JPH01268182A - 金属ベース基板 - Google Patents
金属ベース基板Info
- Publication number
- JPH01268182A JPH01268182A JP9717488A JP9717488A JPH01268182A JP H01268182 A JPH01268182 A JP H01268182A JP 9717488 A JP9717488 A JP 9717488A JP 9717488 A JP9717488 A JP 9717488A JP H01268182 A JPH01268182 A JP H01268182A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal substrate
- shape
- metal
- shape memory
- metal plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/05—Insulated conductive substrates, e.g. insulated metal substrate
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は金属ベース基板(以下金属板という)に関す
るものである。
るものである。
近年、電子機器の高機能化、高性能化にともない、いわ
ゆる軽、薄、短、小が求められている。
ゆる軽、薄、短、小が求められている。
特に電子機器のデバイスに用いられる金属基板において
は、薄肉化による平面度(フラットネス)の精度の向上
が要求されている。
は、薄肉化による平面度(フラットネス)の精度の向上
が要求されている。
第3図は従来例の金属基板の側断面図であり、図中、A
は金属基板、1はへ1.鋼板等の金属板、2は絶縁体、
3は導体であり、金属板1上に絶縁体2.導体3の各層
が積層されている。
は金属基板、1はへ1.鋼板等の金属板、2は絶縁体、
3は導体であり、金属板1上に絶縁体2.導体3の各層
が積層されている。
以上のように構成された従来例の金属基板Aの各構成要
素である導体3.絶縁体2.金属板1のそれぞれの熱膨
張係数は、導体3が17×10−’/”C,絶縁体2が
60 x 10−’/”C1金属板1が12 x 10
−6/℃とそれぞれの値に相違かあるため、金属基板A
が薄型になるにつれて、プレス加工して硬化後、常温に
戻した際、前記の各構成要素の熱膨張係数の差により、
金属基板Aにそり、ねじれ(第3図xmm)等の変形が
生じる。
素である導体3.絶縁体2.金属板1のそれぞれの熱膨
張係数は、導体3が17×10−’/”C,絶縁体2が
60 x 10−’/”C1金属板1が12 x 10
−6/℃とそれぞれの値に相違かあるため、金属基板A
が薄型になるにつれて、プレス加工して硬化後、常温に
戻した際、前記の各構成要素の熱膨張係数の差により、
金属基板Aにそり、ねじれ(第3図xmm)等の変形が
生じる。
このため、金属基板Aの平面度の精度が低下し、金属基
板A面にパターン形成時、パターン形成精度がバラツキ
、実装部品の密着が不良となり、半田付は工程での半田
不均一が生じるなどの問題点があった。
板A面にパターン形成時、パターン形成精度がバラツキ
、実装部品の密着が不良となり、半田付は工程での半田
不均一が生じるなどの問題点があった。
この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、金属基板Aの平面度の精度を向上させるこ
とができ、これによって、パターン形成精度のバラツキ
、実装部品の密着不良、半田イ・Jけ二「程ての半H1
不均一などを低下させることかできる金属基板Aを得る
ことを(−1的とする。
れたもので、金属基板Aの平面度の精度を向上させるこ
とができ、これによって、パターン形成精度のバラツキ
、実装部品の密着不良、半田イ・Jけ二「程ての半H1
不均一などを低下させることかできる金属基板Aを得る
ことを(−1的とする。
このため、この発明においては、金属板に絶縁体と導体
を順次積層させた金属ベース基板において、前記金属板
を、そり、ねじれ等の変形のない形状を記憶させた形状
記憶合金とすることにより、前記目的を達成しようとす
るものである。
を順次積層させた金属ベース基板において、前記金属板
を、そり、ねじれ等の変形のない形状を記憶させた形状
記憶合金とすることにより、前記目的を達成しようとす
るものである。
この発明におりる金属ベース基板は、該基板の金属板を
形状記憶合金とすることにより、該形状記憶合金をそり
、ねじれ等の変形のない形状で治具又は型にセットし、
+300℃〜850℃の加熱により形状を記憶させ、絶
縁体、導体を積層後、熱器ブレスにより80“0〜13
0℃に加熱して密着、硬化し、そり、ねじれ等の変形が
発生した金属基板を外力を与えず、変態点である140
℃〜160℃に加熱して、そり、ねじれ等の変形のない
状態に戻す。
形状記憶合金とすることにより、該形状記憶合金をそり
、ねじれ等の変形のない形状で治具又は型にセットし、
+300℃〜850℃の加熱により形状を記憶させ、絶
縁体、導体を積層後、熱器ブレスにより80“0〜13
0℃に加熱して密着、硬化し、そり、ねじれ等の変形が
発生した金属基板を外力を与えず、変態点である140
℃〜160℃に加熱して、そり、ねじれ等の変形のない
状態に戻す。
以−ト、この発明の一実施例を図面に基づいて説明する
。
。
第1図はこの発明の一実施例である金属基板の側断面図
、第2図は各製造工程における金属基板の状態を示す概
要工程図てあり、第2図(a)は変形のない形状を記憶
させた形状記憶合金の金属板、第2図(b)は金属板、
絶縁体、導体の密着硬化プレス工程、′fJ2図(C)
は常温に戻した金属基板の状態、第2図(d)は形状記
憶効果をおこさせる−[程、のそれぞれを示しており、
各図中、前記従来例におけると同一または相当構成要素
は同一符号で表わし、重複説明は省略する。
、第2図は各製造工程における金属基板の状態を示す概
要工程図てあり、第2図(a)は変形のない形状を記憶
させた形状記憶合金の金属板、第2図(b)は金属板、
絶縁体、導体の密着硬化プレス工程、′fJ2図(C)
は常温に戻した金属基板の状態、第2図(d)は形状記
憶効果をおこさせる−[程、のそれぞれを示しており、
各図中、前記従来例におけると同一または相当構成要素
は同一符号で表わし、重複説明は省略する。
また、第1図中、1aはそり、ねじれ等の変形のない形
状を記憶させた形状記憶合金、例えばN1−Ti合金ま
たはCu−Zn−Al1合金の材質の形状記憶、合金で
ある金属板てあり、該形状記憶合金は、記憶させたい形
状て治具又は型にセットし、+300℃〜850℃の加
熱により形状を記憶させると、この形状を変形させても
変態点である140℃〜160”Cに再度加熱すること
により、変形前、つまり記憶させた形状にもどる性質で
ある形状記憶効果により、そり、ねじれ等の変形のない
形状を記憶しているものである。
状を記憶させた形状記憶合金、例えばN1−Ti合金ま
たはCu−Zn−Al1合金の材質の形状記憶、合金で
ある金属板てあり、該形状記憶合金は、記憶させたい形
状て治具又は型にセットし、+300℃〜850℃の加
熱により形状を記憶させると、この形状を変形させても
変態点である140℃〜160”Cに再度加熱すること
により、変形前、つまり記憶させた形状にもどる性質で
ある形状記憶効果により、そり、ねじれ等の変形のない
形状を記憶しているものである。
また、第2図中、4は金属板1a、絶縁体2゜導体3を
80℃〜130℃の加熱によって密着。
80℃〜130℃の加熱によって密着。
硬化させる熱器プレス、5はそり、ねじれ等の変形が発
生した金属基板1aを外力を与えず、変態点である14
0℃〜160℃に加熱し形状記憶合金である金属板1a
に前述の形状記憶効果をおこさせるヒータである。
生した金属基板1aを外力を与えず、変態点である14
0℃〜160℃に加熱し形状記憶合金である金属板1a
に前述の形状記憶効果をおこさせるヒータである。
次にこの一実施例の動作を第1図および第2図を用いて
説明する。
説明する。
先ず、第2図により、この−実施例である金属基板の製
造方法を工程順に説明する。
造方法を工程順に説明する。
先ず、第2図(a)において、例えばNi−Ti合金ま
たはCu−Zn−Al1合金を用いた形状記憶合金をそ
り、ねじれ等の変形のない形状て治具又は型(共に図示
せず)にセットして、+300℃〜850°Cの加熱に
より記憶させ、変態点140℃〜160℃で記憶形状か
発生ずるようにした形状記憶合金である金属板1aを準
備する。
たはCu−Zn−Al1合金を用いた形状記憶合金をそ
り、ねじれ等の変形のない形状て治具又は型(共に図示
せず)にセットして、+300℃〜850°Cの加熱に
より記憶させ、変態点140℃〜160℃で記憶形状か
発生ずるようにした形状記憶合金である金属板1aを準
備する。
次に、第2図(b)において、金属板1aに絶縁体2.
導体3を通常の積層方法で積層した金属基板を熱器プレ
ス4を用いて、80℃〜130℃に加熱プレスして密着
、硬化させる。
導体3を通常の積層方法で積層した金属基板を熱器プレ
ス4を用いて、80℃〜130℃に加熱プレスして密着
、硬化させる。
第2図(c)は前記第2図(b)で密着、硬化後常温に
戻した金属基板を示し、前記のように各構成要素の熱膨
張係数の差異により、金属基板Aにそり、ねじれ(第2
図(c)xmm)等の変形が発生している。
戻した金属基板を示し、前記のように各構成要素の熱膨
張係数の差異により、金属基板Aにそり、ねじれ(第2
図(c)xmm)等の変形が発生している。
次に第2図(d)において、第2図(C)のようにそり
、ねじれ(xm、m)等か発生した金属基板Aをヒータ
5を用いて、外力を!Jえることなく、変態点である1
40℃〜160℃に加熱し形状記憶合金の特徴である形
状記憶効果をおこさせ金属基板Aに発生したそり、ねじ
れ(Xmm)等の変形を低下する。
、ねじれ(xm、m)等か発生した金属基板Aをヒータ
5を用いて、外力を!Jえることなく、変態点である1
40℃〜160℃に加熱し形状記憶合金の特徴である形
状記憶効果をおこさせ金属基板Aに発生したそり、ねじ
れ(Xmm)等の変形を低下する。
以北の製造−L程を経て、第1図に示すそり、ねじれ等
の変形を低下した形状の金属基板を得ることができる。
の変形を低下した形状の金属基板を得ることができる。
尚、この金属基板を用いて、電子機器用のデバイス等を
製造する工程、特に熱処理において、そり、ねじれ等の
変形が発生した場合も、この実施例と同様の処理を行う
ことにより、それらの変形を低下することがてきる。
製造する工程、特に熱処理において、そり、ねじれ等の
変形が発生した場合も、この実施例と同様の処理を行う
ことにより、それらの変形を低下することがてきる。
以上説明したように、この発明によれは、金属板に絶縁
体と導体を順次積層させた金属ベース基板において、前
記金属板をそり、ねじれ等の変形のない形状を記憶させ
た形状記憶合金としたことにより、金属ベース基板の平
面度の精度を向」ニさせることができ、従って、パター
ン形成粘度のバラツキ、実装部品の密着不良、半田付は
工程での半田不均一などのそれぞれを低下することがて
きる効果がある。
体と導体を順次積層させた金属ベース基板において、前
記金属板をそり、ねじれ等の変形のない形状を記憶させ
た形状記憶合金としたことにより、金属ベース基板の平
面度の精度を向」ニさせることができ、従って、パター
ン形成粘度のバラツキ、実装部品の密着不良、半田付は
工程での半田不均一などのそれぞれを低下することがて
きる効果がある。
第1図はこの発明の一実施例である金属基板の側断面図
、第2図は各製造工程における金属基板の状態を示す概
略工程図であり、第2図(a)は変形のない形状を記憶
させた形状記憶合金の金属板、第2図(b)は金属板、
絶縁体、導体の密着硬化プレス工程、第2図(C)は常
温に戻した金属基板の状態、第2図(d)は形状記憶効
果をおこさせる工程のそれぞれを示す。また、第3図は
従来例の金属基板の側断面図である。 A・・・・・・金属基板 1、la−・・・・・金属板 2・・・・・・絶縁体 3・・・・・・導体 4・・・・・・熱器プレス 5・・・・・・ヒータ 各図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
、第2図は各製造工程における金属基板の状態を示す概
略工程図であり、第2図(a)は変形のない形状を記憶
させた形状記憶合金の金属板、第2図(b)は金属板、
絶縁体、導体の密着硬化プレス工程、第2図(C)は常
温に戻した金属基板の状態、第2図(d)は形状記憶効
果をおこさせる工程のそれぞれを示す。また、第3図は
従来例の金属基板の側断面図である。 A・・・・・・金属基板 1、la−・・・・・金属板 2・・・・・・絶縁体 3・・・・・・導体 4・・・・・・熱器プレス 5・・・・・・ヒータ 各図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 金属板に絶縁体と導体を順次積層した金属ベース基板に
おいて、前記金属板は、そり、ねじれ等の変形のない形
状を記憶させた形状記憶合金であることを特徴とする金
属ベース基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9717488A JPH01268182A (ja) | 1988-04-20 | 1988-04-20 | 金属ベース基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9717488A JPH01268182A (ja) | 1988-04-20 | 1988-04-20 | 金属ベース基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01268182A true JPH01268182A (ja) | 1989-10-25 |
Family
ID=14185222
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9717488A Pending JPH01268182A (ja) | 1988-04-20 | 1988-04-20 | 金属ベース基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01268182A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016162797A (ja) * | 2015-02-27 | 2016-09-05 | 日本電気株式会社 | 多層回路基板、実装体、多層回路基板の製造方法、半田付け方法及び実装体の製造方法 |
-
1988
- 1988-04-20 JP JP9717488A patent/JPH01268182A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016162797A (ja) * | 2015-02-27 | 2016-09-05 | 日本電気株式会社 | 多層回路基板、実装体、多層回路基板の製造方法、半田付け方法及び実装体の製造方法 |
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