2−デオキシキシロノ−1,4
−ラクトン。 - (3)4−RO−2,3−エポキシブタン−1−オール
(ただし、Rは容易に脱離可能な保護基である。)とシ
アン化アルカリとを反応させて5−O−R−2−デオキ
シキシロ酸[deoxyxylic acid](ただ
し、Rは容易に脱離可能な保護基である。)を生成し、
次いでこの5−O−R−2−デオキシキシロ酸の分子内
脱水反応を行なうことを特徴とする第1式で示される5
−O−置換−2−デオキシキシロノ−1,4−ラクトン
の製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(1) (ただし、第1式中、Rは容易に脱離可能な保護基であ
る。) - (4)前記Rはベンジル基である特許請求の範囲第3項
に記載の第1式で示される5−O−置換−2−デオキシ
キシロノ−1,4−ラクトンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59187154A JPS6165878A (ja) | 1984-09-06 | 1984-09-06 | 5−0−置換−2−デオキシキシロノ−1,4−ラクトンおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59187154A JPS6165878A (ja) | 1984-09-06 | 1984-09-06 | 5−0−置換−2−デオキシキシロノ−1,4−ラクトンおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6165878A true JPS6165878A (ja) | 1986-04-04 |
Family
ID=16201064
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59187154A Pending JPS6165878A (ja) | 1984-09-06 | 1984-09-06 | 5−0−置換−2−デオキシキシロノ−1,4−ラクトンおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6165878A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5412111A (en) * | 1992-07-23 | 1995-05-02 | Japan Tobacco Incorporated | Method of preparing (3R,4R)-3-hydroxy-4-hydroxymethyl-4-butanolide |
-
1984
- 1984-09-06 JP JP59187154A patent/JPS6165878A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5412111A (en) * | 1992-07-23 | 1995-05-02 | Japan Tobacco Incorporated | Method of preparing (3R,4R)-3-hydroxy-4-hydroxymethyl-4-butanolide |
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