JPH01223752A - モノリシックマイクロ波集積回路の配線構造 - Google Patents
モノリシックマイクロ波集積回路の配線構造Info
- Publication number
- JPH01223752A JPH01223752A JP63048822A JP4882288A JPH01223752A JP H01223752 A JPH01223752 A JP H01223752A JP 63048822 A JP63048822 A JP 63048822A JP 4882288 A JP4882288 A JP 4882288A JP H01223752 A JPH01223752 A JP H01223752A
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- Japan
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- line
- wiring
- integrated circuit
- microwave integrated
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、GaAsモノリシックマイクロ波集積回路
(MM I (1) 、 S i MM I C等のマ
イクロ波帯〜ミリ波帯で動作するモノリシックマイクロ
波集積回路の配線構造に関するものであろう〔従来の技
術〕 第5図〜第7図は、例えば従来のコプレーナ配線を用い
たMMIGの配線部分の拡大図を示すものであり、第5
図は斜視図、第6図は上面図、第7図は、第6図のB−
B’線による断面図である。
(MM I (1) 、 S i MM I C等のマ
イクロ波帯〜ミリ波帯で動作するモノリシックマイクロ
波集積回路の配線構造に関するものであろう〔従来の技
術〕 第5図〜第7図は、例えば従来のコプレーナ配線を用い
たMMIGの配線部分の拡大図を示すものであり、第5
図は斜視図、第6図は上面図、第7図は、第6図のB−
B’線による断面図である。
これらの図において、1は信号線路、2は接地導体、3
はエアブリッジ、4は半絶縁性半導体基板である。
はエアブリッジ、4は半絶縁性半導体基板である。
次に動作について説明する。高周波(マイクロ波帯〜ミ
リ波帯)信号は、信号線路1および接地導体2とで形成
されたコプレーナ伝送線路中を伝播する。このコプレー
ナ伝送線路の特性インピーダンスZ o (Z o =
Er1丁)は、第6図に示した信号線路1の配線幅W
aおよび信号線路1と、接地導体2との距離Gによって
決まる定数値である。一方、コプレーナ伝送線路におい
て、接地導体2は中心導体の両側にあり伝送線路長が長
くなると、両側の接地導体2間で部分的な電位差が生じ
る。この問題を解決するため、コプレーナ線路上に一定
距離を置いて、両側の接地導体2を、例えば配線を基板
から離して空中に橋のように形成した配線、すなわちエ
アブリッジ3を用いて接続し、信号線路1の両側の接地
導体2に電位差が生しないようにしている。
リ波帯)信号は、信号線路1および接地導体2とで形成
されたコプレーナ伝送線路中を伝播する。このコプレー
ナ伝送線路の特性インピーダンスZ o (Z o =
Er1丁)は、第6図に示した信号線路1の配線幅W
aおよび信号線路1と、接地導体2との距離Gによって
決まる定数値である。一方、コプレーナ伝送線路におい
て、接地導体2は中心導体の両側にあり伝送線路長が長
くなると、両側の接地導体2間で部分的な電位差が生じ
る。この問題を解決するため、コプレーナ線路上に一定
距離を置いて、両側の接地導体2を、例えば配線を基板
から離して空中に橋のように形成した配線、すなわちエ
アブリッジ3を用いて接続し、信号線路1の両側の接地
導体2に電位差が生しないようにしている。
しかしながら、上記のように構成された従来のコブし・
−す線路は、信号線路1とエアブリッジ3の交わる点で
、信号線路1とエアブリッジ3の間に交差容量が生じて
しまい、伝送線路の特性インピーダンスZoがエアブリ
ッジ3のある区間とない区間で異なってしまい、高周波
の不要な反射をまねいていた。
−す線路は、信号線路1とエアブリッジ3の交わる点で
、信号線路1とエアブリッジ3の間に交差容量が生じて
しまい、伝送線路の特性インピーダンスZoがエアブリ
ッジ3のある区間とない区間で異なってしまい、高周波
の不要な反射をまねいていた。
この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、伝送線路の特性インピーダンスをエアブリ
ッジと信号線路の交差部と、それ以外の区間で同一に保
ったコプレーナ線路を備えたモノリシックマイクロ波集
積回路の配線構造を1与ることを目的とする。
れたもので、伝送線路の特性インピーダンスをエアブリ
ッジと信号線路の交差部と、それ以外の区間で同一に保
ったコプレーナ線路を備えたモノリシックマイクロ波集
積回路の配線構造を1与ることを目的とする。
この発明に係るモノリシックマイクロ′e、集積回路の
配線構造は、信号線路の両側に設けられt′−接地導体
を接続するための配線と信号線路が交わる部分の信号線
路の線路幅を、他の部分の信号線路の線路幅より小さく
したものである。
配線構造は、信号線路の両側に設けられt′−接地導体
を接続するための配線と信号線路が交わる部分の信号線
路の線路幅を、他の部分の信号線路の線路幅より小さく
したものである。
この発明においては、信号線路と接地導体を接続するた
めの配線との交差部は、信号線路の線路幅を小さくする
ことにより、信号線路と配線間の容量、および両側の接
地導体との容量を小さくでき、配線を付加したことによ
る容量の増加を抑え、さらに線路幅が小さくなったこと
により、インダクタンスが増加するので、特性インピー
ダンスが一定に保たれる。
めの配線との交差部は、信号線路の線路幅を小さくする
ことにより、信号線路と配線間の容量、および両側の接
地導体との容量を小さくでき、配線を付加したことによ
る容量の増加を抑え、さらに線路幅が小さくなったこと
により、インダクタンスが増加するので、特性インピー
ダンスが一定に保たれる。
以下、この発明の一実施例を図面について説明する。
第1図〜第3図はこの発明の一実施例を示す図で、1は
信号線路であり、エアブリッジ3との交差部の線路幅を
、交差部以外の線路幅Waより小さいwbとしたもので
ある。なお、その他は第5図〜第7図と同じものである
。
信号線路であり、エアブリッジ3との交差部の線路幅を
、交差部以外の線路幅Waより小さいwbとしたもので
ある。なお、その他は第5図〜第7図と同じものである
。
このように、信号線路1とエアブリッジ3の交差部の線
路幅wbを小さくすることにより、伝送線路の特性イン
ピーダンスZoが交差部で変化しないようにし、全体を
一定に保ごとができる。
路幅wbを小さくすることにより、伝送線路の特性イン
ピーダンスZoが交差部で変化しないようにし、全体を
一定に保ごとができる。
なお、上記実施例では、信号線路1の両側の接地導体2
を接続するために、エアブリッジ3の配線を用いている
が、信号線路1と接地導体2を接続する配線の間に誘電
体、例えばSi、N4やS10□膜があっても良い。
を接続するために、エアブリッジ3の配線を用いている
が、信号線路1と接地導体2を接続する配線の間に誘電
体、例えばSi、N4やS10□膜があっても良い。
また、上記実施例では信号線路1の線路幅Waを、エア
ブリッジ3部分の信号線路1の線路111Wbと他の部
分とで段階的に変化させているが、第4図に示すように
、エアブリッジ3の端面におけるフリンジングを考慮し
てテーバ状に変化させても良い。
ブリッジ3部分の信号線路1の線路111Wbと他の部
分とで段階的に変化させているが、第4図に示すように
、エアブリッジ3の端面におけるフリンジングを考慮し
てテーバ状に変化させても良い。
以上説明したように、この発明は、半導体基板表面に形
成された信号線路の両側に接地導体を備え、接地導体間
を配線によって接続したモノリシックマイクロ波集積回
路において、接地導体間を接続する配線と信号線路とが
交わる交差部分の信号線路幅を、他の部分の信号線路幅
より小さくしなので、交差部が高周波特性(特性インピ
ーダンス)へ影響することを防止できる効果がある。
成された信号線路の両側に接地導体を備え、接地導体間
を配線によって接続したモノリシックマイクロ波集積回
路において、接地導体間を接続する配線と信号線路とが
交わる交差部分の信号線路幅を、他の部分の信号線路幅
より小さくしなので、交差部が高周波特性(特性インピ
ーダンス)へ影響することを防止できる効果がある。
第1図はこの発明の一実施例によるコプレーナ線路を示
す図、第2図はこの発明の一実施例によるコプレーナ線
路の表面図、第3図はこの発明の他の実施例によるコプ
レーナ線路を示す図、第4図はこの発明の第2図におけ
るA−A’線による断面図、第5図は従来のコプレーナ
線路を示す図、第6図は従来のコプレーナ線路の表面図
、第7図は第6図におけるB−B’綿による断面図であ
る。 図において、1は信号線路、2は接地導体、3はエアブ
リッジ、4は半絶縁性半導体基板である。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。 代理人 大 岩 増 雄 (外2名)第1図 4絶縁性半導1不丞柩 第2図 1−G+W=+G−1 第3図 第4図 第5図 第6図 手続補正書(自発) 特許1長1τ殴 3 す11)正をする台 +I;f′l〕との関係 特許出願人 性 所 東京都千代田区丸の内皿丁目2番3号
名 fろ、 (601)三菱電機株式会社代表者 志
岐 守 哉 4、代 理 人 注 所 東京都千代[II区九0内皿丁目2番3
号5、補正の対象 図面 6、補正の内容 図面中、第1図を別紙のように補正する9以 上
す図、第2図はこの発明の一実施例によるコプレーナ線
路の表面図、第3図はこの発明の他の実施例によるコプ
レーナ線路を示す図、第4図はこの発明の第2図におけ
るA−A’線による断面図、第5図は従来のコプレーナ
線路を示す図、第6図は従来のコプレーナ線路の表面図
、第7図は第6図におけるB−B’綿による断面図であ
る。 図において、1は信号線路、2は接地導体、3はエアブ
リッジ、4は半絶縁性半導体基板である。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。 代理人 大 岩 増 雄 (外2名)第1図 4絶縁性半導1不丞柩 第2図 1−G+W=+G−1 第3図 第4図 第5図 第6図 手続補正書(自発) 特許1長1τ殴 3 す11)正をする台 +I;f′l〕との関係 特許出願人 性 所 東京都千代田区丸の内皿丁目2番3号
名 fろ、 (601)三菱電機株式会社代表者 志
岐 守 哉 4、代 理 人 注 所 東京都千代[II区九0内皿丁目2番3
号5、補正の対象 図面 6、補正の内容 図面中、第1図を別紙のように補正する9以 上
Claims (1)
- 半導体基板表面に形成された信号線路の両側に接地導
体を備え、前記接地導体間を配線によって接続したモノ
リシックマイクロ波集積回路において、前記接地導体間
を接続する配線と前記信号線路とが交わる交差部分の前
記信号線路幅を、他の部分の信号線路幅より小さくした
ことを特徴とするモノリシックマイクロ波集積回路の配
線構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63048822A JP2569697B2 (ja) | 1988-03-02 | 1988-03-02 | モノリシックマイクロ波集積回路の配線構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63048822A JP2569697B2 (ja) | 1988-03-02 | 1988-03-02 | モノリシックマイクロ波集積回路の配線構造 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01223752A true JPH01223752A (ja) | 1989-09-06 |
| JP2569697B2 JP2569697B2 (ja) | 1997-01-08 |
Family
ID=12813915
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63048822A Expired - Lifetime JP2569697B2 (ja) | 1988-03-02 | 1988-03-02 | モノリシックマイクロ波集積回路の配線構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2569697B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008270617A (ja) * | 2007-04-23 | 2008-11-06 | Toshiba Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
| JP2018531560A (ja) * | 2016-05-12 | 2018-10-25 | 華為技術有限公司Huawei Technologies Co.,Ltd. | フィルタリング装置およびフィルタ |
-
1988
- 1988-03-02 JP JP63048822A patent/JP2569697B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008270617A (ja) * | 2007-04-23 | 2008-11-06 | Toshiba Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
| JP2018531560A (ja) * | 2016-05-12 | 2018-10-25 | 華為技術有限公司Huawei Technologies Co.,Ltd. | フィルタリング装置およびフィルタ |
| US10673111B2 (en) | 2016-05-12 | 2020-06-02 | Huawei Technologies Co., Ltd. | Filtering unit and filter |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2569697B2 (ja) | 1997-01-08 |
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