JPH01268706A - 含フッ素共重合体の製造法 - Google Patents
含フッ素共重合体の製造法Info
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- JPH01268706A JPH01268706A JP9797988A JP9797988A JPH01268706A JP H01268706 A JPH01268706 A JP H01268706A JP 9797988 A JP9797988 A JP 9797988A JP 9797988 A JP9797988 A JP 9797988A JP H01268706 A JPH01268706 A JP H01268706A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、フッ素樹脂塗料の原料などとして有用なカル
ボキシル基を含有する含フッ素共重合体の製造法に関す
る。
ボキシル基を含有する含フッ素共重合体の製造法に関す
る。
カルボキシル基を有するビニルエーテルとフルオロオレ
フィンを共重合させると、カルボキシル基を有するフッ
素樹脂を製造することができるが、カルボキシル基を有
するビニルエーテルは合成が困難である。たとえば、ヒ
ドロキシアルキルビニルエーテルと三塩基性酸無水物を
反応させて(ハーフエステル化)カルボキシル基を有す
るビニルエーテルを合成しようとしても、カルボキシル
基とビニル基が反応して分子内で環化してしまい、目的
物をうろことができない。
フィンを共重合させると、カルボキシル基を有するフッ
素樹脂を製造することができるが、カルボキシル基を有
するビニルエーテルは合成が困難である。たとえば、ヒ
ドロキシアルキルビニルエーテルと三塩基性酸無水物を
反応させて(ハーフエステル化)カルボキシル基を有す
るビニルエーテルを合成しようとしても、カルボキシル
基とビニル基が反応して分子内で環化してしまい、目的
物をうろことができない。
したがって、カルボキシル基を含有する含フッ素共重合
体は、たとえばヒドロキシル基を含有するビニルエーテ
ルとフルオロオレフィンとの共重合体を製造し、ついで
共重合9体に含有されるヒドロキシル基と三塩基性酸無
水物を反応(ハーフエステル化)させる方法(特公昭6
1−49323号公報参照)によってえている。しかし
、この方法では共重合ののちハーフエステル化を行なう
ので、共重合の溶媒として三塩基性酸無水物と反応する
安価なアルコール類などを使用し難いという問題がある
。
体は、たとえばヒドロキシル基を含有するビニルエーテ
ルとフルオロオレフィンとの共重合体を製造し、ついで
共重合9体に含有されるヒドロキシル基と三塩基性酸無
水物を反応(ハーフエステル化)させる方法(特公昭6
1−49323号公報参照)によってえている。しかし
、この方法では共重合ののちハーフエステル化を行なう
ので、共重合の溶媒として三塩基性酸無水物と反応する
安価なアルコール類などを使用し難いという問題がある
。
本発明者らは、カルボキシル基を含有するビニルエーテ
ルの製法について鋭意検討した結果、ヒドロキシアルキ
ルビニルエーテルと三塩基性酸無水物を反応させる際、
塩基性化合物を系内に存在させておくと分子内環化反応
が生じず、えられたビニルエーテルのカルボキシル基が
塩基性化合物の塩の形をとることにより安定性が向上し
、しかもフルオロオレフィンと共重合させるばあいに収
率が格段に向上することを見出した。
ルの製法について鋭意検討した結果、ヒドロキシアルキ
ルビニルエーテルと三塩基性酸無水物を反応させる際、
塩基性化合物を系内に存在させておくと分子内環化反応
が生じず、えられたビニルエーテルのカルボキシル基が
塩基性化合物の塩の形をとることにより安定性が向上し
、しかもフルオロオレフィンと共重合させるばあいに収
率が格段に向上することを見出した。
しかし、確かに塩基性化合物との塩の形にすることによ
りカルボキシル基含有ビニールエーテルの安定性および
共重合の収率は向上するが、共重合に供するビニルエー
テルをすべて塩の形にすることは塩基性化合物の連鎖移
動による分子量低下が起りやすいことからみて必ずしも
有利ではなく、一部あるいは多くの部分を遊離のカルボ
キシル基を有するビニルエーテルのまま残す方が好まし
い。
りカルボキシル基含有ビニールエーテルの安定性および
共重合の収率は向上するが、共重合に供するビニルエー
テルをすべて塩の形にすることは塩基性化合物の連鎖移
動による分子量低下が起りやすいことからみて必ずしも
有利ではなく、一部あるいは多くの部分を遊離のカルボ
キシル基を有するビニルエーテルのまま残す方が好まし
い。
ところが前記のごとく遊離カルボキシル基を有するビニ
ルエーテルは安定性がわるく、重合系に一括して仕込む
と、たとえ塩の形のビニルエーテルが共存していても分
解速度が速く、収率の低下や共重合体中のビニルエーテ
ル単位の偏りが生じ、塗膜にしたとき、ワキやハジキあ
るいは耐候性の低下の原因となる。
ルエーテルは安定性がわるく、重合系に一括して仕込む
と、たとえ塩の形のビニルエーテルが共存していても分
解速度が速く、収率の低下や共重合体中のビニルエーテ
ル単位の偏りが生じ、塗膜にしたとき、ワキやハジキあ
るいは耐候性の低下の原因となる。
本発明は、かかる課題を解決するためになされたもので
あり、 式(I): CH2−CHORloC(=O)R2C(−0)O(H
)nM [I)(式中、R1は炭素原子数2〜10の
2価の詣肪族基、R2は2価の有機基、Mはアルカリ金
属、またはチッ素もしくはリン原子を含有する化合物で
あってそのpKaが6〜12である1官能性の塩基性化
合物、nはアルカリ金属のばあいのみ0、その他は1を
示す)で表わされるカルボキシル基が塩の形のビニルエ
ーテル(以下、ビニルエーテル(I)という) と式(■): CH2−Ct(ORIQC(−0) R2O(−0)
OH(I)(式中、R1およびR2は前記と同じ)で表
わされる遊離のカルボキシル基を有するビニルエーテル
(以下、ビニルエーテル(If)という)とからなり、
ビニルエーテル(I)がビニルエーテル(I[)の1モ
ル%以上含有されてなるビニルエーテルモノマー組成物
を分割あるいは連続的に仕込みながら含フッ素モノマー
と重合させることを特徴とする含フッ素共重合体の製造
法に関するものである。
あり、 式(I): CH2−CHORloC(=O)R2C(−0)O(H
)nM [I)(式中、R1は炭素原子数2〜10の
2価の詣肪族基、R2は2価の有機基、Mはアルカリ金
属、またはチッ素もしくはリン原子を含有する化合物で
あってそのpKaが6〜12である1官能性の塩基性化
合物、nはアルカリ金属のばあいのみ0、その他は1を
示す)で表わされるカルボキシル基が塩の形のビニルエ
ーテル(以下、ビニルエーテル(I)という) と式(■): CH2−Ct(ORIQC(−0) R2O(−0)
OH(I)(式中、R1およびR2は前記と同じ)で表
わされる遊離のカルボキシル基を有するビニルエーテル
(以下、ビニルエーテル(If)という)とからなり、
ビニルエーテル(I)がビニルエーテル(I[)の1モ
ル%以上含有されてなるビニルエーテルモノマー組成物
を分割あるいは連続的に仕込みながら含フッ素モノマー
と重合させることを特徴とする含フッ素共重合体の製造
法に関するものである。
[好ましい実施態様]
本発明で分割あるいは連続して仕込むビニルエーテルモ
ノマー組成物は、前記のごとく、ビニルエーテル(I[
)単独使用のばあいに比して各段に保存安定性が向上し
ている。その理由は、安定なビニルエーテル(I1を(
■)の1モル%以上共存させることにより、ビニルエー
テル(I1)の環化を促進する11■の系内濃度が低下
するためであると推定される。 ビニルエーテルモノマ
ー組成物のうち、ビニルエーテル(■)は、 ■式: %式% (式中、R1は前記と同じ)で表わされるヒドロキシア
ルキルビニルエーテル、 ■式: (式中、R2は前記と同じ)で表わされる三塩基性酸無
水物、 および ■アルカリ金属化合物またはチッ素原子もしくはリン原
子を含有する化合物であってそのpKa(水中25℃に
おける酸解離指数)が6〜12の1官能性の塩基性化合
物(以下、両者を区別しないときは単に塩基■という)
を反応させることによりえられる。
ノマー組成物は、前記のごとく、ビニルエーテル(I[
)単独使用のばあいに比して各段に保存安定性が向上し
ている。その理由は、安定なビニルエーテル(I1を(
■)の1モル%以上共存させることにより、ビニルエー
テル(I1)の環化を促進する11■の系内濃度が低下
するためであると推定される。 ビニルエーテルモノマ
ー組成物のうち、ビニルエーテル(■)は、 ■式: %式% (式中、R1は前記と同じ)で表わされるヒドロキシア
ルキルビニルエーテル、 ■式: (式中、R2は前記と同じ)で表わされる三塩基性酸無
水物、 および ■アルカリ金属化合物またはチッ素原子もしくはリン原
子を含有する化合物であってそのpKa(水中25℃に
おける酸解離指数)が6〜12の1官能性の塩基性化合
物(以下、両者を区別しないときは単に塩基■という)
を反応させることによりえられる。
この製法の原料であるヒドロキシアルキルビニルエーテ
ルの具体例としては、4−ヒドロキシブチルビニルエー
テル、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、3−ヒド
ロキシ−〇−プロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシ
−1so−プロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシ−
2−メチルエチルビニルエーテル、2−ヒドロキシ−1
,L−ジメチルエチルビニルエーテル、4−ヒドロキシ
シクロヘキシルビニルエーテル、3−ヒドロキシシクロ
ヘキシルビニルエーテル、2−ヒドロキシシクロヘキシ
ルビニルエーテル、4−ヒドロキシベンゾオキシビニル
などをあげることができる。
ルの具体例としては、4−ヒドロキシブチルビニルエー
テル、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、3−ヒド
ロキシ−〇−プロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシ
−1so−プロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシ−
2−メチルエチルビニルエーテル、2−ヒドロキシ−1
,L−ジメチルエチルビニルエーテル、4−ヒドロキシ
シクロヘキシルビニルエーテル、3−ヒドロキシシクロ
ヘキシルビニルエーテル、2−ヒドロキシシクロヘキシ
ルビニルエーテル、4−ヒドロキシベンゾオキシビニル
などをあげることができる。
三塩基性酸無水物およびビニルエーテルCI)または+
I[)に含有されるR2としては、式(i):〔式中、
ifは水素原子または炭素原子数1〜3のアルキル基、
x2は水素原子または炭素原子数1〜3のアルキル基、
pおよびqは0または1〜11の整数(ただし、同時に
0であることはない)を示す〕で表わされる基、式(五
):→CH2←→CX3−CH−)−(I+)S 〔式中、「は0または1〜3の整数、Sは1〜3の整数
、x3は水素原子または炭素原子数1〜3のアルキル基
を示す〕で表わされる基、式: 〔式中、R7は−(−CHX4→−基(ただし、x4は
水素原子または炭素原子敬重〜3のアルキル基、tは1
〜4の整数である)、 CH3 式(へ)ニ ーC−C−(へ) \/ 〔式中、R8は4:CHXS→−基(ただし、xハ水素
原子または炭素原子数1〜3のアルキル基、Uは3〜4
の整数である)または + CX6− CX7+ 基(ただし、x6オヨびx7
は同一または異なり水素原子または炭素原子数1〜3の
アルキル基、Vは2〜3の整数である)を示す〕で表わ
される基、式(V)ニーC(=CH2) −CH2−(
v) で表わされる基または式1yD : で表わされる基などをあげることができる。
I[)に含有されるR2としては、式(i):〔式中、
ifは水素原子または炭素原子数1〜3のアルキル基、
x2は水素原子または炭素原子数1〜3のアルキル基、
pおよびqは0または1〜11の整数(ただし、同時に
0であることはない)を示す〕で表わされる基、式(五
):→CH2←→CX3−CH−)−(I+)S 〔式中、「は0または1〜3の整数、Sは1〜3の整数
、x3は水素原子または炭素原子数1〜3のアルキル基
を示す〕で表わされる基、式: 〔式中、R7は−(−CHX4→−基(ただし、x4は
水素原子または炭素原子敬重〜3のアルキル基、tは1
〜4の整数である)、 CH3 式(へ)ニ ーC−C−(へ) \/ 〔式中、R8は4:CHXS→−基(ただし、xハ水素
原子または炭素原子数1〜3のアルキル基、Uは3〜4
の整数である)または + CX6− CX7+ 基(ただし、x6オヨびx7
は同一または異なり水素原子または炭素原子数1〜3の
アルキル基、Vは2〜3の整数である)を示す〕で表わ
される基、式(V)ニーC(=CH2) −CH2−(
v) で表わされる基または式1yD : で表わされる基などをあげることができる。
三塩基性酸無水物の具体例としては、無水マレイン酸、
無水コハク酸、無水メチルコハク酸、無水フタル酸、無
水アジピン酸、無水グルタル酸、無水グルタコン酸、無
水イタコン酸、無水1.8−ナフタル酸、無水シトラコ
ン酸、無水1.2−シクロヘキサンジカルボン酸、無水
4−メチル−1,2−ヘキサンジカルボン酸、無水cl
s−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、無水
1−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、シクロペ
ンタジェンと無水マレイン酸のディールス−アルダ−反
応による付加物などをあげることができる。
無水コハク酸、無水メチルコハク酸、無水フタル酸、無
水アジピン酸、無水グルタル酸、無水グルタコン酸、無
水イタコン酸、無水1.8−ナフタル酸、無水シトラコ
ン酸、無水1.2−シクロヘキサンジカルボン酸、無水
4−メチル−1,2−ヘキサンジカルボン酸、無水cl
s−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、無水
1−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、シクロペ
ンタジェンと無水マレイン酸のディールス−アルダ−反
応による付加物などをあげることができる。
一般に、ヒドロキシル化合物と三塩基性酸無水物との反
応は塩基性触媒の存在下に、次式に従って進行する。
応は塩基性触媒の存在下に、次式に従って進行する。
このばあい、90%以上の収率で目的物をうるには高々
0.5モル%(二塩基性酸無水物基準)の塩基を使用す
れば充分である。しかしながら、本発明者らの研究によ
ればヒドロキシル化合物としてカチオン反応性に富むヒ
ドロキシビニルエーテルを使用するばあい、反応は後述
するごとく、塩基が存在しなければ目的物かえられず、
また0、5モル%程度では目的物の収率は低く、しかも
安定性がわるいため重合用モノマーとして適さない。
0.5モル%(二塩基性酸無水物基準)の塩基を使用す
れば充分である。しかしながら、本発明者らの研究によ
ればヒドロキシル化合物としてカチオン反応性に富むヒ
ドロキシビニルエーテルを使用するばあい、反応は後述
するごとく、塩基が存在しなければ目的物かえられず、
また0、5モル%程度では目的物の収率は低く、しかも
安定性がわるいため重合用モノマーとして適さない。
しかし、前記の塩基■を1モル%以上存在させることに
より収率は90%を超え、しかもえられる生成物も安定
となり、収率の低下は防ぐことができる。その理由は、
塩基■がカルボキシル基とビニル基の反応を防ぎ、かつ
前記したごとく生成したビニルエーテル(l[lの環化
を防いでいるものと考えられる。なお、塩基■はカルボ
キシル基と化学量論的に反応するが、前記のごとく反応
系内に酸無水物■に対して1モル%以上存在すればよく
、そのばあいビニルエーテルmと(I)の混合物かえら
れる。
より収率は90%を超え、しかもえられる生成物も安定
となり、収率の低下は防ぐことができる。その理由は、
塩基■がカルボキシル基とビニル基の反応を防ぎ、かつ
前記したごとく生成したビニルエーテル(l[lの環化
を防いでいるものと考えられる。なお、塩基■はカルボ
キシル基と化学量論的に反応するが、前記のごとく反応
系内に酸無水物■に対して1モル%以上存在すればよく
、そのばあいビニルエーテルmと(I)の混合物かえら
れる。
また、モノマー組成物はビニルエーテル(I)と(It
)との混合物に塩基■を加え、ビニルエーテル(II)
と反応させることによってもえられる。後添加する塩基
■は反応の際に存在させた塩基と同一でも異なっていて
もよい。このばあいもビニルエーテル(II)のカルボ
キシル基と塩基■とは化学量論的に反応する。
)との混合物に塩基■を加え、ビニルエーテル(II)
と反応させることによってもえられる。後添加する塩基
■は反応の際に存在させた塩基と同一でも異なっていて
もよい。このばあいもビニルエーテル(II)のカルボ
キシル基と塩基■とは化学量論的に反応する。
塩基■としては前記のごと(アルカリ金属化合物と特定
の1官能性の塩基性化合物が用いられる。
の1官能性の塩基性化合物が用いられる。
アルカリ金属化合物としては、Li、KまたはNaの化
合物が好ましく、たとえば水酸化リチウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、ナトリウムメチラート、ナトリウム
エチラート、カリウムメチラートなどがあげられる。
合物が好ましく、たとえば水酸化リチウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、ナトリウムメチラート、ナトリウム
エチラート、カリウムメチラートなどがあげられる。
特定の1官能性の塩基性化合物は、前記のごとくチッ素
原子またはリン原子を含有する化合物であって、そのp
Kaが6〜12、好ましくは8〜11の塩基性化合物で
ある。pKaがこの範囲にあるものは塩形成能が高く、
ビニルエーテル(II)の安定化作用が大きい。すなわ
ち、三塩基性酸無水物■のカルボン酸よりも高いpKa
を有するものが高い塩形成能を存し、特に対応するカル
ボン酸よりも3〜8高いpKaを有するものが好ましい
。好適な1官能性の塩基性化合物としてはアンモニア、
アミン類、フォスフイン類などがあげられる。アミン類
の具体例としては、たとえばメチルアミン、エチルアミ
ン、n−プロピルアミン、イソプロピルアミン、n−ブ
チルアミン、イソブチルアミン、5(3G−ブチルアミ
ン、■。
原子またはリン原子を含有する化合物であって、そのp
Kaが6〜12、好ましくは8〜11の塩基性化合物で
ある。pKaがこの範囲にあるものは塩形成能が高く、
ビニルエーテル(II)の安定化作用が大きい。すなわ
ち、三塩基性酸無水物■のカルボン酸よりも高いpKa
を有するものが高い塩形成能を存し、特に対応するカル
ボン酸よりも3〜8高いpKaを有するものが好ましい
。好適な1官能性の塩基性化合物としてはアンモニア、
アミン類、フォスフイン類などがあげられる。アミン類
の具体例としては、たとえばメチルアミン、エチルアミ
ン、n−プロピルアミン、イソプロピルアミン、n−ブ
チルアミン、イソブチルアミン、5(3G−ブチルアミ
ン、■。
2−ジメチルプロピルアミン、2−エチルヘキシルアミ
ン、トリデシルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミ
ン、ジ−n−プロピルアミン、ジ−イソプロピルアミン
、ジブチルアミン、ジ−イソブチルアミン、ジー5ec
−ブチルアミン、ジー2−エチルヘキシルアミン、トリ
メチルアミン、トリエチルアミン、トリーn−プロピル
アミン、トリーn−ブチルアミン、N−メチルブチルア
ミン、N−エチルブチルアミン、N、N−ジメチルエチ
ルアミン、N、N−ジメチルイソプロピルアミン、N、
N−ジメチルテトラデシルアミン、N、N−ジメチルオ
クタデシルアミン、2−メトキシエチルアミン、3−エ
トキシエチルアミン、シクロヘキシルアミン、N、N−
ジメチルシクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミ
ン、ベンジルアミン、N、N−ジメチルベンジルアミン
、4−メトキシフェニルエチルアミン、エタノールアミ
ン、ジェタノールアミン、トリエタノールアミン、イソ
プロパツールアミン、ジメチルエタノールアミン、ピロ
リジン、ピペリジン、■−メチルピペリジン、4−メチ
ルピペリジン、モルホリンなどがあげられる。
ン、トリデシルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミ
ン、ジ−n−プロピルアミン、ジ−イソプロピルアミン
、ジブチルアミン、ジ−イソブチルアミン、ジー5ec
−ブチルアミン、ジー2−エチルヘキシルアミン、トリ
メチルアミン、トリエチルアミン、トリーn−プロピル
アミン、トリーn−ブチルアミン、N−メチルブチルア
ミン、N−エチルブチルアミン、N、N−ジメチルエチ
ルアミン、N、N−ジメチルイソプロピルアミン、N、
N−ジメチルテトラデシルアミン、N、N−ジメチルオ
クタデシルアミン、2−メトキシエチルアミン、3−エ
トキシエチルアミン、シクロヘキシルアミン、N、N−
ジメチルシクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミ
ン、ベンジルアミン、N、N−ジメチルベンジルアミン
、4−メトキシフェニルエチルアミン、エタノールアミ
ン、ジェタノールアミン、トリエタノールアミン、イソ
プロパツールアミン、ジメチルエタノールアミン、ピロ
リジン、ピペリジン、■−メチルピペリジン、4−メチ
ルピペリジン、モルホリンなどがあげられる。
フォスフイン類の具体例としては、たとえばトリメチル
フォスフイン、トリエチルフォスフイン、トリプロピル
フォスフイン、トリブチルフォスフイン、トリオクチル
フォスフイン、トリラウリルフォスフイン、トリステア
リルフォスフイン、ジメチルフォスフイン、ジエチルフ
ォスフイン、ジブチルフォスフイン、ジオクチルフォス
フイン、ジラウリルフォスフインのごときジーもしくは
トリアルキルフォスフイン類;トリス(3−ヒドロキシ
プロピル)フォスフイン、トリス(2−シアノエチル)
フォスフイン、トリス(2−メトキシエチル)フォスフ
イン、トリス(2−クロロエチル)フォスフイン、トリ
ス(2−メトキシカルボニル)フォスフイン、トリス(
2−(2−ジメチルアミノエトキシ)カルボニル)フォ
スフイン、トリス(2−エトキシカルボニル)フォスフ
イン、ビス(3−ヒドロキシプロピル)フォスフイン、
ビス(2−シアノエチル)フォスフインのごときジーも
しくはトリ −置換アルキルフォスフイン類;ジシクロ
ペンチルフォスフイン、ジシクロへキシルフォスフイン
、トリシクロペンチルフォスフイン、トリシクロへキシ
ルフォスフインのごとき脂環式フォスフイン類;トリフ
ェニルフォスフイン、トリス(4−メチルフェニル)フ
ォスフイン、ジフェニルフォスフイン、ビス(4−メチ
ルフェニル)フォスフインのごときジーもしくはトリア
リールフォスフイン類;トリベンジルフォスフイン、ト
リフェネチルフォスフイン、ジベンジルフォスフイン、
ジフェニルフォスフインのごときジーもしくはトリーア
ラルキルフォスフイン類;テトラメチレンフォスフイン
、テトラメチレン−メチル−フォスフインなどの環内に
リン原子を有するフォスフイン類;ジフェニルメチルフ
ォスフイン、ジフェニルエチルフォスフイン、フエニル
ジエチルフォスフインのごときリン原子に互いに異なる
2種または3種の有機基が結合したフォスフイン類など
があげられる。特に第3級アミンが好ましい。
フォスフイン、トリエチルフォスフイン、トリプロピル
フォスフイン、トリブチルフォスフイン、トリオクチル
フォスフイン、トリラウリルフォスフイン、トリステア
リルフォスフイン、ジメチルフォスフイン、ジエチルフ
ォスフイン、ジブチルフォスフイン、ジオクチルフォス
フイン、ジラウリルフォスフインのごときジーもしくは
トリアルキルフォスフイン類;トリス(3−ヒドロキシ
プロピル)フォスフイン、トリス(2−シアノエチル)
フォスフイン、トリス(2−メトキシエチル)フォスフ
イン、トリス(2−クロロエチル)フォスフイン、トリ
ス(2−メトキシカルボニル)フォスフイン、トリス(
2−(2−ジメチルアミノエトキシ)カルボニル)フォ
スフイン、トリス(2−エトキシカルボニル)フォスフ
イン、ビス(3−ヒドロキシプロピル)フォスフイン、
ビス(2−シアノエチル)フォスフインのごときジーも
しくはトリ −置換アルキルフォスフイン類;ジシクロ
ペンチルフォスフイン、ジシクロへキシルフォスフイン
、トリシクロペンチルフォスフイン、トリシクロへキシ
ルフォスフインのごとき脂環式フォスフイン類;トリフ
ェニルフォスフイン、トリス(4−メチルフェニル)フ
ォスフイン、ジフェニルフォスフイン、ビス(4−メチ
ルフェニル)フォスフインのごときジーもしくはトリア
リールフォスフイン類;トリベンジルフォスフイン、ト
リフェネチルフォスフイン、ジベンジルフォスフイン、
ジフェニルフォスフインのごときジーもしくはトリーア
ラルキルフォスフイン類;テトラメチレンフォスフイン
、テトラメチレン−メチル−フォスフインなどの環内に
リン原子を有するフォスフイン類;ジフェニルメチルフ
ォスフイン、ジフェニルエチルフォスフイン、フエニル
ジエチルフォスフインのごときリン原子に互いに異なる
2種または3種の有機基が結合したフォスフイン類など
があげられる。特に第3級アミンが好ましい。
反応温度は、通常−80〜100℃、好ましくは0〜5
0℃である。溶媒は、通常使用するが、使用しなくても
実施できる。溶媒は、三塩基性酸無水物と反応するアル
コール類を除き使用することができるが、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケト
ン類が、原料の反応性の低下、反応混合物の着色などを
もたらさないので好ましい。塩基■の使用量は、前記■
の三塩基性酸無水物に対して、通常0.01−1.2、
好ましくは0.05〜1゜0(ただし、モル比)である
。
0℃である。溶媒は、通常使用するが、使用しなくても
実施できる。溶媒は、三塩基性酸無水物と反応するアル
コール類を除き使用することができるが、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケト
ン類が、原料の反応性の低下、反応混合物の着色などを
もたらさないので好ましい。塩基■の使用量は、前記■
の三塩基性酸無水物に対して、通常0.01−1.2、
好ましくは0.05〜1゜0(ただし、モル比)である
。
本発明の製造法は、かかるビニルエーテルモノマー組成
物とフルオロオレフィンを共重合させる際に、七ツマー
組成物を連続して仕込むことに特徴がある。
物とフルオロオレフィンを共重合させる際に、七ツマー
組成物を連続して仕込むことに特徴がある。
共重合系は、基本的にビニルモノマー組成物、フルオロ
オレフィン、溶媒、重合開始剤からなる。重合方法とし
ては乳化重合、懸濁重合、溶液重合などを採用すること
ができる。
オレフィン、溶媒、重合開始剤からなる。重合方法とし
ては乳化重合、懸濁重合、溶液重合などを採用すること
ができる。
連続仕込みは、重合反応器に所定量のフルオロオレフィ
ンをまず仕込み、ついでビニルエーテルモノマー組成物
や他の共重合モノマーと開始剤とを所定量ずつ分割して
、あるいは一定の仕込み速度または仕込み速度を逐次変
化させながら重合反応器に仕込むことによって行なうこ
とができる。また、フルオロオレフィンの圧力を一定に
維持しながら該ビニルエーテルモノマー組成物や他の共
重合モノマーと開始剤とを所定量分割あるいは一定の仕
込み速度または仕込み速度を逐次変化させながら重合反
応器に仕込むという方法をとってもよい。
ンをまず仕込み、ついでビニルエーテルモノマー組成物
や他の共重合モノマーと開始剤とを所定量ずつ分割して
、あるいは一定の仕込み速度または仕込み速度を逐次変
化させながら重合反応器に仕込むことによって行なうこ
とができる。また、フルオロオレフィンの圧力を一定に
維持しながら該ビニルエーテルモノマー組成物や他の共
重合モノマーと開始剤とを所定量分割あるいは一定の仕
込み速度または仕込み速度を逐次変化させながら重合反
応器に仕込むという方法をとってもよい。
重合は、分割して仕込むばあいは全仕込み量を2回以上
、好ましくは3回以上分割して仕込み、あるいは一定速
度または仕込み速度を逐次変化させながらビニルエーテ
ルモノマー組成物の全量を通常1〜IO時間かけて仕込
んだのち、さらに3〜30時間反応させることによって
行なう。
、好ましくは3回以上分割して仕込み、あるいは一定速
度または仕込み速度を逐次変化させながらビニルエーテ
ルモノマー組成物の全量を通常1〜IO時間かけて仕込
んだのち、さらに3〜30時間反応させることによって
行なう。
重合温度は開始剤や溶媒の種類に応じて適宜変更するこ
とができるが、通常−20〜150℃、好ましくは、5
〜95℃である。反応圧力も適宜選択可能であるが、通
常O〜50kg / ci Gである。
とができるが、通常−20〜150℃、好ましくは、5
〜95℃である。反応圧力も適宜選択可能であるが、通
常O〜50kg / ci Gである。
フルオロオレフィンとしては、たとえばテトラフルオロ
エチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオ
ロプロピレン、トリフルオロエチレン、フッ化ビニリデ
ン、フッ化ビニルなどをあげることができる。
エチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオ
ロプロピレン、トリフルオロエチレン、フッ化ビニリデ
ン、フッ化ビニルなどをあげることができる。
本発明において、ビニルエーテル(I)、(I)とフル
オロオレフィンの反応モル比は、通常、ビニルエーテル
/フルオロオレフィン−0,1〜80/20〜99.9
である。
オロオレフィンの反応モル比は、通常、ビニルエーテル
/フルオロオレフィン−0,1〜80/20〜99.9
である。
水溶性塗料として含フッ素共重合体を使用するばあい、
この共重合体の水溶性を良好にするうえで、ビニルエー
テルCI)、(I[)は5〜60モル%含有されている
ことが好ましく、これのカルボキシル基は30%以上中
和されていることがさらに好ましい(電着塗装のばあい
)。中和に用いる化合物としては前記塩基■で例示した
ものがあげられる。
この共重合体の水溶性を良好にするうえで、ビニルエー
テルCI)、(I[)は5〜60モル%含有されている
ことが好ましく、これのカルボキシル基は30%以上中
和されていることがさらに好ましい(電着塗装のばあい
)。中和に用いる化合物としては前記塩基■で例示した
ものがあげられる。
含フッ素共重合体を有機溶剤に溶解し、いわゆる溶剤型
塗料として使用するばあい、ビニルエーテルTI)、(
I)の含有量は、基材との密着性の点で1〜15モル%
が好ましく、顔料分散性の点で2〜10モル%が好まし
い。
塗料として使用するばあい、ビニルエーテルTI)、(
I)の含有量は、基材との密着性の点で1〜15モル%
が好ましく、顔料分散性の点で2〜10モル%が好まし
い。
前記含フッ素共重合体には、ビニルエーテルとフルオロ
オレフィンのほかに、他種のエチレン性不飽和化合物を
含フッ素共重合体に対し80モル%以下の量比で含有さ
せることができる。
オレフィンのほかに、他種のエチレン性不飽和化合物を
含フッ素共重合体に対し80モル%以下の量比で含有さ
せることができる。
他種のエチレン性不飽和化合物としては、たとえば式:
%式%)
(式中、R3は炭素原子数1〜17の脂肪族基、炭素原
子数3〜17の脂環式基、炭素原子数1〜2゜のフルオ
ロアルキル基、炭素原子数1〜L7の水酸基含有脂肪族
基、炭素原子数3〜17の水酸基含有脂環式基または炭
素原子数6〜2oの水酸基金を芳香族基、kは0または
1を示す)で表わされるアルキルビニルエーテルまたは
ビニルエステルがあげられ、具体例としては、たとえば
メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ロープ
ロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、
n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル
、t−ブチルビニルエーテル、n−ペンチルビニルエー
テル、叶ヘキシルビニルエーテル、n−オクチルビニル
エーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロ
ヘキシルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、ス
テアリルビニルエーテル、 2.2.2−1リフルオロ
エチルビニルエーテル、2.2.3.3−テトラフルオ
ロプロピルビニルエーテル、2,2,3,3.3−ペン
タフルオロプロピルビニルエーテル、2.2.3.3,
4.4゜5.5−オクタフルオロペンチルビニルエーテ
ル、2.2.3,3,4,4.4−ヘプタフルオロブチ
ルビニルエーテル、酢酸ビニルエステル、プロピオン酸
ビニルエステル、酪酸ビニルエステル、ピバリン酸ビニ
ルエステル、カプロン酸ビニルエステル、ラウリン酸ビ
ニルエステル、バーサチック酸ビニルエステル、シクロ
ヘキサンカルボン酸ビニルエステル、4−ヒドロキシブ
チルビニルエーテル、2−ヒドロキシエチルビニルエー
テル、3−ヒドロキシ−ロープロピルビニルエーテル、
2−ヒドロキシ−1so−プロピルビニルエーテル、2
−ヒドロキシ−2−メチルエチルビニルエーテル、2−
ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチルビニルエーテル、
4−ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、3−ヒ
ドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、2−ヒドロキ
シシクロヘキシルビニルエーテル、4−ヒドロキシベン
ゾオキシビニルなどがあげられる。
子数3〜17の脂環式基、炭素原子数1〜2゜のフルオ
ロアルキル基、炭素原子数1〜L7の水酸基含有脂肪族
基、炭素原子数3〜17の水酸基含有脂環式基または炭
素原子数6〜2oの水酸基金を芳香族基、kは0または
1を示す)で表わされるアルキルビニルエーテルまたは
ビニルエステルがあげられ、具体例としては、たとえば
メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ロープ
ロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、
n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル
、t−ブチルビニルエーテル、n−ペンチルビニルエー
テル、叶ヘキシルビニルエーテル、n−オクチルビニル
エーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロ
ヘキシルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、ス
テアリルビニルエーテル、 2.2.2−1リフルオロ
エチルビニルエーテル、2.2.3.3−テトラフルオ
ロプロピルビニルエーテル、2,2,3,3.3−ペン
タフルオロプロピルビニルエーテル、2.2.3.3,
4.4゜5.5−オクタフルオロペンチルビニルエーテ
ル、2.2.3,3,4,4.4−ヘプタフルオロブチ
ルビニルエーテル、酢酸ビニルエステル、プロピオン酸
ビニルエステル、酪酸ビニルエステル、ピバリン酸ビニ
ルエステル、カプロン酸ビニルエステル、ラウリン酸ビ
ニルエステル、バーサチック酸ビニルエステル、シクロ
ヘキサンカルボン酸ビニルエステル、4−ヒドロキシブ
チルビニルエーテル、2−ヒドロキシエチルビニルエー
テル、3−ヒドロキシ−ロープロピルビニルエーテル、
2−ヒドロキシ−1so−プロピルビニルエーテル、2
−ヒドロキシ−2−メチルエチルビニルエーテル、2−
ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチルビニルエーテル、
4−ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、3−ヒ
ドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、2−ヒドロキ
シシクロヘキシルビニルエーテル、4−ヒドロキシベン
ゾオキシビニルなどがあげられる。
さらに式:
%式%)
(式中、x8は水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチ
ル基またはトリフルオロメチル基、R9は水素原子、塩
素原子、炭素原子数1〜17の脂肪族基、ヒドロキシル
基を有する炭素原子数1〜17の脂肪族基、炭素原子数
3〜17の脂環式基または炭素原子数1〜20のフルオ
ロアルキル基、IはOまたは1を示す)で表わされる化
合物があげられ、具体例としては、エチレン、プロピレ
ン、■−ブテン、イソブチン、スチレン、塩化ビニル、
塩化ビニリデン、イソブチルアクリレート、メチルアク
−リレート、エチルメタクリレート、2,2.L3.3
−ペンタフルオロプロピルα−フルオロアクリレート、
2,2.3,3,4.4,5,5.8,8゜7.7−ド
ゾカフルオロペンチルα −トリフルオロメチルアクリ
レート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、シクロ
へキシルアクリレート、2゜2.3,3.4.4,5,
5.B、6,7,7.8.8.9,9.lo、10.1
1.ll。
ル基またはトリフルオロメチル基、R9は水素原子、塩
素原子、炭素原子数1〜17の脂肪族基、ヒドロキシル
基を有する炭素原子数1〜17の脂肪族基、炭素原子数
3〜17の脂環式基または炭素原子数1〜20のフルオ
ロアルキル基、IはOまたは1を示す)で表わされる化
合物があげられ、具体例としては、エチレン、プロピレ
ン、■−ブテン、イソブチン、スチレン、塩化ビニル、
塩化ビニリデン、イソブチルアクリレート、メチルアク
−リレート、エチルメタクリレート、2,2.L3.3
−ペンタフルオロプロピルα−フルオロアクリレート、
2,2.3,3,4.4,5,5.8,8゜7.7−ド
ゾカフルオロペンチルα −トリフルオロメチルアクリ
レート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、シクロ
へキシルアクリレート、2゜2.3,3.4.4,5,
5.B、6,7,7.8.8.9,9.lo、10.1
1.ll。
12.12.13,13,14.14,15,15.1
5−ノナコサフルオロペンタデシルアクリレート、2−
ヒドロキシブロピルα −クロロアクリレート、オクチ
ルa −クロロアクリレート、オクタデシルアククリレ
ートなどがあげられる。
5−ノナコサフルオロペンタデシルアクリレート、2−
ヒドロキシブロピルα −クロロアクリレート、オクチ
ルa −クロロアクリレート、オクタデシルアククリレ
ートなどがあげられる。
また、式:
%式%
(式中、では塩素原子、水酸基または炭素原子数1〜8
の脂肪族オキシ基を示す)で表わされる化合物も使用で
き、具体例としてはたとえばアリルアルコール、アリル
クロライド、アリルメチルエーテル、アリルイソプロピ
ルエーテル、アリルオクチルエーテルなどがあげられる
。
の脂肪族オキシ基を示す)で表わされる化合物も使用で
き、具体例としてはたとえばアリルアルコール、アリル
クロライド、アリルメチルエーテル、アリルイソプロピ
ルエーテル、アリルオクチルエーテルなどがあげられる
。
また要すれば、共重合時に少量の多価金属(たとえばM
g%Ca%Zn%Nなど)または多官能性のチッ素原子
もしくはリン原子含有化合物(たとえばアルキルジアミ
ン、アルキルトリアミンなどのポリアミン類、アルキル
シフオスフィン、アルキルトリフオスフィンなどのポリ
フォスフイン類)とビニルエーテル(II)との塩から
なるジビニルエーテルやトリビニルエーテルなどを共重
合成分として存在させることもでき、このばあいは部分
ゲル化により艶消しなどの用途に用いることができる。
g%Ca%Zn%Nなど)または多官能性のチッ素原子
もしくはリン原子含有化合物(たとえばアルキルジアミ
ン、アルキルトリアミンなどのポリアミン類、アルキル
シフオスフィン、アルキルトリフオスフィンなどのポリ
フォスフイン類)とビニルエーテル(II)との塩から
なるジビニルエーテルやトリビニルエーテルなどを共重
合成分として存在させることもでき、このばあいは部分
ゲル化により艶消しなどの用途に用いることができる。
重合溶媒としては、トリクロロトリフルオロエタン、ジ
クロロテトラフルオロエタンなどのハロゲン化炭化水素
類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの
エステル類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素
類、メタノール、エタノール、プロパツール、ブタノー
ルなどのアルコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロ
ソルブ、モノグライム、ジグライムなどのグリコールエ
ーテル類、水などをあげることができる。
クロロテトラフルオロエタンなどのハロゲン化炭化水素
類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの
エステル類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素
類、メタノール、エタノール、プロパツール、ブタノー
ルなどのアルコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロ
ソルブ、モノグライム、ジグライムなどのグリコールエ
ーテル類、水などをあげることができる。
重合開始剤としては、たとえば過硫酸塩(過硫酸アンモ
ニウム、過硫酸カリウムなど)、過硫酸塩と亜硫酸塩(
亜硫酸カリウム、亜硫酸ナトリウムなど)または酸性亜
硫酸塩(酸性亜硫酸カリウム、酸性亜硫酸ナトリウムな
ど)からなるレドックス系開始剤、有機過酸化物(ジイ
ソプロピルパーオキシジカーボネート、jert−ブチ
ルパーオキシブチレート、ベンゾイルパーオキサイド、
インブチリルパーオキサイドなど)、アゾ化合物(アゾ
ビスイソブチロニトリル、アゾビスバレロニトリルなど
)などをあげることができる。開始剤の使用量は、通常
使用する全単量体に対しo、ooi〜5重量%、好まし
くは0.05〜2.0重量%である。
ニウム、過硫酸カリウムなど)、過硫酸塩と亜硫酸塩(
亜硫酸カリウム、亜硫酸ナトリウムなど)または酸性亜
硫酸塩(酸性亜硫酸カリウム、酸性亜硫酸ナトリウムな
ど)からなるレドックス系開始剤、有機過酸化物(ジイ
ソプロピルパーオキシジカーボネート、jert−ブチ
ルパーオキシブチレート、ベンゾイルパーオキサイド、
インブチリルパーオキサイドなど)、アゾ化合物(アゾ
ビスイソブチロニトリル、アゾビスバレロニトリルなど
)などをあげることができる。開始剤の使用量は、通常
使用する全単量体に対しo、ooi〜5重量%、好まし
くは0.05〜2.0重量%である。
つぎに本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明は
かかる実施例のみに限定されるものではない。
かかる実施例のみに限定されるものではない。
参考例1
1000mlのフラスコに無水1.2−シクロヘキサン
ジカルボン酸(酸無水物) 405 g (2,83モ
ル)およびアセトン40gからなる溶液を入れ、トリエ
チルアミン(塩基:pKa −10,72) 2.83
g(0,2Bモル)を添加し、磁気攪拌機で5分間攪拌
した。
ジカルボン酸(酸無水物) 405 g (2,83モ
ル)およびアセトン40gからなる溶液を入れ、トリエ
チルアミン(塩基:pKa −10,72) 2.83
g(0,2Bモル)を添加し、磁気攪拌機で5分間攪拌
した。
この混合物を氷水で0−10℃になるように冷却しなが
ら、ヒドロキシブチルビニルエーテル3.05g (2
゜63モル)を2g/分の割合で滴下した。
ら、ヒドロキシブチルビニルエーテル3.05g (2
゜63モル)を2g/分の割合で滴下した。
反応混合物についてフーリエ変換核磁気共鳴分析(I’
T−NMR% ” C%テトラメチルシラン標準)を行
ない、下記の本発明のビニルエーテル(I)(以下、c
HHEM塩という)と対応する遊離のビニルエーテル(
H)(以下、c HII E Mという)がほぼto/
85(モル比)での収率で生成していることを確認した
。各炭素原子(a −mの符号を付す)のケミカルシフ
トを示す。
T−NMR% ” C%テトラメチルシラン標準)を行
ない、下記の本発明のビニルエーテル(I)(以下、c
HHEM塩という)と対応する遊離のビニルエーテル(
H)(以下、c HII E Mという)がほぼto/
85(モル比)での収率で生成していることを確認した
。各炭素原子(a −mの符号を付す)のケミカルシフ
トを示す。
δ (ppm)45.8(ω、 151.5山)、
87.2(C)、25.3−25.8 (d)、82
、8 (e>、173.3(f)、42.9<(])、
27.4(h>、24.4<i>、43.5(j>、1
78.2(k)、44.9(+>、9.IC面参考例2 参考例1のトリエチルアミン量を第1表に示す量に変更
したほかは参考例1と向ト1の手順でe!IIlrEM
塩とcllllIEMとからなるモノマー組成物を製造
した。I? T −N M l?で分1バした収率を第
1表に示す。
87.2(C)、25.3−25.8 (d)、82
、8 (e>、173.3(f)、42.9<(])、
27.4(h>、24.4<i>、43.5(j>、1
78.2(k)、44.9(+>、9.IC面参考例2 参考例1のトリエチルアミン量を第1表に示す量に変更
したほかは参考例1と向ト1の手順でe!IIlrEM
塩とcllllIEMとからなるモノマー組成物を製造
した。I? T −N M l?で分1バした収率を第
1表に示す。
さらに、えられた反応生成物の20℃および一20℃で
保存したときの分解率(%)を” C−NMI+によっ
て調べた。結果を第1表に併記する。
保存したときの分解率(%)を” C−NMI+によっ
て調べた。結果を第1表に併記する。
参考例3
参考例2の実験番号4の条件でえられた反応生成物(c
H1lEM塩/ cllllEM −0,1/84.9
:モル比)に第2表に示す塩基を加えてcHIIEH
をc HtlP、M塩に変換し、参考例2と同様にして
分解率を調べた。結果を第2表に示す。
H1lEM塩/ cllllEM −0,1/84.9
:モル比)に第2表に示す塩基を加えてcHIIEH
をc HtlP、M塩に変換し、参考例2と同様にして
分解率を調べた。結果を第2表に示す。
第2表から明らかなように、pKaが6未満の塩基性化
合物ではその塩基性が弱いためcHHEHの安定化への
寄与が小さいことがわかる。
合物ではその塩基性が弱いためcHHEHの安定化への
寄与が小さいことがわかる。
実施例1
攪拌機を備えた容積800m1のガラス製オートクレー
ブにモノグライム160 fを仕込み、液体チッ素で固
化後、脱気した。
ブにモノグライム160 fを仕込み、液体チッ素で固
化後、脱気した。
その後、クロロトリフルオロエチレン(以下、CTPE
という)を128.2g仕込み、系内を05℃に加熱し
た。つぎに、別途参考例1でえたビニルエーテル七ツマ
ー組成物(cHHEM塩/ cHHEM−10/85、
モル比) 72.83g、ヒドロキシブチルビニルエー
テAsC以下、HBVEという> 49.9g 、炭素
原子数lOのアルキル基を有するカルボン酸のビニルエ
ステルrシェル化学社製のベオバ10(以下、VAとい
う) ] 81.4gおよびアゾビスイソブチロニトリ
ル(以下、AIBNという) 1.84gを混合し、液
体チッソで固化後脱気した七ツマー混合物を4時間かけ
て連続して仕込んだ。系内温度は65℃に維持した。仕
込み終了後、65℃で16時間反応を続け、カルボキシ
ル基含有含フッ素共重合体をえた。収量は451gで共
重合体濃度は64.3%であった。
という)を128.2g仕込み、系内を05℃に加熱し
た。つぎに、別途参考例1でえたビニルエーテル七ツマ
ー組成物(cHHEM塩/ cHHEM−10/85、
モル比) 72.83g、ヒドロキシブチルビニルエー
テAsC以下、HBVEという> 49.9g 、炭素
原子数lOのアルキル基を有するカルボン酸のビニルエ
ステルrシェル化学社製のベオバ10(以下、VAとい
う) ] 81.4gおよびアゾビスイソブチロニトリ
ル(以下、AIBNという) 1.84gを混合し、液
体チッソで固化後脱気した七ツマー混合物を4時間かけ
て連続して仕込んだ。系内温度は65℃に維持した。仕
込み終了後、65℃で16時間反応を続け、カルボキシ
ル基含有含フッ素共重合体をえた。収量は451gで共
重合体濃度は64.3%であった。
比較例1
各モノマーおよび溶剤、開始剤を一括して仕込んだほか
は実施例1と同様にして重合を行なったところ、えられ
た含フッ素共重合体の収量は440gであり、共重合体
濃度は55.3%であった。
は実施例1と同様にして重合を行なったところ、えられ
た含フッ素共重合体の収量は440gであり、共重合体
濃度は55.3%であった。
実施例2〜3および比較例2〜3
第3表に示す重合系で実施例1と同様にして共重合を行
ない、それぞれ含フッ素共重合体をえた。それらの収量
および共重合体濃度を第3表に示す。なお、実施例2〜
3は連続仕込み、比較例2〜3は一括仕込みである。
ない、それぞれ含フッ素共重合体をえた。それらの収量
および共重合体濃度を第3表に示す。なお、実施例2〜
3は連続仕込み、比較例2〜3は一括仕込みである。
実施例4
実施例1と同様な方法でCTPEを128.2g仕込み
、重合器内を65℃に加熱した。つぎに実施例1と同じ
c HHE M塩/ cHHEM(I0/l!5モル比
)を72.83g。
、重合器内を65℃に加熱した。つぎに実施例1と同じ
c HHE M塩/ cHHEM(I0/l!5モル比
)を72.83g。
HBVEを49.9g SVAを81.4g 、 AI
BNを1.84g混合し、液体チッ素で固化後脱気した
モノマー混合物を3分割した。最初モノマー混合物を1
73量仕込み、その後り、S時間ごとに2回分けて分割
して仕込んだ。系内温度は65℃に維持した。仕込み終
了後、a5℃で17時間反応を続け、カルボキシル基含
有含フッ素共重合体を収量で435gえた。共重合濃度
は62.3%であった。
BNを1.84g混合し、液体チッ素で固化後脱気した
モノマー混合物を3分割した。最初モノマー混合物を1
73量仕込み、その後り、S時間ごとに2回分けて分割
して仕込んだ。系内温度は65℃に維持した。仕込み終
了後、a5℃で17時間反応を続け、カルボキシル基含
有含フッ素共重合体を収量で435gえた。共重合濃度
は62.3%であった。
[以下余白]
参考例1(電着浴の調製)
実施例1でえられた含フ素共重合体溶液を65.0%重
重合体皮に、7!l整し、この溶液100重量部に対し
てジメチルエタノールアミン3.9重量部(重合体酸価
に対して01g当量)加えて中和した。
重合体皮に、7!l整し、この溶液100重量部に対し
てジメチルエタノールアミン3.9重量部(重合体酸価
に対して01g当量)加えて中和した。
さらにブチルセロソルブ10重量部、80%メチルメチ
ロール化メラミン樹脂[日立化成工業■製]のメラニン
620(固形分含量70重量%)20重量部、脱イオン
水990重量部を添加して電着浴1を調製した。
ロール化メラミン樹脂[日立化成工業■製]のメラニン
620(固形分含量70重量%)20重量部、脱イオン
水990重量部を添加して電着浴1を調製した。
含フッ素共重合体として実施例2、比較例1および比較
例2でえられたものを用いたほかは同様にして、それぞ
れ電着浴2、比較電着浴1および比較電着浴2を調製し
た。
例2でえられたものを用いたほかは同様にして、それぞ
れ電着浴2、比較電着浴1および比較電着浴2を調製し
た。
参考例2(電着塗装)
電着浴1〜2および比較電着浴1〜2をそれぞれ用い、
各電着浴を電着塗装用槽に入れ、アルマイト処理を施し
たeoeasアルミニウム合金板(アルマイト皮膜の厚
さ9−)を被塗装物(陽極)とし、浴温22℃、電圧1
40Vで3分間通電したのちアルミニウム合金板を水洗
いし、ついで11110℃に30分間保って電着塗膜を
焼付は硬化させた。
各電着浴を電着塗装用槽に入れ、アルマイト処理を施し
たeoeasアルミニウム合金板(アルマイト皮膜の厚
さ9−)を被塗装物(陽極)とし、浴温22℃、電圧1
40Vで3分間通電したのちアルミニウム合金板を水洗
いし、ついで11110℃に30分間保って電着塗膜を
焼付は硬化させた。
えられた塗膜の膜厚を膜厚計((I1ケツト科学研究所
製のパーマスコープEV製)により測定し、ワキおよび
ハジキを目視にて測定した。結果を第4表に示す。
製のパーマスコープEV製)により測定し、ワキおよび
ハジキを目視にて測定した。結果を第4表に示す。
ワキおよびハジキはっぎの基準で評価した。
◎;ワキやハジキが全くない
O:ワキやハジキ殆んどないが、10回電着を行なうと
1〜2回に極く少量生ずる △;毎回少量生ずる。
1〜2回に極く少量生ずる △;毎回少量生ずる。
X:全面に生ずる
[以下余白]
第 4 表
〔発明の効果〕
本発明によれば、安定性が比較的低いカルボキシル基含
有ビニルエーテルモノマー組成物を分割あるいは連続的
に仕込むことにより、収率を高め、かつより均質な含フ
ッ素共重合体を提供することができる。かかる含フッ素
共重合体を塗料として用いるときは、ワキとハジキがな
く、しかも耐候性にすぐれた塗膜かえられる。
有ビニルエーテルモノマー組成物を分割あるいは連続的
に仕込むことにより、収率を高め、かつより均質な含フ
ッ素共重合体を提供することができる。かかる含フッ素
共重合体を塗料として用いるときは、ワキとハジキがな
く、しかも耐候性にすぐれた塗膜かえられる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式( I ): CH_2=CHOR^1OC(=O)R^2C(=O)
O(H)_nM( I )(式中、R^1は炭素原子数2
〜10の2価の脂肪族基、R^2は2価の有機基、Mは
アルカリ金属またはチッ素原子もしくはリン原子を含有
する化合物であってそのpKaが6〜12である1官能
性の塩基性化合物、nはアルカリ金属のばあいのみ0、
その他は1を示す) で表わされるビニルエーテルと、式(II):CH_2=
CHOR^1OC(=O)R^2C(=O)OH(II)
(式中、R^1およびR^2は前記と同じ)で表わされ
るビニルエーテルとからなり、式( I )で表わされる
ビニルエーテルが式( I )で表わされるビニルエーテ
ルの1モル%以上含有されてなるビニルエーテルモノマ
ー組成物を分割あるいは連続的に仕込みながらフルオロ
オレフィンと共重合させることを特徴とする含フッ素共
重合体の製造法。 2 アルカリ金属がNa、KまたはLiである請求項1
記載の製造法。 3 塩基性化合物がpKa8〜11のものである請求項
1記載の製造法。 4 塩基性化合物がアンモニア、アミン類またはフォス
フィン類である請求項1記載の製造法。 5 塩基性化合物が第3アミン類である請求項4記載の
製造法。 6 R^2が2価の炭化水素基である請求項1記載の製
造法。 7 R^2が式(i): ▲数式、化学式、表等があります▼(i) (式中、X^1は水素原子または炭素原子数1〜3のア
ルキル基、X^2は水素原子または炭素原子数1〜3の
アルキル基、pおよびqは0または1〜11の整数(た
だし、同時に0であることはない)を示す〕で表わされ
る基、式(ii): ▲数式、化学式、表等があります▼(ii) 〔式中、rは0または1〜3の整数、sは1〜3の整数
、X^3は水素原子または炭素原子数1〜3のアルキル
基を示す〕で表わされる基、式(iii): ▲数式、化学式、表等があります▼(iii) 〔式中、R^7は▲数式、化学式、表等があります▼基
(ただし、 X^4は水素原子または炭素原子数1〜3のアルキル基
、tは1〜4の整数である)、 −CH_2CH=CHCH_2−基、▲数式、化学式、
表等があります▼基または▲数式、化学式、表等があり
ます▼基を示す〕で表わされる基、 式(iv): ▲数式、化学式、表等があります▼(iv) 〔式中、R^8は▲数式、化学式、表等があります▼基
(ただし、Xは 水素原子または炭素原子数1〜3のアルキル基、uは3
〜4の整数である)または ▲数式、化学式、表等があります▼基(ただし、X^6
および X^7は同一または異なり水素原子または炭素原子数1
〜3のアルキル基、vは2〜3の整数である)を示す〕
で表わされる基、式(v):−C(=CH_2)−CH
_2−(v) で表わされる基または式(vi): ▲数式、化学式、表等があります▼(vi) で表わされる基である請求項6記載の製造法。 8 フルオロオレフィンがテトラフルオロエチレン、ク
ロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン
、トリフルオロエチレン、フッ化ビニリデンおよびフッ
化ビニルよりなる群から選ばれたものである請求項1記
載の製造法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9797988A JPH01268706A (ja) | 1988-04-20 | 1988-04-20 | 含フッ素共重合体の製造法 |
| EP19890106900 EP0338498A3 (en) | 1988-04-20 | 1989-04-18 | Process for preparing fluorine-containing copolymers |
| US07/341,992 US4952653A (en) | 1987-03-10 | 1989-04-20 | Process for preparing fluorine-containing copolymers |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9797988A JPH01268706A (ja) | 1988-04-20 | 1988-04-20 | 含フッ素共重合体の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01268706A true JPH01268706A (ja) | 1989-10-26 |
Family
ID=14206780
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9797988A Pending JPH01268706A (ja) | 1987-03-10 | 1988-04-20 | 含フッ素共重合体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01268706A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0273873A (ja) * | 1988-09-09 | 1990-03-13 | Kansai Paint Co Ltd | 電着塗装用共重合体の製造法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6397980A (ja) * | 1986-10-14 | 1988-04-28 | Canon Inc | 画像形成装置 |
-
1988
- 1988-04-20 JP JP9797988A patent/JPH01268706A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6397980A (ja) * | 1986-10-14 | 1988-04-28 | Canon Inc | 画像形成装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0273873A (ja) * | 1988-09-09 | 1990-03-13 | Kansai Paint Co Ltd | 電着塗装用共重合体の製造法 |
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