JPH01299670A - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
- Publication number
- JPH01299670A JPH01299670A JP12981788A JP12981788A JPH01299670A JP H01299670 A JPH01299670 A JP H01299670A JP 12981788 A JP12981788 A JP 12981788A JP 12981788 A JP12981788 A JP 12981788A JP H01299670 A JPH01299670 A JP H01299670A
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- JP
- Japan
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- coating
- rotary table
- ultraviolet
- substrate
- film
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- Pending
Links
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- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 46
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 14
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 32
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 8
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
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Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、塗布装置、特に、光デイスク媒体表面に紫外
線硬化性樹脂の塗膜を得るための塗布装置に関する。
線硬化性樹脂の塗膜を得るための塗布装置に関する。
従来の塗布装置は、第３図に示すように回転テーブル１
上に基板２を装着し紫外線硬化性樹脂剤を滴下し、回転
テーブル１を高速回転する。
上に基板２を装着し紫外線硬化性樹脂剤を滴下し、回転
テーブル１を高速回転する。
次に、移動式ベルトなどの搬送装置５上に基板２を置き
紫外線ランプ３により光を照射し、基板２上の被膜を硬
化し塗膜を得ていた。
紫外線ランプ３により光を照射し、基板２上の被膜を硬
化し塗膜を得ていた。
一方、回転塗布から紫外線照射までの基板２の搬送は基
板２の外周部あるいは内周部を保持する治具を用いて行
っていた。
板２の外周部あるいは内周部を保持する治具を用いて行
っていた。
しかしながら、このような上述した従来の塗布装置は樹
脂剤を回転塗布した後、紫外線照射する際基板の搬送系
が介在するため、治具からの発塵あるいは治具と基板の
接触による発塵等により基板表面の塗膜に欠陥を生じさ
せたり、回転塗布した後、基板をベルト上に静止状態で
置き光を照射し硬化させるため回転塗布方法の特有の基
板外周端面が厚い塗膜になり後の自然環境下でこの厚い
部分の塗膜が剥離したりして、塗膜処理での歩留りを著
じるしく低下させ、また塗膜の信頼性を悪化させるとい
う欠点があった。
脂剤を回転塗布した後、紫外線照射する際基板の搬送系
が介在するため、治具からの発塵あるいは治具と基板の
接触による発塵等により基板表面の塗膜に欠陥を生じさ
せたり、回転塗布した後、基板をベルト上に静止状態で
置き光を照射し硬化させるため回転塗布方法の特有の基
板外周端面が厚い塗膜になり後の自然環境下でこの厚い
部分の塗膜が剥離したりして、塗膜処理での歩留りを著
じるしく低下させ、また塗膜の信頼性を悪化させるとい
う欠点があった。
また、従来の塗布装置は横配列であるためフロアの使用
面積が大きく、また特に光デイスク媒体の径を大きくし
た大容量基板用としては著じるしい広さのフロアを必要
とするという欠点もあった。
面積が大きく、また特に光デイスク媒体の径を大きくし
た大容量基板用としては著じるしい広さのフロアを必要
とするという欠点もあった。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の塗布装置は、回転塗布および紫外線照射を同一
回転テーブルで行なうように構成される。
回転テーブルで行なうように構成される。
すなわち、本発明の塗布装置は、装着した基板に紫外線
硬化性樹脂剤を滴下し塗布するために高速回転する回転
テーブルと、該基板に塗布した紫外線硬化性樹脂が所望
の厚さの被膜となったときに前記回転テーブルの上方に
載置せしめ硬化して塗布するために紫外線を照射するた
めの紫外線ランプとを含んで構成される。
硬化性樹脂剤を滴下し塗布するために高速回転する回転
テーブルと、該基板に塗布した紫外線硬化性樹脂が所望
の厚さの被膜となったときに前記回転テーブルの上方に
載置せしめ硬化して塗布するために紫外線を照射するた
めの紫外線ランプとを含んで構成される。
また、本発明の塗布装置は、前記基板を前記回転テーブ
ルから脱着することなく紫外線照射を行なって塗膜を得
るように構成される。
ルから脱着することなく紫外線照射を行なって塗膜を得
るように構成される。
また、本発明の塗布装置は、前記回転塗布及び紫外線照
射の際に同一の回転テーブルを用いるように構成される
。
射の際に同一の回転テーブルを用いるように構成される
。
さらに、本発明の塗布装置は、前記回転テーブルはすく
なくとも紫外線照射時に所定の回転をして構成される。
なくとも紫外線照射時に所定の回転をして構成される。
さらにまた、本発明の塗布装置は、前記紫外線照射はす
くなくとも紫外線硬化性樹脂剤を回転塗布している際、
シャッター板により遮断されて構成される。
くなくとも紫外線硬化性樹脂剤を回転塗布している際、
シャッター板により遮断されて構成される。
次に、本発明の実施例について、図面を参照して説明す
る。
る。
第１図は本発明の第１の実施例を示す正面図である。
第１図に示す塗布装置は基板２を載置した回転テーブル
ｌと、シャッター４を挟んで前記回転テーブル１の上方
に載置された紫外線ランプ３とで構成される。
ｌと、シャッター４を挟んで前記回転テーブル１の上方
に載置された紫外線ランプ３とで構成される。
第１図に示す塗布装置において、回転テーブル１に基板
２を装着し、基板２の表面に紫外線硬化性樹脂剤を滴下
する。
２を装着し、基板２の表面に紫外線硬化性樹脂剤を滴下
する。
次に、回転テーブル１を高速回転し、所望の厚さの被膜
になるようになった状態でシャッター４を開き、紫外線
ランプ３から基板２上の被膜に紫外線を照射する。
になるようになった状態でシャッター４を開き、紫外線
ランプ３から基板２上の被膜に紫外線を照射する。
これにより、基板２上に硬化した塗膜が得られる。
第２図は本発明の第２の実施例を示す正面図である。
第２図に示す塗布装置は、基板２を載置した回転テーブ
ルｌと、移動された回転テーブル１の上方に載置された
紫外線ランプ３とで構成される。
ルｌと、移動された回転テーブル１の上方に載置された
紫外線ランプ３とで構成される。
第２図に示す塗布装置において、基板２上に被膜を得る
までは第１図に示す実施例と同様である。
までは第１図に示す実施例と同様である。
所望の厚さの被膜になった状態で回転テーブルｌが水平
方向に移動し、紫外線ランプ３下で基板２上の被膜が硬
化され塗膜が得られる。
方向に移動し、紫外線ランプ３下で基板２上の被膜が硬
化され塗膜が得られる。
上述の実施例では紫外線硬化性樹脂が所望の厚さの被膜
になったときに紫外線を照射する、ために、シャッター
を開いたり、回転テーブルを移動させる例を示したが、
照射時に紫外線ランプを回転テーブルの上方に載置させ
るにはこれに限らず他の方法、すなわち、紫外線ランプ
を移動したり、それまで消灯していた紫外線ランプを点
灯せしめるようにしてもよい。
になったときに紫外線を照射する、ために、シャッター
を開いたり、回転テーブルを移動させる例を示したが、
照射時に紫外線ランプを回転テーブルの上方に載置させ
るにはこれに限らず他の方法、すなわち、紫外線ランプ
を移動したり、それまで消灯していた紫外線ランプを点
灯せしめるようにしてもよい。
〔発明の効果〕
本発明の塗布装置は、回転テーブル上で塗布剤を所望の
条件で回転塗布した状態で被膜を光硬化することにより
、基板の脱着搬送が不要になるため発塵による塗膜の欠
陥は皆無にできるとともに、紫外線照射の際に基板を所
望の回転で行なうことにより、回転塗布方法特有の基板
外周端部での塗膜が厚くなる現象を防止できるので基板
外周端部の塗膜の剥離を防止できるため、歩留りを向上
でき、かつ信頼性も向上できるという効果がある。
条件で回転塗布した状態で被膜を光硬化することにより
、基板の脱着搬送が不要になるため発塵による塗膜の欠
陥は皆無にできるとともに、紫外線照射の際に基板を所
望の回転で行なうことにより、回転塗布方法特有の基板
外周端部での塗膜が厚くなる現象を防止できるので基板
外周端部の塗膜の剥離を防止できるため、歩留りを向上
でき、かつ信頼性も向上できるという効果がある。
また基板を同一回転テーブルで処理が行なえるので装置
のコンパクト化が容易となり、特に紫外線ランプを塗布
回転テーブル上に設置した場合フロアを有効活用できる
という効果もある。
のコンパクト化が容易となり、特に紫外線ランプを塗布
回転テーブル上に設置した場合フロアを有効活用できる
という効果もある。
第１図は本発明の第１の実施例を示す正面図、第２図は
本発明の第２の実施例を示す正面図、第３図は従来の一
例を示す正面図である。 １・・・・・・回転テーブル、２・・・・・・基板、３
・・・・・・紫外線ランプ、４・・・・・・シャッター
、５・・・・・・搬送装置。 代理人 弁理士 内 原 音 第２１回
本発明の第２の実施例を示す正面図、第３図は従来の一
例を示す正面図である。 １・・・・・・回転テーブル、２・・・・・・基板、３
・・・・・・紫外線ランプ、４・・・・・・シャッター
、５・・・・・・搬送装置。 代理人 弁理士 内 原 音 第２１回
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、装着した基板に紫外線硬化性樹脂剤を滴下し塗布す
るために高速回転する回転テーブルと、前記基板に塗布
した紫外線硬化性樹脂が所望の厚さの被膜になったとき
に前記回転テーブルの上方に載置せしめ硬化した塗膜と
するために紫外線を照射するための紫外線ランプとを含
むことを特徴とする塗布装置。 ２、前記基板を前記回転テーブルから脱着することなく
紫外線照射を行なって塗膜を得ることを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の塗布装置。 ３、前記回転塗布及び紫外線照射の際に同一の回転テー
ブルを用いることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の塗布装置。 ４、前記回転テーブルはすくなくとも紫外線照射時に所
定の回転をしていることを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載の塗布装置。 ５、前記紫外線照射はすくなくとも紫外線硬化性樹脂剤
を回転塗布している際、シャッター板により遮断されて
いることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の塗布
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12981788A JPH01299670A (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12981788A JPH01299670A (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | 塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01299670A true JPH01299670A (ja) | 1989-12-04 |
Family
ID=15018957
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12981788A Pending JPH01299670A (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01299670A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002101737A1 (fr) * | 2001-06-06 | 2002-12-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Procede de fabrication d'un support d'enregistrement d'information optique et appareil de fabrication |
-
1988
- 1988-05-26 JP JP12981788A patent/JPH01299670A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002101737A1 (fr) * | 2001-06-06 | 2002-12-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Procede de fabrication d'un support d'enregistrement d'information optique et appareil de fabrication |
| US7396562B2 (en) | 2001-06-06 | 2008-07-08 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical information-recording medium manufacturing method and manufacturing apparatus |
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