JPH0124876B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 「対象技術分野」 この発明は電鋳母型およびその製造方法に関す
るものである。

「従来技術」 電鋳母型を形成するための母芯の表面は一般に
複雑な形状を有し、このため機械加工が困難であ
るにもかかわらず精密さが要求される。そこで母
芯の表面にメツキを施すことにより電鋳母型を得
るようにしているが、その表面に形成された凹凸
部にメツキを施すばあいにはその性質上かなりの
日時を要する。すなわち凹凸部は電流密度を低く
して、かつ長い時間をかけてメツキし、このメツ
キの層の表面が平滑になつた段階で、あらためて
電流密度を増大させ補強のためのメツキ層を高速
で形成するのが普通であるが、その補強のための
メツキ層は一般に十数ミリメートルに達し、その
厚さ分のメツキを行うのに数日から十数日も要す
る欠点がある。

「目的」 この発明はこのような従来の欠点にかんがみ、
十分な機械的強度、耐熱性および耐圧性を有する
電鋳母型を短時間で形成することを目的とするも
のである。

「概要」 この発明はその目的を達成するために母芯の表
面に形成された凹凸部をメツキにより平滑にする
とともに、この母芯をこの母芯の外径よりも大き
い内径を有する弾力性に富んだ注入型に挿入し、
この注入型と母芯との間に充填剤を充填し、さら
にこの充填剤の表面を活性化し、この充填剤とと
もに母芯の表面にこれら両者を包み込むようにメ
ツキを施すことにより両者を一体化し、さらに母
芯のみを溶解することにより電鋳母型を形成する
ようにしたものである。

「実施例」 以下図によつてこの発明の一実施例について説
明する。

すなわち第１図および第２図において、母芯１
にはその表面に多数の凹部２および凸部３が設け
られる。たとえば母芯１がピニオン歯車のばあい
にはその外周に山と谷からなる凹凸部が形成され
る。なおこの母芯はたとえばアルミニウム材を機
械加工することにより形成される。

まずこの母芯の表面にはとくにその凹凸部２，
３を覆うようにメツキを所定の厚さたとえば１〜
２mm位施すが、この際電流密度を低くして時間を
かけて緩やかに行う。これによつて凹凸部２，３
は第１のメツキ層５により滑らかに覆われる。

次にこの第１のメツキ層を施した母芯の外径に
比し所定の寸法だけ大きく、かつあらかじめ設定
した母型の仕上り寸法よりも１〜４mm小さい内径
を有する注入型７を用意する。この注入型の材質
はとくに限定されないが、その注入型の製作のし
易さおよび型離れのよさからシリコーンゴム
（RTV）を使用すると有利である。

そこでこの注入型内に第１のメツキ層５を形成
した母芯１を挿入し、この母芯すなわち第１のメ
ツキ層５と注入型７との間に形成された空間部に
充填剤を充填し、これを硬化することにより充填
層１１を形成する。そしてこの充填層を形成する
充填剤は電鋳母型としての使用温度および圧力に
十分耐えうる材料であることが必要で、たとえば
セラミツクセメントが用いられる。

次にこの充填層を母芯１とともに注入型７から
取出し、充填層１１の表面にたとえば塩化錫また
は塩化パラジウム等により活性化する。これによ
つて充填層１１の表面は電着が可能となる。

次に活性化を完了した充填層１１の表面および
母芯１の表面に無電解ニツケルメツキによつてニ
ツケルを数ミクロンの厚さだけ付着させ、さらに
その表面に電気メツキを仕上り寸法よりもさらに
１mm位余分に施す。これによつて第２のメツキ層
１２が形成される。

その後この形成体において、第２のメツキ層の
母芯１の軸心線を中心とする外周を所定の寸法た
とえば１mmだけ研削する。またその形成体の軸心
線と交差する両側面を研削して所定の寸法に仕上
げるとともに、母芯１の両側面を露出させ、さら
にこの母芯をカセイソーダにより溶解する。

これによつて電鋳母型が完成する。

「効果」 この発明は上述のように母芯の表面にその凹凸
部を覆うようにメツキを施した後、この母芯をこ
の母芯の外形に比し所定の寸法だけ大きい内径を
有する弾力性に富んだ注入型に挿入し、この注入
型と母芯との間に形成された空間部に充填剤を充
填し、さら注入型を取外して充填剤の表面を活性
化し、かつこの充填剤と母芯の表面にこれら両者
を包み込むようにメツキを施すようにしているの
で、電鋳母型の成形がきわめて容易であるばかり
でなく、十分な機械的強度と耐熱性および耐圧性
を有する電鋳母型を短時間で成形でき、したがつ
てメツキ層の回転率、電極の消耗あるいは消費電
力からみてもきわめて有利である。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の電鋳母型の製造過程におけ
る一実施例を示す縦断面図、第２図は正断面図で
ある。 １……母芯、２……凹部、３……凸部、５……
第１のメツキ層、７……注入型、１１……充填
層、１２……第２のメツキ層。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 表面に凹凸部を有する母芯に、その凹凸部を
   覆うように所定の厚さのメツキを施した後、その
   母芯をこの母芯の外形に比し所定の寸法だけ大き
   い内径を有する弾力性に富んだ注入型のほぼ中央
   に挿入し、次にこの注入型と上記母芯との間に形
   成された空間部に充填剤を充填し、続いて上記注
   入型を取外し、上記充填剤の表面を活性化し、さ
   らにこの充填剤と上記母芯の表面にこれら両者を
   包むようにメツキを施し、両者を一体化し、その
   後上記母芯のみを溶解することを特徴とする電鋳
   母型の製造方法。 ２ 上記注入型はシリコーンゴムにより形成した
   特許請求の範囲第１項記載の電鋳母型の製造方
   法。 ３ 上記充填剤はセラミツクセメントにより形成
   した特許請求の範囲第１項記載の電鋳母型の製造
   方法。 ４ 上記充填剤の表面は塩化錫または塩化パラジ
   ウムで活性化することを特徴とする特許請求の範
   囲第１項記載の電鋳母型の製造方法。 ５ 表面に凹凸部を有する母芯に施され、その凹
   凸部を所定の厚みをもつて覆う第１のメツキ層
   と、弾力性を有し、かつ上記母芯の外形に比し所
   定の寸法だけ大きい内径を有し、上記母芯を挿入
   させる注入型と、この注入型と上記母芯との間に
   形成された充填層と、上記注入型を取外した状態
   で上記充填層と上記母芯の表面にこれら両者を包
   囲し、かつ両者を一体化する第２のメツキ層を有
   する電鋳母型。 ６ 上記注入型はシリコーンゴムにより形成した
   特許請求の範囲第５項記載の電鋳母型。 ７ 上記充填層はセラミツクセメントを主体とす
   る充填剤により形成した特許請求の範囲第５項記
   載の電鋳母型。