JPH01227207A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH01227207A JPH01227207A JP5231088A JP5231088A JPH01227207A JP H01227207 A JPH01227207 A JP H01227207A JP 5231088 A JP5231088 A JP 5231088A JP 5231088 A JP5231088 A JP 5231088A JP H01227207 A JPH01227207 A JP H01227207A
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- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ヘッドの製造方法に係り、特に浮動式磁気
ヘッドの接合方法に関する。
ヘッドの接合方法に関する。
一般に浮動式磁気ヘッドの構造は第１図（ａ）に示すよ
うにＨｎ−１ｎ系フエライト等の磁性体からなるスライ
ダー１と同じ＜Ｈｎ−Ｚｎ系フェライト等の磁性体から
なる略コ字状のコア２とを所定間隔のギャップ部３を形
成するようにガラスにより結合した、一般にモノリシッ
クタイプと称される構造と、第１図（ｂ）に示すように
セラミックス等の非磁性体からなるスライダー４の一部
に溝４ｂを形成し、Ｈｎ−Ｚｎ系フェライト等の磁性体
からなり一対の磁気コア２ａ、２ｂを組合せ、所定間隔
のギャップ部３を形成するようにガラスで結合した後、
この磁気コア２ａ、２ｂをガラス等の接合材でスライダ
ー４の１４ｂに固定したコンポジットタイプと称される
構造が公知である。なお、５は前記磁気コア２及び２ａ
に巻装されたコイルであり、４ａはコイル５の巻装スペ
ースを保持するための溝である。
うにＨｎ−１ｎ系フエライト等の磁性体からなるスライ
ダー１と同じ＜Ｈｎ−Ｚｎ系フェライト等の磁性体から
なる略コ字状のコア２とを所定間隔のギャップ部３を形
成するようにガラスにより結合した、一般にモノリシッ
クタイプと称される構造と、第１図（ｂ）に示すように
セラミックス等の非磁性体からなるスライダー４の一部
に溝４ｂを形成し、Ｈｎ−Ｚｎ系フェライト等の磁性体
からなり一対の磁気コア２ａ、２ｂを組合せ、所定間隔
のギャップ部３を形成するようにガラスで結合した後、
この磁気コア２ａ、２ｂをガラス等の接合材でスライダ
ー４の１４ｂに固定したコンポジットタイプと称される
構造が公知である。なお、５は前記磁気コア２及び２ａ
に巻装されたコイルであり、４ａはコイル５の巻装スペ
ースを保持するための溝である。
以下に磁気ヘッドのギャップ部の製造方法を説明すると
、第２図（ａ）、第２図（ｂ）は第１図（ｂ）の磁気コ
ア２ａ、２ｂのギャップ部３を拡大して示したものであ
る。基本的には第１図（ａ）のギャップ部３も同一なの
で説明を省略する。
、第２図（ａ）、第２図（ｂ）は第１図（ｂ）の磁気コ
ア２ａ、２ｂのギャップ部３を拡大して示したものであ
る。基本的には第１図（ａ）のギャップ部３も同一なの
で説明を省略する。
一対の磁気コア２ａ、２ｂのギャップ対向面２Ｃ及び２
ｄに５ｉＯｚ等からなる非磁性膜６をスパッタリング等
の手段により所定の厚さ形成する。
ｄに５ｉＯｚ等からなる非磁性膜６をスパッタリング等
の手段により所定の厚さ形成する。
次に、前記非磁性膜６の少くともいずれか一方に接合用
ガラス膜７をスパッタリング等の手段により所定の厚さ
形成する。次に前記接合用ガラスＩ！！７を介して一対
の磁気コア２ａ、２ｂを突き合わせて固定し、次に前記
磁気コア２ａ、２ｂによって形成されたギャップ部近傍
に棒状あるいは粉末状の補強用ガラス８を配置した後、
前記接合用ガラス膜７と補強用ガラス８とが溶融するま
で加熱して両者を結合している。
ガラス膜７をスパッタリング等の手段により所定の厚さ
形成する。次に前記接合用ガラスＩ！！７を介して一対
の磁気コア２ａ、２ｂを突き合わせて固定し、次に前記
磁気コア２ａ、２ｂによって形成されたギャップ部近傍
に棒状あるいは粉末状の補強用ガラス８を配置した後、
前記接合用ガラス膜７と補強用ガラス８とが溶融するま
で加熱して両者を結合している。
なお、前記非磁性膜６は前記接合用ガラスｌｌｌ７およ
び補強用ガラス８より軟化点温度は高く上記加熱温度で
は軟化せず、さらに前記非磁性膜６の膜厚寸法はギャッ
プ部３の幅寸法により任意に設定すればよく、通常、ギ
ャップ部３の幅寸法は約０．６〜１．０ｍとなっている
。また接合用ガラス摸７を厚く形成することによって、
前記補強用ガラス８を省略してもよい。
び補強用ガラス８より軟化点温度は高く上記加熱温度で
は軟化せず、さらに前記非磁性膜６の膜厚寸法はギャッ
プ部３の幅寸法により任意に設定すればよく、通常、ギ
ャップ部３の幅寸法は約０．６〜１．０ｍとなっている
。また接合用ガラス摸７を厚く形成することによって、
前記補強用ガラス８を省略してもよい。
しかし、上記従来の磁気ヘッドの製造方法においては、
前記接合用ガラス膜７と補強用ガラス８の溶融時に、前
記接合用ガラス膜７と補強用ガラス８中に気泡７ａが発
生し、磁気ヘッドの信頼性を著るしく悪化させるという
欠点があった。
前記接合用ガラス膜７と補強用ガラス８の溶融時に、前
記接合用ガラス膜７と補強用ガラス８中に気泡７ａが発
生し、磁気ヘッドの信頼性を著るしく悪化させるという
欠点があった。
本発明はかかる上記欠点を解決するためになされたもの
で、接合用ガラス膜中の気泡の発生を減少させ、磁気ヘ
ッドの信頼性を向上させると共に結合強度の大きい磁気
ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。
で、接合用ガラス膜中の気泡の発生を減少させ、磁気ヘ
ッドの信頼性を向上させると共に結合強度の大きい磁気
ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。
（問題点を解決するための手段）
本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、一対の磁性体の
少くとも何れか一方のギャップ対向面に磁気ヘッドのギ
ャップとなる非磁性体膜を形成し、該非磁性体膜上、又
は前記磁性体のギャップ対向面上に接合用ガラス膜をス
パッタリングにより設け、さらに、補強用ガラスを前記
一対の磁性体が形成するギャップ近傍に載置し、前記接
合用ガラス膜と補強用ガラスの溶融により前記一対の磁
性体を結合する磁気ヘッドの製造方法において、前記接
合用ガラス膜と前記補強用ガラスとの転移温度（Ｔｇ）
の差を５０℃〜１５０℃の範囲に規制すると共に、接合
時の加熱温度を前記接合用ガラス膜の軟化点温度に等し
いか、それよりも５０’Ｃ高い温度の範囲内に設定した
ことを特徴とするものである。
少くとも何れか一方のギャップ対向面に磁気ヘッドのギ
ャップとなる非磁性体膜を形成し、該非磁性体膜上、又
は前記磁性体のギャップ対向面上に接合用ガラス膜をス
パッタリングにより設け、さらに、補強用ガラスを前記
一対の磁性体が形成するギャップ近傍に載置し、前記接
合用ガラス膜と補強用ガラスの溶融により前記一対の磁
性体を結合する磁気ヘッドの製造方法において、前記接
合用ガラス膜と前記補強用ガラスとの転移温度（Ｔｇ）
の差を５０℃〜１５０℃の範囲に規制すると共に、接合
時の加熱温度を前記接合用ガラス膜の軟化点温度に等し
いか、それよりも５０’Ｃ高い温度の範囲内に設定した
ことを特徴とするものである。
本発明においては、接合用ガラス膜と補強用ガラスとの
転移点温度（Ｔｇ）の差を規制すると共に、結合時の加
熱温度を接合用ガラス膜の軟化点温度と等しいか、それ
より５０℃高いところまでの範囲内に設定したため気泡
の発生が抑えられると共に、接合強度が大ぎく信頼性の
高い磁気ヘッドが得られる。
転移点温度（Ｔｇ）の差を規制すると共に、結合時の加
熱温度を接合用ガラス膜の軟化点温度と等しいか、それ
より５０℃高いところまでの範囲内に設定したため気泡
の発生が抑えられると共に、接合強度が大ぎく信頼性の
高い磁気ヘッドが得られる。
本発明の磁気ヘッドの製造方法は、前記従来例とほとん
ど同様であり、相違点は接合用ガラス膜と補強用ガラス
の転移点温度の差を規制すると共に、結合時の加熱温度
を前記接合用ガラス膜の軟化点温度と等しいかあるいは
５０℃高いところまでの範囲に設定したことにある。す
なわち、本発明は第２図（ａ） 、（ｂ）に示したよう
にフェライト等の磁性体からなる磁気コア２ａ、２ｂの
ギャップ対向面２Ｃ及び２ｄに、８Ｌ０２等からなる非
磁性膜６をスパッタリング等によりそれぞれ約０，３趨
形成する。
ど同様であり、相違点は接合用ガラス膜と補強用ガラス
の転移点温度の差を規制すると共に、結合時の加熱温度
を前記接合用ガラス膜の軟化点温度と等しいかあるいは
５０℃高いところまでの範囲に設定したことにある。す
なわち、本発明は第２図（ａ） 、（ｂ）に示したよう
にフェライト等の磁性体からなる磁気コア２ａ、２ｂの
ギャップ対向面２Ｃ及び２ｄに、８Ｌ０２等からなる非
磁性膜６をスパッタリング等によりそれぞれ約０，３趨
形成する。
次に、前記非磁性膜６の少くとも一方に所定の膜厚の接
合用ガラスＩｌ！Ｉ７をスパッタリング等の適宜の手段
により形成し、次に、前記磁気コア２ａ及び磁気コア２
ｂを突き合わせて固定する。次に前記磁気コア２ａ、２
ｂによって形成されるギャップ近傍に前記接合用ガラス
膜７より転移点温度が５０℃〜１５０℃低い、例えば棒
状あるいは粉末状あるいはペースト状の補強ガラス８を
載置する。実施例においては接合用ガラスＷＩ７の転移
点温度が４００℃〜４５０℃のものを使用し、補強用ガ
ラス８としては転移点温度が２５０℃〜４００℃のもの
を使用している。なお、転移点温度とは溶融し液化状態
のガラスが冷却すると急激に固体化するところの温度で
ある。
合用ガラスＩｌ！Ｉ７をスパッタリング等の適宜の手段
により形成し、次に、前記磁気コア２ａ及び磁気コア２
ｂを突き合わせて固定する。次に前記磁気コア２ａ、２
ｂによって形成されるギャップ近傍に前記接合用ガラス
膜７より転移点温度が５０℃〜１５０℃低い、例えば棒
状あるいは粉末状あるいはペースト状の補強ガラス８を
載置する。実施例においては接合用ガラスＷＩ７の転移
点温度が４００℃〜４５０℃のものを使用し、補強用ガ
ラス８としては転移点温度が２５０℃〜４００℃のもの
を使用している。なお、転移点温度とは溶融し液化状態
のガラスが冷却すると急激に固体化するところの温度で
ある。
次に、前記接合用ガラス膜７の軟化点温度に等しいか前
記軟化点温度より５０’Ｃ高い範囲内の温度、実施例に
おいては約５００℃〜５５０℃の温度で加熱し、前記接
合用ガラス膜７と補強用ガラス８とを溶融し、磁気コア
２ａと２ｂとを結合する。なお、軟化点温度とはガラス
の加熱温度を徐々に上昇していった場合固体から急激に
液体状に移る点の塩度である。
記軟化点温度より５０’Ｃ高い範囲内の温度、実施例に
おいては約５００℃〜５５０℃の温度で加熱し、前記接
合用ガラス膜７と補強用ガラス８とを溶融し、磁気コア
２ａと２ｂとを結合する。なお、軟化点温度とはガラス
の加熱温度を徐々に上昇していった場合固体から急激に
液体状に移る点の塩度である。
ところで、第３図は種々の実験の結果をグラフ化したも
ので、横軸に接合用ガラス膜７と補強用ガラス８との転
移点温度の差を示し、縦軸に気泡の発生数を示している
。なお、気泡の発生数の測定はギャップ部を拡大し実測
して求めた。実線Ａは結合時の加熱温度を接合用ガラス
膜の軟化点温度〜５０℃高いところまでの範囲内にした
もので、破線Ｂは軟化点温度を上記範囲より約５０℃高
くしたものである。以上の実験結果から気泡７ａの数に
よって実用レベルを規定すると、気泡の発生傾向は前記
転移点温度差が５０℃〜１５０℃、接合用ガラス膜７の
軟化点温度が等しいかあるいはそれより５０℃高い温度
の範囲内で加熱した場合には曲線が急峻に変化するも気
泡の発生は少く、上記の条件以外のところでは気泡の発
生が多くなり実用上使用できないことが判明した。さら
に、接合用ガラス膜７中に生じる気泡の発生状況により
結合強度を実験測定した結果、気泡の発生が大きい程結
合強度は劣化する傾向にあることも判明した。
ので、横軸に接合用ガラス膜７と補強用ガラス８との転
移点温度の差を示し、縦軸に気泡の発生数を示している
。なお、気泡の発生数の測定はギャップ部を拡大し実測
して求めた。実線Ａは結合時の加熱温度を接合用ガラス
膜の軟化点温度〜５０℃高いところまでの範囲内にした
もので、破線Ｂは軟化点温度を上記範囲より約５０℃高
くしたものである。以上の実験結果から気泡７ａの数に
よって実用レベルを規定すると、気泡の発生傾向は前記
転移点温度差が５０℃〜１５０℃、接合用ガラス膜７の
軟化点温度が等しいかあるいはそれより５０℃高い温度
の範囲内で加熱した場合には曲線が急峻に変化するも気
泡の発生は少く、上記の条件以外のところでは気泡の発
生が多くなり実用上使用できないことが判明した。さら
に、接合用ガラス膜７中に生じる気泡の発生状況により
結合強度を実験測定した結果、気泡の発生が大きい程結
合強度は劣化する傾向にあることも判明した。
以上の実験結果から接合用ガラス膜と補強用ガラスの転
移点温度差が５０℃〜１５０℃で、かつ、結合加熱温度
が接合用ガラス膜の軟化点湿度に等しいかあるいは前記
軟化点温度より５０℃高い温度範囲内であれば気泡の発
生数が少なく、結合強度も大きくなるので信頼性の高い
磁気ヘッドを得ることができる。
移点温度差が５０℃〜１５０℃で、かつ、結合加熱温度
が接合用ガラス膜の軟化点湿度に等しいかあるいは前記
軟化点温度より５０℃高い温度範囲内であれば気泡の発
生数が少なく、結合強度も大きくなるので信頼性の高い
磁気ヘッドを得ることができる。
なお、前記実施例では浮動式磁気ヘッドについて説明し
たがフェライト等の磁性体からなる一対の磁気コアをガ
ラスを使用して結合し、ギャップ部を形成するＶＴＲ用
映像ヘッド等にも適用し得ること勿論である。
たがフェライト等の磁性体からなる一対の磁気コアをガ
ラスを使用して結合し、ギャップ部を形成するＶＴＲ用
映像ヘッド等にも適用し得ること勿論である。
以上のように、本発明は一対の磁性体の少なくとも何れ
か一方のギャップ対向面に非磁性体膜を形成し、該非磁
性体膜上に接合用ガラス膜をスパッタリング等で形成し
た債、結合し、ギャップ近傍に補強用ガラスを配置し、
次に加熱して上記接合用ガラス膜を溶融して結合する磁
気ヘッドの製造方法において、接合用ガラス膜と補強用
ガラスの転移点温度の差を５０℃〜１５０℃に規定する
と共に、加熱温度を前記接合用ガラス膜の軟化点温度に
等しいか、それより５０’Ｃ高い温度範囲内に規制する
ことにより、加熱結合時において接合用ガラス膜中に気
泡の発生を抑えることができると共に、結合強度も補強
ガラスを使用しているので十分大きくすることができる
。
か一方のギャップ対向面に非磁性体膜を形成し、該非磁
性体膜上に接合用ガラス膜をスパッタリング等で形成し
た債、結合し、ギャップ近傍に補強用ガラスを配置し、
次に加熱して上記接合用ガラス膜を溶融して結合する磁
気ヘッドの製造方法において、接合用ガラス膜と補強用
ガラスの転移点温度の差を５０℃〜１５０℃に規定する
と共に、加熱温度を前記接合用ガラス膜の軟化点温度に
等しいか、それより５０’Ｃ高い温度範囲内に規制する
ことにより、加熱結合時において接合用ガラス膜中に気
泡の発生を抑えることができると共に、結合強度も補強
ガラスを使用しているので十分大きくすることができる
。
又、接合用ガラス膜と補強用ガラスの転移温度及び接合
用ガラス膜の軟化点温度を事前に調べることは容易であ
り、上記の転移点温度と軟化点温度が明確なガラス素材
を組合せて使用する場合にも本発明の条件さえ満たすな
らば容易に気泡の発生が少ない磁気ヘッドを得ることが
できるという顕著な効果を奏する。
用ガラス膜の軟化点温度を事前に調べることは容易であ
り、上記の転移点温度と軟化点温度が明確なガラス素材
を組合せて使用する場合にも本発明の条件さえ満たすな
らば容易に気泡の発生が少ない磁気ヘッドを得ることが
できるという顕著な効果を奏する。
第１図（ａ） 、（ｂ）は従来の浮動式磁気ヘッドの斜
視図、第２図（ａ） 、（ｂ）はギャップ部の要部拡大
図、第３図は接合用ガラス膜と補強用ガラスとの転移点
温度差と加熱温度による気泡の発生状況を示すグラフで
ある。 図において、 １．４・・・スライダー、２．２ａ、２ｂ・・・磁気コ
ア、３・・・ギャップ部、６・・・非磁性膜、７・・・
接合用ガラス膜、８・・・補強用ガラス。 第１刃ｑ） 第１はｂ） ５２ｑ ４Ｄ 第２図（ａ） 第２ 図（ｂ）
視図、第２図（ａ） 、（ｂ）はギャップ部の要部拡大
図、第３図は接合用ガラス膜と補強用ガラスとの転移点
温度差と加熱温度による気泡の発生状況を示すグラフで
ある。 図において、 １．４・・・スライダー、２．２ａ、２ｂ・・・磁気コ
ア、３・・・ギャップ部、６・・・非磁性膜、７・・・
接合用ガラス膜、８・・・補強用ガラス。 第１刃ｑ） 第１はｂ） ５２ｑ ４Ｄ 第２図（ａ） 第２ 図（ｂ）
Claims (1)
- 一対の磁性体の少くとも何れか一方のギャップ対向面に
磁気ヘッドのギャップとなる非磁性体膜を形成し、該非
磁性体膜上、又は前記磁性体のギャップ対向面上に接合
用ガラス膜をスパッタリングにより設け、さらに、補強
用ガラスを前記一対の磁性体が形成するギャップ近傍に
載置し、前記接合用ガラス膜と補強用ガラスの溶融によ
り前記一対の磁性体を結合する磁気ヘッドの製造方法に
おいて、前記接合用ガラス膜と前記補強用ガラスとの転
移温度（Ｔｇ）の差を５０℃〜１５０℃の範囲に規制す
ると共に、接合時の加熱温度を前記接合用ガラス膜の軟
化点温度と等しいか、軟化点温度より５０℃高い温度の
範囲内に設定したことを特徴とする磁気ヘッドの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63052310A JP2676520B2 (ja) | 1988-03-04 | 1988-03-04 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63052310A JP2676520B2 (ja) | 1988-03-04 | 1988-03-04 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01227207A true JPH01227207A (ja) | 1989-09-11 |
| JP2676520B2 JP2676520B2 (ja) | 1997-11-17 |
Family
ID=12911210
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63052310A Expired - Fee Related JP2676520B2 (ja) | 1988-03-04 | 1988-03-04 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2676520B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0602567A3 (en) * | 1992-12-14 | 1994-10-12 | Sony Corp | Magnetic converter head. |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59107414A (ja) * | 1982-12-09 | 1984-06-21 | Tdk Corp | 磁気ヘツド |
| JPS6134712A (ja) * | 1984-07-25 | 1986-02-19 | Hitachi Denshi Ltd | 磁気ヘツドの製造方法 |
-
1988
- 1988-03-04 JP JP63052310A patent/JP2676520B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59107414A (ja) * | 1982-12-09 | 1984-06-21 | Tdk Corp | 磁気ヘツド |
| JPS6134712A (ja) * | 1984-07-25 | 1986-02-19 | Hitachi Denshi Ltd | 磁気ヘツドの製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0602567A3 (en) * | 1992-12-14 | 1994-10-12 | Sony Corp | Magnetic converter head. |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2676520B2 (ja) | 1997-11-17 |
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